JPH11312468A - プラズマディスプレイ基板及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】特にサンドブラスト法を用いてリブ形成したプ
ラズマディスプレイ基板において、鉛ガラスの廃棄物量
の少ないプラズマディスプレイ基板を提供する。 【解決手段】基板上に形成されるリブが、無機酸化物か
らなる成形体を鉛ガラスで被覆した構造であることを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イ基板、特にはプラズマディスプレイ基板上に形成され
るリブの構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、大画面平面ディスプレイとして、
プラズマディスプレイ（以下、ＰＤＰと表記する）が注
目されており、その製造には、スクリーン印刷等の厚膜
形成技術が多用されている。

【０００３】ＰＤＰは、２枚の基板から構成され、図１
に示すように、その一方の基板１０上にリブ２０が形成
される。（なお、実際には電極および誘電体が形成され
るが、図中では省略してある）。

【０００４】一般に用いられているリブは、図１に示す
ように無機酸化物３０を鉛ガラス４０でつなぎ合わせて
一体化した構造となっている。その具体的な製造方法
は、まず、リブ形成材料、すなわち無機酸化物および鉛
ガラスの微粉末を適当な樹脂および溶剤とを練り合わせ
てペースト化する。そしてこのペーストを所定の方法に
よりリブの形状に加工したのち焼成して鉛ガラス粉末を
融解させることにより、無機酸化物をつなぎ合わせて一
体化するのが一般的である。なお、樹脂および溶剤はこ
の工程までに加えられた熱により、蒸発または燃焼して
除去される。

【０００５】このようなリブの形成方法にはいくつかの
方法が実施されているが、現在のところ、サンドブラス
ト法が主流となっている（公知例については、亀矢 月
刊ＬＣＤ ｉｎｔｅｌｌｉｇｅｎｃｅ １９９７年８月
号 ５７ページ等参照）。

【０００６】サンドブラスト法は、基板にリブ形成材料
を所定の厚さに塗布したのち、必要な部分をマスキング
して、これに砂を吹き付けて不要なリブ形成材料を削り
取ることにより、リブを形成する方法である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、リブに用い
られている鉛ガラスは有害物質である。したがって、そ
の使用および廃棄にあたっては厳重な管理が必要であ
り、このことが製造コスト上昇の一因となっている。し
かし、それに代わる適当な材料がないため現在も用いら
れている。したがって、その使用はできるだけ少ないこ
と、特に廃棄物として出る量はできるだけ少ないことが
望ましい。

【０００８】しかし、リブ作製工程上、必ず廃棄物が出
る。特にリブをサンドブラスト法で作製する場合は、い
わゆる削り出しによりリブを作製するため、リブ形成材
料の大部分が廃棄物となる。

【０００９】本発明はこのような問題点を解決するため
になされたものであり、その課題とするところは、リブ
形成、特にサンドブラスト法によりリブ形成した場合に
おいて廃棄物となる鉛ガラスの排出量を低減したプラズ
マディスプレイ基板及びその製造方法を提供することに
ある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の発明は、
プラズマディスプレイ基板において、基板と、該基板上
に配置された断面が柱状の無機酸化物からなる成形体
と、該成形体の表面あるいは該成形体が配置された基板
全体の表面上の鉛ガラスからなる薄膜とを有することを
特徴とするプラズマディスプレイ基板である。

【００１１】本発明の第２の発明は、請求項１記載のプ
ラズマディスプレイ基板において、無機酸化物からなる
成形体をサンドブラスト法で成形することを特徴とする
プラズマディスプレイ基板の製造方法である。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図２
および図３を用いて詳細に説明する。なお、実際の基板
１０上にはリブ以外にも電極、誘電体が形成されている
が、簡略化のため図中には示していない。

【００１３】まず、図２に示すように、無機酸化物を用
いてリブ形状の成形体３０を基板１０上に形成する。な
お、この成形体は次工程で焼成される。このため、焼成
により消失可能であれば、成形性向上のための有機バイ
ンダ４５等を含んでいてもよい。 なお、この成形体の
形成には、前記サンドブラスト法以外にも、スクリーン
印刷法、感光性ペースト法等の公知の方法によっても行
える。

【００１４】次に、図３に示すように、鉛ガラスと適当
な樹脂および溶剤と練り合わせた鉛ガラスペースト５０
をスクリーン印刷等の公知の方法により前記成形体３０
上に塗布する。

