JPH11312468A - Plasma display substrate and method of manufacturing the same - Google Patents

Plasma display substrate and method of manufacturing the same

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JPH11312468A
JPH11312468A JP10117235A JP11723598A JPH11312468A JP H11312468 A JPH11312468 A JP H11312468A JP 10117235 A JP10117235 A JP 10117235A JP 11723598 A JP11723598 A JP 11723598A JP H11312468 A JPH11312468 A JP H11312468A
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JP
Japan
Prior art keywords
plasma display
substrate
lead glass
display substrate
rib
Prior art date
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Pending
Application number
JP10117235A
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Japanese (ja)
Inventor
Ryuichi Nakamura
隆一 中村
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】特にサンドブラスト法を用いてリブ形成したプ
ラズマディスプレイ基板において、鉛ガラスの廃棄物量
の少ないプラズマディスプレイ基板を提供する。 【解決手段】基板上に形成されるリブが、無機酸化物か
らなる成形体を鉛ガラスで被覆した構造であることを特
徴とする。
[PROBLEMS] To provide a plasma display substrate with a small amount of lead glass waste, particularly in a plasma display substrate formed with ribs by a sandblast method. A rib formed on a substrate has a structure in which a molded body made of an inorganic oxide is covered with lead glass.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イ基板、特にはプラズマディスプレイ基板上に形成され
るリブの構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display substrate, and more particularly to a structure of a rib formed on the plasma display substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、大画面平面ディスプレイとして、
プラズマディスプレイ(以下、PDPと表記する)が注
目されており、その製造には、スクリーン印刷等の厚膜
形成技術が多用されている。
2. Description of the Related Art In recent years, as a large screen flat display,
2. Description of the Related Art A plasma display (hereinafter, referred to as a PDP) has attracted attention, and a thick film forming technique such as screen printing is often used for its manufacture.

【0003】PDPは、2枚の基板から構成され、図1
に示すように、その一方の基板10上にリブ20が形成
される。(なお、実際には電極および誘電体が形成され
るが、図中では省略してある)。
[0003] A PDP is composed of two substrates.
As shown in FIG. 1, a rib 20 is formed on one of the substrates 10. (Note that an electrode and a dielectric are actually formed, but are omitted in the drawing).

【0004】一般に用いられているリブは、図1に示す
ように無機酸化物30を鉛ガラス40でつなぎ合わせて
一体化した構造となっている。その具体的な製造方法
は、まず、リブ形成材料、すなわち無機酸化物および鉛
ガラスの微粉末を適当な樹脂および溶剤とを練り合わせ
てペースト化する。そしてこのペーストを所定の方法に
よりリブの形状に加工したのち焼成して鉛ガラス粉末を
融解させることにより、無機酸化物をつなぎ合わせて一
体化するのが一般的である。なお、樹脂および溶剤はこ
の工程までに加えられた熱により、蒸発または燃焼して
除去される。
As shown in FIG. 1, a generally used rib has a structure in which an inorganic oxide 30 is connected with a lead glass 40 to be integrated. In a specific manufacturing method, first, fine powder of a rib-forming material, that is, an inorganic oxide and lead glass is kneaded with an appropriate resin and a solvent to form a paste. In general, the paste is processed into a rib shape by a predetermined method, and then fired to melt the lead glass powder, thereby joining the inorganic oxides and integrating them. The resin and the solvent are removed by evaporation or combustion by the heat applied up to this step.

【0005】このようなリブの形成方法にはいくつかの
方法が実施されているが、現在のところ、サンドブラス
ト法が主流となっている(公知例については、亀矢 月
刊LCD intelligence 1997年8月
号 57ページ等参照)。
[0005] There are several methods for forming such ribs, but at present, the sand blast method is mainly used (for a known example, see Kameya Monthly LCD Intelligence, August 1997). No. 57, etc.).

