JPH11322975A - 二軸配向全芳香族ポリアミドフィルムおよびそれをベースフィルムとする磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 強度、易滑性、巻取り性などのハンドリング
性に優れ、かつ高い耐削れ性を示す磁気記録媒体用芳香
族ポリアミドフィルムを提供する。 【解決手段】 芳香族ポリアミドからなる面積倍率にし
て５．０倍以上に延伸された二軸延伸フィルムであっ
て、フィルム内での平均粒径が８０〜１０００ｎｍの周
期律表Ia族およびIIa族から選ばれる少なくとも１種の
金属の水酸化物塩または炭酸塩からなる無機粒子を含有
し、該無機粒子が特定粒径範囲の重合工程中の中和剤の
残渣として得られるものであり、該二軸延伸フィルムの
表面突起頻度が１×１０¹〜１×１０⁵個／ｍｍ²、長手
方向と幅方向のヤング率の和が２，０００ｋｇ／ｍｍ²
以上、長手方向のたわみ剛度が３．０〜９．５ｍｇ・ｍ
ｍ、長手方向の引張り破断強度が３８ｋｇ／ｍｍ²以
上、かつ任意の方向の１５０℃における熱収縮率が１％
未満であることを特徴とする磁気記録媒体用芳香族ポリ
アミドフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は全芳香族ポリアミド
からなる二軸配向フィルムおよびそれをベースフィルム
とする磁気記録媒体に関する。さらに詳しくは、強度、
易滑性、巻取り性などのハンドリング性に優れまた耐削
れ性にも優れた、全芳香族ポリアミドからなる二軸配向
フィルムおよびそれをベースフィルムとする磁気記録媒
体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化の進歩は
めざましく、例えば、塗布型磁気記録媒体においては、
メタル粉や酸化鉄粉などの針状磁性粉を２μm以下厚み
に塗布した薄層塗布型磁気記録媒体の開発実用化が進め
られている。例としては、極薄層塗布型磁気記録媒体に
よる高密度磁気記録（電子通信学会技術報告ＭＲ９４−
７８（１９９５−０２））などが知られている。

【０００３】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は記録密度が低く、記録波長も
長いために、磁性層の厚みが２μm以上と厚いのに対し
て、極薄層塗布型の場合は、非磁性下地層を設けるもの
の、０．１３μmの厚みのものが提案され、非常に薄く
なっている。

【０００４】また、記録媒体自体の小型化に伴い、記録
容量を向上させるために、支持体自体の薄膜化も要求さ
れている。

【０００５】芳香族ポリアミドフィルムは、高ヤング率
に起因する薄膜での強度、耐熱性などに優れ、高密度磁
気記録媒体に適した素材である。

【０００６】特開昭５１―１２９２０１号公報には、全
結合の７０％以上がパラ結合でありそして少なくとも１
５％のフェニル核はアミド結合に対しオルト位にハロゲ
ンおよびニトロの少なくともいずれか一方の置換基を有
する芳香族ポリアミドのフィルムと磁性層からなる磁気
記録媒体が開示されている。

【０００７】高密度磁気記録媒体においては、非磁性支
持体（ベースフィルム）の表面状態が磁性層の表面性に
大きな影響を及ぼし、表面の凹凸が記録・再生信号の雑
音の原因となる。したがって、非磁性支持体の表面はで
きるだけ平滑であることが望ましい。

【０００８】一方、非磁性支持体（ベースフィルム）の
製膜、製膜工程での搬送、傷つき、巻取り、巻出しとい
ったハンドリングの観点からは、フィルム表面が平滑す
ぎると、フィルム―フィルム相互の滑り性が悪化し、ブ
ロッキング現象が発生し、ロールに巻いたときの形状
（ロールフォーメーション）が悪化し、製品歩留の低
下、ひいては製品の製造コストの上昇をきたす。したが
って、製造コストという観点では非磁性支持体（ベース
フィルム）の表面はできるだけ粗いことが望ましい。

【０００９】上記の二律背反する性質を同時に満足させ
るための手段として、ベースフィルム表面に粒径を最適
化した粒子に起因する高さ、頻度の適当な突起を形成さ
せる方法がある。

【００１０】芳香族ポリアミドフィルムの表面に突起を
形成させる方法としては、ａ）無機粒子を所定量添加す
る方法、および、ｂ）有機高分子粒子あるいは表面を有
機高分子処理した無機粒子を添加する方法が提案されて
いる。

【００１１】特開昭６１―２４６９１９号公報には、上
記ａ）の方法に属する方法として、無機粒子を０．０１
〜１０重量％で含有する芳香族ポリアミドまたは芳香族
ポリイミドを主体とするフィルムが開示されている。同
フィルムは、同無機粒子に由来して形成される突起を、
微細突起高さＲ_m（３０〜５００ナ）、微細突起の面積平
均径Ｄ_A（０．０１μ以上０．３μm未満）、突起の平均
偏平度Ｄ_A／Ｒ_m（１５以下）、最大径が０．０１μm以
上の微細突起数Ｎ_A（１０⁴〜１０⁹個／ｍｍ²）、微細突
起の長短径比ａ／ｂ（ａ：微細突起の最大径、ｂ：最大
径と直交する径）が２以上の微細突起数（０．２×Ｎ_A
以下）および微細突起の円形度πＤ_N／Ｃ_N（Ｄ_N：微細
突起の面積径、Ｃ_N：微細突起の周長、π：円周率）が
０．７以下の微細突起数（０．２×ＮＡ以下）によって
特定している。

【００１２】特開平８―２０３０６４号公報には、平均
粒径１０〜５００ｎｍの有機高分子粒子あるいは有機高
分子で表面処理された無機粒子を含有し、一方の表面の
中心線表面粗さＲａが０．５〜５０ｎｍでありそして他
方の表面のＲａが１０ｎｍ以下である、芳香族ポリアミ
ドまたは芳香族ポリアミドからなるフィルムが開示され
ている。

【００１３】しかしながら、外部添加の粒子を用いる方
法では、外部添加粒子が添加スラリー中で凝集しやすい
ために、磁性層塗布後の平滑処理（カレンダー）工程や
実際の使用におけるガイドピン〜フィルム表面などの磨
耗によって、フィルム表面の突起から粒子が脱落し、工
程を汚すなどの欠点があった。

【００１４】特に、磁性塗料を塗布した後のカレンダー
仕上げ工程では、非常に高い剪断力がべースフィルムに
負荷されるので、粒子の凝集が起き、従って、その周囲
に大きなボイドが発生していると、そのことによって粒
子脱落による削れ粉の発生が著しく、カレンダーロール
を汚してしまい、結果として生産性を著しく低下させる
という欠点があった。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、新規
な二軸配向された全芳香族ポリアミドフィルムを提供す
ることにある。本発明の他の目的は、強度、易滑性、巻
取り性などのハンドリング性に優れるとともに、高い耐
削れ性を示す磁気記録媒体用二軸配向全芳香族ポリアミ
ドフィルムを提供することにある。本発明のさらに他の
目的は、本発明の二軸配向全芳香族ポリアミドイミドフ
ィルムをベースフィルムとする、良好な電磁変換特性を
有し高密度記録に適した磁気記録媒体を提供することに
ある。本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説
明から明らかになろう。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、第１に、酸クロライド法によ
り製造された全芳香族ポリアミドからなる二軸配向フィ
ルムであって、平均粒径が５〜２，０００ｎｍの範囲に
ありそして周期律表Ｉａ族またはＩＩａ族の金属の水酸
化物、炭酸塩および重炭酸塩よりなる群から選ばれる少
なくとも１種の無機粒子を含有し、ここで該無機粒子は
酸クロライド反応により副生される塩化水素を中和する
ために反応系中に添加された中和剤としての無機粒子に
由来し、そしてその含有量は該塩化水素を化学量論的に
中和するに必要な量を超えて反応系中に添加された過剰
量に相当することを特徴とする二軸配向フィルムによっ
て達成される。

【００１７】本発明の二軸配向フィルムを構成する全芳
香族ポリアミドとしては、その主鎖が芳香核およびアミ
ド結合基を主たる構成成分とするものであれば特に限定
されない。

【００１８】本発明における全芳香族ポリアミドを構成
する繰返し単位としては、例えば下記式（１）〜（４）
で表わされる単位を好ましいものとして挙げることがで
きる。

【００１９】

【化７】 （―ＣＯ―Ａｒ¹―ＣＯＮＨ―Ａｒ²―ＮＨ―）_k ……（１） （ここで、Ａｒ¹およびＡｒ²は、独立に、下記式：

【００２０】

【化８】

【００２１】（ここでｐは０〜４の整数であり、そして
ｑは０〜６の整数であり、そしてＲはハロゲン、ニトロ
基、シアノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜
３のアルコキシル基およびトリアルキルシリル基よりな
る群から選ばれる）よりなる群から選ばれ、そしてｋは
０または正の数である）

【００２２】

【化９】 （―ＣＯ―Ａｒ³―ＣＯＮＨ―Ａｒ⁴―Ｙ¹―Ａｒ⁵―ＮＨ―）_l ……（２） （ここで、Ａｒ³、Ａｒ⁴およびＡｒ⁵は、独立に、上記
Ａｒ¹、Ａｒ²と同じ基から選ばれ、Ｙ¹は―Ｏ―、―Ｃ
Ｈ₂―、―Ｃ（ＣＨ₃）₂―、―ＳＯ₂―、―Ｓ―および―
ＣＯ―よりなる群から選ばれ、そしてｌは０または正の
数である）

【００２３】

【化１０】 （―ＣＯ―Ａｒ⁶―ＮＨ―）_m ……（３） （ここで、Ａｒ⁶は上記Ａｒ¹、Ａｒ²と同じ基から選ば
れ、そしてｍは０または正の数である）

【００２４】

【化１１】 （―ＣＯ―Ａｒ⁷―Ｙ²― Ａｒ⁸― ＮＨ―）_n ……（４） （ここで、Ａｒ⁷およびＡｒ⁸は、独立に、上記Ａｒ¹、
Ａｒ²と同じ基から選ばれ、Ｙ²は上記Ｙ¹と同じ基から
選ばれ、そしてｎは０または正の数である） 本発明における全芳香族ポリアミドは、好ましくは、上
記式（１）および（２）の繰返し単位の少なくともいず
れか一方を含有する。すなわち、（ｉ）上記式（１）の
繰返し単位のみからなる、（ii）上記式（２）の繰返し
単位のみからなる、（iii）上記式（１）および（２）
の繰返し単位のみからなる、（iv）上記式（１）および
（２）の繰返し単位の少なくともいずれか一方と上記式
（３）および（４）の繰返し単位の少なくともいずれか
一方のみからなる、全芳香族ポリアミドが好適である。

【００２５】本発明における全芳香族ポリアミドは酸ク
ロライド法により製造される。

【００２６】上記式（１）において、Ａｒ¹およびＡｒ²
は、それぞれ芳香族ジカルボン酸クロライドから酸クロ
ライド基を除去した残基および芳香族ジアミンからアミ
ノ基を除去した残基である。

【００２７】Ａｒ¹およびＡｒ²は、独立に、下記式：

【００２８】

【化１２】

【００２９】よりなる群から選ばれる２価の芳香族残基
である。

【００３０】上記式中、Ｒはハロゲン、ニトロ基、シア
ノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアル
コキシル基またはトリアルキルシリル基である。ｐは０
〜４の整数であり、そしてｑは０〜６の整数である。

【００３１】上記２価の芳香族残基としては、例えば、
１，４―フェニレン基、１，３―フェニレン基、１，２
―フェニレン基、４，４―ビフェニレン基、４，３―ビ
フェニレン基、４，２―ビフェニレン基、３，３―ビフ
ェニレン基、３，２―ビフェニレン基、２，２―ビフェ
ニレン基、１，４―ナフチレン基、１，５―ナフチレン
基、１，６―ナフチレン基、２，６―ナフチレン基、
２，７―ナフチレン基およびこれらの基が上記置換基で
置換された基を挙げることができる。これらのうち、
１，４―フェニレン基、４，４―ビフェニレン基、１，
４―ナフチレン基、２，６―ナフチレン基およびこれら
の基が上記置換基で置換された基を好ましいものとして
挙げることができる。

【００３２】置換基Ｒのハロゲンとしては例えばフッ
素、塩素および臭素を好ましいものとして挙げることが
できる。また炭素数１〜４のアルキル基としては直鎖状
および分岐鎖状のいずれであってもよく、例えばメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、
ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基等を好
ましいものとして挙げることができる。炭素数１〜３の
アルコキシル基としては、直鎖状および分岐鎖状のいず
れであってもよく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロ
ポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基を挙げることができ
る。さらにトリアルキレンシリル基としては各アルキル
基の炭素数が独立に１〜３であるトリアルキルシリル
基、例えばトリメチルシリル基等を好ましいものとして
挙げることができる。

【００３３】前記式（１）で表わされる繰返し単位の具
体例は、Ａｒ¹およびＡｒ²の上記具体例から明らかであ
るが、例えばＡｒ¹およびＡｒ²がともに、１，４−フェ
ニレン基である場合、下記式

【００３４】

【化１３】

【００３５】（ここでｋの定義は、上記式（１）に同じ
である）で表わされる。

【００３６】また、前記式（２）において、Ａｒ³、Ａ
ｒ⁴およびＡｒ⁵は、独立に、上記Ａｒ¹およびＡｒ²と同
じ基から選ばれる。そして、Ｙ¹は―Ｏ―、―ＣＨ₂―、
―Ｃ（ＣＨ₃）₂―、―ＳＯ₂―、―Ｓ―、または―ＣＯ
―である。前記式（２）で表わされる繰返し単位の具体
例は、Ａｒ¹、Ａｒ²およびＹ¹の具体例から明らかであ
るが、例えばＡｒ³、Ａｒ⁴およびＡｒ⁵がいずれも１，
４―フェニレン基であり、そしてＹ¹が―Ｏ―である場
合、下記式

