JPH1130867A - 平版印刷版用原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外レーザ等を用いて記録することにより、
ディジタルデータから直接製版可能であり、画像露光後
湿式現像処理やこすり等の特別な処理を必要とせず、且
つ、高湿条件下に長期保存した場合でも画像形成性が劣
化しない平版印刷版用原版を提供する。 【解決手段】 支持体上に、加熱によりスルホン酸を発
生させる官能基を側鎖に有する高分子化合物と赤外線吸
収剤とを含む記録層と、無機質層状化合物を含有するオ
ーバーコート層とを、順次積層したことを特徴とする。
この無機質層状化合物のアスペクト比は２０以上、より
好ましくは１００以上、さらに好ましくは２００以上で
あり、具体的には、フッ素系合成雲母等の雲母であるこ
とが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版用原版に
関するものであり、特にディジタル信号に基づいて赤外
線レーザを操作することにより直接製版可能な平版印刷
版用原版に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来ディジタル化された画像データーか
らリスフィルムを介さずに印刷版を直接製版する方法と
しては、電子写真法によるもの、青色又は緑色を発
光する比較的小出力のレーザで書き込める高感度フォト
ポリマーを用いる方法、銀塩又は銀塩と他のシステム
との複合系を用いる方法、ヒートモードレーザ露光に
より酸を発生させ、その酸を触媒として後加熱により熱
硬化画像を得る方法等が知られている。

【０００３】これらの方法は印刷工程の合理化上極めて
有用ではあるが、現状では必ずしも十分満足できるもの
ではない。例えば、の電子写真法を用いるものは、帯
電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑であり、装
置が複雑で大がかりなものになる。また、のフォトポ
リマーを用いるものでは、高感度な印刷版を使用するた
め、明室での取扱いが難しくなる。の銀塩を用いる方
法は、処理が煩雑になり、処理廃液中に銀が含まれる等
の欠点がある。の方法も、後加熱やその後の現像処理
が必要であり、処理が煩雑になる。

【０００４】また、これらの印刷版の製造には、露光工
程の後に、支持体表面の上に設けられた記録層を画像状
に除去するための湿式による現像工程や現像処理された
印刷版を水洗水で水洗したり、界面活性剤を含有するリ
ンス液、アラビアガム、澱粉誘導体を含む不感脂化液で
処理する後処理工程が含まれる。

【０００５】一方、近年の製版、印刷業界では製版作業
の合理化が進められており、上記のような複雑な湿式現
像処理を必要とせず、露光後にそのまま印刷に使用でき
る印刷版用原版が望まれている。

【０００６】また画像形成後、湿式現像処理を必要とし
ない平版印刷版用原版として、シリコーン層と、その下
層にレーザ感熱層を設けた版材がＵＳ５，３５３，７０
５号、ＵＳ５，３７９，６９８号に開示されている。こ
れらは湿式現像は必要としないが、レーザアブレージョ
ンによるシリコーン層の除去を完結させるためのこすり
や特殊なローラーによる処理が必要となり、処理が煩雑
になる欠点を持つ。

【０００７】ポリオレフィン類をスルホン化したフィル
ムを用い、熱書き込みにより、表面の親水性を変化させ
ることにより、現像処理を必要としない平版印刷版用原
版を形成することが、特開平５−７７５７４号、特開平
４−１２５１８９号、ＵＳ５，１８７，０４７号、特開
昭６２−１９５６４６号に開示されている。このシステ
ムでは、熱書き込みにより、版材表面のスルホン基を脱
スルホンさせ画像形成しており、現像処理は不要になる
が、書き込み時に有害なガスを発生させる欠点を有す
る。

【０００８】ＵＳ５，１０２，７７１号、ＵＳ５，２２
５，３１６号には酸感受性基を側鎖に持つポリマーと光
酸発生剤を組み合わせた平版印刷版用原版が提示されて
おり、無現像システムが提案されている。この平版印刷
版用原版は発生する酸がカルボン酸であるために、限ら
れた親水性しか持たず、版材の耐久性や印刷画像の鮮明
さに劣る欠点を持つ。

【０００９】また、特開平７−１８６５６２（ＥＰ６５
２，４８３）号公報には、熱と酸の作用によりカルボン
酸を発生させるポリマーと赤外線吸収色素とを含有する
平版印刷版用原版が開示されている。しかし、この平版
印刷版用原版を用いた平版印刷版では印刷時に汚れが生
じるという問題がある。

【００１０】これらの問題点を検討し、本発明者らは、
加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を側鎖に有す
る高分子化合物と赤外線吸収剤とを含む記録層を備えた
平版印刷版によれば、ディジタル信号に基づいて直接製
版可能であり、画像露光後に湿式現像処理やこすり等の
特別の処理を必要としないことを見いだし、特願平９−
２６８７８号として提案した。本発明は、このさらなる
改良であり、平板印刷版の実用的な問題である高湿条件
下に長期保存した場合の画像形成性の劣化を防止し、過
酷な条件下に保存された場合の保存性を向上を図るもの
である。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ又は半導体レーザを用
いて記録することにより、ディジタルデータから直接製
版可能であり、画像露光後湿式現像処理やこすり等の特
別な処理を必要とせず、且つ、高湿条件下に長期保存し
た場合でも画像形成性が劣化しない平版印刷版用原版を
提供することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的は、支持体上
に、加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を側鎖に
有する高分子化合物と赤外線吸収剤とを含む記録層及び
無機質層状化合物を含有するオーバーコート層とを、順
次積層した平版印刷版用原版を用いることにより達成さ
れた。ここで、前記オーバーコート層に含有される無機
質層状化合物のアスペクト比は２０以上が好ましく、さ
らに１００以上が好ましく、より好ましくは、２００以
上である。また、前記オーバーコート層に含有される無
機質層状化合物は、雲母であることが好ましく、膨潤性
のフッ素系合成雲母であることがさらに好ましい。