【0006】サンドブラスト法は、基板にリブ形成材料
を所定の厚さに塗布したのち、必要な部分をマスキング
して、これに砂を吹き付けて不要なリブ形成材料を削り
取ることにより、リブを形成する方法である。
In the sand blast method, a rib is formed by applying a rib forming material to a predetermined thickness on a substrate, masking a necessary portion, and blowing sand onto the portion to remove an unnecessary rib forming material. Is the way.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、リブに用い
られている鉛ガラスは有害物質である。したがって、そ
の使用および廃棄にあたっては厳重な管理が必要であ
り、このことが製造コスト上昇の一因となっている。し
かし、それに代わる適当な材料がないため現在も用いら
れている。したがって、その使用はできるだけ少ないこ
と、特に廃棄物として出る量はできるだけ少ないことが
望ましい。
The lead glass used for the rib is a harmful substance. Therefore, strict management is required for its use and disposal, which contributes to an increase in manufacturing costs. However, they are still used today as there are no suitable alternatives. Therefore, it is desirable that its use be as small as possible, in particular as little as possible as waste.

【0008】しかし、リブ作製工程上、必ず廃棄物が出
る。特にリブをサンドブラスト法で作製する場合は、い
わゆる削り出しによりリブを作製するため、リブ形成材
料の大部分が廃棄物となる。
[0008] However, waste is always produced in the rib making process. In particular, when the ribs are manufactured by a sandblast method, most of the rib forming material is waste because the ribs are manufactured by so-called shaving.

【0009】本発明はこのような問題点を解決するため
になされたものであり、その課題とするところは、リブ
形成、特にサンドブラスト法によりリブ形成した場合に
おいて廃棄物となる鉛ガラスの排出量を低減したプラズ
マディスプレイ基板及びその製造方法を提供することに
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to reduce the amount of lead glass which becomes waste when ribs are formed, particularly when ribs are formed by a sand blast method. And a method of manufacturing the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の発明は、
プラズマディスプレイ基板において、基板と、該基板上
に配置された断面が柱状の無機酸化物からなる成形体
と、該成形体の表面あるいは該成形体が配置された基板
全体の表面上の鉛ガラスからなる薄膜とを有することを
特徴とするプラズマディスプレイ基板である。
Means for Solving the Problems A first invention of the present invention is:
In a plasma display substrate, a substrate, a molded body formed of a columnar inorganic oxide disposed on the substrate, and lead glass on the surface of the molded body or the entire surface of the substrate on which the molded body is arranged are formed. A plasma display substrate comprising:

【0011】本発明の第2の発明は、請求項1記載のプ
ラズマディスプレイ基板において、無機酸化物からなる
成形体をサンドブラスト法で成形することを特徴とする
プラズマディスプレイ基板の製造方法である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a plasma display substrate according to the first aspect, wherein a molded body made of an inorganic oxide is formed by a sandblast method.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図2
および図3を用いて詳細に説明する。なお、実際の基板
10上にはリブ以外にも電極、誘電体が形成されている
が、簡略化のため図中には示していない。
FIG. 2 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.
This will be described in detail with reference to FIG. Although electrodes and dielectrics are formed on the actual substrate 10 in addition to the ribs, they are not shown in the figure for simplicity.

【0013】まず、図2に示すように、無機酸化物を用
いてリブ形状の成形体30を基板10上に形成する。な
お、この成形体は次工程で焼成される。このため、焼成
により消失可能であれば、成形性向上のための有機バイ
ンダ45等を含んでいてもよい。 なお、この成形体の
形成には、前記サンドブラスト法以外にも、スクリーン
印刷法、感光性ペースト法等の公知の方法によっても行
える。
First, as shown in FIG. 2, a rib-shaped molded body 30 is formed on a substrate 10 using an inorganic oxide. The molded body is fired in the next step. For this reason, if it can be eliminated by firing, it may include an organic binder 45 for improving the formability. In addition, in addition to the sandblasting method, a known method such as a screen printing method and a photosensitive paste method can be used for forming the molded body.

【0014】次に、図3に示すように、鉛ガラスと適当
な樹脂および溶剤と練り合わせた鉛ガラスペースト50
をスクリーン印刷等の公知の方法により前記成形体30
上に塗布する。
Next, as shown in FIG. 3, a lead glass paste 50 kneaded with lead glass and an appropriate resin and solvent.
By a known method such as screen printing.
Apply on top.