【００３７】

【化１４】

【００３８】（ここでｌの定義は上記式（２）に同じで
ある）で表わされる。

【００３９】また、前記式（３）において、Ａｒ⁶は上
記Ａｒ¹およびＡｒ²と同じ基から選ばれる。前記式
（３）で表わされる繰返し単位の具体例は、Ａｒ¹、Ａ
ｒ²の具体例から明らかであるが、例えばＡｒ³が１，４
―フェニレン基である場合、下記式

【００４０】

【化１５】

【００４１】（ここでｍの定義は上記式（３）に同じで
ある）で表わされる。

【００４２】さらに、前記式（４）において、Ａｒ⁷お
よびＡｒ⁸は独立にＡｒ¹およびＡｒ²と同じ基から選ば
れ、Ｙ²は上記Ｙ¹と同じ基から選ばれる。前記式（４）
で表わされる繰返し単位の具体例は、Ａｒ¹、Ａｒ²およ
びＹ¹の具体例から明らかであるが、例えばＡｒ⁷および
Ａｒ⁸がいずれも１，４―フェニレン基であり、そして
Ｙ²が―Ｏ―である場合、下記式

【００４３】

【化１６】

【００４４】（ここで、ｎの定義は上記式（４）に同じ
である）で表わされる。

【００４５】本発明における全芳香族ポリアミドは、好
ましくは、前記（１）〜（４）で表わされる繰返し単位
よりなる群から選ばれる少なくとも１種の繰返し単位か
らなり、そして選ばれた少なくとも１種の繰返し単位中
に存在するＡｒ¹〜Ａｒ⁸よりなる群から選ばれる少なく
とも１種の芳香族基の５０〜９９．５％がパラ配向性で
主鎖を形成しているものである。この場合にも、前記式
（１）および（２）で表わされる繰返し単位の少なくと
もいずれも一方を含有する。

【００４６】本発明でパラ配向性の芳香族基とは、１，
４―フェニレン基、４，４―ビフェニレン基、１，４―
ナフチレン基、および２，６―ナフチレン基のことを云
うものとする。

【００４７】本発明における全芳香族ポリアミドとして
は、繰返し単位の側面からすると、前記式（１）と前記
式（２）で表わされる繰返し単位からなるものが好まし
く、とりわけ上記式（１）においてＡｒ¹およびＡｒ²が
いずれも１，４―フェニレン基であり、そして上記式
（２）においてＡｒ³が１，４―フェニレン基であり、
―Ａｒ⁴―Ｙ¹―Ａｒ⁵―が

【００４８】

【化１７】

【００４９】である、繰返し単位からなるポリマーが特
に好ましい。

【００５０】本発明の二軸配向フィルムは、上記の如き
全芳香族ポリアミドをベースとしてなり、そして平均粒
径５〜２，０００ｎｍの範囲にある無機粒子を含有す
る。この無機粒子は周期律表Ｉａ族またはＩＩａ族の金
属の水酸化物、炭酸塩または重炭酸塩である。

【００５１】かかる無機粒子としては、例えば、水酸化
マグネシウム、炭酸マグネシウム、水酸化カルシウム、
炭酸カルシウム、水酸化バリウム、炭酸バリウム、炭酸
水素カルシウム等を挙げることができる。これらのう
ち、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、水酸化カ
ルシウムおよび炭酸カルシウムが好ましい。

【００５２】かかる無機粒子は、全芳香族ポリアミドを
製造するための酸クロライド反応において副生する塩化
水素、すなわち芳香族ジカルボン酸クロライドを芳香族
ジアミンとの反応で副生する塩化水素を中和するために
反応系中に添加された、周期律表Ｉａ族、ＩＩａ族の金
属の水酸化物、炭酸物または重炭酸塩に由来する。すな
わち副生する塩化水素を中和するのに必要とされる該無
機粒子の化学量論的量よりも多い量で反応中に該無機粒
子を添加することによって、化学量論的量を超えた過剰
の無機粒子が反応系内に残存する。

【００５３】容易に理解できるように、添加された無機
粒子の個々の粒子に着目すると、比較的小さい粒子は中
和反応により完全に消費されて消失してしまうことがあ
り、一方比較的大きい粒子では粒子表面から中和反応に
消費されるが粒子中心部は中和反応終了時においてなお
残存することがある。このようなことを考慮して、平均
粒径が５〜２，０００ｎｍの範囲の無機粒子がフィルム
中に存在するようにするには、反応系中に添加する無機
粒子の平均粒径は１５０〜２０，０００ｎｍであるのが
好ましく、１５０〜１５，０００ｎｍの範囲にあるのが
更に好ましい。

【００５４】上記の如く、本発明の二軸配向フィルム中
に含有される無機粒子は、全芳香族ポリアミドの重合工
程中の中和剤の残存粒子として得られるものであり、重
合工程の段階において系内に十分分散しているために、
削れの原因となりうる粒子の凝集の心配がない。フィル
ム内での平均粒径が５ｎｍ未満の場合は、粒子による表
面突起形成の効果が小さく、十分な易滑性、巻取り性な
どのハンドリング性が得られないため好ましくない。ま
た、平均粒径が２，０００ｎｍを超えると、フィルム延
伸によって形成されるボイドが大きくなりすぎ、耐削れ
性が低下するので好ましくない。

【００５５】フィルム内での無機粒子の好ましい平均粒
径は８０〜１０００ｎｍ、より好ましくは９０〜８００
ｎｍ、特に好ましくは１００〜５００ｎｍである。

【００５６】また、反応系中に添加する際の無機粒子の
平均粒径は上記の如く、好ましくは１５０〜２０，００
０ｎｍ、より好ましくは１５０〜１５，０００ｎｍであ
る。この平均粒径が１５０ｎｍ未満の場合は粒子による
表面突起形成の効果が小さく、十分な易滑性、巻取り性
などのハンドリング性が得られないため好ましくない。

【００５７】また、平均粒径が２０，０００ｎｍを超え
ると、中和反応後の残渣粒径が大きくなり、フィルム延
伸によって形成されるボイドが大きくなりすぎ、耐削れ
性が低下するため好ましくない。

【００５８】該無機粒子の粒径を調整する手段として
は、例えば、溶媒に該粒子を分散した後、サンドグライ
ンダーなどの装置を用いて細粉化し、その分散液を濾過
して粗大粒子を除去する方法が好ましく挙げられる。

【００５９】本発明における全芳香族ポリアミドは、酸
クロライド法により製造される。重合は界面重合または
溶液重合で実施することができる。これらのうち溶液重
合が好ましい。

【００６０】その際用いられる重合溶媒としては、例え
ばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ―
メチルピロリドン、Ｎ―メチルカプロラクタム、ジメチ
ルスルホキシド、へキサメチルホスホリルトリアミド、
テトラメチル尿素および１，３―ジメチル―２―イミダ
ゾリジノンが好ましい。これらは１種または２種以上で
用いることができる。また、かかる重合溶媒を主成分と
して他の溶媒と併用することもできる。

【００６１】重合溶媒中には、ポリマーの溶解性を改善
する目的で、重合の前、途中あるいは終了時に、塩化カ
ルシウム、塩化リチウムなどの無機塩を適当量添加して
もよい。

【００６２】また、酸成分とアミン成分とは実質的に等
モルで反応させるが、重合度の制御などの目的でいずれ
かの成分を過剰に用いることもできる。

【００６３】さらに末端封止剤として少量の単官能性の
酸成分、アミン成分を使用してもよい。

【００６４】また、反応によって生成する塩化水素を捕
捉するために重合系に脂肪族や芳香族のアミン、第４級
アンモニウム塩を添加することもできる。

【００６５】さらに、本発明の効果を阻害しない範囲
で、紫外線吸収剤、染料、離型剤、その他の添加剤が添
加されていてもよい。

【００６６】反応が実質的に終了した後、反応系中に、
例えば上記した如き平均粒径１５０〜２０，０００ｎｍ
の無機粒子を添加して中和反応を行う。このとき、上記
の如く、無機粒子を中和に必要な化学量論的量よりも過
剰量で用いる。

【００６７】全芳香族ポリアミドの製法それ自体につい
ては、例えば、特公昭５２―３９７１９号公報に詳しく
記載されており、この公報の記載は本願明細書の記載と
して本願に合体される。

【００６８】本発明における全芳香族ポリアミドには、
フィルムの物性を損なわない程度に、酸化防止剤、帯電
防止剤、離型剤、その他の添加剤や他のポリマーが含ま
れていてもよい。

【００６９】本発明における全芳香族ポリアミドは平均
粒径５〜２，０００ｎｍの範囲の無機粒子を全芳香族ポ
リアミド１００重量部当り好ましくは０．００１〜１０
重量部、より好ましくは０．００４〜８重量部、特に好
ましくは０．０１〜５重量部で含有する。

【００７０】また、本発明における全芳香族ポリアミド
は、濃硫酸中３０℃で測定した対数粘度が少なくとも
０．５ｄｌ／ｇであるのが好ましく、少なくとも１．０
ｄｌ／ｇであるのがより好ましい。なお、製膜前のポリ
マーの対数粘度は、重合後の全芳香族ポリアミドを含む
ポリマー原液をアルコール、水などの溶媒の中に投入
し、再沈、分離されたポリマーを濃硫酸中、３０℃で測
定した値から求める。

【００７１】本発明の二軸配向フィルムは、次のように
して製造することができる。上記の如く重合が実施され
た後、全芳香族ポリアミドを含むポリマー原液は、アル
コール、水などの溶媒の中に投入され、再沈、分離され
た後、再び溶媒に溶解させてフィルムの成形に用いるこ
とができる。しかしながら、好ましくはポリマー原液を
そのまま、もしくは重合後に適宜濃度を調整して製膜に
用いることができる。この時の濃度の調整は濃縮、もし
くは溶媒での希釈により行うことができる。かかる溶媒
としては、重合溶媒として例示したものと同様なものを
使用できる。

【００７２】上記の如く調整されたポリマー原液は、溶
液製膜法によリフィルム化される。溶液製膜法として
は、乾湿式法、乾式法または湿式法などが挙げられる
が、乾湿式法、乾式法が表面性のよいフィルムが得られ
る点で好ましい。

【００７３】湿式法で製膜する場合には、該原液を口金
から直接製膜用浴中に押出するか、または一旦ドラムな
どの支持体上に押出し、支持体ごと湿式浴中に導入する
方法を用いるのが好ましい。この浴は一般に水系媒体か
らなるものてあり、水のほかに有機溶媒や無機塩などを
含有していてもよい。湿式浴を通すことでフィルム中に
含有された塩類や有機溶媒などの抽出を行うことができ
る。これら湿式浴全体を通過する時間はフィルムの厚み
にもよるが、１０秒〜３０分であることが好ましい。

【００７４】湿式浴を出たポリマーは、長手方向に延伸
され、次いで乾燥、横延伸、熱処理に付される。これら
の処理は一般に１００〜５００℃で、合計でｌ秒〜３０
分であることが好ましい。

【００７５】乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金か
らドラム、エンドレスベルトなどの支持体上に押出して
薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜
が自己保持性を持つまで乾燥する。乾燥条件は室温〜３
００℃、６０分以内が好ましい。乾式工程を終えたフィ
ルムは支持体から剥離されて湿式工程に導入し、上記の
湿式法と同様に脱塩、脱溶媒などを行い、さらに延伸、
乾燥、熱処理を行ってフィルムとする。

【００７６】乾式法のプロセスを採用した場合には、ド
ラム、エンドレスベルトなどの上で乾燥し、自己保持性
を持ったフィルムを、これら支持体から剥離し、さらに
残存溶媒を除去するための乾燥や、延伸、熱処理を行う
が、これらの処理は１００〜５００℃で、合計で１秒〜
３０分で行うのが好ましい。

【００７７】延伸は面積倍率を５．０倍以上に行うのが
好ましく、６．０〜１０．０倍に行うのがより好まし
い。

【００７８】上記工程により得られる本発明の二軸配向
フィルムの厚みは、特に限定されないが、好ましくは
０．１〜２０μm、さらに好ましくは０．５〜10μmであ
る。

【００７９】フィルムの厚みが上記の範囲にあるとき、
強度、易滑性、巻取り性などのハンドリング性に優れ、
かつ高い耐削れ性を示し、磁気記録媒体に好適に用いる
ことができる。

【００８０】本発明の二軸配向フィルムは、平均粒径５
〜２，０００ｎｍの範囲の無機粒子に由来する、フィル
ム表面の突起を、好ましくは１×１０¹〜１×１０⁸ケ／
ｍｍ²、より好ましくは１×１０¹〜１×１０⁵ケ／ｍｍ²
で有する。突起頻度が１×１０¹個／ｍ²末満では、摩擦
係数が大きくなり良好な走行性が得られ難く、巻き取り
性も悪化し易く、さらにフィルム同士でブロッキングが
起きやすくなるため好ましくない。他方突起頻度が１×
１０⁸個／ｍ²を超えると、電磁変換特性が悪化し易くな
るため好ましくない。

【００８１】本発明の二軸配向フィルムは、フィルム面
上における直交する二方向（例えば長手方向と巾方向）
におけるヤング率の和が少なくとも２，０００ｋｇ／ｍ
ｍ²であるのが好ましく、少なくとも２，２００ｋｇ／
ｍｍ²であるのがさらに好ましい。ヤング率の和の好ま
しい上限値は４，０００ｋｇ／ｍｍ²である。ヤング率
の和が２，０００ｋｇ／ｍｍ²未満の場合には、磁気記
録媒体のベースフィルムとして用いた場合、記録ヘッド
との接触状態が不適当なものとなるため電磁変換特性が
悪化し易く、また数μmオーダーの薄いベースフィルム
で十分な強度を有し得ないので好ましくない。また、直
交する二方向の少なくとも一方向のヤング率が少なくと
も６００ｋｇ／ｍｍ²であるのが好ましい。