【００１３】本発明において、加熱によりスルホン酸を
発生させる官能基を側鎖に有する高分子化合物を赤外線
吸収剤と組み合わせることにより、現像工程がなくても
赤外線レーザー照射により発生した熱で良好なポジ型画
像が得られ、さらに、無機質層状化合物を含有するオー
バーコート層は、赤外線レーザーの透過を阻害せず、且
つ、水分や酸素の透過を効果的に防止し得るため、画像
形成性、感度などの記録層の特性を損なうことなく、優
れた高湿条件下での保存安定性を達成することができる
ことに特徴がある。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の平版印刷版用原版は、支持体上に画像記録材料
により形成された記録層と無機質層状化合物を含有する
オーバーコート層とを備えるものである。つぎに、個々
の構成について説明する。

【００１５】［オーバーコート層］本発明の平版印刷版
用原版の最上層として配置されるオーバーコート層は、
感光層を構成する化合物及び活性光線の露光により感光
層中に生じた化合物への外気からの影響を阻害するため
に設られる。このため、空気中に存在する酸素、水蒸気
やその他の低分子化合物及び感光層中に発生する低分子
化合物のいずれに対しても透過性の低いものであること
が好ましい。即ち、オーバーコート層は、感光層中で露
光の際に発生した酸をトラップするような塩基の混入を
阻害したり、感光層中で生じる反応を阻害する空気中に
存在する水、塩基、酸、酸素等の化合物の感光層への混
入を防止でき、且つ、露光後の非画像部に残存するオー
バーコート層が容易に除去し得るものであることが好ま
しい。

【００１６】先に述べたように、平版印刷版用原版に適
するオーバーコート層の特性としては、露光に用いる活
性光線、一般的には赤外レーザー光の透過を阻害せず、
ガス透過性が低いフィルム若しくは被膜を形成すること
ができ、且つ、記録層との密着性に優れるものである。
本発明者らは鋭意検討の結果、以下に述べる物性を有す
る無機質層状化合物を好適なバインダーとともに用いる
ことにより、優れた性能を示すオーバーコート層が得ら
れることを見いだした。

【００１７】本発明で使用する無機質の層状化合物とし
ては、一般式Ａ（Ｂ，Ｃ）_2-5 Ｄ₄Ｏ₁₀（ＯＨ，Ｆ，
Ｏ）₂ 〔ただし、ＡはＫ，Ｎａ，Ｃａの何れか、Ｂ及び
ＣはＦｅＩＩ，ＦｅＩＩＩ，Ｍｎ，Ａｌ，Ｍｇ，Ｖの何
れかであり、ＤはＳｉ又はＡｌである。〕で表される天
然雲母、合成雲母等の雲母群、一般式３ＭｇＯ・４Ｓｉ
Ｏ・Ｈ₂ Ｏで表されるタルク、テニオライト、モンモリ
ロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニ
ウムなどが挙げられる。

【００１８】上記雲母群においては、天然雲母としては
白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げ
られる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母ＫＭｇ
₃ （ＡｌＳｉ₃ Ｏ₁₀）Ｆ₂ 、カリ四ケイ素雲母ＫＭｇ
_2.5 Ｓｉ₄ Ｏ₁₀）Ｆ₂ 等の非膨潤性雲母、及びＮａテト
ラシリリックマイカＮａＭｇ_2.5 （Ｓｉ₄ Ｏ₁₀）Ｆ₂ 、
Ｎａ又はＬｉテニオライト（Ｎａ，Ｌｉ）Ｍｇ₂ Ｌｉ
（Ｓｉ₄ Ｏ₁₀）Ｆ₂ 、モンモリロナイト系のＮａ又はＬ
ｉヘクトライト（Ｎａ，Ｌｉ）_1/8 Ｍｇ_{2 /5}Ｌｉ
_{1/ 8} （Ｓｉ₄ Ｏ₁₀）Ｆ₂ 等の膨潤性雲母等が挙げられ
る。更に合成スメクタイトも有用である。

【００１９】本発明においては、上記の無機質の層状化
合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素
系の膨潤性雲母が特に有用である。即ち、この膨潤性合
成雲母や、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライ
ト、ベントナイト等の膨潤性粘度鉱物類等は、１０〜１
５Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有
し、格子内金属原子置換が他の粘度鉱物より著しく大き
い。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償
するために層間にＮａ⁺ 、Ｃａ²⁺、Ｍｇ²⁺等の陽イオン
を吸着している。これらの層間に介在している陽イオン
は交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換
する。特に層間の陽イオンがＬｉ⁺ 、Ｎａ⁺ の場合、イ
オン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水
により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると
容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。ベント
ナイト及び膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、本発明に
おいて有用であり、特に膨潤性合成雲母が好ましく用い
られる。

【００２０】本発明で使用する無機質層状化合物の形状
としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄い
ほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透
過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従っ
て、アスペクト比は２０以上であり、好ましくは１００
以上、特に好ましくは２００以上である。なお、アスペ
クト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえ
ば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することが
できる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大き
い。

【００２１】本発明で使用する無機質層状化合物の粒子
径は、その平均長径が０．３〜２０μｍ、好ましくは
０．５〜１０μｍ、特に好ましくは１〜５μｍである。
また、該粒子の平均の厚さは、０．１μｍ以下、好まし
くは、０．０５μｍ以下、特に好ましくは、０．０１μ
ｍ以下である。例えば、無機質層状化合物のうち、代表
的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが１〜５
０ｎｍ、面サイズが１〜２０μｍ程度である。

【００２２】このようにアスペクト比が大きい無機質層
状化合物の粒子をオーバーコート層に含有させると、塗
膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防
止しうるため、変形などによるオーバーコート層の劣化
を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度
の変化による平版印刷版用原版における画像形成性の低
下もなく保存安定性に優れる。

