JPH11320968A - 光像形成方法及びその装置、画像形成装置並びにリソグラフィ用露光装置 - Google Patents

光像形成方法及びその装置、画像形成装置並びにリソグラフィ用露光装置

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JPH11320968A
JPH11320968A JP14844998A JP14844998A JPH11320968A JP H11320968 A JPH11320968 A JP H11320968A JP 14844998 A JP14844998 A JP 14844998A JP 14844998 A JP14844998 A JP 14844998A JP H11320968 A JPH11320968 A JP H11320968A
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optical image
image forming
light
mirrors
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JP14844998A
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Shingen Kinoshita
真言 木下
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Ricoh Microelectronics Co Ltd
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • G03F7/70216—Mask projection systems
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    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
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    • G02B26/0841—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting element being moved or deformed by electrostatic means

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高画素密度の光像を形成することができると
ともに、空間光変調器の各ミラーからの反射光を有効利
用して各画素における照射光強度を高めることができる
光像形成方法及びその装置、画像形成装置並びにリソグ
ラフィ用露光装置を提供する。 【解決手段】 光源１と、光源１からの光を反射する反
射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなるＤＭ
Ｄ２とを備え、ＤＭＤ２からの反射光を、一方向に相対
移動する対象物５に対して照射することにより、対象物
５上に光像を形成する光像形成装置において、ＤＭＤ２
の各ミラーからの反射光像が、対象物５上において該相
対移動の方向と直交する方向に一列に且つ該ミラーのピ
ッチｐよりも小さいピッチで並ぶように、ＤＭＤ２の各
ミラーを配列するとともに各ミラーの反射面の傾きを制
御する制御装置４を設け、ＤＭＤ２の各ミラーからの反
射光を対象物５上に収束させる複数のレンズからなるマ
イクロレンズ３を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、対象物に対して光
像を形成する光像形成方法及びその装置に係り、詳しく
は、反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからな
る空間光変調器の反射光を、一方向に相対移動する対象
物に対して照射することにより、該対象物上に光像を形
成する光像形成方法及びその装置、該装置を用いたプリ
ンタ、複写機などの画像形成装置並びにリソグラフィ用
露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の空間光変調器として、固