【００８２】本発明の二軸配向フィルムにおいて、次の
２つの態様を、特に好ましいものとして挙げることがで
きる。

【００８３】（ｉ）無機粒子の平均粒径が８０〜１，０
００ｎｍの範囲にあり、該無機粒子に由来する、フィル
ム表面の突起が１×１０¹〜１×１０⁵ケ／ｍｍ²の密度
で存在し、そしてフィルム面上にヤング率の和が少なく
とも２，０００ｋｇ／ｍｍ²である直交する二方向が存
在する二軸配向フィルム。

【００８４】（ii）無機粒子の平均粒径が５〜１５０ｎ
ｍの範囲にあり、該無機粒子に由来する、フィルム表面
の突起が５×１０³〜１×１０⁸ケ／ｍｍ²の密度で存在
し、そしてフィルム面上にヤング率の和が少なくとも
２，０００ｋｇ／ｍｍ²である直交する二方向が存在す
る二軸配向フィルム。

【００８５】上記二軸配向フィルム（ｉ）において、フ
ィルム面の一方向のたわみ剛度が好ましくは３．０〜
９．５ｍｇ・ｍｍ、より好ましくは５．０〜９．５ｍｇ
・ｍｍの範囲にある。ここで、フィルム面の一方向と
は、例えば、フィルム製膜における長手方向である。

【００８６】フィルム面の一方向例えば長手方向のたわ
み剛度が３．０ｍｇ・ｍｍ未満または９．５ｍｇ・ｍｍ
を超える場合には、記録ヘッドとの接触状態が不適当に
なり易くなるため電磁変換特性が悪化し易くなり好まし
くない。

【００８７】さらに、フィルムの長手方向の引張り破断
強度が、好ましくは３８ｋｇ／ｍｍ²以上、より好まし
くは４２ｋｇ／ｍｍ²以上とする。引張破断強度が３８
ｋｇ／ｍｍ²未満の場合には、特に走行／停止を繰返す
テープ用途において使用に耐え難くなるので好ましくな
い。

【００８８】また、フィルムの任意の方向の１５０℃に
おける熱収縮率は１％未満であるのが好ましい。熱収縮
率が１％を超える場合には、記録媒体の使用環境によっ
て性能の信頼性が損なわれ易く好ましくない。

【００８９】さらに、上記二軸配向フィルム（ii）にお
いて、好ましくは、光電子分光法によりフィルム表面か
らイオン状態のハロゲン元素が検出されない。このよう
な二軸配向フィルは、金属薄膜型磁気記録媒体用途にお
いて、特に高温多湿環境下においても磁性金属薄膜がハ
ロゲン元素によっておかされることもなく、性能を安定
に保持し得るため好ましい。

【００９０】本発明の上記二軸配向フィルムは、それ自
体磁気記録媒体用のベースフィルムとして使用すること
ができ、またそのフィルム面上に塗布層を設けたのち同
様に磁気記録媒体用のベースフィルムとして使用するこ
ともできる。

【００９１】特に、上記二軸配向フィルム（ｉ）は塗布
層を設けたのちベースフィルムとして使用するのに有利
である。

【００９２】それ故、本発明によれば、本発明の前記二
軸配向フィルム（ｉ）の少なくとも片面上に芳香族ジカ
ルボン酸成分が４０〜９９モル％の２，６―ナフタレン
ジカルボン酸、０．１〜５モル％のスルホン酸塩の基を
持つ芳香族ジカルボン酸、および０〜５５モル％のその
他の芳香族ジカルボン酸からなり、そしてグリコール成
分が４０〜１００モル％のエチレングリコール、０〜６
０モル％のビスフェノールＡの低級アルキレンオキサイ
ド付加物、および０〜１０モル％のその他のグリコール
からなる、水分散性共重合ポリエステル樹脂をバインダ
ー成分とする塗布層が存在し、該塗布層の上記二軸配向
フィルムと接触していない面の表面粗さＷＲａが０．５
〜１０ｎｍの範囲にあり且つＷＲｚが５〜２００ｎｍの
範囲にある、磁気記録媒体用ベースフィルムが同様に提
供される。

【００９３】塗布層のバインダー成分である水分散性共
重合ポリエステル樹脂の組成に関して、２，６―ナフタ
レンジカルボン酸の割合が４０モル％未満になると、フ
ィルムの耐ブロッキング性が低下するので好ましくな
く、一方９０モル％を超えると、共重合ポリエステル樹
脂を水分散化する工程において、該共重合ポリエステル
樹脂が使用する親水性有機溶媒への溶解が困難となり、
このため、水分散化が難しくなる。この場合、グリコー
ル成分を共重合させて非晶性を向上させることが有効で
かつ好ましいが、２，６―ナフタレンジカルボン酸の割
合が９９モル％を越えると，非晶性向上のグリコール成
分を共重合しても、もはや親水性有機溶媒に溶解しなく
なるため好ましくない。さらに、スルホン酸塩の基を有
する芳香族ジカルボン酸の割合が０．１モル％未満にな
ると、該共重合ポリエステル樹脂の親水性が低下し、こ
のため、水分散化が難しくなるので好ましくない。一
方、５モル％を超えると、フィルムの耐ブロッキング性
が低下するので好ましくない。

【００９４】前記スルホン酸塩の基を有する芳香族ジカ
ルボン酸としては，５―ナトリウムスルホイソフタル
酸、５―カリウムスルホイソフタル酸、５―リチウムス
ルホイソフタル酸、５―ホスホニウムスルホイソフタル
酸が好ましく例示できるが、水分散性良化には、５―ナ
トリウムスルホイソフタル酸、５―カリウムスルホイソ
フタル酸、５―リチウムスルホイソフタル酸、のアルカ
リ金属塩がより好ましい。

【００９５】前記共重合ポリエステル樹脂の酸成分は、
上述した割合の２，６―ナフタレンジカルボン酸及びス
ルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸を含有する
が、これらと一緒に他の芳香族ジカルボン酸を使用する
ことができる。この他の芳香族ジカルボン酸としては、
例えばテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ビフェ
ニルジカルボン酸等を挙げることができる。これらの中
でイソフタル酸が特に好ましい。

【００９６】また、前記共重合ポリエステル樹脂のグリ
コール成分において、エテレングリコールの割合が４０
モル％未満になると、フィルムの耐ブロッキング性が低
下するので好ましくない。

【００９７】このエチレングリコールと併用することが
できるビスフェノールＡの低級アルキレンオキサイド付
加物は、下記式

【００９８】

【化１８】

【００９９】（ここで、ＸはＨ又は炭素数１〜５の低級
アルキル、ｌ、ｍは０又は正の数で、１＋ｍは２〜１０
である）で表わされる化合物である。

【０１００】このビスフェノールＡの低級アルキレンオ
キサイド付加物の併用は共重合ポリエステルの水分散性
の向上に効果がある。前記式においてＸの低級アルキル
としては、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチルの如き炭素数１〜５のアルキル基を例示できる
が、特にメチルが好ましい。

【０１０１】この化合物としては、特にビスフェノール
Ａのプロピレンオキサイド付加物が好ましい。また、１
＋ｍが大きくなると共重合ポリマーの耐ブロッキング性
が低下するので、１＋ｍは小さいほど好ましく、１＋ｍ
＝２が最も好ましい。

【０１０２】前記ビスフェノールＡの低級アルキレンオ
キサイド付加物は、全グリコール成分当り、１０〜５０
モル％、さらに２０〜４０モル％用いることが好まし
い。

【０１０３】前記共重合ポリエステルのグリコール成分
は、上述した割合のエチレングリコール及び、ビスフェ
ノールＡの低級アルキレンオキサイド付加物を含有する
が、１０モル％未満の割合であれば、これらと一緒に他
の脂肪族または脂環族グリコールを使用することができ
る。この他の脂肪族または脂環族グリコールとしては、
例えば１，４―ブタンジオール、1，４―シクロヘキサ
ンジメタノール等を好ましく挙げことができる。

【０１０４】また、上記塗布層は上記バインダー成分と
ともに平均粒径１０〜５０ｎｍの微粒子を含有すること
ができる。微粒子の平均粒径は１５〜４０ｎｍが好まし
い。

【０１０５】この平均粒径が１０ｎｍ未満であると耐ブ
ロッキング性の特性が不足し、一方５０ｎｍを超えると
粒子の脱落を防ぐために塗布層を厚くする必要があり、
このため耐ブロッキング性の特性が不足するようにな
る。

【０１０６】微粒子の含有量は、前記共重合ポリエステ
ル樹脂の重量に対して、１〜５０重量％、好ましくは１
〜３５重量％、さらに好ましくは１〜２５重量％であ
る。

【０１０７】前記微粒子は、塗液中で沈降しにくい、比
較的低比重のものが好ましい。また粒子自体が凝集しに
くいものが好ましい。

【０１０８】例えば、耐熱性高分子（例えば、架橋シリ
コーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン、メ
ラミン・ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹
脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香
族ポリエステル等）からなる微粒子、二酸化ケイ素（シ
リカ）、炭酸カルシウムが好ましく挙げられる。

【０１０９】これらの中でも、特に架橋シリコーン樹脂
微粒子、シリカ、コアシエル型有機微粒子（コア部：架
橋ポリスチレン、シェル部：ポリメチルメタクリレート
など）が好ましい。

【０１１０】上記微粒子を含有する場合、塗布層の厚み
は、下記式（ア）

【０１１１】

【数２】０．２≦ｔ／ｄ≦２．０ ……（ア） （ここで、ｔ：塗布層厚み（ｎｍ）、ｄ：微粒子の平均
粒径（ｎｍ）である）好ましくは下記式（イ）

【０１１２】

【数３】０．３≦ｔ／ｄ≦１．５ ……（イ） （ここで、ｔおよびｄの定義は式（ア）に同じである）
更に好ましくは下記式（ウ）

【０１１３】

【数４】０．４≦ｔ／ｄ≦１．０ ……（ウ） （ここで、ｔおよびｄの定義は式（ア）に同じである）
特に好ましくは下記式（エ）

【０１１４】

【数５】０．５≦ｔ／ｄ≦０．８ ……（エ） （ここで、ｔおよびｄの定義は式（ア）に同じである）
を満足するのが望ましい。

【０１１５】ｔ／ｄ（塗布層の厚み／微粒子の平均粒
径）が０．２未満であると、微粒子をバインダーで保持
できなくなり、フィルムの製膜工程、また磁気テープの
製造工程で微粒子が離れ脱落し、ドロップアウトが多く
なり、電磁変換特性を悪くする。 一方、ｔ／ｄが２．
０を越えると、バインダーからの粒子の突出量が少なく
なり、十分な耐ブロッキング性能を出すことができなく
なる。

【０１１６】前記塗布層中での微粒子は凝集してないこ
とが好ましく、さらに具体的には一次粒子が１０個以上
凝集したもの（凝集物）が０〜３０個／１０μｍ²の割
合にあることが耐削れ性の観点から好ましい。

【０１１７】上記塗布層の表面（二軸配向フィルムと接
触していない面）の中心面平均粗さＷＲａは０．５〜１
０ｎｍであり、好ましくは１〜８ｎｍ、さらに好ましく
は１．５〜５ｎｍである。

【０１１８】ＷＲａが０．５ｎｍ未満であると、製膜工
程あるいは磁気テープの製造工程におけるパスロールと
フィルムとの滑りが悪くなり、フィルムが削れ、ドロッ
プアウトが多くなり、電磁変換特性が悪くなる。

【０１１９】一方、ＷＲａが１０ｎｍを超えると、磁性
面が粗くなり、十分な電磁変換特性が出なくなる。

【０１２０】また同じフィルム面の１０点平均粗さＷＲ
ｚは５〜２００ｎｍであり、好ましくは１０〜１５０ｎ
ｍ、さらに好ましくは１５〜１００ｎｍである。

【０１２１】ＷＲｚが５ｎｍ未満であると、フィルムを
ロール上に巻く際のエア抜け性が悪くなり、巻姿悪化に
より製品歩留まりが著しく低下する。

【０１２２】一方、ＷＲｚが２００ｎｍを超えると、磁
性面が粗くなり、十分な電磁変換特性が出なくなる。

【０１２３】本塗布層の塗工はフィルムの製造工程中ま
たは製膜後に実施できるが、製造工程中に実施すること
が好ましく、塗工は本塗布層への過度の加熱を避けるた
めに延伸、熱処理より後の工程で実施することが好まし
い。

【０１２４】塗布は常法により可能であり、例えばキス
コート、リバースコート、グラビヤコート、ダイコード
等を用いて塗布することができる。

【０１２５】本塗布層の厚みは１〜５０ｎｍ、さらには
５〜３５ｎｍであることが好ましい。この厚みが１ｎｍ
より薄すぎると接着性が不足し、一方５０ｎｍより厚す
ぎるとブロッキング特性が悪くなるので好ましくない。

【０１２６】なお、塗布層が微粒子を含有する場合に
は、微粒子の平均粒径との間に上記関係式（ア）〜
（エ）を満足することが望ましいことは前記したとおり
である。

【０１２７】易滑、帯電防止などの目的で、本発明の効
果を阻害しない範囲の他成分を塗布層中に含有させるこ
とも必要に応じて可能である。

【０１２８】本発明により提供される前記二軸配向フィ
ルム（ｉ）並びにその少なくとも片面上に塗布層を設け
た前記磁気記録媒体用ベースフィルムは、塗布型磁性層
を設けることにより塗布型高密度磁気記録媒体を与え
る。

【０１２９】すなわち、本発明によれば、本発明の前記
二軸配向フィルム（ｉ）およびその一方の面上の塗布型
磁性層からなる、塗布型高密度磁気記録媒体、並びに二
軸配向フィルム（ｉ）上に塗布層を設けた前記磁気記録
媒体用ベースフィルムおよびその塗布層面上の塗布型磁
性層からなる、塗布型高密度磁気記録媒体が同様に提供
される。