【0015】なお、鉛ガラスペーストの塗布は、前記成
形体30上に選択的に塗布してもよいが基板全面に塗布
してもよい。図3では基板全面に塗布している。
The lead glass paste may be applied selectively on the molded body 30 or may be applied on the entire surface of the substrate. In FIG. 3, the coating is performed on the entire surface of the substrate.

【0016】乾燥後、これらを適当な温度で焼成するこ
とにより鉛ガラスを融解させ、図4に示すような無機酸
化物が鉛ガラスで被覆されたリブ20が形成される。
After drying, the lead glass is melted by firing at an appropriate temperature to form a rib 20 coated with an inorganic oxide and lead glass as shown in FIG.

【0017】この結果、例えばサンドブラスト法により
リブを作製したとしても、リブ形状に成形されるのはリ
ブ形成材料のうちの無機酸化物のみであり、この工程で
は廃棄物として鉛ガラスは含まれない。そして、鉛ガラ
スを用いるのは鉛ガラスペースト塗布工程のみであるた
め、廃棄物となる鉛ガラスの量を低減できる。
As a result, even if ribs are produced by, for example, sandblasting, only the inorganic oxide of the rib-forming material is formed into a rib shape, and lead glass is not contained as waste in this step. . Since the lead glass is used only in the lead glass paste application step, the amount of lead glass as waste can be reduced.

【0018】[0018]

【実施例】まず、無機酸化物ペーストを調製した。無機
酸化物(旭日産業製 黒色無機顔料 #3247)95
部にエチルセルロース(関東化学製)1部およびブチル
カルビトール(関東化学製)4部を加えペースト化し
た。
EXAMPLES First, an inorganic oxide paste was prepared. Inorganic oxide (Black inorganic pigment # 3247 manufactured by Asahi Sangyo) 95
1 part of ethyl cellulose (manufactured by Kanto Kagaku) and 4 parts of butyl carbitol (manufactured by Kanto Kagaku) were added to the resulting mixture to form a paste.

【0019】次に、あらかじめスクリーン印刷法で電極
および誘電体層が形成されたガラス基板にスクリーン印
刷を用いて前記無機酸化物ペーストの印刷および乾燥を
くり返し行うことにより、無機酸化物ペーストを200
μmの厚さに塗布した。
Next, the inorganic oxide paste is repeatedly printed and dried on the glass substrate on which the electrodes and the dielectric layer are formed in advance by a screen printing method using screen printing, so that the inorganic oxide paste has a thickness of 200 μm.
It was applied to a thickness of μm.

【0020】積層した前記ペースト上にサンドブラスト
用ドライフィルムレジスト(東京応化工業製 ORDY
L BF−603 T−3)をラミネータを用いて、ロ
ール温度105℃、圧力2.5kg/cm2 、送り速度
1.0m/minの条件でラミネートした。
A dry film resist for sandblasting (ORDY manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is formed on the laminated paste.
LBF-603 T-3) was laminated using a laminator under the conditions of a roll temperature of 105 ° C., a pressure of 2.5 kg / cm 2 , and a feed speed of 1.0 m / min.

【0021】ラミネート後、ドライフィルムレジストを
幅80μm、ピッチ420μmのラインパターンの開口
部を有するフォトマスクおよび出力5kwの超高圧水銀
灯を用いて露光量400mj/cm2 で露光した。
After lamination, the dry film resist was exposed at a light exposure of 400 mj / cm 2 using a photomask having a line pattern opening having a width of 80 μm and a pitch of 420 μm and an ultrahigh pressure mercury lamp with an output of 5 kW.

【0022】露光後、0.2%炭酸ナトリウム水溶液を
用いて温度30℃、圧力1.5kg/cm2 の条件でス
プレー現像して幅80μmのレジストパターンを形成し
た。
After the exposure, a resist pattern having a width of 80 μm was formed by spray development using a 0.2% aqueous sodium carbonate solution at a temperature of 30 ° C. and a pressure of 1.5 kg / cm 2 .

【0023】レジストパターンの形成後、サンドブラス
ト装置を用い、サンド(不二製作所製 S4 #60
0)を圧力0.25MPaで基板に吹き付けて、レジス
トパターンが形成されていない部分の無機酸化物ペース
トを削り落とした。
After the formation of the resist pattern, sand (S4 # 60 manufactured by Fuji Manufacturing Co., Ltd.)
0) was sprayed onto the substrate at a pressure of 0.25 MPa to scrape off the portion of the inorganic oxide paste where no resist pattern was formed.

