JPH11309469A - 気液反応水処理装置および気体注入器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被処理水と気体との気液接触を効率的に行う
ことができる気液反応水処理装置および気体注入器を提
供する。 【解決手段】 気液反応水処理装置３０はオゾン反応水
槽２と、水槽２内に垂直方向に配置され下端が開口した
開口管体３２とを備えている。開口管体３２の上部に、
被処理水に対してオゾンを注入する気体注入器２０が配
置されている。気体注入器２０は中空多孔質体２１と、
中空多孔質体２１の外側に設けられた外管体２２とを有
している。外管体２２内に供給されたオゾンガスは中空
多孔質体２１を経て、中空多孔質体２１内の被処理水へ
注入される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浄水場や下廃水処
理場などで用いられ、オゾンなどの気体を水に溶解反応
させる気液反応水処理装置および気体注入器に関する。

【０００２】

【従来の技術】オゾン濃度１０〜２０ｇ／Ｎｍ3 程度の
常用オゾンガスを用いた従来の気液反応水処理装置を図
７に示す。図７に示すように、気液反応水処理装置１は
オゾン反応水槽２を有し、このオゾン反応水槽２は気液
接触部３と滞留部４に区画されている。このうち気液接
触部３の底部には、多数のセラミック製散気筒からなる
散気ユニット５が敷設され、この散気ユニット５にオゾ
ンガスが供給される。

【０００３】気液接触部３に導入された被処理水は散気
ユニット５から発生するオゾンガスの上昇気泡と接触
し、オゾンガスの水への溶解とともに、オゾンガスと被
処理水中の被酸化物との酸化反応が進行する。次に滞留
部４において被処理水は仕上げ処理され、脱色・殺菌・
微生物難分解有機物の易分解性化などが実行される。そ
して滞留部４からの未反応オゾンは排オゾンガスにな
る。

【０００４】最近では、オゾンの水溶解効率を上げるた
め、図８に示す常用オゾン濃度より高濃度のオゾンを用
いた下方注入方式の気液反応水処理装置の研究開発が行
われている。図８に示すように下方注入方式の気液反応
水処理装置１０は、オゾン反応水槽２を有し、このオゾ
ン反応水槽２の気液接触部３ａ内に、下端開口の管体１
１が垂直敷設され、管体１１の上端から加圧被処理水ま
たはポンプ１２で加圧された被処理水が導入される。加
圧効果を生かすため、管体１１の下端部にオリフィス等
の絞り１３を設ける場合もあり、オゾンガスは、ノズル
型のオゾン注入器１４から管体１１の上端内部に気泡と
して注入される。この気泡は管体１１内で被処理水の流
下とともに流下し、管体１１の下端から気液接触部３ａ
内に放出されて上昇気泡となり、水面から出て排オゾン
ガスになる。気液接触部３ａを出た水は、図７に示す場
合と同様に滞留部４ａを経て水処理が行われる。

【０００５】管体１１内に注入されるオゾンガスのオゾ
ン濃度は常用（１０〜２０ｇ／ｍ3）の１０〜２０倍を
想定しており、オゾン注入率を不変とすれば送気量が常
用の１／１０〜１／２０と小さくなるため、ノズル式の
オゾン注入器１４と管体１１が有効に作用することにな
る。この気液反応水処理装置１０は、加圧と高濃度オゾ
ンの作用により、オゾンの溶解／反応が高速で行われる
ため、省スペースの装置化が可能とされる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】図７に示す常用オゾン
ガスを用いた気液反応水処理装置１は、実用装置として
最も採用されているが、次のような問題点がある。 （１） オゾン吸収率が８０〜９０数％程度で高くな
く、利用されない損失オゾンが排オゾンガスとして排出
される。 （２） 上昇気泡が水面に到達する間にオゾンの溶解が
行われるため、オゾン反応水槽２の槽高を５〜７ｍと高
くしなければならないという構造的制約がある。 （３） 散気ユニット５の構造上の大きさと設置底面積
あたりの散気量特性とから、散気ユニット５が水の滞留
時間で５〜１０分に相当する大きなスペースを有する気
液接触部３の底面全体に敷設される。そのため、散気ユ
ニット５の水平度や目詰まりの不均一が生じ易く、気泡
流の不均一によるオゾン溶解効率の低下を生じ易い。 （４） 散気ユニット５の保守上、オゾン反応水槽２の
全部の水抜きが必要であり、この系の運転停止と大きな
水損失を招く。