【０１３０】かかる磁性塗料としては、メタル系磁性塗
料、酸化金属系磁性塗料が挙げられる。

【０１３１】メタル系磁性塗料とは、磁性金属あるいは
磁性金属を主成分とする磁性体をバインダーに含有させ
たものであり、例えば、鉄または鉄を主成分とする針状
微細磁性粉を塩化ビニールまたは塩化ビニール・酢酸ビ
ニール共重合体などに均一分散させたものが挙げられ
る。

【０１３２】また、酸化金属系磁性塗料とは、磁性酸化
金属あるいは磁性酸化金属を主成分とする磁性体をバイ
ンダーに含有させたものであり、例えば、酸化鉄または
酸化クロム等の針状微細磁性粉あるいはバリウムフェラ
イト等の板状微細磁性粉を塩化ビニールまたは塩化ビニ
ール―酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一分散
させたものが挙げられる。

【０１３３】かかる磁性塗料は、磁性層厚みが２μｍ以
下、好ましくは０．１〜２μｍとなるように塗布するこ
とが好ましいまた、磁性層と反対の面に公知の方法でバ
ックコート層を設けることにより、特に短波長領域での
出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロツ
プアウト、エラーレートの少ない高密度記録用塗布型磁
気記録媒体とすることができる。

【０１３４】さて、本発明の前記二軸配向フィルム（i
i）は、同様に、高密度磁気記録媒体を与えることがで
きる。

【０１３５】すなわち、本発明によれば、本発明の前記
二軸配向フィルム（ii）およびその一方の面上の蒸着金
属薄膜からなる、金属薄膜型高密度磁気記録媒体、並び
に本発明の二軸配向フィルム（ii）およびその一方の面
上の塗布型磁性層からなり、該塗布型磁性層は二軸配向
フィルム面上に直接設けられた塗布型非磁性層緩衝層と
さらにその上に設けられた塗布型磁性層からなる、重層
塗布型高密度磁気記録媒体が同様に提供される。

【０１３６】金属薄膜型高密度磁気記録媒体は、二軸配
向フィルム（ii）の片面上に、真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバル
ト、クロムまたはこれらを主成分とする合金もしくは酸
化物よりなる強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面
に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカー
ボン（ＤＬＣ）等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑
剤層を順次設け、さらに金属薄膜層と反対の面に公知の
バックコート層を設けることにより製造される。

【０１３７】この金属薄膜型高密度磁気記録媒体は、特
に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性
に優れ、ドロップアウト、エラーレートが少なくアナロ
グ信号記録用Ｈｉ８、デジタル信号記録用デジタルビデ
オカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤ
ＳＩＶ用テープ媒体として極めて有用である。

【０１３８】重層塗布型高密度磁気記録媒体は、本発明
の二軸配向フィルム（ii）の少なくとも片面に、非磁性
層として微細な酸化チタン粒子等を、磁性層と同様の有
機バインダー中に分散して、塗設しておき、その上に磁
性塗料を塗布し重層化せしめたものである。

【０１３９】かかる磁性塗料としては、メタル系磁性塗
料、酸化金属系磁性塗料が挙げられ、前記したものと同
じ塗料を用いることができる。

【０１４０】また、磁性層厚みは、好ましくは１．１μ
m以下、より好ましくは０．１〜１．０μmである。

【０１４１】また、非磁性層の厚みは、好ましくは０．
１〜２．０μm、より好ましくは０．２〜１．５μmであ
る。

【０１４２】また、磁性層と反対の面に公知の方法でバ
ックコート層を設けることにより、特に短波長領域での
出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロッ
プアウト、エラーレートの少ない高密度記録用塗布型磁
気記録媒体とすることができる。

【０１４３】この重層塗布型高密度磁気記録媒体は、ア
ナログ信号記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、
Ｗ−ＶＨＳ、デジタル信号記録用デジタルビデオカセッ
トレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、
デジタルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ、デジタル信号記録
用データストリーマー用ＱＩＣ用テープ媒体などに極め
て有用である。

【０１４４】上記のＷ−ＶＨＳとはアナログのＨＤＴＶ
信号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣとはデジタルのＨ
ＤＴＶ信号記録用として適用可能なものであり、本発明
の芳香族ポリアミドフィルムはこれらＨＤＴＶ対応ＶＴ
Ｒ用磁気記録媒体に極めて有用なべースフィルムという
ことができる。

【０１４５】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例
に限定されるものではない。なお、本発明における種々
の物性値および特性は、以下の如く測定されたものであ
りまた定義される。

【０１４６】（１）ポリマー溶液のｐＨ ポリマー溶液５ｇを採取し、３００ｍｌの水に加え、２
分間撹拌した後に該水溶液のｐＨを測定した。

【０１４７】（２）対数粘度 重合後の芳香族ポリアミドを含むポリマー原液をアルコ
ール、水などの溶媒の中に投入し、再沈、分離されたポ
リマーを濃硫酸中、３０℃で測定した値から求めた。

【０１４８】（３）面積倍率 フィルムの縦延伸倍率と横延伸倍率を乗じて求めた。

【０１４９】（４）粒子の平均粒径 （ａ）ポリマー溶液中添加前の平均粒径 島津制作所製ＣＰ−５０型セントリフューグル パーテ
ィクル サイズ アナライザー(Centrifugal Particle S
ize Analyzer)を用いて測定した。得られた遠心沈降曲
線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲
線から、５０重量％に相当する粒径を読み取り、この値
を平均粒径とした（「粒度測定技術」日刊工業新聞発
行、1975年、242〜247ページ参照）。

【０１５０】（ｂ）フィルム中での平均粒径 該フィルムを、塩化リチウムを３重量％含有するＮ−メ
チルピロリドン（以下ＮＭＰと略することがある。）中
に１００℃、３０分撹拌して溶解し、ＮＭＰ不溶の残渣
について（ａ）と同様の測定を行った。また、確認のた
め、同じサンプルを、該フィルムの小片をエポキシ樹脂
(リファインテック(株)製、エポマウント)中に包埋し、
Reichert-Jung社製Microtome2050を用いて包埋樹脂と共
に６０ｎｍ厚にスライスし、透過型電子顕微鏡（日立製
作所製、Ｈ−８００型）にて観察し、粒子Ａの断面を２
５個選びそれぞれ粒径を求め平均した。その結果、前者
と同じ値が得られた。

【０１５１】（５）突起頻度 走査型電子顕微鏡（日本電子製、Ｔ−３００型）を用い
て、該フィルムの表面写真を倍率５０００倍、角度４５
°にてランダムに２５枚撮影し、表面突起頻度をカウン
トし、その平均値より１ｍｍ²あたりの突起数に換算し
た。

【０１５２】（６）ボイド比 プラズマリアクター(ヤマト科学製、PR31)を用いて、該
フィルムの表面から５００ｎｍの深さにエッチングし
た。続いて走査型電子顕微鏡（日本電子製、Ｔ−３００
型)を用いて、該エッチングサンプルの表面写真を倍率
５０００倍、角度０°にてランダムに２５枚撮影し、表
面に現れた粒子の長径とその周囲のボイドの長径を測定
し下記式にて求めた。

【０１５３】

【数６】ボイド比＝（ボイド長径）／（粒子長径）

【０１５４】（７）機械的特性 （ａ）ヤング率 引張試験機（東洋ボールドウィン製、テンシロン）を用
いて、温度２０℃、相対湿度５０％に調節された室内に
おいて、巾１０ｍｍ、長さ１５０ｍｍにサンプリングし
た該フィルムを、チャック間１００ｍｍ、引張速度１０
ｍｍ／分にて引っ張り、得られた応力-歪み曲線の立ち
上がり部の接線より計算した。

【０１５５】（ｂ）たわみ剛度 ヤング率測定と同じ装置、測定条件にて該フィルムをチ
ャック間１００ｍｍ、引張速度５ｍｍ／分にて引っ張
り、得られた応力-歪み曲線の立ち上がり部の接線の傾
きから下記式より計算した。

【０１５６】

【数７】たわみ剛度(mg・mm)＝[(10⁶(mg/kg)×(接線傾き
(kg/mm²))×(フィルム厚み(mm))³]／12

【０１５７】（ｃ）引張り破断強度 ヤング率測定と同じ装置、測定条件にて該フィルムをチ
ャック間１００ｍｍ、引張速度１００ｍｍ／分にて引っ
張り、フィルムが破断した時点における応力を破断強度
とした。

【０１５８】（８）熱収縮率 該フィルムを、３５０ｍｍ×３５０ｍｍにサンプリング
し、中央部に標点を２点間の距離（Ｌ₀（ｍｍ））が３
００ｍｍとなるようにつけ、１５０℃に設定した熱風循
環式恒温槽内に標点を付けた該フィルム１０枚を無緊張
下に釣り下げ、３０分保持後取り出して評点間の距離
（Ｌ（ｍｍ））を測定し、下記式で計算した熱収縮率
（単位：％）を平均して求めた。

【０１５９】

【数８】熱収縮率 ＝ １００×〔（Ｌ₀−Ｌ）／Ｌ₀〕

【０１６０】（９）巻取り性 スリット時の巻取り条件を最適化後、巾５６０ｍｍ、長
さ９，０００ｍのサイズで、１０ロールのスリットを行
い、１週間放置した。その後、フィルムシワの発生状況
を観察し製品化可能ロール本数を求め、以下の基準にて
巻取り性の評価を行った。

【０１６１】（１０）耐削れ性(カレンダー) ３段のミニスーパーカレンダー（ナイロンロール×スチ
ールロール）を使用して評価した。処理温度８０℃、線
圧２００ｋｇ／ｃｍで、該フィルムを速度５０ｍ／分で
２０００ｍ走行させた。カレンダーのナイロンロールに
付着する汚れにより、次の基準により判定した。 ナイロンロールの汚れ全くなし ◎ ナイロンロールがわずかに汚れる ○ ナイロンロールが非常に汚れる ×

【０１６２】（１１）電磁変換特性 該フィルム表面に、下記調製の磁性塗料を塗布厚１．２
μmとなるように塗布し、次いで２，５００ガウスの直
流磁場中で配向処理を行い、１２０℃で加熱乾燥後、ス
ーパーカレンダー処理（線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度９
０℃）を行い、巻取った。この巻取ったロールを５５℃
のオーブン中に３日間放置した。

【０１６３】＜磁性塗料の調製＞下記に示す組成をボー
ルミルに入れ、１６時間混練、分散した後、イソシアネ
ート化合物（バイエル製、デスモジュールＬ）５重量部
を加え、１時間高速剪断分散して磁性塗料とした。 ・塗料の組成： 針状Ｆｅ粒子 １００重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 １５重量部 （積水化学製、エスレック７Ａ） 熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５重量部 酸化クロム ５重量部 カーボンブラック ５重量部 レチシン ２重量部 脂肪酸エステル １重量部 トルエン ３０重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 シクロヘキサノン ７０重量部

【０１６４】さらに、磁気記録層の反対側のフィルム表
面に、下記組成の塗液をバックコート層として厚さ０．
８μｍに塗布し、乾燥した後裁断し、磁気テープを得
た。 ・バックコート層組成： カーボンブラック １００重量部 熱可塑性ポリウレタン樹脂 ６０重量部 イソシアネート化合物 １８重量部 （日本ポリウレタン工業製、コロネートＬ） シリコーンオイル ０．５重量部 メチルエチルケトン ２５０重量部 トルエン ５０重量部

【０１６５】次いで、以下の市販の機器を用いてテープ
の特性を測定した。 ・使用機器： ８ｍｍビデオテープレコーダー：ソニー(株)製、EDV-60
00 Ｓ／Ｎ測定：シバソク(株)製、ノイズメーター （ａ）Ｓ／Ｎ測定 ビデオ用磁気テープのＳ／Ｎ比を測定し、下記比較例３
における値を基準として下記の基準で評価した。 基準＋３ｄＢより大 ◎ 基準＋３ｄＢ〜基準＋１ｄＢ ○ 基準＋１ｄＢ未満 × （ｂ）走行耐久性 温度５５℃、湿度７５％ＲＨの高温高湿条件下でテープ
を継続再生走行させ、再生画像を観察し、画像の揺れの
有無で判定した。 画像の揺れ無し ○ 画像の揺れ有り ×

【０１６６】［実施例１］パラフェニレンジアミン２５
モル％と、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル２５
モル％をアミン成分とし、テレフタル酸クロライド５０
モル％を酸成分としてＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）
中で重合した。一方、平均粒径８，０００ｎｍの水酸化
カルシウム(井上石灰製)を、ホモジナイザーでＮＭＰ中
に分散し、サンドグラインダーで平均粒径２，３００ｎ
ｍとなるように細粉化した後、フィルター（日本ポール
製、ＨＤＣII、目開き５０μｍ）で濾過して、平均粒径
１，５００ｎｍの水酸化カルシウムのＮＭＰスラリーを
作成した。このスラリーを上記の重合物に、テレフタル
酸クロライド５０モル％に対し水酸化カルシウムが５
０．３モル％となるように添加し、製膜原液とした。こ
の製膜原液のｐＨは４．７であった。また、ポリマーの
対数粘度は３．５であった。

【０１６７】得られた製膜原液を１００℃に加熱し、１
００℃の口金から、１００℃の金属ベルト上に流延し、
１００℃で２分間乾燥後、１２０℃、１５０℃と段階的
に温度を上げ、合計で１０分間乾燥させて自己保持性を
持つ未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを連続
的にベルトから剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩
とを行い、その後、１５０℃で１５分間乾燥した。

【０１６８】得られた未延伸フィルムを低速、高速のロ
ール間でフィルム温度３５０℃で２．５倍に延伸し、続
いてステンターに供給して、４００℃で３．０倍に延伸
し、得られた二軸延伸フィルムを４００℃で１分間熱処
理し、最終厚み４．０μｍの芳香族ポリアミドフィルム
を得た。得られたフィルム中での中和剤残渣の平均粒径
は３００ｎｍであった。その他のフィルム物性および特
性について表１に示す。

