JPH11326611A - 光拡散層、光学素子及び液晶表示装置 - Google Patents
光拡散層、光学素子及び液晶表示装置Info
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- JPH11326611A JPH11326611A JP10146509A JP14650998A JPH11326611A JP H11326611 A JPH11326611 A JP H11326611A JP 10146509 A JP10146509 A JP 10146509A JP 14650998 A JP14650998 A JP 14650998A JP H11326611 A JPH11326611 A JP H11326611A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ゴーストの防止機能を維持しつつ、ギラツキ
の防止性や防眩性にも優れる光拡散層、光学素子及び液
晶表示装置の開発。 【解決手段】 ６０度鏡面光沢度が１０〜７０％であ
り、中心線平均粗さが０．１〜０．３５μmで、平均山
谷間隔が１８〜６０μmの表面粗さの微細凹凸構造（１
１）を片面に有する紫外線硬化樹脂皮膜（１）からなる
光拡散層（１）、及び光学層の片面又は両面に前記の光
拡散層を有する光学素子、並びに液晶表示素子の視認側
に前記の光拡散層を有する液晶表示装置。
の防止性や防眩性にも優れる光拡散層、光学素子及び液
晶表示装置の開発。 【解決手段】 ６０度鏡面光沢度が１０〜７０％であ
り、中心線平均粗さが０．１〜０．３５μmで、平均山
谷間隔が１８〜６０μmの表面粗さの微細凹凸構造（１
１）を片面に有する紫外線硬化樹脂皮膜（１）からなる
光拡散層（１）、及び光学層の片面又は両面に前記の光
拡散層を有する光学素子、並びに液晶表示素子の視認側
に前記の光拡散層を有する液晶表示装置。
Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、ゴーストやギラツキの防
止性、ノングレア性に優れて視認性の良好な液晶表示装
置などを形成しうる光拡散層と光学素子に関する。
止性、ノングレア性に優れて視認性の良好な液晶表示装
置などを形成しうる光拡散層と光学素子に関する。
【０００２】
【背景技術】液晶表示装置等の表示装置では、その表面
に光拡散層を設けることが一般的である。かかる光拡散
層は、表面反射光を拡散するノングレア（防眩）層とし
て機能させて、蛍光灯や太陽光等の照明光やキーボーダ
ーなどの外部環境が画面上に映り込むゴースト現象で視
認性が阻害されることの防止などを目的とする。従来、
その光拡散層としては、サンドブラストや透明粒子の混
入などによる粗面化方式にて表面に微細凹凸構造を付与
したものが知られていた。
に光拡散層を設けることが一般的である。かかる光拡散
層は、表面反射光を拡散するノングレア（防眩）層とし
て機能させて、蛍光灯や太陽光等の照明光やキーボーダ
ーなどの外部環境が画面上に映り込むゴースト現象で視
認性が阻害されることの防止などを目的とする。従来、
その光拡散層としては、サンドブラストや透明粒子の混
入などによる粗面化方式にて表面に微細凹凸構造を付与
したものが知られていた。
【０００３】しかしながら、表示装置、特に液晶表示装
置の高精細化やカラー化などによる画素の小型化に伴っ
て、強い表示光の部分がランダムに発生するギラツキ
や、表示光の歪が顕著となり、視認性が著しく低下する
問題を発生するようになってきている。
置の高精細化やカラー化などによる画素の小型化に伴っ
て、強い表示光の部分がランダムに発生するギラツキ
や、表示光の歪が顕著となり、視認性が著しく低下する
問題を発生するようになってきている。
【０００４】
【発明の技術的課題】本発明は、ゴーストの防止機能を
維持しつつ、ギラツキの防止性や防眩性にも優れる光拡
散層、光学素子、及び液晶表示装置の開発を課題とす
る。
維持しつつ、ギラツキの防止性や防眩性にも優れる光拡