定軸周りに回転するマイクロミラーと呼ばれる多数の小
型ミラーがＳｉ等の半導体基板上に形成されたデバイス
（以下、「ＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイ
ス）」という）が知られている。このＤＭＤは光源から
の光が照射され、静電界作用などによって回転制御され
た各マイクロミラーで偏向される。ここで、各マイクロ
ミラーを選択的に回転させて反射面の傾きを変化させる
ことにより、各マイクロミラーからの反射光で対象物が
選択的に照射され、該対象物上に光像を形成することが
できる。
【０００３】上記ＤＭＤは、当初ディジタル型の大画面
プロジェクターなどのディスプレイ装置への応用が提案
されてきたが、最近では電子写真方式のプリンタなどの
画像形成装置における感光体上の光書き込み系への応用
が提案されつつある（例えば、特開平８−３１８６４１
号公報、特開平７−２３２４５８号公報、特開平９−３
００７０１号公報参照）。特に特開平８−３１８６４１
号公報には、対象物としての感光体の軸方向の全画素
を、該軸方向（長手方向）のミラー数が少なくデバイス
長が短いＤＭＤで形成可能とするために、感光体の表面
移動方向と直交する方向である軸方向に複数のミラーを
並べたミラー列を該表面移動方向に複数列配置し、各ミ
ラー列のミラーの有効反射面を該軸方向にずらし、この
ＤＭＤの複数のミラー列を用いて感光体上の光像の１ラ
イン分を形成しようとする方法が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記特開平
８−３１８６４１号公報で開示されている方法では、対
象物の相対移動の方向と直交する方向において各ミラー
の反射光像が重ならないようにするために、各ミラーで
反射される反射光の一部しか照射されないようにしてい
るため、対象物（感光体）上の各画素に到達する照射光
の強度が弱くなってしまうという不具合があった。その
ため、各画素に対してミラーの反射光を複数回照射する
という工夫も必要となってくる。
【０００５】一方、最近の画像形成装置などの分野では
画素密度を高くする傾向にあるが、本発明者は、上記Ｄ
ＭＤ等の空間光変調器の上記対象物の相対移動の方向と
直交する方向におけるミラー個数を増加させなくても、
感光体等の対象物への光像形成において画素密度を飛躍
的に向上させることができることを見いだした。
【０００６】本発明は以上の問題点に鑑みなされたもの
であり、その目的は、高画素密度の光像を形成すること
ができるとともに、空間光変調器の各ミラーからの反射
光を有効利用して各画素における照射光強度を高めるこ
とができる光像形成方法及びその装置、画像形成装置並
びにリソグラフィ用露光装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の発明は、反射面の傾きを独立制御可能な
複数のミラーからなる空間光変調器に光源の光を照射
し、該空間光変調器からの反射光を、一方向に相対移動
する対象物に対して照射することにより、該対象物上に
光像を形成する光像形成方法であって、該空間光変調器
の各ミラーからの反射光像が、該対象物上において該相
対移動の方向と直交する方向に一列に且つ該ミラーのピ
ッチｐよりも小さいピッチで並ぶように、該空間光変調
器の各ミラーで光を反射し、該空間光変調器の各ミラー
からの反射光を該対象物上に収束させることを特徴とす
るものである。
【０００８】この請求項１の光像形成方法では、空間光
変調器の各ミラーからの反射光像を、対象物の相対移動
の方向とは直交する方向に一列に且つミラーのピッチｐ
よりも小さいピッチで該対象物上に並べるとともに、各
ミラーからの反射光を該対象物上に収束させることによ
り、高画素密度の光像を対象物上に形成する。ここで、
各ミラーからの反射光を対象物上に収束させることによ
り、各ミラーからの反射光を有効利用して各画素におけ
る照射光強度を高めている。
【０００９】請求項２の発明は、光源と、該光源からの
光を反射する反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラ
ーからなる空間光変調器とを備え、該空間光変調器から
の反射光を、一方向に相対移動する対象物に対して照射