【００２３】無機質層状化合物のオーバーコート層に含
有される量は、オーバーコート層に使用されるバインダ
ーの量に対し、重量比で５／１〜１／１００であること
が好ましい。無機質の層状化合物の量が重量比較例で１
／１００未満であると、無機質の層状化合物を添加する
効果がなく、５／１を越えると、塗膜にひび割れが生じ
る虞れがある。複数種の無機質層状化合物を併用した場
合でも、これらの無機質層状化合物の合計の量が上記の
重量比であることが好ましい。

【００２４】本発明のオーバーコート層に用いられるバ
インダーとしては、無機質層状化合物の分散性が良好で
あり、感光層に密着する均一な被膜を形成し得るもので
あれば、特に制限はなく、水溶性ポリマー、水不溶性ポ
リマーのいずれをも適宜選択して使用することができ
る。具体的には例えば、ポリビニルアルコール、変性ポ
リビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアク
リル酸、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニルの部分鹸
化物、エチレン−ビニルアルコール共重合体、水溶性セ
ルロース誘導体、ゼラチン、デンプン誘導体、アラビア
ゴム等の水溶性ポリマーや、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
（メタ）アクリロニトリル、ポリサルホン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリアミド、セロハン等の水不溶性ポリマー等が挙
げられる。これらは、必要に応じて２種以上を併用して
用いることもできる。これらのうち、非画像部に残存す
るオーバーコート層の除去の容易性及び被膜形成時のハ
ンドリング性の観点から、水溶性ポリマーが好ましく、
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリア
クリル酸等の水溶性アクリル樹脂、ゼラチン、アラビア
ゴム等が好適であり、なかでも、水を溶媒として塗布可
能であり、且つ、印刷時における湿し水により容易に除
去されるという観点から、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、ゼラチン、アラビアゴム等がさらに
好ましい。

【００２５】本発明に係るオーバーコート層に用い得る
ポリビニルアルコールは、必要な水溶性を有する実質的
量の未置換ビニルアルコール単位を含有するかぎり、一
部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されて
いてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を含有
していてもよい。ポリビニルアルコールの具体例として
は、７１〜１００％加水分解され、重合度が３００〜２
４００の範囲のものが挙げられる。具体的には、株式会
社クラレ製のPVA-105,PVA-110,PVA-117,PVA-117H,PVA-1
20,PVA-124,PVA124H,PVA-CS,PVA-CST,PVA-HC,PVA-203,P
VA-204,PVA-205,PVA-210,PVA-217,PVA-220,PVA-224,PVA
-217EE,PVA-217E,PVA-220E,PVA-224E,PVA-405,PVA-420,
PVA-613,L-8 等が挙げられる。上記の共重合体として
は、８８〜１００％加水分解されたポリビニルアセテー
トクロロアセテート又はプロピオネート、ポリビニルホ
ルマール及びポリビニルアセタール及びそれらの共重合
体が挙げられる。

【００２６】次に、オーバーコート層に用いる無機質層
状化合物の一般的な分散方法の例について述べる。ま
ず、水１００重量部に先に無機質層状化合物の好ましい
ものとして挙げた膨潤性の層状化合物を５〜１０重量部
添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にか
けて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に
直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有す
る高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与え
る分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サ
ンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホ
モジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサ
ー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、
毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生
機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上
記の方法で分散した無機質層状化合物の５〜１０重量％
の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は
極めて良好である。この分散物を用いてオーバーコート
層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した
後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。

【００２７】このオーバーコート層塗布液には、塗布性
を向上させための界面活性剤や被膜の物性改良のための
水溶性の可塑剤などの公知の添加剤を加えることができ
る。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミ
ド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトー
ル等が挙げられる。また、水溶性の（メタ）アクリル系
ポリマーを加えることもできる。さらに、この塗布液に
は、記録層との密着性、塗布液の経時安定性を向上する
ための公知の添加剤を加えてもよい。このように調製さ
れたオーバーコート層塗布液を、支持体上に備えられた
記録層の上に塗布し、乾燥してオーバーコート層を形成
する。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択
することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合に
は、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。オーバー
コート層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラ
ビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布
法、ディップ塗布法、バー塗布法等の公知の塗布方法に
より記録層上に塗布される。オーバーコート層塗布量と
しては、乾燥後の塗布量で、０．５〜１０ｇ／ｃｍ² の
範囲であることが好ましく、１〜５ｇ／ｃｍ² の範囲で
あることがさらに好ましい。

【００２８】記録層に含まれる画像記録材料としては、
加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を側鎖に有す
る高分子化合物（以下、スルホン酸発生型高分子化合物
という）と赤外線吸収剤とが挙げられる。 ［スルホン酸発生型高分子化合物］本発明に用いるスル
ホン酸発生型高分子化合物としては、下記一般式
（１）、（２）又は（３）で示される官能基を側鎖に有
する高分子化合物が挙げられる。

【００２９】

【化１】

【００３０】（式中、Ｌは一般式（１）、（２）又は
（３）で示される官能基をポリマー骨格に連結するのに
必要な多価の非金属原子から成る有機基を表し、Ｒ¹ は
置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換
アルキル基又は環状イミド基を示し、Ｒ² 、Ｒ³ は置換
若しくは無置換のアリール基又は置換若しくは無置換ア
ルキル基を示し、Ｒ⁴ は置換若しくは無置換のアリール
基、置換若しくは無置換アルキル基又は−ＳＯ₂ −Ｒ⁵
を示し、Ｒ⁵ は置換若しくは無置換のアリール基又は置
換若しくは無置換アルキル基を示す。）