散層、光学素子、及び液晶表示装置の開発を課題とす
る。
【０００５】
【課題の解決手段】本発明は、６０度鏡面光沢度が１０
〜７０％であり、中心線平均粗さが０．１〜０．３５μ
mで、平均山谷間隔が１８〜６０μmの表面粗さの微細凹
凸構造を片面に有する紫外線硬化樹脂皮膜からなること
を特徴とする光拡散層、及び光学層の片面又は両面に前
記の光拡散層を有することを特徴とする光学素子、並び
に液晶表示素子の視認側に前記の光拡散層を有すること
を特徴とする液晶表示装置を提供するものである。
〜７０％であり、中心線平均粗さが０．１〜０．３５μ
mで、平均山谷間隔が１８〜６０μmの表面粗さの微細凹
凸構造を片面に有する紫外線硬化樹脂皮膜からなること
を特徴とする光拡散層、及び光学層の片面又は両面に前
記の光拡散層を有することを特徴とする光学素子、並び
に液晶表示素子の視認側に前記の光拡散層を有すること
を特徴とする液晶表示装置を提供するものである。
【０００６】
【発明の効果】本発明によれば、液晶表示装置等におけ
るゴーストの防止と共に、ギラツキも防止でき、防眩性
に優れる光拡散層や光学素子を得ることができ、視認性
に優れる表示装置を形成することができる。その理由
は、不明であるが、本発者らは上記の鏡面光沢度や表面
粗さ特性により、表示光の歪が抑制されることによるも
のと考えている。
るゴーストの防止と共に、ギラツキも防止でき、防眩性
に優れる光拡散層や光学素子を得ることができ、視認性
に優れる表示装置を形成することができる。その理由
は、不明であるが、本発者らは上記の鏡面光沢度や表面
粗さ特性により、表示光の歪が抑制されることによるも
のと考えている。
【０００７】すなわち上記した従来の光拡散層によるギ
ラツキ問題等は、画素の小型化でそのピッチが光拡散層
の凹凸構造との対応性が高まり、画素を通過した表示光
が光拡散層の凹凸構造にて屈折や拡散等の歪を受けやす
くなり、その歪で表示像の鮮明性が著しく低下したり、
表示光の強弱差が大きくなって強い表示光部分がランダ
ムに発生し、ギラツキ現象が生じるものと考えられる。
ラツキ問題等は、画素の小型化でそのピッチが光拡散層
の凹凸構造との対応性が高まり、画素を通過した表示光
が光拡散層の凹凸構造にて屈折や拡散等の歪を受けやす
くなり、その歪で表示像の鮮明性が著しく低下したり、
表示光の強弱差が大きくなって強い表示光部分がランダ
ムに発生し、ギラツキ現象が生じるものと考えられる。
【０００８】前記に対し本発明による光拡散層にては、
その表面特性や微細凹凸の構造特性等に基づいて、画素
を透過した表示光が歪を受けにくい結果、前記した良好
な光学特性が得られるものと思われるが、前記した表面
特性や微細凹凸の構造特性等と表示光の歪の関与機構は
不明である。
その表面特性や微細凹凸の構造特性等に基づいて、画素
を透過した表示光が歪を受けにくい結果、前記した良好
な光学特性が得られるものと思われるが、前記した表面
特性や微細凹凸の構造特性等と表示光の歪の関与機構は
不明である。
【０００９】
【発明の実施形態】本発明による光拡散層は、６０度鏡
面光沢度が１０〜７０％であり、中心線平均粗さが０．
１〜０．３５μmで、平均山谷間隔が１８〜６０μmの表
面粗さの微細凹凸構造を片面に有する紫外線硬化樹脂皮
膜からなる。
面光沢度が１０〜７０％であり、中心線平均粗さが０．
１〜０．３５μmで、平均山谷間隔が１８〜６０μmの表
面粗さの微細凹凸構造を片面に有する紫外線硬化樹脂皮
膜からなる。
【００１０】光拡散層の例を図１、図２に示した。１が
紫外線硬化樹脂皮膜からなる光拡散層、１１，１２が微
細凹凸構造面、２が透明基材であり、３は必要に応じて
の接着層である。図例の如く光拡散層１は、紫外線硬化
樹脂皮膜の単独層からなっていてもよいし、紫外線硬化
樹脂皮膜を透明基材２の片面又は両面の上に支持した光
拡散シートからなっていてもよい。
紫外線硬化樹脂皮膜からなる光拡散層、１１，１２が微
細凹凸構造面、２が透明基材であり、３は必要に応じて