【０００７】一方、図８に示す下方注入方式の気液反応
水処理装置１０も次のような問題がある。 （１） 高速のオゾンの溶解／反応を維持するために
は、気液接触部３ａの槽高を、常用オゾンガスを用いた
気液反応水処理装置１と同様に５〜７ｍと高くしなけれ
ばならないという構造的制約がある。 （２） ノズル型のオゾン注入器１４における気泡径は
比較的大きいため、気液接触効率上マイナス効果とな
る。また、オゾン注入器１４における通気量と通気量変
化範囲が小さいため、オゾン注入率制御用に多数のオゾ
ン注入器１４を敷設しなければならず装置が複雑化す
る。さらに、常用のオゾン濃度の１０〜２０倍のオゾン
ガスには使用できても、通気量が大きくなるこれより低
い高濃度オゾンガスには適用できないという問題があ
る。 （３） 管体１１の下端部にオリフィス等の絞り１３を
設けて加圧溶解する場合は、絞り１３のオリフィス等が
１点に集中しているため、絞り度を上げるほど調整が困
難になり大きな加圧効果が期待できない。また経時的な
腐食・付着・詰まり等に対する保守が必要になり、保守
性も悪い。

【０００８】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、オゾン反応水槽の槽高を大きくしなくても
効果的に気液反応を生じさせることができる気液反応水
処理装置および気体注入器を提供することを目的とす
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、水槽と、水槽
内に垂直方向に配置され、下端が開口した開口管体と、
開口管体の上流側に設けられ、内部が水流路となる中空
多孔質体と、中空多孔質体の外方に取付けられ中空多孔
質体との間に気体導入路を形成する外管体とを有する気
体注入器と、を備えたことを特徴とする気液反応水処理
装置、内部が水流路となる中空多孔質体と、中空多孔質
体の外方に取付けられ中空多孔質体との間に気体導入路
を形成する外管体とを有する気体注入器と、この気体注
入器に接続された蛇行配管と、を備えたことを特徴とす
る気液反応水処理装置、および内部が水流路となる中空
多孔質体と、中空多孔質体の外方に取付けられ、中空多
孔質体との間に気体導入路を形成する外管体と、を備え
たことを特徴とする気体注入器である。

【００１０】本発明によれば、気体注入器の気体導入路
内に気体を導入し、気体導入路内の気体を中空多孔質体
を介して内部の水流路へ送り込む。水流路には被処理水
が供給され、水流路内において被処理水に対して気体が
注入される。気体が注入された被処理水は、その後開口
管体から水槽内へ送られこの水槽内で気液接触が行われ
るか、あるいは蛇行配管へ送られ、この蛇行配管内で気
液接触が行われる。

【００１１】

【発明の実施の形態】第１の実施の形態 以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明
する。図１乃至図２は本発明の第１の実施の形態を示す
図である。

【００１２】まず図２により気液反応水処理装置につい
て説明する。図２に示すように気液反応水処理装置３０
は、内部が気液接触部３１と滞留部４ａとに区画された
オゾン反応水槽２と、気液接触部３１内に垂直方向に配
置されるとともに下端が開口した管体（開口管体）３２
とを備えている。

【００１３】また管体３２の上部には、被処理水に対し
てオゾンガスを注入する気体注入器２０が接続されてい
る。また気体注入器２０の上端には、加圧被処理水また
はポンプ１２で加圧された被処理水が水流路配管２５を
介して導入されるようになっており、加圧効果を生かす
ため、管体３２の下端部にオリフィス等の絞り１３が設
けられている。ポンプ１２を用いる場合は、気体注入器
２０をポンプ１２の吸引側あるいは吐出側に移動させて
もよい。またオゾンガスは、気体注入器２０から管体３
２の上端内部に気泡として注入されるようになってい
る。

【００１４】次に気体注入器２０について、図１により
詳述する。図１に示すように気体注入器２０は、内部が
水流路２１ａとなるセラミックス製または焼結金属製の
中空多孔質体２１と、中空多孔質体２１を取囲むステン
レス製の外管体２２とを有している。外管体２２内に
は、外管体２２と中空多孔質体２１との間の空隙（気体
導入路）２３の気液シールをするシール材２４が配置さ
れている。また外管体２２には水流路配管２５に配管接
続するためのフランジなどの接続部２６と、気体接続口
２８と、ドレン口２９とが設けられ、水流路配管２５と
接続部２６との間にはシール材２７が設けられている。
また中空多孔質体２１の両端部はシール性を維持するた
め、気液透過性の悪い部材の接合や表面処理が施されて
いる。オゾンなどの注入ガスのガス管２８ａは気体接続
口２８に接続され、気体注入器２０は接続部２６を介し
て水流路配管２５に接続される。またドレン口２９には
図示していない開閉弁が設けられている。