することにより、該対象物上に光像を形成する光像形成
装置であって、該空間光変調器の各ミラーからの反射光
像が、該対象物上において該相対移動の方向と直交する
方向に一列に且つ該ミラーのピッチｐよりも小さいピッ
チで並ぶように、該空間光変調器の各ミラーを配列する
とともに各ミラーの反射面の傾きを制御する制御手段を
設け、該空間光変調器の各ミラーからの反射光を該対象
物上に収束させる複数のレンズを設けたことを特徴とす
るものである。
【００１０】この請求項２の光像形成装置では、各ミラ
ーを所定位置に配列するとともに各ミラーの反射面の傾
きを制御手段で制御することにより、空間光変調器の各
ミラーからの反射光像を、対象物の相対移動の方向とは
直交する方向に一列に且つミラーのピッチｐよりも小さ
いピッチで該対象物上に並べる。そして、各ミラーから
の反射光のそれぞれを、複数のレンズで該対象物上に収
束させることにより、高画素密度の光像を対象物上に形
成する。ここで、各ミラーからの反射光をレンズで収束
させることにより、各ミラーからの反射光を有効利用し
て各画素における照射光強度を高める。
【００１１】なお、上記請求項１及び２の発明におい
て、上記各ミラーからの反射光は、上記対象物上で互い
に重ならない程度に収束させてもいいし、若干重なるよ
うに収束させてもよい。
【００１２】請求項３の発明は、請求項２の光像形成装
置において、上記相対移動の方向と直交する方向にｍ個
のミラーをピッチｐで並べたミラー列を、該相対移動の
方向にｎ列並べ、各ミラー列を、該相対移動の方向と直
交する方向にずらして配置し、各ミラーからの反射光像
が、該相対移動の方向と直交する方向に一列に並ぶよう
に、各ミラーの反射面の傾きを制御することを特徴とす
るものである。
【００１３】この請求項３の光像形成装置では、対象物
の相対移動の方向と直交する方向にｍ個のミラーをピッ
チｐで並べだミラー列を、該相対移動の方向にｎ列並
べ、各ミラー列を、該相対移動の方向と直交する方向に
ずらして配置することにより、各ミラーからの反射光像
が、該相対移動の方向とは直交する方向に並ぶようにす
る。そして、各ミラーの反射面の傾きを制御することに
より、各ミラーからの反射光像が、該相対移動の方向と
直交する方向に一列に並ぶようにする。
【００１４】請求項４の発明は、請求項２の光像形成装
置において、空間光変調器の長手方向にｍ個のミラーを
ピッチｐで並べたミラー列を、該長手方向と直交する方
向にｎ列並べることにより、（ｍ × ｎ）の格子状のミ
ラー群からなる空間光変調器を形成し、各ミラー列の第
ｉ番目（ｉ＝１〜ｍ）のミラーで反射される反射光像の
上記相対移動の方向と直交する方向における形成位置が
順次ずれるように、該空間光変調器の該長手方向を該相
対移動の方向と直交する方向に対して傾け、各ミラーか
らの反射光像が、該相対移動の方向と直交する方向に一
列に並ぶように、各ミラーの反射面の傾きを制御するこ
とを特徴とするものである。
【００１５】この請求項４の光像形成装置では、長手方
向にｍ個のミラーをピッチｐで並べたミラー列を、該長
手方向と直交する方向にｎ列並べることにより、（ｍ
× ｎ）の格子状のミラー群からなる空間光変調器を形
成し、各ミラー列の第ｉ番目（ｉ＝１〜ｍ）のミラーで
反射される反射光像の上記相対移動の方向と直交する方
向における形成位置が順次ずれるように、該空間光変調
器の長手方向を該相対移動の方向と直交する方向に対し
て傾けることにより、各ミラーからの反射光像が、該相
対移動の方向とは直交する方向に並ぶようにする。そし
て、各ミラーの反射面の傾きを制御することにより、各
ミラーからの反射光像が、該相対移動の方向と直交する
方向に一列に並ぶようにする。
【００１６】なお、上記請求項３及び４の発明におい
て、各ミラーからの反射光像が該相対移動の方向とは直
交する方向に並ぶときのピッチは（ｐ／ｎ）の値に設定
してもいいが、この値からずれたピッチに設定してもよ
い。
【００１７】請求項５の発明は、一様帯電された像担持
体に光像を照射して潜像を形成する潜像形成手段と、該
像担持体上の潜像を現像して顕像を形成する現像手段
と、該像担持体上の顕像を転写材上に転写する転写手段
とを備えた画像形成装置であって、該潜像形成手段とし