の接着層である。図例の如く光拡散層１は、紫外線硬化
樹脂皮膜の単独層からなっていてもよいし、紫外線硬化
樹脂皮膜を透明基材２の片面又は両面の上に支持した光
拡散シートからなっていてもよい。
【００１１】樹脂皮膜を形成する紫外線硬化型樹脂とし
ては、例えばポリエステル系やアクリル系、ウレタン系
やアミド系、シリコーン系やエポキシ系等の樹脂を形成
しうるモノマーやオリゴマーやポリマーに紫外線重合開
始剤を配合して、紫外線照射による硬化処理で樹脂皮膜
を形成しうるようにしたものなどの適宜なものを用いう
る。
ては、例えばポリエステル系やアクリル系、ウレタン系
やアミド系、シリコーン系やエポキシ系等の樹脂を形成
しうるモノマーやオリゴマーやポリマーに紫外線重合開
始剤を配合して、紫外線照射による硬化処理で樹脂皮膜
を形成しうるようにしたものなどの適宜なものを用いう
る。
【００１２】好ましく用いうる紫外線硬化型樹脂は、例
えば紫外線重合性の官能基を３〜６個有するアクリル系
のモノマーやオリゴマーを成分とするものの如く、付設
対象に対する密着性や透明性、ハードコート性や透明粒
子を含有させる場合にはその分散性などに優れるもので
ある。
えば紫外線重合性の官能基を３〜６個有するアクリル系
のモノマーやオリゴマーを成分とするものの如く、付設
対象に対する密着性や透明性、ハードコート性や透明粒
子を含有させる場合にはその分散性などに優れるもので
ある。
【００１３】本発明による光拡散層は、図例の如く紫外
線硬化樹脂からなる皮膜の片面に、６０度鏡面光沢度が
１０〜７０％であり、中心線平均粗さが０．１〜０．３
５μmで、平均山谷間隔が１８〜６０μmの表面粗さの微
細凹凸構造を設けたものである。６０度鏡面光沢度や中
心線平均粗さや平均山谷間隔が前記範囲外では、ギラツ
キの防止性等に乏しくて、視認特性が低下しやすい。
線硬化樹脂からなる皮膜の片面に、６０度鏡面光沢度が
１０〜７０％であり、中心線平均粗さが０．１〜０．３
５μmで、平均山谷間隔が１８〜６０μmの表面粗さの微
細凹凸構造を設けたものである。６０度鏡面光沢度や中
心線平均粗さや平均山谷間隔が前記範囲外では、ギラツ
キの防止性等に乏しくて、視認特性が低下しやすい。
【００１４】片面に前記の微細凹凸構造を有する紫外線
硬化樹脂皮膜の形成は、例えば紫外線硬化型樹脂中に屈
折率相違の透明粒子を分散含有させてそれをドクターブ
レード法やグラビアロールコータ法等の適宜な方式で所
定面に塗工し、その塗工層を紫外線照射を介し硬化処理
して透明粒子による凹凸が反映した微細凹凸構造を形成
する方式、あるいは透明基材の表面をサンドブラストや
エンボスロール、エッチング等の適宜な方式で粗面化
し、その粗面化表面に紫外線硬化樹脂皮膜を塗工形成し
て皮膜表面に前記粗面化表面の凹凸を反映させて微細凹
凸構造を形成する方式などの適宜な方式にて行うことが
できる。
硬化樹脂皮膜の形成は、例えば紫外線硬化型樹脂中に屈
折率相違の透明粒子を分散含有させてそれをドクターブ
レード法やグラビアロールコータ法等の適宜な方式で所
定面に塗工し、その塗工層を紫外線照射を介し硬化処理
して透明粒子による凹凸が反映した微細凹凸構造を形成
する方式、あるいは透明基材の表面をサンドブラストや
エンボスロール、エッチング等の適宜な方式で粗面化
し、その粗面化表面に紫外線硬化樹脂皮膜を塗工形成し
て皮膜表面に前記粗面化表面の凹凸を反映させて微細凹
凸構造を形成する方式などの適宜な方式にて行うことが
できる。
【００１５】なお前記の透明粒子としては、例えばシリ
カやアルミナ、チタニアやジルコニア、酸化カルシウム
や酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミウム、酸化アン
チモン等の導電性のこともある無機系粒子、ポリメチル
メタクリレート（ＰＭＭＡ）やポリウレタン等の各種ポ
リマーからなる架橋又は未架橋の有機系粒子などの適宜
なものを用いうる。
カやアルミナ、チタニアやジルコニア、酸化カルシウム
や酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミウム、酸化アン
チモン等の導電性のこともある無機系粒子、ポリメチル
メタクリレート（ＰＭＭＡ）やポリウレタン等の各種ポ
リマーからなる架橋又は未架橋の有機系粒子などの適宜
なものを用いうる。
【００１６】好ましく用いうる透明粒子は、透明性に優
れて、紫外線硬化型樹脂中で硬化皮膜形成前には溶解し
ないものである。また上記した表面粗さ特性の形成など
の点より好ましく用いうる透明粒子は、平均粒径が３０
μm以下、就中０．１〜１５μm、特に０．５〜１０μm
のものである。
れて、紫外線硬化型樹脂中で硬化皮膜形成前には溶解し
ないものである。また上記した表面粗さ特性の形成など
の点より好ましく用いうる透明粒子は、平均粒径が３０
μm以下、就中０．１〜１５μm、特に０．５〜１０μm
のものである。
【００１７】一方、上記した紫外線硬化樹脂皮膜からな
る光拡散層を支持する透明基材としては、例えばポリエ
チレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの如
きポリエステル系ポリマー、二酢酸セルロースや三酢酸
セルロースの如きセルロース系ポリマー、ポリカーボネ
ート系ポリマーやＰＭＭＡの如きアクリル系ポリマー等
の透明ポリマーからなるフィルムがあげられる。
る光拡散層を支持する透明基材としては、例えばポリエ
チレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの如
きポリエステル系ポリマー、二酢酸セルロースや三酢酸
セルロースの如きセルロース系ポリマー、ポリカーボネ
ート系ポリマーやＰＭＭＡの如きアクリル系ポリマー等
の透明ポリマーからなるフィルムがあげられる。
【００１８】またポリスチレンやアクリロニトリル・ス
チレン共重合体（ＡＳ樹脂）の如きスチレン系ポリマ
ー、ポリエチレンやポリプロピレン、シクロ系ないしノ
ルボルネン構造を有するポリオレフィンやエチレン・プ
ロピレン共重合体の如きオレフィン系ポリマー、塩化ビ
ニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミドの如きア
ミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムもあ
げられる。
チレン共重合体（ＡＳ樹脂）の如きスチレン系ポリマ
ー、ポリエチレンやポリプロピレン、シクロ系ないしノ
ルボルネン構造を有するポリオレフィンやエチレン・プ
ロピレン共重合体の如きオレフィン系ポリマー、塩化ビ
ニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミドの如きア
ミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムもあ
げられる。
【００１９】さらにイミド系ポリマーやスルホン系ポリ
マー、ポリエーテルスルホン系ポリマーやポリエーテル
エーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド
系ポリマーやビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリ
デン系ポリマーやビニルブチラール系ポリマー、アリレ
ート系ポリマーやポリオキシメチレン系ポリマー、エポ
キシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポ
リマーからなるフィルムなどもあげられる。
マー、ポリエーテルスルホン系ポリマーやポリエーテル
エーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド
系ポリマーやビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリ
デン系ポリマーやビニルブチラール系ポリマー、アリレ