【０１６９】［実施例２］実施例１と同じ中和剤の水酸
化カルシウムを、サンドグラインダーで平均粒径４，８
００ｎｍとなるように細粉化した後、そのままＮＭＰス
ラリーを作成した。このスラリーを上記の重合物に、テ
レフタル酸クロライド５０モル％に対し水酸化カルシウ
ムが５０．０６モル％となるように添加し、製膜原液Ａ
とした（ｐＨは５．２、ポリマーの対数粘度は３．５で
あった）。

【０１７０】一方、実施例１と同じ中和剤の水酸化カル
シウムを、サンドグラインダーで平均粒径２，０００ｎ
ｍとなるように細粉化した後、フィルター（日本ポール
製、ＨＤＣII、目開き２０μｍ）で濾過して、平均粒径
６００ｎｍの水酸化カルシウムのＮＭＰスラリーを作成
した。このスラリーを上記の重合物に、テレフタル酸ク
ロライド５０モル％に対し水酸化カルシウムが５１．５
モル％となるように添加し、製膜原液Ｂとした（ｐＨは
４．８、ポリマーの対数粘度は３．５であった）。

【０１７１】さらに、製造原液ＡとＢとを同量混合して
最終製造原液とし、実施例１と同様にして芳香族ポリア
ミドフィルムを得た。得られたフィルム中の中和剤残渣
の粒径分布は５００ｎｍおよび１８０ｎｍに極大を持つ
ものであった。フィルム物性および特性について表１に
示す。

【０１７２】［実施例３］実施例１と同じ中和剤の水酸
化カルシウムを、サンドグラインダーで平均粒径２，２
００ｎｍとなるように細粉化し、そのままＮＭＰスラリ
ーとした。このスラリーを上記の重合物に、テレフタル
酸クロライド５０モル％に対し水酸化カルシウムが５
２．３モル％となるように添加し、製膜原液とした（ｐ
Ｈは４．８、ポリマーの対数粘度は３．５であった）以
外は、実施例１と同様にして芳香族ポリアミドフィルム
を得た。フィルム物性および特性について表１に示す。

【０１７３】［実施例４］実施例１と同じ中和剤の水酸
化カルシウムを、サンドグラインダーで平均粒径２，０
００ｎｍとなるように細粉化した後、フィルター（日本
ポール製、ＨＤＣII、目開き２０μｍ）で濾過して、平
均粒径６００ｎｍの水酸化カルシウムのＮＭＰスラリー
を作成した。このスラリーを上記の重合物に、テレフタ
ル酸クロライド５０モル％に対し水酸化カルシウムが５
０．４モル％となるように添加し、製膜原液とした（ｐ
Ｈは４．８、ポリマーの対数粘度は３．５であった）以
外は、実施例１と同様にして芳香族ポリアミドフィルム
を得た。フィルム物性および特性について表１に示す。

【０１７４】［実施例５］実施例１と同じ中和剤の水酸
化カルシウムを、サンドグラインダーで平均粒径２，０
００ｎｍとなるように細粉化した後、フィルター（日本
ポール製、ＨＤＣII、目開き２０μｍ）で濾過して、平
均粒径６００ｎｍの水酸化カルシウムのＮＭＰスラリー
を作成した。このスラリーを上記の重合物に、テレフタ
ル酸クロライド５０モル％に対し水酸化カルシウムが５
７．３モル％となるように添加し、製膜原液とした（ｐ
Ｈは５．０、ポリマーの対数粘度は３．５であった）以
外は実施例１と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを
得た。フィルム物性および特性について表１に示す。

【０１７５】［実施例６］フィルムの延伸倍率を縦方向
に２．０倍、横方向に３．５倍とした以外は実施例１と
同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。フィルム
物性および特性について表１に示す。

【０１７６】［実施例７］フィルムの延伸倍率を縦方向
に２．８倍、横方向に２．８倍とした以外は実施例１と
同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。フィルム
物性および特性について表１に示す。

【０１７７】［実施例８］中和剤を炭酸カルシウムに代
えた以外は実施例１と同様にして芳香族ポリアミドフィ
ルムを得た。フィルム物性および特性について表１に示
す。

【０１７８】［実施例９］中和剤を水酸化マグネシウム
に代えた以外は実施例１と同様にして芳香族ポリアミド
フィルムを得た。フィルム物性および特性について表１
に示す。

【０１７９】［実施例１０］アミン成分（計５０モル
％）のモル比を、パラフェニレンジアミン３７．５モル
％と、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル１２．５
モル％とした以外は、実施例１と同様にして芳香族ポリ
アミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につい
て表１に示す。

【０１８０】［実施例１１］アミン成分（計５０モル
％）のモル比を、パラフェニレンジアミン１２．５モル
％と、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル３７．５
モル％とした以外は、実施例１と同様にして芳香族ポリ
アミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につい
て表１に示す。

【０１８１】［比較例１］乾燥した未延伸フィルムを延
伸しない以外は、実施例１と同様にして芳香族ポリアミ
ドフィルムを得た。フィルム物性および特性について表
２に示す。延伸されていないこのフィルムは、表面突起
が少なく、易滑性、巻取り性に劣るものであり、ヤング
率も低いものであった。

【０１８２】［比較例２］水酸化カルシウムのＮＭＰス
ラリーを重合系に添加して、ｐＨ３．８となるように調
整して、製膜原液とした以外は、実施例１と同様にして
芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルム中
に中和剤残渣と考えられる粒子は見出せなかった。その
他のフィルム物性および特性について表２に示す。

【０１８３】［比較例３］中和剤のＮＭＰスラリーを重
合系に添加せずに製膜原液（ｐＨは２．３であった）と
した以外は、実施例１と同様にして芳香族ポリアミドフ
ィルムを得た。得られたフィルム中に中和剤残渣と考え
られる粒子は見出せなかった。その他のフィルム物性お
よび特性について表２に示す。

【０１８４】［比較例４］水酸化カルシウムのＮＭＰス
ラリーを重合系に添加して、ｐＨ３．８となるように調
整して、さらに前もって分散させておいた平均粒径１０
ｎｍのシリカを添加して製膜原液とした以外は、実施例
１と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。得ら
れたフィルム中に中和剤残渣と考えられる粒子は見出せ
なかった。その他のフィルム物性および特性について表
２に示す。

【０１８５】［比較例５］水酸化カルシウムのＮＭＰス
ラリーを重合系に添加して、ｐＨ３．８となるように調
整して、さらに前もって分散させておいた平均粒径４３
０ｎｍのシリカを添加して製膜原液とした以外は、実施
例１と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。得
られたフィルム中に中和剤残渣と考えられる粒子は見出
せなかった。その他のフィルム物性および特性について
表２に示す。

【０１８６】

【表１】

【０１８７】

【表２】

【０１８８】［実施例１２］パラフェニレンジアミン２
５モル％と、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル２
５モル％をアミン成分とし、テレフタル酸ジクロライド
５０モル％を酸成分としてＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリド
ン）中で重合した。一方、平均粒径８，０００ｎｍの水
酸化カルシウム(井上石灰製)を、ホモジナイザーでＮＭ
Ｐ中に分散し、サンドグラインダーで平均粒径１，００
０ｎｍとなるように細粉化した後、フィルター（日本ポ
ール製、ＨＤＣII、目開き５μｍ）で濾過して、平均粒
径２００ｎｍの水酸化カルシウムのＮＭＰスラリーを作
成した。このスラリーを上記の重合物に、テレフタル酸
ジクロライド５０モル％に対し水酸化カルシウムが５
１．２モル％となるように添加し、製膜原液とした。こ
の製膜原液のｐＨは４．７であった。また、ポリマーの
対数粘度は３．５であった。

【０１８９】得られた製膜原液を１００℃に加熱し、１
００℃の口金から、１００℃の金属ベルト上に流延し、
１００℃で２分間乾燥後、１２０℃、１５０℃と段階的
に温度を上げ、合計で１０分間乾燥させて自己保持性を
持つ未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを連続
的にベルトから剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩
とを行い、その後、１５０℃で１５分間乾燥した。

【０１９０】得られた未延伸フィルムを低速、高速のロ
ール間でフィルム温度３５０℃で２．５倍に延伸し、続
いてステンターに供給して、４００℃で３．０倍に延伸
し、得られた二軸延伸フィルムを４００℃で１分間熱処
理し、最終厚み３．０μｍの芳香族ポリアミドフィルム
を得た。

【０１９１】得られたフィルム中での中和剤残渣の平均
粒径は６０ｎｍであった。その他のフィルム物性および
特性について表３に示す。

【０１９２】［実施例１３］実施例１２と同じ中和剤の
水酸化カルシウムを、サンドグラインダーで平均粒径
２，０００ｎｍとなるように細粉化した後、フィルター
（日本ポール製、ＨＤＣII、目開き１０μｍ）で濾過し
て、平均粒径４００ｎｍの水酸化カルシウムのＮＭＰス
ラリーを作成した。このスラリーを上記の重合物に、テ
レフタル酸ジクロライド５０モル％に対し水酸化カルシ
ウムが５０．１５モル％となるように添加し、製膜原液
とした（ｐＨは５．１、ポリマーの対数粘度は３．５で
あった）以外は、実施例１２と同様にして芳香族ポリア
ミドフィルムを得た。フィルム物性および特性について
表３に示す。

【０１９３】［実施例１４］実施例１２と同じ中和剤の
水酸化カルシウムを、サンドグラインダーで平均粒径
２，０００ｎｍとなるように細粉化した後、フィルター
（日本ポール製、ＨＤＣII、目開き２０μｍ）で２回濾
過して、平均粒径６５０ｎｍの水酸化カルシウムのＮＭ
Ｐスラリーを作成した。このスラリーを上記の重合物
に、テレフタル酸ジクロライド５０モル％に対し水酸化
カルシウムが５０．０５モル％となるように添加し、製
膜原液とした（ｐＨは５．１、ポリマーの対数粘度は
３．５であった）以外は、実施例１２と同様にして芳香
族ポリアミドフィルムを得た。フィルム物性および特性
について表３に示す。

【０１９４】［実施例１５］実施例１２と同じ中和剤の
水酸化カルシウムを、サンドグラインダーで平均粒径
２，０００ｎｍとなるように細粉化した後、フィルター
（日本ポール製、ＨＤＣII、目開き２０μｍ）で１回濾
過して、平均粒径８００ｎｍの水酸化カルシウムのＮＭ
Ｐスラリーを作成した。このスラリーを上記の重合物
に、テレフタル酸ジクロライド５０モル％に対し水酸化
カルシウムが５０．１モル％となるように添加し、製膜
原液とした（ｐＨは５．２、ポリマーの対数粘度は３．
５であった）以外は、実施例１２と同様にして芳香族ポ
リアミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につ
いて表３に示す。

【０１９５】［実施例１６］実施例１２と同じ中和剤の
水酸化カルシウムを、サンドグラインダーで平均粒径
２，０００ｎｍとなるように細粉化した後、フィルター
（日本ポール製、ＨＤＣII、目開き１５μｍ）で濾過し
て、平均粒径５５０ｎｍの水酸化カルシウムのＮＭＰス
ラリーを作成した。このスラリーを上記の重合物に、テ
レフタル酸ジクロライド５０モル％に対し水酸化カルシ
ウムが５０．６モル％となるように添加し、製膜原液と
した（ｐＨは５．３、ポリマーの対数粘度は３．５であ
った）以外は、実施例１２と同様にして芳香族ポリアミ
ドフィルムを得た。フィルム物性および特性について表
３に示す。

【０１９６】［実施例１７］フィルムの延伸倍率を、縦
方向に２．０倍、横方向に３．５倍とする以外は実施例
１２同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。フィ
ルム物性および特性について表３に示す。

【０１９７】［実施例１８］フィルムの延伸倍率を、縦
方向に２．８倍、横方向に２．８倍とする以外は実施例
１２と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。フ
ィルム物性および特性について表３に示す。

【０１９８】［実施例１９］中和剤を炭酸カルシウムに
代えた以外は実施例１２と同様にして芳香族ポリアミド
フィルムを得た。フィルム物性および特性について表３
に示す。

【０１９９】［実施例２０］中和剤を水酸化マグネシウ
ムに代えた以外は実施例１２と同様にして芳香族ポリア
ミドフィルムを得た。フィルム物性および特性について
表３に示す。

【０２００】［実施例２１］アミン成分（計５０モル
％）のモル比を、パラフェニレンジアミン３７．５モル
％と、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル１２．５
モル％とした以外は、実施例１２と同様にして芳香族ポ
リアミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につ
いて表３に示す。

【０２０１】［実施例２２］アミン成分（計５０モル
％）のモル比を、パラフェニレンジアミン１２．５モル
％と、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル３７．５
モル％とした以外は、実施例１２と同様にして芳香族ポ
リアミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につ
いて表３に示す。

【０２０２】［比較例６］乾燥した未延伸フィルムを延
伸しない以外は、実施例１２と同様にして芳香族ポリア
ミドフィルムを得た。フィルム物性および特性について
表４に示す。延伸されていないこのフィルムは、表面突
起が少なく、易滑性、巻取り性に劣るものであり、ヤン
グ率も低いものであったため、電磁変換特性に劣るもの
であった。

【０２０３】［比較例７］水酸化カルシウムのＮＭＰス
ラリーを重合系に添加して、ｐＨ３．８となるように調
整して、製膜原液とした以外は、実施例１２と同様にし
て芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルム
中に中和剤残渣と考えられる粒子は見出せなかった。そ
の他のフィルム物性および特性について表４に示す。

【０２０４】［比較例８］中和剤のＮＭＰスラリーを重
合系に添加せずに製膜原液（ｐＨは２．３であった）と
した以外は、実施例１２と同様にして芳香族ポリアミド
フィルムを得た。得られたフィルム中に中和剤残渣と考
えられる粒子は見出せなかった。その他のフィルム物性
および特性について表４に示す。