て、請求項２、３または４の光像形成装置を用いたこと
を特徴とするものである。
【００１８】この請求項５の画像形成装置では、上記空
間光変調器の各ミラーで反射された反射光をレンズで収
束しながら、一様帯電された像担持体に照射することに
より、各画素における照射光強度を強くすることができ
るとともに、該像担持体上に高画素密度の潜像を形成す
ることができる。
【００１９】請求項６の発明は、表面にフォトレジスト
層が形成された基板に光像を照射するリソグラフィ用露
光装置であって、請求項２、３または４の光像形成装置
を用いて該基板に光像を照射することを特徴とするもの
である。
【００２０】この請求項６のリソグラフィ用露光装置で
は、上記空間光変調器の各ミラーで反射された反射光を
レンズで収束させながら、フォトレジスト層が形成され
た基板の表面に照射することにより、各画素における照
射光強度を強くすることができるとともに、該基板上に
高画素密度のレジストパターンを形成することができ
る。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態について説明する。 〔実施形態１〕図１（ａ）は本発明に係る光像形成方法
を実施することができる光像形成装置の概略構成図であ
る。この装置は、光源１と、反射面の傾きを独立制御可
能な複数のミラーからなる空間光変調器としてのＤＭＤ
（デジタル・マイクロミラー・デバイス）２と、ＤＭＤ
２の各ミラーからの反射光のそれぞれを、矢印Ａ方向に
移動する光像形成対象物（以下、「対象物」という。）
５上に収束させる複数の微小レンズからなるマイクロレ
ンズ３と、画像データに基づいてＤＭＤ２の各ミラーの
反射面の傾きを制御する制御手段としての制御装置４と
を用いて構成されている。
【００２２】上記光源１としては、通常のランプのほか
発光ダイオードやレーザなども用いることができる。図
１（ａ）の例では、光源１からの光をコリメータレンズ
６でほぼ平行ビームにした後、ＤＭＤ２のミラー面に照
射している。光源１とＤＭＤ２との間には、必要に応じ
てスリットを挿入してもよい。
【００２３】上記ＤＭＤ２は、図１（ｂ）に例示する１
辺の長さＬが１６μmの正方形の形状をした多数のミラ
ーＭで構成され、各ミラー間のギャップｇは１μmに設
定されている。各ミラーＭは２つの固定端Ｍａを結ぶ対
角線を中心にして可動端Ｍｂ側が揺動し、反射面が傾く
ようになっている。図１（ｂ）の例では、可動端Ｍｂは
図示しない基板側の電極で生じた電界により静電気力を
受けて揺動する。
【００２４】図１（ｃ）は、上記ＤＭＤ２の各ミラーＭ
の配列をＤＭＤ２の裏面側から透視するように見た説明
図である。図１（ｃ）において、対象物５の移動方向と
直交する方向（以下、「直交方向」といい、図中に矢印
Ｂで示す）にｍ（＝数百）個のミラーをピッチｐ（＝１
７μm）で並べたミラー列を、対象物５の移動方向にｎ
（＝６）列並べている。そして、各ミラー列を、直交方
向Ｂにｐ／ｎ（＝約２．８μm）ずつずらして配置して
いる。
【００２５】上記マイクロレンズ３は、複数のレンズか
らなり、図２（ａ）に示すように各ミラーＭの反射面Ｒ
からの反射光を収束して対象物５上に１画素の大きさの
スポットＳで反射光像を照射するものである。ここで、
スポットＳの１辺の長さが上記ｐ／ｎ（＝約２．８μ
m）に面積が反射面の約３６分の１になるように、マイ
クロレンズ３の特性が設定されている。このマイクロレ
ンズ３としては、例えば撮像素子であるＣＣＤ等の検知
面の各受光要素に光を集光するためのマイクロレンズと
同様なものを用いることできる。
【００２６】上記制御装置４は、画像データ処理部とミ
ラー駆動制御部とを備えている。画像データ処理部で
は、外部のコンピュータから送られてきた画像データ
や、原稿をスキャナで読み取った画像データ等に基づい
て、ＤＭＤ２の各ミラーを駆動制御を制御するための時
系列の駆動制御データを生成する。
【００２７】また、上記制御装置４のミラー駆動制御部
では、画像データ処理部で生成した駆動制御データに基
づいて、ＤＭＤ２の各ミラーの反射面の傾きを次のよう
に制御する。対象物上に形成する光像のうち第１ライン
目の画素について説明する。まず、図１（ｃ）の第１の
ミラー列Ｍ１ｉ（ｉ＝１〜ｍ）からの反射光を、図２
（ａ）に示すように収束させながら対象物５上に照射す