【００３１】これらのうち、前記一般式（１）で示され
る化合物を含有する平版印刷版用原版はＵＳＰ３，８３
４，９０６号で知られている。本発明者は、先に述べた
ように、このような化合物が熱により分解してスルホン
酸を発生させることを見出したものであり、本発明はこ
れを赤外線吸収剤と組み合わせることにより、現像工程
がなくても赤外線レーザー照射により発生した熱で良好
なポジ型画像が得られることに特徴がある。本発明にお
ける上記一般式（１）、（２）又は（３）で示される官
能基の少なくともいずれかを有する高分子化合物につい
て更に具体的に説明する。

【００３２】Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ がアリール基若しくは置換アリ
ール基を表わすとき、アリール基には炭素環式アリール
基と複素環式（ヘテロ）アリール基が含まれる。炭素環
式アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アン
トラセニル基、ピレニル基等の炭素数６から１９のもの
が用いられる。また、複素環式アリール基としては、ピ
リジル基、フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキノ
リル基、ベンゾフリル基、チオキサントン基、カルバゾ
ール基等の炭素数３〜２０、ヘテロ原子数１〜５を含む
ものが用いられる。Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ がアルキル基若しくは置
換アルキル基を表わすとき、当該アルキル基としてはメ
チル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、シ
クロヘキシル基等の直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素
数１から２５までのものが用いられる。

【００３３】Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ が置換アリール基、置換ヘテロ
アリール基、置換アルキル基であるとき、置換基として
はメトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜１０までのア
ルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロ
ゲン原子、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基
のようなハロゲン置換されたアルキル基、メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカ
ルボニル基、ｐ−クロロフェニルオキシカルボニル基等
の炭素数２から１５までのアルコキシカルボニル基若し
くはアリールオキシカルボニル基；水酸基；アセチルオ
キシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−ジフェニルアミノベ
ンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基；ｔ−ブチルオキ
シカルボニルオキシ基等のカルボネート基；ｔ−ブチル
オキシカルボニルメチルオキシ基、２−ピラニルオキシ
基等のエーテル基；アミノ基、ジメチルアミノ基、ジフ
ェニルアミノ基、モルフォリノ基、アセチルアミノ基等
の置換、非置換のアミノ基；メチルチオ基、フェニルチ
オ基等のチオエーテル基；ビニル基、スチリル基等のア
ルケニル基；ニトロ基；シアノ基；ホルミル基、アセチ
ル基、ベンゾイル基等のアシル基；フェニル基、ナフチ
ル基のようなアリール基；ピリジル基のようなヘテロア
リール基等を挙げることができる。またＲ¹〜Ｒ⁵ が置
換アリール基、置換ヘテロアリール基であるとき、置換
基として前述の他にもメチル基、エチル基等のアルキル
基を用いることができる。

【００３４】Ｒ¹ が環状イミド基を表すとき、環状イミ
ドとしては、琥珀酸イミド、フタル酸イミド、シクロヘ
キサンジカルボン酸イミド、ノルボルネンジカルボン酸
イミド等の炭素原子４〜２０までのものを用いることが
できる。

【００３５】上記のうちＲ¹ として特に好ましいもの
は、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換
されたアリール基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子
吸引性基で置換されたアルキル基、２級若しくは３級の
分岐状のアルキル基、環状アルキル基及び環状イミドで
ある。また、上記のうちＲ² 〜Ｒ⁵ として特に好ましい
ものは、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で
置換されたアリール基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の
電子吸引性基で置換されたアルキル基、及び２級若しく
は３級の分岐状のアルキル基である。

【００３６】Ｌで表される非金属原子からなる多価の連
結基とは、１から６０個までの炭素原子、０個から１０
個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１
個から１００個までの水素原子、及び０個から２０個ま
での硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連
結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成され
るものを挙げることができる。

【００３７】

【化２】

【００３８】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数１から２０ま
でのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６
から１６までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、
スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキ
シ基のような炭素数１から６までのアシルオキシ基、メ
トキシ基、エトキシ基のような炭素数１から６までのア
ルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシ
ルオキシカルボニル基のような炭素数２から７までのア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネ
ートのような炭酸エステル基等を用いることができる。

【００３９】本発明による一般式（１）〜（３）に示す
官能基を側鎖に有する高分子化合物の合成に好適に使用
されるモノマーの具体例を以下に示す。

【００４０】

【化３】

【００４１】

【化４】

【００４２】

【化５】

【００４３】

【化６】

【００４４】本発明では、好ましくは一般式（１）〜
（３）で表される官能基を有するモノマーの内、少なく
ともいずれか一つをラジカル重合することにより得られ
る高分子化合物を使用する。このような高分子化合物と
して、一般式（１）〜（３）で表される官能基を有する
モノマーの内一種のみを用いた単独重合体を使用しても
よいが、２種以上を用いた共重合体やこれらのモノマー
と他のモノマーとの共重合体を使用してもよい。本発明
において、さらに好適に使用される高分子化合物は、上
記モノマーと他の公知のモノマーとのラジカル重合によ
り得られる共重合体である。

【００４５】他のモノマーとしては、グリシジルメタク
リレート、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、オメガ−
（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート、２−
イソシアネートエチルアクリレート等の架橋反応性を有
するモノマーが好ましい。また、共重合体に用いられる
他のモノマーとして、例えば、アクリル酸エステル類、
メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリ
ルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン
酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられ
る。

【００４６】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ−又は
ｉ−）プロピルアクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−
又はｔ−）ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
５−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキ
シベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリ
レート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリ
レート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイル
フェニルアクリレート、２−（ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ）エチルアクリレート等が挙げられる。

【００４７】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ−又はｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、ｉ
−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタ
クリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒド
ロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネ
チルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリ
レート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフ
ェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタク
リレート、２−（ヒドロキシフェニルカルボニルオキ
シ）エチルメタクリレート等が挙げられる。

【００４８】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルア
クリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキ
シフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）
アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−
Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−
Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。

【００４９】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
チルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリル
アミド、Ｎ−（ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。

【００５０】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。

【００５１】スチレン類の具体例としては、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレ
ン等が挙げられる。