【0024】しかるのち基板全体を40℃に加温したド
ライフィルムレジストの剥離液(東京応化工業製 BF
剥離液B)に浸せきしてドライフィルムレジストを剥離
して、水洗および乾燥を行い、図2に示すような無機酸
化物ペーストによるリブ形状の成形体30を作製した。
Thereafter, a dry film resist stripper (BF manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) in which the entire substrate was heated to 40 ° C.
The dry film resist was stripped by immersion in stripper B), washed with water and dried to produce a rib-shaped molded body 30 made of an inorganic oxide paste as shown in FIG.

【0025】次に、300メッシュのポリエステルスク
リーン版を用い、図3に示すように、鉛ガラスペースト
50(日本電気硝子製 PLS−3162S)を前記成
形体30上に塗布した。
Next, as shown in FIG. 3, a lead glass paste 50 (PLS-3162S manufactured by NEC Corporation) was applied onto the molded body 30 using a 300 mesh polyester screen plate.

【0026】乾燥後、580℃で焼成して、図4に示す
ような無機酸化物からなる成形体30が鉛ガラス40で
被覆された構造のリブ20が形成されたプラズマディス
プレイ基板を得た。
After drying, the resultant was fired at 580 ° C. to obtain a plasma display substrate having a rib 20 having a structure in which a molded body 30 made of an inorganic oxide was covered with lead glass 40 as shown in FIG.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上に示したように、本発明によれば、
リブを構成する鉛ガラスと無機酸化物のうち、リブ形状
に成形されるのは無機酸化物のみである。そして、鉛ガ
ラスは鉛ガラスペースト塗布工程のみに用いられる。こ
のため、たとえばサンドブラスト法でリブ形状の成形体
を作製したとしても、この工程では廃棄物として鉛ガラ
スは含まれない。したがって、その製造に当たって鉛ガ
ラスの使用量および廃棄物量の少ないプラズマディスプ
レイ基板を提供することができた。
As described above, according to the present invention,
Of the lead glass and the inorganic oxide constituting the rib, only the inorganic oxide is formed into a rib shape. And lead glass is used only for a lead glass paste application process. For this reason, even if a rib-shaped molded body is produced by, for example, a sandblast method, lead glass is not included as waste in this step. Therefore, it was possible to provide a plasma display substrate having a small amount of lead glass used and a small amount of waste in the production thereof.

【0028】[0028]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】一般的なプラズマディスプレイ基板の断面図で
ある。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a general plasma display substrate.

【図2】本発明の一実施例にかかる無機酸化物によるリ
ブ形状成形工程後の基板断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a substrate after a rib shape forming step using an inorganic oxide according to one embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例にかかる鉛ガラスペースト塗
布工程後の基板断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a substrate after a lead glass paste application step according to one embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例にかかるプラズマディスプレ
イ基板の断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of a plasma display substrate according to one embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10・・・ガラス基板 20・・・リブ 30・・・成形体 40・・・鉛ガラス 45・・・有機バインダ 50・・・鉛ガラスペースト DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Glass substrate 20 ... Rib 30 ... Molded body 40 ... Lead glass 45 ... Organic binder 50 ... Lead glass paste

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プラズマディスプレイ基板において、基板
と、該基板上に配置された断面が柱状の無機酸化物から
なる成形体と、該成形体の表面あるいは該成形体が配置
された基板全体の表面上の鉛ガラスからなる薄膜とを有
することを特徴とするプラズマディスプレイ基板。
1. A plasma display substrate, comprising: a substrate; a molded body disposed on the substrate and formed of a columnar inorganic oxide; and a surface of the molded body or a surface of the entire substrate on which the molded body is disposed. A plasma display substrate, comprising: a thin film made of lead glass.
【請求項2】請求項1記載のプラズマディスプレイ基板
において、無機酸化物からなる成形体をサンドブラスト
法で成形することを特徴とするプラズマディスプレイ基
板の製造方法。
2. A method for manufacturing a plasma display substrate according to claim 1, wherein a formed body made of an inorganic oxide is formed by a sandblast method.
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