る。次に、対象物の画素のピッチｐ’を対象物の移動速
度Ｖで割った時間（ｐ’／Ｖ）だけ経過したタイミング
で、図１（ｃ）の第２のミラー列Ｍ２ｉ（ｉ＝１〜ｍ）
からの反射光を、同様に収束させながら対象物５上に照
射する。以上の照射を残りのミラー列についても繰り返
すようにＤＭＤ２を制御することにより、図２（ｂ）に
示すように上記直交方向Ｂに画素が一列に並んだライン
状の画素Ｓ１１〜Ｓ６１、Ｓ１２〜Ｓ６２、・・・を対
象物上に形成することができる（画素Ｓ１２〜Ｓ６２、
・・・については図示を省略している）。第２ライン目
以降の画素についても同様に制御して形成する。
【００２８】以上、本実施形態の光像形成装置によれ
ば、上記直交方向のミラー個数を増やさなくても、対象
物５上の光像の画素密度を飛躍的に向上させることがで
きる。上記図１及び図２の例の画素密度は、一つのミラ
ー列からの反射光をそのままの面積で対象物に照射する
場合の画素密度の６（ミラー列の列数）倍に一気に向上
する。しかも、ＤＭＤ２の各ミラーの反射面の一部だけ
を用いる場合に比して、各ミラーＭからの反射光を有効
利用して各画素における照射光強度を高めることができ
る。
【００２９】なお、本実施形態では、各ミラー列を上記
直交方向に順次ずらして形成したＤＭＤ２を用いている
が、図３に示すように、格子状のミラー群からなるＤＭ
Ｄ２の長手方向を上記直交方向Ｂに対して所定角度θだ
け傾けるように構成してもよい。図３において、ＤＭＤ
２の長手方向にｍ個のミラーをピッチｐで並べたミラー
列を、該長手方向と直交する方向にｎ列並べることによ
り、（ｍ × ｎ）の格子状のミラー群を形成している。
そして、各ミラー列の第ｉ番目（ｉ＝１〜ｍ）のミラー
で反射される反射光像の上記直交方向Ｂにおける形成位
置がほぼ（ｐ／ｎ）ずつ順次ずれるように、上記ＤＭＤ
２の傾きの角度θを設定する。ＤＭＤ２の各ミラーは、
各ミラーからの反射光像が、上記直交方向Ｂに一列に並
ぶように制御される。
【００３０】また、本実施形態において使用されるＤＭ
Ｄ２のミラーの形状や大きさは上記１６μm角の正方形
に限定されるものでなく、ＤＭＤ２の製造プロセスや光
像形成装置の全体構成上の制約に応じて変えてもよい。
また、本実施形態において対象物５に照射される光像
は、該対象物５の大きさに応じて全体を更に縮小したり
拡大したりして照射してもよい。
【００３１】また、本実施形態において、対象物上で各
ミラーからの光像の焦点がずれないようにするために
は、図４に示すように、ＤＭＤ２への入射光の光軸とＤ
ＭＤ２からの出射光の光軸とがなす角度θ２をなるべく
狭くするように構成し、各ミラーとマイクロレンズ３の
対応するレンズとの距離のバラツキを小さくすることが
好ましい。また、図５に示すように、上記角度θ２をほ
ぼ９０度にしたまま、ＤＭＤ２、マイクロレンズ３及び
対象物５の照射面が互いに平行になるように構成し、各
ミラーとマイクロレンズ３の対応するレンズとの距離お
よび各レンズと対象物５の照射面との距離のバラツキが
内容にしてもよい。更に、図４及び図５の構成を組み合
わせてもよい。
【００３２】〔実施形態２〕次に、上記ＤＭＤ２を画像
形成装置としてのプリンタに応用した例について説明す
る。図６は、本実施形態に係るプリンタの概略構成図で
ある。なお、上記実施形態１の図１（ａ）と同様な部分
については同じ符号を付し、それらの説明は省略する。
図６において、図中Ｃ方向に回転駆動される像担持体と
してのドラム状の感光体１０の表面は、帯電装置１１に
より一様に帯電された後、パソコンなどの外部装置から
送られてきた画像データに基づいて制御されたＤＭＤ２
からの光像で露光される。これにより、感光体１０上に
静電潜像が形成される。この感光体１０上の静電潜像
は、現像装置１２で供給されたトナーが選択的に付着す
ることにより可視像化されてトナー像となる。感光体１
０上のトナー像は、転写装置１３によって転写材として
の転写紙１４上に転写される。
【００３３】このように転写紙１４上に画像を形成する
プリンタに上述のＤＭＤ２を応用する場合、感光体１０
の軸方向が上記直交方向Ｂに対応する。そして、ＤＭＤ
２のミラーＭの大きさや個数等は、感光体１０の軸方向
の画像幅や狙いの画素密度に基づいて設定される。例え