【００５２】これらの他のモノマーのうち特に好適に使
用されるのは、Ｃ２０以下のアクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル
酸、メタクリル酸、及びアクリロニトリルである。共重
合体の合成に使用される一般式（１）〜（３）で表され
る官能基を含むモノマーの割合は、５〜９９重量％であ
ることが好ましく、さらに好ましくは１０〜９５重量％
である。

【００５３】以下に、一般式（１）〜（３）に示す官能
基を側鎖に有する高分子化合物の具体例を示す。

【００５４】

【化７】

【００５５】

【化８】

【００５６】

【化９】

【００５７】

【化１０】

【００５８】式中の数字は高分子化合物のモル組成を表
す。

【００５９】また、本発明で使用される一般式（１）〜
（３）で表される官能基の少なくともいずれか一つを有
する高分子化合物の重量平均分子量は好ましくは２００
０以上であり、更に好ましくは５０００〜３０万の範囲
であり、数平均分子量は好ましくは８００以上であり、
更に好ましくは１０００〜２５万の範囲である。多分散
度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好まし
く、更に好ましくは１．１〜１０の範囲である。これら
の高分子化合物は、ランダムポリマー、ブロックポリマ
ー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポ
リマーであることが好ましい。

【００６０】本発明で使用されるスルホン酸発生型高分
子化合物を合成する際に用いられる溶媒としては、例え
ば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロ
ヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノー
ル、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メト
キシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メト
キシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、トルエン、
酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホ
キシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は
２種以上混合して用いられる。本発明で使用されるスル
ホン酸発生型高分子化合物を合成する際に用いられるラ
ジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開
始剤等公知の化合物が使用できる。

【００６１】本発明で使用されるスルホン酸発生型高分
子化合物は単独で用いても混合して用いてもよい。これ
らスルホン酸発生型高分子化合物は、画像記録材料全固
形分の５０〜９０重量％、好ましくは７０〜９０重量％
の割合で使用することができる。添加量が５０重量％未
満の場合は、印刷画像が不鮮明になる。また添加量が９
０重量％を越える場合は、レーザ露光による画像形成が
十分できなくなる。

【００６２】［赤外線吸収剤］本発明において使用され
る赤外線吸収剤は、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの
赤外線を有効に吸収する染料又は顔料である。好ましく
は、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍに吸収極大を有す
る染料又は顔料である。染料としては、市販の染料及び
文献（例えば、「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭
和４５年刊）に記載されている公知のものが利用でき
る。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾ
ロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染
料、シアニン染料、金属チオレート錯体等の染料が挙げ
られる。好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−
１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５
９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記
載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６
号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４
５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−
１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭
５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開
昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に
記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２
７９２号等に記載されているスクワリリウム色素、英国
特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げるこ
とができる。

【００６３】また、米国特許第５，１５６，９３８号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換アリールベンゾ
（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号
（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチン
チアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５
８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−
８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６
０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピ
リリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載の
シアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載
のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５
１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピリ
リウム化合物も好ましく用いられる。また、好ましい別
の染料の例として、米国特許第４，７５６，９９３号明
細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外
吸収染料を挙げることができる。市販の染料の例として
は、日本感光色素社製 ＮＫ２０１４、ＮＫ３５５５、
ＮＫＸ１１４、ＮＫ２５４５、ＮＫ３５０８、ＮＫ３５
０９等、三井東圧染料社製 ＳＩＲ１２８、ＳＩＲ１３
０、ＳＩＲ１３２、ＳＩＲ１０３、ＳＩＲ１５２、ＫＩ
Ｒ１０３等、日本化薬社製 ＩＲＧ０２２、ＩＲＧ００
２、ＩＲＧ００３等、Ｇｌｅｎｄａｌ社製 Ｃｙａｓｏ
ｒｂ ＩＲ９９等、Ｅｐｏｌｉｎｅ社製Ｅｐｏｌｉｇｈ
ｔIV６２Ｂ、ＥｐｏｌｉｇｈｔIII １７８、Ｅｐｏｌｉ
ｇｈｔIII １２５、ＥｐｏｌｉｇｈｔIII １３０、Ｅｐ
ｏｌｉｇｈｔＶ７２、ＥｐｏｌｉｇｈｔＶ９９、Ｅｐｏ
ｌｉｇｈｔIII １１７、ＥｐｏｌｉｇｈｔIII １８９、
ＥｐｏｌｉｇｈｔIII ５７、ＥｐｏｌｉｇｈｔIV６２
Ａ、ＥｐｏｌｉｇｈｔIV１０１、ＥｐｏｌｉｇｈｔIII
１８４、ＥｐｏｌｉｇｈｔIII １９２、Ｅｐｏｌｉｇｈ
ｔIV６７、ＥｐｏｌｉｇｈｔＶ６３等が挙げられる。こ
れらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン
色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチ
オレート錯体が挙げられる。

【００６４】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、
「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年
刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年
刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）
に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類として
は、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、
赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、
金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合ア
ゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ア
ントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン
系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔
料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニ
トロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブ
ラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいも
のはカーボンブラックである。

【００６５】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を
付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリ
ング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔
料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処
理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印
刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最
新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載
されている。

【００６６】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、０．１μｍ〜１μｍの範
囲にあることが特に好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、１０μｍを越えると画像記録層
の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【００６７】これらの染料又は顔料は、画像記録材料全
固形分の０．０１〜５０重量％、好ましくは０．１〜１
０重量％、染料の場合特に好ましくは０．５〜１０重量
％、顔料の場合特に好ましくは３．１〜１０重量％の割
合で使用することができる。顔料又は染料の添加量が
０．０１重量％未満であると感度が低くなり、また５０
重量％を越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。