【００１５】次にこのような構成からなる本実施の形態
の作用について説明する。まず、加圧被処理水が、水流
路配管２５から気体注入器２０内に供給される。

【００１６】次に被処理水は、気体注入器２０の中空多
孔質体２１内の水流路２１ａに入る。一方、オゾンなど
の注入ガスはガス管２８ａから気体接続口２８を経て外
管体２２と中空多孔質体２１との間の気体導入路２３内
に入り、その後中空多孔質体２１の多孔質部を通して中
空多孔質体２１内部の水流路２１ａに微細気泡となって
注入される。

【００１７】気体注入器２０の中空多孔質体２１は、従
来のノズル式のオゾン注入器１４で使用するｍｍオーダ
の１本のノズル孔径よりはるかに小さいμｍオーダの孔
径を多数有する多孔質体となっており、より細かい多数
のオゾンガス気泡を水流路２１ａに対して発生し、気液
接触効率を向上させることができる。さらに、中空多孔
質体２１はノズル式のオゾン注入器１４より通気量を効
率的に拡大でき、オゾン注入率の制御範囲を拡大するこ
とができ、常用のオゾン濃度（１０〜２０ｇ／ｍ3 ）の
１０〜２０倍程度までの高濃度のオゾンガスにも適用が
可能となる。

【００１８】図１において、気体注入器２０は横置きと
なっているが、縦横自在な設置ができる。通常、横置き
の気体注入器２０では微細気泡が中空多孔質体２１の水
流路２１ａ内部の長手方向下流部の上方から発生し、縦
置きの気体注入器２０では中空多孔質体２１の水流路内
部の上方で内壁に沿って発生する。このように中空多孔
質体２１の全面からではなく部分的な気泡発生となって
も、従来のノズル式のオゾン注入器１４に比べて、より
多量の通気が気泡径を大きくすることなく実現される。

【００１９】従来のオゾン注入器１４では、複数のオゾ
ン注入器１４を使用しても気泡発生個所が数点しかない
ため、経時的に付着する被処理水中の挟雑物や酸化物に
よる目詰まりが急激に発生し易く、オゾンなどの気体注
入制御を困難にし、かつ、この交換保守のため導水を停
止しなければならない不都合があった。これに対して本
発明による中空多孔質体２１では、気泡発生個所が多数
の微細孔となるため、目詰まりが緩慢であり、かつ、気
体注入圧の若干の調整により中空多孔質体２１の気泡発
生が無かった部位から気泡発生を継続でき、気体注入制
御の安定化と目詰まり保守期間の延長が可能となる。

【００２０】次に気体注入器２０内においてオゾンが注
入された被処理水は、その後管体３２内を流下し、管体
３２の下端から気液接触部３１内に放出される。この場
合、オゾンの気泡は気液接触部３１内で上昇気泡とな
り、水面から出て排オゾンガスになる。気液接触部３１
を出た処理水は滞留部４ａを経て水処理が行われる。

【００２１】本実施の形態では気体注入器２０を用いる
ことにより、気液接触効率の向上、気体注入率の制御範
囲の拡大、および常用オゾン濃度の（１０〜２０ｇ／ｍ
3 ）の１０〜２０倍程度までの高濃度のオゾンガスへの
適用が可能となる。また気体注入制御の安定化と目詰ま
り保守期間の延長化も可能になる。

【００２２】第２の実施の形態 次に図３により本発明の第２の実施の形態について説明
する。図３に示す第２の実施の形態は、オゾン反応水槽
２内に設置された気体注入器２０の上流側に、垂直方向
に配置された密閉型管体４１を接続するとともに、管体
４１の上部に気体注入器２０と同様の構造の追加気体注
入器２０ａを設けたものである。図３において、図１お
よび図２に示す実施の形態と同一部分には同一符号を付
して詳細な説明は省略する。

【００２３】図３において、まず加圧被処理水が追加気
体注入器２０ａ内に流入し、この追加気体注入器２０ａ
内において加圧被処理水に対してオゾンが注入される。
オゾンが注入された被処理水は、その後、密閉型管体４
１内において気液接触が行われる。次に被処理水は気体
注入器２０に流入し、この気体注入器２０内において被
処理水に対してオゾンが再度注入される。被処理水は、
その後管体３２から気液接触部３１を経て滞留部４ａへ
送られる。