【０２０５】［比較例９］金属ベルトから剥離した未延
伸フィルムを、水槽中脱塩処理を行わずに直接２００℃
で３０分間乾燥した以外は、実施例１２と同様にして芳
香族ポリアミドフィルムを得た。フィルム物性および特
性について表４に示す。

【０２０６】［比較例１０］水酸化カルシウムのＮＭＰ
スラリーを重合系に添加して、ｐＨ３．８となるように
調整して、さらに前もって分散させておいた平均粒径１
０ｎｍのシリカを添加して製膜原液とした以外は、実施
例１２と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。
得られたフィルム中に中和剤残渣と考えられる粒子は見
出せなかった。その他のフィルム物性および特性につい
て表４に示す。

【０２０７】

【表３】

【０２０８】

【表４】

【０２０９】上記表３および表４中、ハロゲン検出、摩
擦係数、ピン削れ、Ｃ／Ｎ、走行耐久性および湿熱安定
性は以下の方法により測定され且つ定義される。

【０２１０】（１２）フィルム表面のハロゲンイオン検
出 １０ｍｍ×１０ｍｍにサンプリングした該フィルムにつ
いて、Ｘ線光電子分光装置（ＶＧ社製、ＥＳＣＡＬＡＢ
−２００）により、励起Ｘ線はＭｇ−Ｋα線を用いて測
定した。得られたスペクトルから、ハロゲンイオン（Ｆ
^-、Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、Ｉ^-）の検出の有無により、次の基準
により判定した。 ハロゲンイオンが検出されない ○ ハロゲンイオンが検出される × ハロゲンイオン検出は、例えばＣｌ^-イオンの場合は、
２ｐ軌道由来のピークが結合エネルギー２０３ｅＶ未満
の場所に現れた場合にＣｌ^-イオンが存在するとみな
す。なお、遊離のＣｌ^-イオンでない共有結合性のＣｌ
原子由来のピークは、２０３〜２０５ｅＶ近辺に現れる
ので区別する。

【０２１１】（１３）摩擦係数 ＡＳＴＭ Ｄ１８９４−６３に準じ、スリッパリー測定
器（東洋テスター製）を用い、硝子板をスレッド板と
し、荷重１ｋｇで静摩擦係数（μs）を測定した。得ら
れた値を以下の基準で評価した。

【０２１２】（１４）耐削れ性（ピン削れ） 図１に示した装置を用いて下記のようにして測定した。
図１中、１は巻出しリール、２はテンションコントロー
ラ、３、５、６、８、９および１１はフリーローラ、４
はテンション検出機（入口）、７はステンレス鋼ＳＵＳ
３０４製の固定ピン（外径５ｍｍφ、表面粗さＲａ＝２
０ｎｍ）、１０はテンション検出機（出口）、１２はガ
イドローラ、１３は巻取りリールをそれぞれ示す。

【０２１３】温度２０℃、湿度６０％ＲＨの環境で、巾
１／２インチに裁断したフィルムを７の固定ピンにθ＝
（９０／１８０）πラジアン（９０°）で接触させて、
２ｍ／分の速度で１００ｍ走行させ（入口テンションは
４０ｇ一定とする）、次の基準により判定した。 ピンに削れ粉が付いていない ◎ ピンに削れ粉がわずかに付着 ○ ピンに削れ粉が多量に付着 ×

【０２１４】（１５）電磁変換特性 該フィルム表面に、真空蒸着法によりコバルト１００％
の強磁性薄膜を０．０２μｍの厚みになるように２層
（各層厚み約０．０１μm）形成し、その表面にダイア
モンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、さらに含フッ素カ
ルボン酸系潤滑層を順次設け、磁性層の反対側の表面に
公知方法でバックコート層を設けた。その後、８ｍｍ巾
にスリットし、市販の８ｍｍビデオカセットにローディ
ングした。次いで、以下の市販の機器を用いてテープの
特性を測定した。 ・使用機器： ８ｍｍビデオテープレコーダー：ソニー(株)製、ＥＤＶ
−６０００ Ｃ／Ｎ測定：シバソク(株)製、ノイズメーター （ａ）Ｃ／Ｎ測定 記録波長０．５μｍ（周波数約７．４Ｍｈｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４Ｍｈｚと７．４Ｍｈｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、相対値にて評価し、
下記の基準で評価した。 基準＋５ｄＢより大 ◎ 基準＋５ｄＢ〜基準＋１ｄＢ ○ 基準＋１ｄＢ未満 × （ｂ）走行耐久性 温度５５℃、湿度７５％ＲＨの高温高湿条件下でテープ
を継続再生走行させ、再生画像を観察し、画像の揺れの
有無で判定した。 画像の揺れ無し ○ 画像の揺れ有り ×

【０２１５】（１６）湿熱安定性 温度６０℃、湿度８０％ＲＨの高温高湿条件下にテープ
を９０時間放置した後、目視観察による蒸着表面の腐食
の有無、および光学顕微鏡観察による蒸着表面の腐食に
起因する欠点の個数のカウントによって、以下の基準で
評価した。

【０２１６】［実施例２３］パラフェニレンジアミン２
５モル％と、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル２
５モル％をアミン成分とし、テレフタル酸クロライド５
０モル％を酸成分としてＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリド
ン）中で重合した。一方、平均粒径８，０００ｎｍの水
酸化カルシウム(井上石灰製)を、ホモジナイザーでＮＭ
Ｐ中に分散し、サンドグラインダーで平均粒径２，３０
０ｎｍとなるように細粉化した後、フィルター（日本ポ
ール製、ＨＤＣII、目開き５０μｍ）で濾過して、平均
粒径１，５００ｎｍの水酸化カルシウムのＮＭＰスラリ
ーを作成した。このスラリーを上記の重合物に、テレフ
タル酸クロライド５０モル％に対し水酸化カルシウムが
５０．３モル％となるように添加し、製膜原液とした。
この製膜原液のｐＨは４．７であった。また、ポリマー
の対数粘度は３．５であった。

【０２１７】得られた製膜原液を１００℃に加熱し、１
００℃の口金から、１００℃の金属ベルト上に流延し、
１００℃で２分間乾燥後、１２０℃、１５０℃と段階的
に温度を上げ、合計で１０分間乾燥させて自己保持性を
持つ未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを連続
的にベルトから剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩
とを行い、その後、１５０℃で１５分間乾燥した。

【０２１８】得られた未延伸フィルムを低速、高速のロ
ール間でフィルム温度３５０℃で２．５倍に延伸し、続
いてステンターに供給して、４００℃で３．０倍に延伸
し，得られた二軸延伸フィルムを４００℃で１分間熱処
理し、室温まで冷却後、下記の塗工液［Ｉ］をロールコ
ーターを用いて塗工液の状態で１．０ｇ／ｍ²の塗布量
（乾燥後塗膜厚み１０ｎｍ）にて塗布し、２１０℃の熱
風乾燥素で３０秒間乾燥し、最終厚み４．０μｍの易接
着性二軸延伸芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られ
たフィルム中での中和剤残渣の平均粒径は３００ｎｍで
あった。その他のフィルム物性および特性について表７
に示す。

【０２１９】塗工液［Ｉ］は、次のように調整した。 ＜共重合ポリエステル樹脂Ａの製造＞ ２，６−ナフタレンジカルホン酸ジメチル ９０重量部 イソフタル酸ジメチル ６重量部 ５−ナトリウムスルホイソフタル酸 ４重量部 エチレングリコール ７０重量部 ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物 （下記構造式で示される） ３０重量部 をエステル交換反応器に仕込み，これに テトラブトキシチタン ０．０５重量部 を添加して窒素雰囲気下で温度を２３０℃にコントロー
ルして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステ
ル交換反応を行う。

【０２２０】

【化１９】

【０２２１】次いで、この反応系に、イルガノックス１
０１０（チバガイギー社製）０．６重量部を添加した
後、温度を徐々に２５５℃まで上昇させ、系内を１ｍｍ
Ｈｇの減圧にして重縮合反応を行い、固有粘度（ｏｃ
ｐ）０．６４の共重合ポリエステル樹脂Ａを得る。この
共重合ポリエステル樹脂Ａの組成を表５に示す。

【０２２２】＜ポリエステル水分散体ａの調製＞この共
重合ポリエステル樹脂Ａの２０重量部をテトラヒドロフ
ラン８０重量部に溶解し、得られた溶液に１０，０００
回転／分の高速攪拌下で水１８０重量部を摘下して青み
がかった乳白色の分散体を得る。次いでこの分散体を２
０ｍｍＨｇの減圧下で蒸留し、テトラヒドロフランを留
去した。かくして固形分濃度１０重量％のポリエステル
水分散体ａを得る。

【０２２３】＜被膜層用塗工液［Ｉ］の調製＞かくして
得られたポリエステル水分散体ａの９０重量部に対し、
界面活性剤として、ポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテルの１０重量％水溶液の１０重量部からなる水分
散組成物を水にて希釈し、被膜層用水系塗工液［Ｉ］
（固形分濃度：１．０重量％）を作成する。表６に組成
を示した。なお、以下の実施例および比較例で用いる塗
工液［ＩＩ］〜［ＶＩ］も下記のように調整した。

【０２２４】＜被膜層用塗工液［ＩＩ］〜［ＶＩ］の調
製＞共重合組成を表５の通りにした以外は、上記と同様
の手順にて共重合ポリエステルＢ〜Ｆを製造し、上記と
同様の手順にて対応する水分散体ｂ〜ｆを得る。これら
の水分散体を用いて、表６に示した処方にて被膜層用塗
工液［ＩＩ］〜［ＶＩ］を作成する。

【０２２５】

【表５】

【０２２６】

【表６】

【０２２７】［実施例２４]実施例２のフィルムについ
て実施例２３と同様に実施した。得られたフィルム中で
の中和剤残渣の粒径分布は５００ｎｍおよび１８０ｎｍ
に極大を持つものであった。その他のフィルム物性およ
び特性について、表７に示す。

【０２２８】［実施例２５］実施例２３と同じ中和剤の
水酸化カルシウムを、サンドグラインダーで平均粒径
２，０００ｎｍとなるように細粉化した後、フィルター
（日本ポール製，ＨＤＣＩＩ；目開き２０μ）で濾過し
て、平均粒径６００ｎｍの水酸化カルシウムのＮＭＰス
ラリーを作成した。このスラリーを上記の重合物に、テ
レフタル酸ジクロライド５０モル％に対し水酸化カルシ
ウムが５０．４モル％となるように添加し、製膜原液と
した（ｐＨは４．８、ポリマーの対数粘度は３．５であ
った）以外は、実施例２３と同様にして芳香族ポリアミ
ドフィルムを得た。得られたフィルム中での中和剤残渣
の平均粒径は１８０ｎｍであった。その他のフィルム物
性および特性について、表７に示す。

【０２２９】［実施例２６］実施例３のフィルムについ
て、実施例２３と同様に実施した。得られたフィルム中
での中和剤残渣の平均粒径は８００ｎｍであった。その
他のフィルム物性および特性について、表７に示す。

【０２３０】［実施例２７］実施例５のフィルムについ
て、実施例２３と同様に実施した。得られたフィルム中
での中和剤残渣の平均粒径は３００ｎｍであった。その
他のフィルム物性および特性について、表７示す。

【０２３１】［実施例２８］乾燥した未延伸フィルムの
延伸倍率を、長手方向に２．０倍、横方向に３．５倍と
した以外は、実施例２４と同様にして芳香族ポリアミド
フィルムを得た。フィルム物性および特性について、表
７に示す。

【０２３２】［実施例２９］乾燥した未延伸フィルムの
延伸倍率を、長手方向に２．８倍、横方向に２．８倍と
した以外は、実施例２４と同様にして芳香族ポリアミド
フィルムを得た。フィルム物性および特性について、表
７に示す。

【０２３３】［実施例３０および３１］実施例３０、３
１については被覆用塗工液として［ＩＩ］、［ＩＩＩ］
を使用した以外は、実施例２４と同様にして芳香族ポリ
アミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につい
て、表７に示す。

【０２３４】［比較例１１］乾燥した未延伸フィルムを
延伸しない以外は、実施例２３と同様にして芳香族ポリ
アミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につい
て、表８に示す。延伸されていないこのフィルムは，表
面突起が少なく、易滑性、巻取り性に劣るものであり、
ヤング率も低いものであったため電磁変換特性にも劣る
ものであった。

【０２３５】［比較例１２］水酸化カルシウムのＮＭＰ
スラリーを重合系に添加した後に、ｐＨ３．８となるよ
うに調整して、製膜原液とした以外は、実施例２３と同
様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフ
ィルム中に中和剤残渣と考えられる粒子は見出せなかっ
た。その他のフィルム物性および特性について、表８に
示す。表面突起のないこのフィルムは、耐ブロッキング
性に劣るものであった。

【０２３６】［比較例１３］水酸化カルシウムとして、
平均粒径が１３，５００ｎｍのものを用い、サンドグラ
インダーでの細粉化を行わずにそのままＮＭＰスラリー
として、テレフタル酸ジクロライド５０モル％に対し水
酸化カルシウムが５０．３モル％となるように重合系中
に添加した以外は、実施例２３と同様にして芳香族ポリ
アミドフィルムを得た。得られたフィルム中の中和剤残
渣の平均粒径は２，２５０ｎｍであった。その他のフィ
ルム物性および特性について、表８に示す。このフィル
ムはフィルム中の粒子の粒径が本発明の範囲外であるた
め、耐削れ性が不足し、また表面の適度な平滑性も損な
われているため電磁変換特性にも劣るものであった。

【０２３７】［比較例１４〜１６］比較例１４〜１６に
ついては被覆用塗工液として［ＩＶ］〜［ＶＩ］を使用
した以外は、実施例２４に準じて芳香族ポリアミドフィ
ルムを得た。フィルム物性および特性について、表８に
示す。