【００１５】なお、鉛ガラスペーストの塗布は、前記成
形体３０上に選択的に塗布してもよいが基板全面に塗布
してもよい。図３では基板全面に塗布している。

【００１６】乾燥後、これらを適当な温度で焼成するこ
とにより鉛ガラスを融解させ、図４に示すような無機酸
化物が鉛ガラスで被覆されたリブ２０が形成される。

【００１７】この結果、例えばサンドブラスト法により
リブを作製したとしても、リブ形状に成形されるのはリ
ブ形成材料のうちの無機酸化物のみであり、この工程で
は廃棄物として鉛ガラスは含まれない。そして、鉛ガラ
スを用いるのは鉛ガラスペースト塗布工程のみであるた
め、廃棄物となる鉛ガラスの量を低減できる。

【００１８】

【実施例】まず、無機酸化物ペーストを調製した。無機
酸化物（旭日産業製 黒色無機顔料 ＃３２４７）９５
部にエチルセルロース（関東化学製）１部およびブチル
カルビトール（関東化学製）４部を加えペースト化し
た。

【００１９】次に、あらかじめスクリーン印刷法で電極
および誘電体層が形成されたガラス基板にスクリーン印
刷を用いて前記無機酸化物ペーストの印刷および乾燥を
くり返し行うことにより、無機酸化物ペーストを２００
μｍの厚さに塗布した。

【００２０】積層した前記ペースト上にサンドブラスト
用ドライフィルムレジスト（東京応化工業製 ＯＲＤＹ
Ｌ ＢＦ−６０３ Ｔ−３）をラミネータを用いて、ロ
ール温度１０５℃、圧力２．５ｋｇ／ｃｍ² 、送り速度
１．０ｍ／ｍｉｎの条件でラミネートした。

【００２１】ラミネート後、ドライフィルムレジストを
幅８０μｍ、ピッチ４２０μｍのラインパターンの開口
部を有するフォトマスクおよび出力５ｋｗの超高圧水銀
灯を用いて露光量４００ｍｊ／ｃｍ² で露光した。

【００２２】露光後、０．２％炭酸ナトリウム水溶液を
用いて温度３０℃、圧力１．５ｋｇ／ｃｍ² の条件でス
プレー現像して幅８０μｍのレジストパターンを形成し
た。

【００２３】レジストパターンの形成後、サンドブラス
ト装置を用い、サンド（不二製作所製 Ｓ４ ＃６０
０）を圧力０．２５ＭＰａで基板に吹き付けて、レジス
トパターンが形成されていない部分の無機酸化物ペース
トを削り落とした。

【００２４】しかるのち基板全体を４０℃に加温したド
ライフィルムレジストの剥離液（東京応化工業製 ＢＦ
剥離液Ｂ）に浸せきしてドライフィルムレジストを剥離
して、水洗および乾燥を行い、図２に示すような無機酸
化物ペーストによるリブ形状の成形体３０を作製した。

【００２５】次に、３００メッシュのポリエステルスク
リーン版を用い、図３に示すように、鉛ガラスペースト
５０（日本電気硝子製 ＰＬＳ−３１６２Ｓ）を前記成
形体３０上に塗布した。

【００２６】乾燥後、５８０℃で焼成して、図４に示す
ような無機酸化物からなる成形体３０が鉛ガラス４０で
被覆された構造のリブ２０が形成されたプラズマディス
プレイ基板を得た。

【００２７】

【発明の効果】以上に示したように、本発明によれば、
リブを構成する鉛ガラスと無機酸化物のうち、リブ形状
に成形されるのは無機酸化物のみである。そして、鉛ガ
ラスは鉛ガラスペースト塗布工程のみに用いられる。こ
のため、たとえばサンドブラスト法でリブ形状の成形体
を作製したとしても、この工程では廃棄物として鉛ガラ
スは含まれない。したがって、その製造に当たって鉛ガ
ラスの使用量および廃棄物量の少ないプラズマディスプ
レイ基板を提供することができた。

【００２８】

【図面の簡単な説明】

【図１】一般的なプラズマディスプレイ基板の断面図で
ある。

【図２】本発明の一実施例にかかる無機酸化物によるリ
ブ形状成形工程後の基板断面図である。

【図３】本発明の一実施例にかかる鉛ガラスペースト塗
布工程後の基板断面図である。

【図４】本発明の一実施例にかかるプラズマディスプレ
イ基板の断面図である。

【符号の説明】

１０・・・ガラス基板 ２０・・・リブ ３０・・・成形体 ４０・・・鉛ガラス ４５・・・有機バインダ ５０・・・鉛ガラスペースト

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】プラズマディスプレイ基板において、基板
   と、該基板上に配置された断面が柱状の無機酸化物から
   なる成形体と、該成形体の表面あるいは該成形体が配置
   された基板全体の表面上の鉛ガラスからなる薄膜とを有
   することを特徴とするプラズマディスプレイ基板。
2. 【請求項２】請求項１記載のプラズマディスプレイ基板
   において、無機酸化物からなる成形体をサンドブラスト
   法で成形することを特徴とするプラズマディスプレイ基
   板の製造方法。