【００２４】図３に示す実施の形態によれば、次のよう
な作用効果を奏する。すなわち常用の１０〜２０倍程度
までの高濃度のオゾンガスの適用を図るとき、図２に示
す気液反応水処理装置３０を使用しても、通気量が過大
となり気泡径の増大などによるオゾン溶解効率の低下が
起こることがある。この場合、図２に示す気液反応水処
理装置１０を複数台並列接続することも考えられるが、
設備費の増大と調整の困難性を伴う。本実施の形態によ
れば、通気量の大きい追加気体注入器２０ａと、水没の
必要がなく設置性が優れた密閉型管体４１とをオゾン反
応水槽２の上流側に配置したので、上記の過大通気量の
一部を効率的に分担することができる。またオゾン注入
率の制御範囲の拡大を図ることができ、かつ常用の１０
〜２０倍程度までの高濃度のオゾンガスの適用化の拡大
を図ることができる。また、本実施の形態によれば、密
閉型管体４１内で、被処理水とオゾンガスとのより大き
い接触反応時間を確保することができる。このため設置
性の悪いオゾン反応水槽２の滞留部４ａを省略もしくは
簡略化できる。

【００２５】第３の実施の形態 次に図４および図５により、本発明の第３の実施の形態
について説明する。図４に示すように、気液反応水処理
装置３０は気体注入器２０と、この気体注入器２０に取
外継手５４を介して接続された蛇行配管５１とを組合せ
て構成され気液反応配管系５０からなっている。

【００２６】また気体注入器２０と蛇行配管５１とから
なる気液反応配管系５０は一組以上設けられ、各組の気
液反応配管系５０は流路切替器５３により連結されてい
る。また各流路切替器５３間には、バイパス配管５２が
接続されている。

【００２７】さらに気液反応水処理装置３０は、水槽６
１内に配置されるとともに下端が開口した開口管体６２
を備えている（図５（ａ））。

【００２８】この管体６２は、図４に示す気液反応配管
系５０の下流側に接続されるとともに下端に絞り１３が
設けられている。

【００２９】なお、図４に示す気体注入器２０は、図１
に示す気体注入器と同様の構造を有している。

【００３０】次にこのような構成からなる本実施の形態
の作用について説明する。図４に示すように加圧被処理
水が、流路切替器５３を経て気液反応配管系５０の気体
注入器２０内に入り、この気体注入器２０において被処
理水に対してオゾンが注入される。

【００３１】次に被処理水は蛇行配管５１内を流れ、こ
の間、気液接触が十分行われる。その後、被処理水は図
５（ａ）に示す管体６２を経て水槽６１内に流出し、こ
の水槽６１内でも気液接触が行われる。

【００３２】本実施の形態によれば、気体注入器２０と
蛇行配管５１を設置条件に応じて３次元方向に自在に変
形することができ、必要な気液接触容積だけでなく滞留
部容積にまでおよぶ容積を排オゾン損失の無い密閉した
蛇行配管５１で確保することができる。蛇行配管５１内
の気泡は横引き配管では流路内上面を通過するので、有
効気液接触容積は縦引きの蛇行配管５１部分で確保す
る。また、気泡溜まりになる凹や突起物を避け、気泡を
含む被処理水に許容される最低流速を確保している。

【００３３】またバイパス配管５２と、流路切替器５３
と、取外継手５４を設けたので、気体注入器２０と蛇行
配管５１とからなる気液反応配管系５０を流路切替器５
３によりバイパス配管５２に切替えることができ、複数
の気液反応配管系５０から任意の気液反応配管系５０を
選択することが可能になる。これにより、将来の季節的
な水質変化によるオゾン注入率変化に対応して、気液接
触を最適に行うことができ、気体注入器２０の保守管理
を水流路の中断なく実施できる。

【００３４】また図５（ａ）に示すように気液反応配管
系５０に続いて、水槽６１の水面上から底面近くまで縦
方向に敷設され下端が開放された管体６２を設け、管体
６２の下端に絞り１３を設けたので、水槽６１内の水深
を気液反応配管系５０と管体６２の設置条件に応じて自
由に設計することができる。