【０２３８】

【表７】

【０２３９】

【表８】

【０２４０】なお、実施例２３〜３１および比較例１１
〜１６では下記物性値については下記方法により測定さ
れ且つ定義される。

【０２４１】（１７）易接層に添加したコロイド粒子の
平均粒径 走査型電子顕微鏡により用いたサイズに応じた倍率にて
各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置（日本レギユ
レーター製、ルーゼツクス５００）を用い、粒子の平均
粒径を算出する。

【０２４２】（１８）塗布厚 フイルムの小片をエポキシ樹脂（リファインテック
（株）製，エポマウント）中に包埋し、Ｒｅｉｃｈｅｒ
ｔ−Ｊｕｎｇ社製Ｍｉｃｒｏｔｏｍｅ２０５０を用いて
包埋樹脂ごと６０ｎｍ厚にスライスし、透過型電子顕微
鏡（日立製作所製Ｈ−８００型）にて観察し、被覆層Ｃ
の境界面を捜して被覆の層の厚みを求める。

【０２４３】（１９）突起頻度 前記（５）の方法、および下記の方法（これを（１９）
の方法とする）：光学顕微鏡を用いて、該フィルムの表
面写真を倍率５０倍にてランダムに２５枚撮影し、表面
突起頻度をカウントし、その平均値より１ｍｍ²あたり
の突起数に換算する。この二つの方法を対象に応じて使
い分ける。各例に対して使用した方法は、表７、表８に
示す。

【０２４４】（２０）表面粗さ（ＷＲａ、ＷＲｚ） ＷＹＫＯ社製非接触式三次元粗さ計（ＴＯＰＯ−３Ｄ）
を用いて測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×２３９
μｍ（０．０５８ｍｍ２）の条件にて、測定数（ｎ）１
０以上で測定を行ない、該粗さ計の内臓された表面解析
ソフトにより、中心面平均粗さ（ＷＲａ）、および１０
点平均粗さ（ＷＲｚ）を求める。

【０２４５】ａ）中心面平均粗さ（ＷＲａ）

【０２４６】

【数９】

【０２４７】Ｚｊｋは測定方向（２４２μｍ）、それと
直交する方向（２３９μｍ）をそれぞれＭ分割、分割し
たときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置における２次元
粗さチャート上の高さである。

【０２４８】ｂ）１０点平均粗さ（ＷＲｚ） ピーク（Ｈ_P）の高い方から５点と、谷（Ｈ_V）の低い方
から５点をとり、その平均粗さをＷＲｚとする。

【０２４９】

【数１０】

【０２５０】（２１）耐削れ性（カレンダー） ３段のミニスーパーカレンダー（ナイロンロール×スチ
ールロール）を使用して評価した。処理温度８０度、線
圧２００ｋｇ／ｃｍで、該フィルムを速度５０ｍ／分で
２，０００ｍ走行させる。カレンダーのナイロンロール
に付着する汚れにより、次の基準により判定する。 ナイロンロールの汚れ全くなし ◎ ナイロンロールがわずかに汚れる ○ ナイロンロールが非常に汚れる ×

【０２５１】 （２２）磁性層（ＭＡＧ）の接着性（プライマー被覆処
理した）該フイルムに下記の磁気塗料を所定の条件にお
いてコーティングし、スコッチテープＮｏ．６００（３
Ｍ社製）幅１９．４ｍｍ，長さ８ｃｍを気泡のはいらな
いように貼着し、この上をＪＩＳ Ｃ２７０１（１９７
５）記載の手動式荷重ロールでならし、貼着積層部５ｃ
ｍ間を東洋ボールドウイン社製テンシロンＵＭ−１１を
使用してへッド速度３００ｍｍ／分でこの試料をＴ字剥
離し、この際の剥離強さを求め、これをテープ幅で除し
てｇ／ｃｍとして求める。なおＴ型剥離において積層体
はテープ側を下にして引取り、チヤツク間を５ｃｍとす
る。

【０２５２】 評価用磁気塗料の調製； ニトロセルローズ（イソプロパノール２５％含有フレークス）（ダイセル（株） 製，ＲＳ１／２）４０重量％溶液（塗料用ラッカーシンナー） ４３．９重量部 ポリエステル樹脂（バイエル社製，デスモフェン＃１７００） ３２．５重量部 二酸化クロム磁性粉末 ２６．０重量部 分散剤・湿潤剤として 大豆油脂肪酸（理研ビタミン（株）製，レシオンＰ） １重量部 カチオン系活性剤（カチオンＡＢ＝日本油脂（株）製） ０．５重量部 スクワレン（鮫肝油） ０．８重量部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン／トルエン混合溶液（３／４／３（重量 比）） ２８２重量部 をボールミルに投入、混合し、十分微粉化して母液塗料
（濃度４５重量％）を調製する。

【０２５３】この母液５０重量部に対し、トリメチロー
ルプロパン／トルレインジイソシアナートの付加反応物
（日本ポリウレタン工業（株）製，コロネートＬ）４８
重量部、酢酸ブチル６．２５重量部を加え、最終的に濃
度４２．７重量％の評価用磁気塗料を得る。

【０２５４】なお、評価は剥離強度から下記の基準で行
う。 ４０ｇ／ｃｍ以上 ○ ３０ｇ／ｃｍ〜４０ｇ／ｃｍ △ ３０ｇ／ｃｍ未満 ×

【０２５５】（２３）湿熱ブロッキング ２枚のフイルムの処理面と被処理面を重ね合わせ、これ
に６ｋｇ／ｃｍ²の圧力を６０℃×８０％ＲＨの雰囲気
下１７時間かけた後剥離し、その剥離力（ｇ／５ｃｍ
幅）で評価する。なお、評価は剥離力から下記の基準で
行う。 １０ｇ／５ｃｍ未満 ○ １０ｇ／５ｃｍ〜１５ｇ／５ｃｍ △ １５ｇ／５ｃｍ以上〜破れ ×

【０２５６】［実施例３２]パラフェニレンジアミン２
５モル％と、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル２
５モル％をアミン成分とし、テレフタル酸クロライド５
０モル％を酸成分としてＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリド
ン）中で重合した。一方、平均粒径８，０００ｎｍの水
酸化カルシウム(井上石灰製)を、ホモジナイザーでＮＭ
Ｐ中に分散し、サンドグラインダーで平均粒径２，３０
０ｎｍとなるように細粉化した後、フィルター（日本ポ
ール製、ＨＤＣII、目開き５０μｍ）で濾過して、平均
粒径１，５００ｎｍの水酸化カルシウムのＮＭＰスラリ
ーを作成した。このスラリーを上記の重合物に、テレフ
タル酸クロライド５０モル％に対し水酸化カルシウムが
５０．３モル％となるように添加し、製膜原液とした。
この製膜原液のｐＨは４．７であった。また、ポリマー
の対数粘度は３．５であった。

【０２５７】得られた製膜原液を１００℃に加熱し、１
００℃の口金から、１００℃の金属ベルト上に流延し、
１００℃で２分間乾燥後、１２０℃、１５０℃と段階的
に温度を上げ、合計で１０分間乾燥させて自己保持性を
持つ未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを連続
的にベルトから剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩
とを行い、その後、１５０℃で１５分間乾燥した。

【０２５８】得られた未延伸フィルムを低速、高速のロ
ール間でフィルム温度３５０℃で２．５倍に延伸し、続
いてステンターに供給して、４００℃で３．０倍に延伸
し、得られた二軸延伸フィルムを４００℃で１分間熱処
理し、室温まで冷却後、下記の塗工液［ＶＩＩ］をロー
ルコーターを用いて塗工液の状態で１．０ｇ／ｍ２の塗
布量にて塗布し、２１０℃の熱風乾燥機で３０秒間乾燥
し、最終厚み４．０μｍの易接着性二軸配向芳香族ポリ
アミドフィルムを得た。

【０２５９】得られたフィルム中での中和剤残渣の平均
粒径は３００ｎｍであった。その他のフィルム物性およ
び特性について表１０に示す。

【０２６０】塗工液［ＶＩＩ］は次のようにして調整し
た。前記ポリエステル水分散体ａの１００重量部に対
し、平均粒径２０ｎｍの架橋アクリル粒子の１０重量％
水分散体の３．５重量部、および界面活性剤として、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルの１０重量％
水溶液の１１．５重量部からなる水分散組成物を、水に
て希釈し、被膜層用水系塗工液［ＶＩＩ］（固形分濃
度：１．０重量％）を作成する。

【０２６１】なお以下の実施例および比較例で用いる塗
工液［ＶＩＩＩ］〜［ＸＶＩＩＩ］も以下の様にして調
整した。 ＜被膜層用塗工液［ＶＩＩＩ］〜［ＸＶＩＩＩ］の調製
＞前記表５に記載した共重合ポリエステルＢ〜Ｆを用い
て、上記と同様の手順にて対応する水分散体ｂ〜ｆを
得、表９に示した処方にて被膜層用塗工液［ＶＩＩＩ］
〜［ＸＶＩＩＩ］を作成する。

【０２６２】

【表９】

【０２６３】［実施例３３］実施例２のフィルムについ
て実施例３２と同様に実施した。得られたフィルム中で
の中和剤残渣の粒径分布は５００ｎｍおよび１８０ｎｍ
に極大を持つものであった。その他のフィルム物性およ
び特性について、表１０に示す。

【０２６４】［実施例３４］実施例４のフィルムについ
て実施例３２と同様に実施した。得られたフィルム中で
の中和剤残渣の平均粒径は１８０ｎｍであった。その他
のフィルム物性および特性について、表１０に示す。

【０２６５】［実施例３５］実施例３のフィルムについ
て実施例３２と同様に実施した。得られたフィルム中で
の中和剤残渣の平均粒径は８００ｎｍであった。その他
のフィルム物性および特性について、表１０に示す。

【０２６６】［実施例３６］実施例５のフィルムについ
て実施例３２と同様に実施した。得られたフィルム中で
の中和剤残渣の平均粒径は３００ｎｍであった。その他
のフィルム物性および特性について、表１０に示す。

【０２６７】［実施例３７］乾燥した未延伸フィルムの
延伸倍率を、長手方向に２．０倍、横方向に３．５倍と
した以外は、実施例３３と同様にして芳香族ポリアミド
フィルムを得た。フィルム物性および特性について、表
１０に示す。

【０２６８】［実施例３８］乾燥した未延伸フィルムの
延伸倍率を、長手方向に２．８倍、横方向に２．８倍と
した以外は、実施例３３と同様にして芳香族ポリアミド
フィルムを得た。フィルム物性および特性について、表
１０に示す。

【０２６９】［実施例３９］中和剤を、炭酸カルシウム
に変えた以外は、実施例３３と同様にして芳香族ポリア
ミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につい
て、表１０に示す。

【０２７０】［実施例４０］中和剤を、水酸化マグネシ
ウムに変えた以外は、実施例３３と同様にして芳香族ポ
リアミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につ
いて、表１０に示す。

【０２７１】［実施例４１］アミン成分（計５０モル
％）のモル比を、パラフェニレンジアミン３７．５モル
％と、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル１２．５
モル％とした以外は、実施例３３と同様にして芳香族ポ
リアミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につ
いて、表１０に示す。

【０２７２】［実施例４２］アミン成分（計５０モル
％）のモル比を、パラフェニレンジアミン１２．５モル
％と、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル３７．５
モル％とした以外は，実施例３３と同様にして芳香族ポ
リアミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につ
いて、表１１に示す。

【０２７３】［実施例４３および４４］実施例４３、４
４については被覆用塗工液として［ＸＶ］、［ＸＶＩ］
を使用した以外は、実施例３３と同様にして芳香族ポリ
アミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につい
て、表１１に示す。

【０２７４】［実施例４５］被覆用塗工液として［Ｖ
Ｉ］を使用し、２．０ｇ／ｍ²の塗布量にて塗布した以
外は、実施例３３と同様にして芳香族ポリアミドフィル
ムを得た。フィルム物性および特性について、表１１に
示す。

【０２７５】［実施例４６〜４９］実施例４６〜４９に
ついては被覆用塗工液として［ＸＩ］〜［ＸＩＩ］を使
用した以外は、実施例３３と同様にして芳香族ポリアミ
ドフィルムを得た。フィルム物性および特性について、
表１１に示す。

【０２７６】［比較例１７］乾燥した未延伸フィルムを
延伸しない以外は、実施例３２と同様にして芳香族ポリ
アミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につい
て、表１２に示す。延伸されていないこのフィルムは、
フィルム内粒子に起因する表面突起が少なく、易滑性、
巻取り性に劣るものであり、ヤング率も低いものであっ
たため電磁変換特性にも劣るものであった。

【０２７７】［比較例１８］水酸化カルシウムのＮＭＰ
スラリーを重合系に添加した後に、ｐＨ３．８となるよ
うに調整して、製膜原液とした以外は、実施例３２と同
様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフ
ィルム中に中和剤残渣と考えられる粒子は見出せなかっ
た。その他のフィルム物性および特性について、表１２
に示す。フィルム内粒子に起因する表面突起のないこの
フィルムは、易滑性、巻取り性に劣るものであった。

【０２７８】［比較例１９］中和剤のＮＭＰスラリーを
重合系に添加せずに製膜原液（ｐＨは２．３であった）
とした以外は、実施例３２と同様にして芳香族ポリアミ
ドフィルムを得た。得られたフィルム中に中和剤残渣と
考えられる粒子は見出せなかった。その他のフィルム物
性および特性について、表１２に示す。表面突起のない
このフィルムは、易滑性、巻取り性に劣るものであっ
た。

【０２７９】［比較例２０］水酸化カルシウムのＮＭＰ
スラリーを重合系に添加した後に、ｐＨ３．８となるよ
うに調整して、さらに前もって分散させておいた平均粒
径１０ｎｍのシリカを添加して製膜原液とした以外は、
実施例３２と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得
た。得られたフィルム中に中和剤残渣と考えられる粒子
は見出せなかった。その他のフィルム物性および特性に
ついて、表１２に示す。外部添加の粒子はポリマーとの
親和性に不足し、凝集するため、得られたフィルムは耐
削れ性に劣るものであった。また粒子凝集物に起因する
粗大突起により表面の適度な平滑性も損なわれているた
め電磁変換特性にも劣るものであった。