ば、感光体１０の軸方向の画像幅を２００ｍｍ狙いの画
素密度を１２００ｄｐｉとすると、画像幅方向に約９４
５０個の画素となる。したがって、図１（ｃ）のＤＭＤ
２を用いる場合、上記ミラー列ｎが１２列のときは各ミ
ラー列内のミラーの個数ｍは約７８８個となり、上記ミ
ラー列ｎが６４列のときは各ミラー列内のミラーの個数
ｍは約１４８個となる。ＤＭＤ２の長手方向の長さと画
像幅とが一致しない場合は、ＤＭＤ２から照射される光
像を拡大したり縮小したりしてもよい。
【００３４】以上、本実施形態によれば、マイクロレン
ズ３を用いて、感光体１０に照射される光像の各画素に
おける照射光強度を強くし、感光体１０上の静電潜像の
形成速度を向上させることができるとともに、高画素密
度の画像を転写紙１４に転写して形成することができ
る。
【００３５】〔実施形態３〕次に、上記ＤＭＤ２をリソ
グラフィ用露光装置に応用した例について説明する。図
７は、本実施形態に係る露光装置の概略構成図である。
なお、上記実施形態１の図１（ａ）と同様な部分につい
ては同じ符号を付し、それらの説明は省略する。図７に
おいて、表面にフォトレジスト層１５ａが形成されたプ
リント基板１５が、矢印Ｄ方向に駆動制御されるステー
ジ１６上に保持される。そして、ステージ１６を矢印Ｄ
方向に駆動するとともに、狙いにパターンのデジタル画
像データに基づいてＤＭＤ２を制御することにより、プ
リント基板１５上のフォトレジスト層１５ａ全体にわた
って露光する。その後、プリント基板１５上のフォトレ
ジスト層１５ａを現像することにより、基板１５上に所
定のレジストパターンが形成される。
【００３６】以上、本実施形態によれば、マイクロレン
ズ３を用いて、フォトレジスト層１５ａ上の各画素にお
ける照射光強度を強くし該フォトレジスト層１５ａの露
光速度を向上させることができるとともに、高画素密度
のレジストパターンをプリント基板１５上に形成するこ
とができる。
【００３７】なお、本実施形態ではプリント基板上のレ
ジストパターンを形成する場合について応用している
が、上記光像形成装置は、基板としての半導体ウェーハ
上に多数の集積回路素子を形成する場合のレジストパタ
ーン形成用として用いられるいわゆるステッパのような
露光装置にも応用することができるものである。
【００３８】
【発明の効果】請求項１乃至４の発明によれば、高画素
密度の光像を対象物上に形成することができるととも
に、各ミラーからの反射光を有効利用して各画素におけ
る照射光強度を高めることができるという効果がある。
【００３９】特に請求項３の発明によれば、複数のミラ
ーからなる空間光変調器を所定角度だけ傾ける必要がな
いので、該空間光変調器の位置合わせを容易に行うこと
ができるという効果がある。
【００４０】特に請求項４の発明によれば、空間光変調
器の複数のミラーが（ｍ × ｎ）の格子状になっている
ので、該複数のミラーの形成が容易になるという効果が
ある。
【００４１】請求項５の発明によれば、レンズを用いて
各画素における照射光強度を強くしているので像担持体
上の潜像形成速度を向上させることができるとともに、
高画素密度の画像を転写材に転写して形成することがで
きるという効果がある。
【００４２】請求項６の発明によれば、レンズを用いて
各画素における照射光強度を強くしているので基板上の
フォトレジスト層の露光速度を向上させることができる
とともに、高画素密度のレジストパターンを基板上に形
成することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る光像
形成装置の概略構成図。（ｂ）は、同光像形成装置のＤ
ＭＤのミラー形状を示す模式図。（ｃ）は、同ＤＭＤの
ミラー構成を示す説明図。
【図２】（ａ）は、同ＤＭＤのミラーの反射面Ｒと対象
物上の画素スポットＳとの関係を示す説明図。（ｂ）
は、対象物上に形成される画素列を示す説明図。
【図３】変形例に係るＤＭＤのミラー構成を示す説明
図。
【図４】変形例に係るマイクロレンズ及び対象物の配置
を示す説明図。
【図５】他の変形例に係るマイクロレンズ及び対象物の
配置を示す説明図。
【図６】第２の実施形態に係るプリンタの概略構成図。
【図７】第３の実施形態に係るリソグラフィ用露光装置
の概略構成図。
【符号の説明】