【００６８】［その他の成分］本発明では、上述の２つ
の成分が必須であるが、必要に応じてこれら以外に種々
の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな
吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することがで
きる。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイ
エロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリー
ンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、
オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラ
ックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業（株）
製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２
５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１
４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２００
０）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等及び特開昭
６２−２９３２４７号公報に記載されている染料を挙げ
ることができる。これらの染料は、レーザ露光後退色
し、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加す
る方が好ましい。尚、添加量は、画像記録材料全固形分
の０．０１〜１０重量％である。

【００６９】また、本発明における記録層には、印刷条
件に対する安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７
４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報に記載され
ているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１
０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリ
ステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタ
ントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノ
エチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン
塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒ
ドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ−テトラ
デシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名アモーゲ
ンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられる。上記非イオ
ン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像記録材料中に占
める割合は、０．０５〜１５重量％が好ましく、より好
ましくは０．１〜５重量％である。

【００７０】更に本発明の記録層には必要に応じ、塗膜
の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例え
ば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシ
ル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸
トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒ
ドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴ
マー及びポリマー等が用いられる。

【００７１】これら以外にも、エポキシ化合物、ビニル
エーテル類、特願平７−１８１２０に記載のヒドロキシ
メチル基を持つフェノール化合物、及びアルコキシメチ
ル基を有するフェノール化合物等を添加してもよい。更
に塗膜の強度を向上させるために他の高分子化合物を添
加してもよい。

【００７２】本発明の平版印刷版用原版は、通常上記各
成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布すること
により製造することができる。ここで使用する溶媒とし
ては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メト
キシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテー
ト、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、
水等を挙げることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。溶
媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好
ましくは１〜５０重量％である。また塗布、乾燥後に得
られる支持体上の塗布量（固形分）は、用途によって異
なるが、平版印刷版用原版についていえば一般的に０．
５〜５．０ｇ／ｍ² が好ましい。塗布する方法として
は、種々の方法を用いることができるが、例えば、バー
コーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。

【００７３】本発明における記録層には、塗布性を良化
するための界面活性剤、例えば特開昭６２−１７０９５
０号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を
添加することができる。これらの添加量は、全画像記録
材料固形分中０．０１〜１重量％が好ましく、さらに好
ましくは０．０５〜０．５重量％である。

【００７４】本発明に使用される支持体は寸度的に安定
な板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチ
ック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、ア
ルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例
えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオ
ン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロー
ス、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリビニルアセタール等）、上記の如き金属
がラミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチッ
クフィルム等が含まれる。本発明の支持体としては、ポ
リエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、そ
の中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニ
ウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純ア
ルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異
元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネー
ト又は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アル
ミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マン
ガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニ
ッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高
々１０重量％以下である。本発明において特に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板
を適宜に利用することができる。本発明で用いられるア
ルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程
度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好まし
くは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。

【００７５】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するために、例えば、界
面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用い
ることができる。また、電気化学的な粗面化法としては
塩酸若しくは硝酸電解液中で交流又は直流により行う方
法がある。また、特開昭５４−６３９０２号に開示され
ているように両者を組み合わせた方法も利用することが
できる。

【００７６】以上のようにして、本発明の平版印刷版用
原版を作成することができる。この平版印刷版用原版
は、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を放射す
る固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光される。
本発明においては、レーザ照射後すぐに印刷機に印刷版
を装着し印刷を行ってもよいが、レーザ照射工程と印刷
工程の間に加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理の
条件は、８０℃〜１５０℃の範囲内で１０秒〜５分間行
うことが好ましい。この加熱処理により、レーザ照射
時、記録に必要なレーザエネルギーを減少させることが
できる。

【００７７】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用
いられる。

【００７８】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００７９】［スルホン酸発生型高分子化合物の合成］モノマー（４）の合成 アセトニトリル２００ｍｌ、シクロヘキシルアルコール
１１ｇ及びピリジン８．８ｇを５００ｍｌの三口フラス
コに入れ、撹拌した。氷で冷却しながらビニルベンゼン
スルホニルクロリド２０．２ｇを滴下した。滴下後室温
にて２時間撹拌した後、１リットルの水にあけ、酢酸エ
チルで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶
媒を減圧留去し、シリカゲルを用いたカラムクロマトグ
ラフィを行い精製することにより、モノマー（４）を得
た。元素分析の計算値は、Ｃ：６３．１３％、Ｈ：６．
８１％であり、実測値はＣ：６３．０１％、Ｈ：６．８
５％であった。

【００８０】モノマー（５）の合成 シクロヘキシルアルコールの代わりに２，２，２−トリ
フルオロエチルアルコールを使用した他はモノマー
（４）の合成方法と同様の方法でモノマー（５）を得
た。

【００８１】モノマー（２８）の合成 シクロヘキシルアルコールの代わりに下記のアルコール
を使用した他はモノマー（４）の合成方法と同様の方法
でモノマー（２８）を得た。

【００８２】

【化１１】

【００８３】モノマー（２３）の合成 Ｎ−メチルスチレンスルホンアミド８８．８ｇ、トリエ
チルアミン１０９．３ｇ、ジメチルアミノピリジン５．
５ｇ及びアセトニトリル２００ｍｌを１リットルの三口
フラスコに入れた。この三口フラスコを冷却し、攪拌し
ながらアセトニトリル２００ｍｌに溶かしたベンゼンス
ルホニルクロリド１１９．２ｇを１時間かけて滴下し
た。滴下後室温で２時間攪拌を続けた後、一晩放置し
た。反応液を水８００ｍｌにあけ、酢酸エチル５００ｍ
ｌで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥させて濃縮した。
濃縮したものをシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサ
ン／酢酸エチル＝３／１（容積比）使用）を用いて精製
した後、イソプロピルアルコール３００ｍｌを用いて再
結晶化させた。融点５８．５〜６０℃の白色結晶８０．
３ｇが得られた。この結晶の吸収スペクトル（ＴＨＦ
中）はλmax ２６５ｎｍであり、εは２．０×１０⁴ で
あった。また、元素分析値（実測値）は、Ｃ：５３．２
１％、Ｈ：４．５３％、Ｎ：４．１７％であった。