【０２８０】［比較例２１］水酸化カルシウムのＮＭＰ
スラリーを重合系に添加した後に，ｐＨ３．８となるよ
うに調整して、さらに前もって分散させておいた平均粒
径４３０ｎｍのシリカを添加して製膜原液とした以外
は，実施例３２と同様にして芳香族ポリアミドフィルム
を得た。得られたフィルム中に中和剤残渣と考えられる
粒子は見出せなかった。その他のフィルム物性および特
性について，表１２に示す。外部添加の粒子はポリマー
との親和性に不足し，凝集するため，得られたフィルム
は耐削れ性に劣るものであった。また粒子凝集物に起因
する粗大突起により表面の適度な平滑性も損なわれてい
るため電磁変換特性にも劣るものであった。

【０２８１】［比較例２２〜２４］比較例２２〜２４に
ついては被覆用塗工液として［ＸＶＩＩ］〜［ＸＩＸ］
を使用した以外は、実施例３３に準じて芳香族ポリアミ
ドフィルムを得た。フィルム物性および特性について、
表１２、および表１３に示す。

【０２８２】［比較例２５，２６］比較例２５、２６に
ついては被覆用塗工液として［ＸＩＩＩ］、［ＸＩＶ］
を使用した以外は，実施例３３と同様にして芳香族ポリ
アミドフィルムを得た。フィルム物性および特性につい
て、表１３に示す。

【０２８３】

【表１０】

【０２８４】

【表１１】

【０２８５】

【表１２】

【０２８６】

【表１３】

【０２８７】なお、実施例３２〜４９および比較例１７
〜２６では、下記物性値については、下記方式により測
定され且つ定義される。（１７）、（１８）、（１
９）、（２０）、（２２）は上記と同じ。

【０２８８】（２４）コロイド粒子の凝集 易接着性芳香族ポリアミドフイルムの塗布面を走査型電
子顕微鏡により倍率５万倍で２０枚撮影し、易接着層の
フィラーの１０個以上の凝集個数をカウントし１０μｍ
²当りの個数として算出する。そして評価は下記基準で
行う。 １０個／１０μｍ²未満 ○ １０個／１０μｍ²〜３０個／１０μｍ² △ ３０個／１０μｍ²以上 ×

【０２８９】（２５）耐削れ性（カレンダー） ５段のミニスーパーカレンダー（スチールロール×スチ
ールロール）を使用して評価した。処理温度８０℃、線
圧２００ｋｇ／ｃｍで、該フィルムを速度５０ｍ／分で
２，０００ｍ走行させた。カレンダーのトップロールに
付着する汚れにより、次の基準により判定する。 トップロールの汚れ全くなし ◎ トップロールがわずかに汚れる ○ トップロールが非常に汚れる ×

【０２９０】（２６）高圧湿熱ブロッキング ２枚のフイルムの処理面と被処理面を重ね合わせ、これ
に１５０ｋｇ／ｃｍ²の圧力を６０℃×８０％ＲＨの雰
囲気下６５時間かけた後剥離し、その剥離力（ｇ／５ｃ
ｍ幅）で評価する。なお、評価は剥離力から下記の基準
で行う。 １０ｇ／５ｃｍ未満 ○ １０ｇ／５ｃｍ〜１５ｇ／５ｃｍ △ １５ｇ／５ｃｍ以上〜破れ ×

【０２９１】

【発明の効果】本発明によれば、強度、易滑性、巻取り
性などのハンドリング性に優れるとともに、高い耐削れ
性を示す磁気記録媒体用二軸配向全芳香族ポリアミドフ
ィルムを提供することができる。また、本発明のフィル
ムは重合工程中の中和剤の残渣粒子をそのままフィルム
の表面突起形成材料として用い二軸延伸加工を行なうの
で、生産性が高く、内部粒子による突起生成効果も高い
ものが提供できる。更に、該フィルムをベースフィルム
とする良好な電磁変換特性を有し高密度記録に適した磁
気記録媒体を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】フィルムの耐削れ性を測定する装置の概略図で
ある。

【符号の説明】

１：巻出しリール ２：テンションコントローラ ３、５、６、８、９、１１：フリーローラ ４：テンション検出機（入口） ７：ステンレス鋼ＳＵＳ３０４製の固定棒 （外径５ｍｍφ、表面粗さＲａ：２０ｎｍ） １０：テンション検出機（出口） １２：ガイドローラ １３：巻取りリール

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ // Ｂ２９Ｃ 55/12 Ｂ２９Ｃ 55/12 Ｂ２９Ｋ 77:00 105:16 Ｂ２９Ｌ 7:00 (31)優先権主張番号 特願平10−68615 (32)優先日 平10(1998)３月18日 (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平10−68616 (32)優先日 平10(1998)３月18日 (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (72)発明者 冨田 博史 神奈川県相模原市小山３丁目37番19号 帝 人株式会社相模原研究センター内 (72)発明者 鈴木 賢司 神奈川県相模原市小山３丁目37番19号 帝 人株式会社相模原研究センター内

Claims (24)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 酸クロライド法により製造された全芳香
   族ポリアミドからなる二軸配向フィルムであって、平均
   粒径が５〜２，０００ｎｍの範囲にありそして周期律表
   Ｉａ族またはＩＩａ族の金属の水酸化物、炭酸塩および
   重炭酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の無機
   粒子を含有し、ここで該無機粒子は酸クロライド反応に
   より副生される塩化水素を中和するために反応系中に添
   加された中和剤としての無機粒子に由来し、そしてその
   含有量は該塩化水素を化学量論的に中和するに必要な量
   を超えて反応系中に添加された過剰量に相当することを
   特徴とする二軸配向フィルム。
2. 【請求項２】 全芳香族ポリアミドが下記式（１）〜
   （４） 【化１】 （―ＣＯ―Ａｒ¹―ＣＯＮＨ―Ａｒ²―ＮＨ―）_k （１） （ここで、Ａｒ¹およびＡｒ²は、独立に、下記化学式 【化２】 （ここでｐは０〜４の整数であり、そしてｑは０〜６の
   整数であり、そしてＲはハロゲン、ニトロ基、シアノ
   基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコ
   キシル基およびトリアルキルシリル基よりなる群から選
   ばれる）よりなる群から選ばれ、そしてｋは０または正
   の数である） 【化３】 （―ＣＯ―Ａｒ³―ＣＯＮＨ―Ａｒ⁴―Ｙ¹―Ａｒ⁵―ＮＨ―）_l （２） （ここで、Ａｒ³、Ａｒ⁴およびＡｒ⁵は、独立に、上記
   Ａｒ¹、Ａｒ²と同じ基から選ばれ、Ｙ¹は―Ｏ―、―Ｃ
   Ｈ₂―、―Ｃ（ＣＨ₃）₂―、―ＳＯ₂―、―Ｓ―および―
   ＣＯ―よりなる群から選ばれ、そしてｌは０または正の
   数である） 【化４】 （―ＣＯ―Ａｒ⁶―ＮＨ―）_m （３） （ここで、Ａｒ⁶は上記Ａｒ¹、Ａｒ²と同じ基から選ば
   れ、そしてｍは０または正の数である） 【化５】 （―ＣＯ―Ａｒ⁷―Ｙ²―Ａｒ⁸―ＮＨ―）_n （４） （ここで、Ａｒ⁷およびＡｒ⁸は、独立に、上記Ａｒ¹、
   Ａｒ²と同じ基から選ばれ、Ｙ²は上記Ｙ¹と同じ基から
   選ばれ、そしてｎは０または正の数である）で表わされ
   る繰返し単位よりなる群から選ばれる少なくとも１種の
   繰返し単位からなる（但し上記式（１）および（２）の
   少なくともいずれか一方を必ず含むものとする）請求項
   １の二軸配向フィルム。
3. 【請求項３】 前記式（１）〜（４）で表わされる繰返
   し単位よりなる群から選ばれる少なくとも１種の繰返し
   単位からなり、そしてＡｒ¹〜Ａｒ⁸よりなる群から選ば
   れる少なくとも１種の芳香族基の５０〜９９．５％がパ
   ラ配向性で主鎖を形成している請求項２の二軸配向フィ
   ルム。
4. 【請求項４】 全芳香族ポリアミドが、上記式（１）で
   表わされる繰返し単位と上記式（２）で表わされる繰返
   し単位からなる請求項２の二軸配向フィルム。
5. 【請求項５】 上記式（１）において、Ａｒ¹およびＡ
   ｒ²がいずれもｐ―フェニレン基であり、そして上記式
   （２）においてＡｒ³がｐ―フェニレン基であり、―Ａ
   ｒ⁴―Ｙ¹―Ａｒ⁵―が 【化６】 である請求項４の二軸配向フィルム。
6. 【請求項６】 平均粒径５〜２，０００ｎｍの範囲の無
   機粒子が全芳香族ポリアミド１００重量部当り０．００
   １〜１０重量部で含有される請求項１の二軸配向フィル
   ム。
7. 【請求項７】 平均粒径５〜２，０００ｎｍの範囲の無
   機粒子に由来する、フィルム表面の突起が１×１０¹〜
   １×１０⁸ケ／ｍｍ²の密度で存在する請求項１の二軸配
   向フィルム。
8. 【請求項８】 全芳香族ポリアミドが、濃硫酸中３０℃
   で測定した対数粘度が少なくとも０．５ｄｌ／ｇである
   請求項１の二軸配向フィルム。
9. 【請求項９】 フィルム面上にヤング率の和が少なくと
   も２，０００ｋｇ／ｍｍ²である直交する二方向が存在
   する請求項１の二軸配向フィルム。
10. 【請求項１０】 直交する二方向の少なくとも一方向の
    ヤング率が、少なくとも６００ｋｇ／ｍｍ²である請求
    項１の二軸配向フィルム。
11. 【請求項１１】 無機粒子の平均粒径が８０〜１，００
    ０ｎｍの範囲にあり、該無機粒子に由来するフィルム表
    面の突起が１×１０¹〜１×１０⁵ケ／ｍｍ²の密度で存
    在し、そしてフィルム面上にヤング率の和が少なくとも
    ２，０００ｋｇ／ｍｍ²である直交する二方向が存在す
    る請求項１の二軸配向フィルム。
12. 【請求項１２】 フィルム面の一方向のたわみ剛度が
    ３．０〜９．５ｍｇ・ｍｍの範囲にある請求項１１の二
    軸配向フィルム。
13. 【請求項１３】 フィルム面の一方向の引張り破断強度
    が少なくとも３８ｋｇ／ｍｍ²である請求項１１の二軸
    配向フィルム。
14. 【請求項１４】 フィルム面の一方向の熱収縮率が１％
    未満である請求項１１の二軸配向フィルム。
15. 【請求項１５】 無機粒子の平均粒径が５〜１５０ｎｍ
    の範囲にあり、該無機粒子に由来するフィルム表面の突
    起が５×１０³〜１×１０⁸ケ／ｍｍ²の密度で存在し、
    そしてフィルム面上にヤング率の和が少なくとも２，０
    ００ｋｇ／ｍｍ²である直交する二方向が存在する請求
    項１の二軸配向フィルム。
16. 【請求項１６】 光電子分光法によりフィルム表面から
    イオン状態のハロゲン元素が検出されない請求項１５の
    二軸配向フィルム。
17. 【請求項１７】 ０．１〜２０μｍの厚みを持つ請求項
    １の二軸配向フィルム。
18. 【請求項１８】 請求項１１の二軸配向フィルムの少な
    くとも片面上に、芳香族ジカルボン酸成分が４０〜９９
    モル％の２，６―ナフタレンジカルボン酸、０．１〜５
    モル％のスルホン酸塩の基を持つ芳香族ジカルボン酸、
    および０〜５５モル％のその他の芳香族ジカルボン酸か
    らなり、そしてグリコール成分が、４０〜１００モル％
    のエチレングリコール、０〜６０モル％のビスフェノー
    ルＡの低級アルキレンオキサイド付加物および０〜１０
    モル％のその他のグリコールからなる水分散性共重合ポ
    リエステル樹脂を、バインダー成分とする塗布層が存在
    し、該塗布層の上記二軸配向フィルムと接触していない
    面の表面粗さＷＲａが０．５〜１０ｎｍの範囲にあり且
    つＷＲｚが５〜２００ｎｍの範囲にある、磁気記録媒体
    用ベースフィルム。
19. 【請求項１９】 上記塗布層が上記バインダー成分とと
    もに、平均粒径１０〜５０ｎｍの微粒子を上記バインダ
    ー成分に対し１〜５０重量％の割合で含有し且つ下記式 【数１】０．２≦ｔ／ｄ≦２．０ （ここで、ｔは塗布層の厚み（ｎｍ）、ｄは微粒子の平
    均粒径（ｎｍ）である）を満足する請求項１８の磁気記
    録媒体用ベースフィルム。
20. 【請求項２０】 磁気記録媒体用ベースフィルムである
    請求項１５の二軸配向フィルム。
21. 【請求項２１】 請求項１１の二軸配向フィルムおよび
    その一方の面上の塗布型磁性層からなる、塗布型高密度
    磁気記録媒体。
22. 【請求項２２】 請求項１８の磁気記録媒体用ベースフ
    ィルム、およびその塗布層面上の塗布型磁性層からな
    る、塗布型高密度磁気記録媒体。
23. 【請求項２３】 請求項１５の二軸配向フィルムおよび
    その一方の面上の蒸着金属薄膜からなる、金属薄膜型高
    密度磁気記録媒体。
24. 【請求項２４】 請求項１５の二軸配向フィルムおよび
    その一方の面上の塗布型磁性層からなり、該塗布型磁性
    層は二軸配向フィルム面上に直接設けられた塗布型非磁
    性緩衝層とさらにその上に設けられた塗布型磁性層から
    なる、重層塗布型高密度磁気記録媒体。