１ 光源 ２ ＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイ
ス） ３ マイクロレンズ ４ 制御装置 ５ 対象物 ６ コリメータレンズ １０ 感光体 １１ 帯電装置 １２ 現像装置 １３ 転写装置 １４ 転写紙 １５ プリント基板 １５ａ フォトレジスト層 １６ ステージ Ｍ ミラー Ｒ ミラーの反射面 Ｓ 対象物上の画素のスポット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/20 ５１１ Ｇ０２Ｂ 7/18 Ｂ Ｈ０４Ｎ 1/04 Ｈ０４Ｎ 1/04 Ｚ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラ
    ーからなる空間光変調器に光源の光を照射し、該空間光
    変調器からの反射光を、一方向に相対移動する対象物に
    対して照射することにより、該対象物上に光像を形成す
    る光像形成方法であって、 該空間光変調器の各ミラーからの反射光像が、該対象物
    上において該相対移動の方向と直交する方向に一列に且
    つ該ミラーのピッチｐよりも小さいピッチで並ぶよう
    に、該空間光変調器の各ミラーで光を反射し、 該空間光変調器の各ミラーからの反射光を該対象物上に
    収束させることを特徴とする光像形成方法。
  2. 【請求項２】光源と、該光源からの光を反射する反射面
    の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変
    調器とを備え、該空間光変調器からの反射光を、一方向
    に相対移動する対象物に対して照射することにより、該
    対象物上に光像を形成する光像形成装置であって、 該空間光変調器の各ミラーからの反射光像が、該対象物
    上において該相対移動の方向と直交する方向に一列に且
    つ該ミラーのピッチｐよりも小さいピッチで並ぶよう
    に、該空間光変調器の各ミラーを配列するとともに各ミ
    ラーの反射面の傾きを制御する制御手段を設け、 該空間光変調器の各ミラーからの反射光を該対象物上に
    収束させる複数のレンズを設けたことを特徴とする光像
    形成装置。
  3. 【請求項３】請求項２の光像形成装置において、 上記相対移動の方向と直交する方向にｍ個のミラーをピ
    ッチｐで並べたミラー列を、該相対移動の方向にｎ列並
    べ、 各ミラー列を、該相対移動の方向と直交する方向にずら
    して配置し、 各ミラーからの反射光像が、該相対移動の方向と直交す
    る方向に一列に並ぶように、各ミラーの反射面の傾きを
    制御することを特徴とする光像形成装置。
  4. 【請求項４】請求項２の光像形成装置において、 空間光変調器の長手方向にｍ個のミラーをピッチｐで並
    べたミラー列を、該長手方向と直交する方向にｎ列並べ
    ることにより、（ｍ × ｎ）の格子状のミラー群からな
    る空間光変調器を形成し、 各ミラー列の第ｉ番目（ｉ＝１〜ｍ）のミラーで反射さ
    れる反射光像の上記相対移動の方向と直交する方向にお
    ける形成位置が順次ずれるように、該空間光変調器の該
    長手方向を該相対移動の方向と直交する方向に対して傾
    け、 各ミラーからの反射光像が、該相対移動の方向と直交す
    る方向に一列に並ぶように、各ミラーの反射面の傾きを
    制御することを特徴とする光像形成装置。
  5. 【請求項５】一様帯電された像担持体に光像を照射して
    潜像を形成する潜像形成手段と、該像担持体上の潜像を
    現像して顕像を形成する現像手段と、該像担持体上の顕
    像を転写材上に転写する転写手段とを備えた画像形成装
    置であって、 該潜像形成手段として、請求項２、３または４の光像形
    成装置を用いたことを特徴とする画像形成装置。
  6. 【請求項６】表面にフォトレジスト層が形成された基板
    に光像を照射するリソグラフィ用露光装置であって、 請求項２、３または４の光像形成装置を用いて該基板に
    光像を照射することを特徴とするリソグラフィ用露光装
    置。
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