【００３５】ところで水槽６１の水深は４〜６ｍ以上に
維持することが、流路全体の内圧を安定的に高めるため
望ましい。この場合、管体６２の形態は水深の維持に主
眼が置かれるため、図８に示す従来の管体１１のよう
に、下方への気泡移動速度を可能な限り遅くする必要が
無く、管体６２の管口径を細くでき、水槽６１を含めて
設置が簡単になる。

【００３６】また望ましい水深が確保できない設置条件
の場合、本発明では、不足する水深相当の圧力を気液反
応配管系５０から管体６２の出口までの水流路全体の流
路抵抗により確保することができる。この場合、加圧効
果上からは、水流路端末すなわち管体６２の管口径を細
くすることが望まれる。これは、設置上の利点でもあ
る。なお、本発明において気液反応配管系５０から管体
６２までの水流路内で滞留部機能を持たせることは可能
であるが、水槽６１を滞留部として利用することも当然
できる。

【００３７】次に本実施の形態の変形例について説明す
る。図５（ａ）に示す管体６２の代わりに、気液反応配
管系５０の下流側に立上げ管体７１を接続し、立上げ管
体７１の上部で大気開放するとともに、管体７１に受水
管体７２を介して、あるいは直接に水槽７３が連結され
ている（図５（ｂ））。立上げ管体７１の立上げ高さ
は、気液反応配管系５０と立上げ管体７１の設置条件に
応じて自由に設計できる。

【００３８】本変形例において立上げ管体７１の高さ位
置を気体注入器２０から４〜６ｍ以上に維持すること
が、流路全体の内圧を安定的に高めるため、加圧効果と
その安定性上望ましい。この場合、立上げ管体７１の形
態は高さの維持に主眼が置かれるため、図８に示す従来
の下方注入方式の管体１１よりも、立上げ端末管体７１
の管口径を細くでき、設置が簡単になる。望ましい高さ
が確保できない設置条件の場合、本発明では、不足する
高さ相当の圧力を気液反応配管系５０から立上げ管体７
１の出口までの水流路全体の流路抵抗で確保することが
できる。この場合、加圧効果上からは、水流路端末すな
わち立上げ管体７１の管口径を細くすることが望まれ
る。これは、設置上の利点でもある。

【００３９】また本変形例によれば、端末管体の水深確
保や土木水槽の設置が困難で高さに余裕がある場合に、
性能維持を図りながら簡単に設置できる利点を有する。

【００４０】次に更なる変形例について説明する。図５
（ａ）に示す管体６２の代わりに、気液反応配管系５０
の下流側に、水路の絞り機構８１を接続してもよい（図
５（ｃ））。水路の絞り機構８１は導入配管８５ａと、
導入配管８５ａに泡溜りのできないレジューサ８５、８
６、８７を介して接続された細管８２、８３とからなっ
ており、レジューサ８５と、レジューサ８６、８７との
間には流路切替器８４が設けられている。

【００４１】本実施の形態によれば、気液接触反応の加
圧効果は、気液反応配管系５０の水路の絞り機構８１ま
での水流路全体の流路抵抗で確保されるが、管路型気体
注入器２０の内圧を水柱４〜６ｍ以上に高めることが望
まれ、気液反応水処理装置３０の端末となる水路の絞り
機構８１で集中的に大部分の流路抵抗が得られるように
することが望まれる。この流路抵抗は処理水流量の変動
の影響を受けるので、この変動ステップに対応した複数
の細管８２、８３を設け、細管８２、８３を流路切替器
８４で切替え選択することができる。

【００４２】細管８２、８３による絞り機構は、細管８
２、８３の口径と長さの自在設計により、従来の絞りよ
りも安定性が高く、水柱４〜６ｍ以上の高内圧にするこ
とも可能になり、気液接触反応効率を飛躍的に向上させ
ることも可能になる。流路切替器８４は手動で切替えて
もよいが、処理水流量の変動値を測定し、流路切替器８
４の切替えと、管路型気体注入器２０へのオゾンガスの
注入量調整を連動させた自動制御にすることが望まし
い。

【００４３】第４の実施の形態 次に本発明の第４の実施の形態について図６により説明
する。図６に示す実施の形態は、上記第１乃至第３の実
施の形態に示す気液反応水処理装置において、最下流に
図６に示す密閉滞留筒９１、９３を配置したものであ
る。また密閉滞留筒９１、９３は連結配管９２により互
いに連結されている。