【００８４】スルホン酸発生型高分子化合物（１）の合
成 モノマー（４）７．１８ｇ、グリシジルメタクリレート
０．４３ｇ及びメチルエチルケトン１５ｇを１００ｍｌ
の三口フラスコに入れ、６５℃窒素気流下アゾビスジメ
チルバレロニトリル０．１ｇを加えた。同温度で５時間
攪拌した後、メチルエチルケトンを減圧で留去し、固体
を得た。ＧＰＣ（ポリスチレン標準）により重量平均分
子量１．８万のポリマーであることが分かった。

【００８５】スルホン酸発生型高分子化合物（２）の合
成 モノマー（４）７．１８ｇ、トリメトキシプロピルメタ
アクリロイル０．７４ｇ及びメチルエチルケトン１５ｇ
を１００ｍｌの三口フラスコに入れ、６５℃窒素気流下
アゾビスジメチルバレロニトリル０．１ｇを加えた。同
温度で５時間攪拌した後、メチルエチルケトンを減圧で
留去し、固体を得た。ＧＰＣ（ポリスチレン標準）によ
り重量平均分子量１．２万のポリマーであることが分か
った。

【００８６】スルホン酸発生型高分子化合物（３）、
（４）の合成 モノマー（４）７．１８ｇの代わりにモノマー（５）
７．１８ｇを使用した他はスルホン酸発生型高分子化合
物（１）の合成方法と同様の方法で、重量平均分子量
３．５万（ＧＰＣ、ポリスチレン標準）のポリマーを得
た［スルホン酸発生型高分子化合物（３）］。また、モ
ノマー（４）７．１８ｇの代わりにモノマー（２８）
９．３２ｇを使用した他はスルホン酸発生型高分子化合
物（２）の合成方法と同様の方法で、重量平均分子量
２．３万（ＧＰＣ、ポリスチレン標準）のポリマーを得
た［スルホン酸発生型高分子化合物（４）］。

【００８７】スルホン酸発生型高分子化合物５、７〜１
０の合成 スルホン酸発生型高分子化合物（５）、（７）〜（１
０）も上記と同様にして合成した。重量平均分子量（Ｇ
ＰＣ、ポリスチレン標準）はそれぞれ３．１万、１．５
万、２．０万、１．３万、４．１万であった。

【００８８】スルホン酸発生型高分子化合物（１１）の
合成 ２００ｍｌの三口フラスコにモノマー（４）２０ｇ及び
メチルエチルケトン４０ｇを入れ、６５℃窒素気流下、
アゾビスジメチルバレロニトリル０．２５ｇを加えた。
５時間攪拌しながら同温度に保った後、減圧下溶媒を留
去し、固体を得た。ＧＰＣ（ポリスチレン標準）により
重量平均分子量１．０４万のポリマーであることが分か
った。

【００８９】（実施例１〜８）厚さ０．３０ｍｍのアル
ミニウム板（材質１０５０）をトリクロロエチレン洗浄
して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュのパ
ミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、水で
よく洗浄した。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウ
ム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、
更に２％ＨＮＯ ₃ に２０秒間浸漬して水洗した。この時
の砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ² であっ
た。次にこの板を７％Ｈ₂ ＳＯ₄ を電解液として電流密
度１５Ａ／ｄｍ² で３ｇ／ｍ² の直流陽極酸化皮膜を設
けた後、水洗乾燥した。

【００９０】次に、下記溶液〔Ａ〕において、スルホン
酸発生型高分子化合物の種類を変えて、８種類の溶液
〔Ａ−１〕〜〔Ａ−８〕を調整した。この溶液をそれぞ
れ、上記の処理済みのアルミニウム板に塗布し、１００
℃で２分間乾燥した。乾燥後の重量は１．２ｇ／ｍ² で
あった。

【００９１】 溶液〔Ａ〕 スルホン酸発生型高分子化合物（表１） １．０ｇ 赤外線吸収剤 ０．１５ｇ （ＮＫ−３５０８、日本感光色素研究所（株）製） ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対イオンを１−ナフタレン− ０．０５ｇ スルホン酸にした染料 フッ素系界面活性剤 ０．０６ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） メチルエチルケトン ２０ｇ メチルアルコール ７ｇ

【００９２】

【表１】

【００９３】［オーバーコート層液の調整］ （１）雲母分散液の調整 水１８４ｇに合成雲母（ソマシフＭＥ−１００：商品
名、コープケミカル（株）社製、アスペクト比：１００
０以上）の１６ｇを添加し、ホモジナイザーを用いて平
均粒径（レーザ散乱法）３μｍになる迄分散し、雲母分
散液を得た。

【００９４】（２）オーバーコート層塗布液の調整 調整済の雲母分散液６ｇに水１００ｇを加え、ポリビニ
ルアルコール（ＰＶＡ−１２４ クラレ（株）製）８重
量％水溶液１２ｇを加えよく攪拌した後、２−エチルヘ
キシルスルホコハク酸ソーダ２重量％液を１０ｇ加え、
オーバーコート層塗布液を得た。次に、前記処方の感光
層を塗設したプレートの上に上記組成からなる水溶性オ
ーバーコート層塗布液を、乾燥後の重量が１．０ｇ／ｍ
² で〕となるように塗布し、１００℃で３分間乾燥さ
せ、平版印刷版用原版〔Ａ−１〕〜〔Ａ−８〕を得た。