【００４４】各密閉滞留筒９１、９３は、下部から水を
導入し上部から水を流出する構造となっており、比較的
大きな口径を有している。密閉滞留筒９１、９３の口径
・高さ、数は、設置条件に合わせて所定の水滞留時間が
得られるように設計され、水流出部に連通する上部構造
は泡溜りが生じないよう口径を徐々に狭めて連結配管９
２の口径に合わされている。連結配管９２の口径は、水
流中の気泡が流下方向に搬送される最低の水流線速が維
持できるようになっている。

【００４５】滞留筒９１の下部に導入された被処理水
は、滞留筒９１の口径拡大により水流線速が低下し緩や
かな流れとなり、滞留筒９１の上部に至るまでに所定の
滞留時間が確保される。滞留筒９１の上部から水流出部
までの口径の減少に伴い水流線速が上がり、連結配管９
２を介して気泡を搬送しながら滞留筒９３に流入する。

【００４６】本実施の形態によれば、より大きい滞留時
間を水流路配管長を伸ばすことなく、排オゾンロスの無
い密閉滞留筒９１、９３により簡単に確保することがで
き、より長い滞留時間を要する気液反応系への適用が可
能になる。

【００４７】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、被処理水
と気体との気液接触を効率的に行うことができる。この
ため装置全体を大型化することなく、装置をコンパクト
にした状態で被処理水を効果的に処理することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態を示す気体注入器の
側断面図

【図２】気液反応水処理装置の概略図

【図３】本発明の第２の実施の形態を示す気液反応水処
理装置の概略図

【図４】本発明の第３の実施の形態を示す気液反応水処
理装置の概略図

【図５】気液反応配管系の下流側に配置された装置を示
す図

【図６】本発明の第４の実施の形態を示す気液反応水処
理装置の概略図

【図７】従来の気液反応水処理装置を示す図

【図８】他の従来の気液反応水処理装置を示す図

【符号の説明】

２ オゾン反応水槽 ４ａ 滞留部 ２０ 気体注入器 ２１ 中空多孔質体 ２２ 外管体 ３０ 気液反応水処理装置 ３１ 気液接触部 ３２，６２ 開口管体 ４１ 密閉型管体 ５０ 気液反応配管系 ５１ 蛇行配管 ５２ バイパス配管 ５３，８４ 流路切替器 ５４ 取外継手 ６１，７３ 水槽 ８１ 水路の絞り機構 ８２，８３ 細管 ８５，８６，８７ レジューサ

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】水槽と、 水槽内に垂直方向に配置され、下端が開口した開口管体
   と、 開口管体の上流側に設けられ、内部が水流路となる中空
   多孔質体と、中空多孔質体の外方に取付けられ中空多孔
   質体との間に気体導入路を形成する外管体とを有する気
   体注入器と、 を備えたことを特徴とする気液反応水処理装置。
2. 【請求項２】気体注入器の上流側に接続され垂直方向に
   配置された密閉型管体と、 密閉型管体の上部に設けられ、内部が水流路となる中空
   多孔質体と、中空多孔質体の外方に取付けられ中空多孔
   質体との間に気体導入路を形成する外管体とを有する追
   加気体注入器と、 を更に備えたことを特徴とする請求項１記載の気液反応
   水処理装置。
3. 【請求項３】内部が水流路となる中空多孔質体と、中空
   多孔質体の外方に取付けられ中空多孔質体との間に気体
   導入路を形成する外管体とを有する気体注入器と、 この気体注入器に接続された蛇行配管と、 を備えたことを特徴とする気液反応水処理装置。
4. 【請求項４】水槽と、 水槽内に垂直方向に配置され、下端が開口するとともに
   蛇行配管の下流側に接続された開口管体と、 を更に備えたことを特徴とする請求項３記載の気液反応
   水処理装置。
5. 【請求項５】開口管体の上端は、大気開放していること
   を特徴とする請求項４記載の気液反応水処理装置。
6. 【請求項６】蛇行配管の下流側に水路の絞り機構を設け
   たことを特徴とする請求項３記載の気液反応水処理装
   置。
7. 【請求項７】気体が導入された水を下部から導き、上部
   から流出させる密閉滞留筒を更に備えたことを特徴とす
   る請求項１乃至６のいずれか記載の気液反応水処理装
   置。
8. 【請求項８】内部が水流路となる中空多孔質体と、 中空多孔質体の外方に取付けられ、中空多孔質体との間
   に気体導入路を形成する外管体と、 を備えたことを特徴とする気体注入器。