【００９５】得られた平版印刷版用原版〔Ａ−１〕〜
〔Ａ−８〕を、波長１０６４ｎｍの赤外線を発するＹＡ
Ｇレーザで露光した。露光後、１１０℃で１分間加熱処
理した後、ハイデルＫＯＲ−Ｄ機で印刷した。この際、
印刷物の非画像部に汚れが発生しているかどうかを観察
した。結果を表２に示す。いずれも非画像部に汚れのな
い良好な印刷物が得られた。次に、原版〔Ａ−１〕〜
〔Ａ−８〕を４５℃、相対湿度７５％の条件下で３日間
保存したものを用いて、前記と同様の条件で、製版、印
刷を行い、同様に評価した。結果を表２に示す。いずれ
も非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られた。

【００９６】

【表２】

【００９７】（比較例１〜８）実施例１〜８において、
オーバーコート層を塗設しなかった他は実施例１〜８と
同様にして平版印刷版用原版〔Ａ’−１〕〜〔Ａ’−
８〕を調製した。この原版に対して実施例１〜８と同様
に露光、加熱、印刷を行ったところ、いずれも非画像部
に汚れのない良好な印刷物が得られた。次に、原版
〔Ａ’−１〕〜〔Ａ’−８〕を４５℃、相対湿度７５％
の条件下で３日間保存したものを用いて、前記と同様の
条件で、製版、印刷を行い、同様に評価した。結果を表
３に示す。いずれも非画像部に汚れが見られ、鮮明な画
像が得られなかった。

【００９８】

【表３】

【００９９】（実施例９〜１２）下記溶液〔Ｂ〕におい
て、スルホン酸発生型高分子化合物の種類を変えて、４
種類の溶液〔Ｂ−１〕〜〔Ｂ−４〕を調整した。この溶
液をそれぞれ、実施例１〜８で用いた下塗り済みのアル
ミニウム板に塗布し、１００℃で２分間乾燥後、さらに
１００℃で１０分間加熱して感光層を形成した。乾燥後
の重量は１．７ｇ／ｍ² であった。

【０１００】 溶液〔Ｂ〕 スルホン酸発生型高分子化合物（表４） ０．６ｇ 無水フタル酸 ０．００５ｇ オルトクロロフェノール ０．００１ｇ 赤外線吸収剤ＮＫ−２２６８ ０．１５ｇ （日本感光色素研究所（株）製） クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 １．２ｇ （メタ：パラ比＝８：２、重量平均分子量５８００） ビスフェノールＡとホルムアルデヒドから得られるレゾール樹脂１．０ｇ （重量平均分子量１６００） ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対イオンを１−ナフタレン− ０．０３ｇ スルホン酸にした染料 フッ素系界面活性剤 ０．０６ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） メチルエチルケトン ２０ｇ メチルアルコール ７ｇ

【０１０１】

【表４】

【０１０２】次に、前記処方の感光層を塗設したプレー
トの上に実施例１〜８と同様にしてオーバーコート層を
塗設し、平版印刷版用原版〔Ｂ−１〕〜〔Ｂ−４〕を得
た。得られた平版印刷版用原版〔Ｂ−１〕〜〔Ｂ−４〕
を、温度４５℃湿度７５％の高温高湿条件下で３日間保
存した後、波長８３０ｎｍの赤外線を発する半導体レー
ザで露光した。露光後、１１０℃で１分間加熱処理した
後、現像機を通すことなく、富士写真フイルム（株）製
ガムＧＵ−７（１：１）で版面を処理し、ハイデルＫＯ
Ｒ−Ｄ機で印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れ
が発生しているかどうかを観察した。結果を表５に示
す。いずれも非画像部に汚れのない良好な印刷物が得ら
れた。

【０１０３】

【表５】

【０１０４】（比較例９〜１２）実施例９〜１２におい
て、オーバーコート層を塗設しなかった他は実施例９〜
１２と同様にして平版印刷版用原版〔Ｂ’−１〕〜
〔Ｂ’−４〕を調製した。この原版に対して実施例１〜
８と同様に露光、加熱、印刷を行ったところ、いずれも
非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られた。次に、
原版〔Ｂ’−１〕〜〔Ｂ’−４〕を４５℃、相対湿度７
５％の条件下で３日間保存したものを用いて、前記と同
様の条件で、製版、印刷を行い、同様に評価した。結果
を表６に示す。いずれも、非画像部に汚れが生じ、画像
部が不均一となっており、鮮明な画像が得られなかっ
た。

【０１０５】

【表６】

【０１０６】

【発明の効果】本発明によれば、赤外線レーザにより直
接製版可能であり、画像露光後湿式現像処理やこすり等
の特別な処理を必要とせず、印刷画像が鮮明であり、且
つ、高湿条件下に長期保存した場合でも画像形成性が劣
化しない平版印刷版用原版を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０６ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０６ 7/039 ５０１ 7/039 ５０１

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、加熱によりスルホン酸を発
   生させる官能基を側鎖に有する高分子化合物と赤外線吸
   収剤とを含む記録層と、 無機質層状化合物を含有するオーバーコート層とを、 順次積層したことを特徴とする平版印刷版用原版。
2. 【請求項２】 前記オーバーコート層に含有される無機
   質層状化合物のアスペクト比が２０以上であることを特
   徴とする請求項１に記載の平版印刷版用原版。
3. 【請求項３】 前記オーバーコート層に含有される無機
   質層状化合物のアスペクト比が１００以上であることを
   特徴とする請求項１に記載の平版印刷版用原版。
4. 【請求項４】 前記オーバーコート層に含有される無機
   質層状化合物のアスペクト比が２００以上であることを
   特徴とする請求項１に記載の平版印刷版用原版。
5. 【請求項５】 前記オーバーコート層に含有される無機
   質層状化合物が雲母であることを特徴とする請求項１乃
   至４のいずれかに記載の平版印刷版用原版。
6. 【請求項６】 前記オーバーコート層に含有される無機
   質層状化合物が膨潤性のフッ素系合成雲母であることを
   特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の平版印刷
   版用原版。