ート系ポリマーやポリオキシメチレン系ポリマー、エポ
キシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポ
リマーからなるフィルムなどもあげられる。
【００２０】就中、透明性に優れるポリマーからなり、
複屈折による位相差の可及的に小さいフィルムなどが好
ましく用いられる。透明基材の厚さは、適宜に決定しう
るが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの
点より１０〜５００μm、就中３０〜３００μm、特に５
０〜２００μmの厚さとされる。
複屈折による位相差の可及的に小さいフィルムなどが好
ましく用いられる。透明基材の厚さは、適宜に決定しう
るが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの
点より１０〜５００μm、就中３０〜３００μm、特に５
０〜２００μmの厚さとされる。
【００２１】ギラツキの防止等による鮮明画像の形成性
などの点より光拡散層における好ましい６０度鏡面光沢
度は、１５〜６５％、就中２０〜６０％、特に２５〜５
５％である。また前記等の点より好ましい中心線平均粗
さは、０．３３μm以下、就中０．１２〜０．３０μm、
特に０．１５〜２．５μmであり、平均山谷間隔は、２
０μm以上、就中２５〜５５μm、特に３０〜５０μmで
ある。山谷間隔は、可及的に一定であることが好まし
い。
などの点より光拡散層における好ましい６０度鏡面光沢
度は、１５〜６５％、就中２０〜６０％、特に２５〜５
５％である。また前記等の点より好ましい中心線平均粗
さは、０．３３μm以下、就中０．１２〜０．３０μm、
特に０．１５〜２．５μmであり、平均山谷間隔は、２
０μm以上、就中２５〜５５μm、特に３０〜５０μmで
ある。山谷間隔は、可及的に一定であることが好まし
い。
【００２２】光拡散層の厚さは、適宜に決定しうるが、
一般には上記した特性の微細凹凸構造の形成性などの点
より、５０μm以下、就中１〜３０μm、特に３〜１０μ
mとされる。なお図２に例示の如く、必要に応じて設け
る接着層３は、光学層等の他部材に接着することを目的
とする。その接着層は、例えばアクリル系やゴム系、シ
リコーン系等の粘着剤やホットメルト系接着剤などの適
宜な接着剤にて形成することができ、透明性や耐候性な
どに優れるものが好ましい。
一般には上記した特性の微細凹凸構造の形成性などの点
より、５０μm以下、就中１〜３０μm、特に３〜１０μ
mとされる。なお図２に例示の如く、必要に応じて設け
る接着層３は、光学層等の他部材に接着することを目的
とする。その接着層は、例えばアクリル系やゴム系、シ
リコーン系等の粘着剤やホットメルト系接着剤などの適
宜な接着剤にて形成することができ、透明性や耐候性な
どに優れるものが好ましい。
【００２３】本発明による光拡散層は、従来に準じた各
種の目的に用いうる。特に液晶表示装置の如く所定の間
隔で画素を配列してなる表示装置などに好ましく用いう
る。その適用に際しては、光学層の片面又は両面に光拡
散層を設けた光学素子として用いることもできる。
種の目的に用いうる。特に液晶表示装置の如く所定の間
隔で画素を配列してなる表示装置などに好ましく用いう
る。その適用に際しては、光学層の片面又は両面に光拡
散層を設けた光学素子として用いることもできる。
【００２４】本発明による光学素子の例を図３、図４に
示した。４は偏光板、５は位相差板、６はそれら偏光板
４と位相差板５との積層体からなる楕円偏光板である。
従って光学層としては、偏光板や位相差板、それらの積
層体からなる楕円偏光板などの適宜なものであってよ
い。
示した。４は偏光板、５は位相差板、６はそれら偏光板
４と位相差板５との積層体からなる楕円偏光板である。
従って光学層としては、偏光板や位相差板、それらの積
層体からなる楕円偏光板などの適宜なものであってよ
い。
【００２５】前記の偏光板には適宜なものを用いうる。
ちなみにその例としては、ポリビニルアルコール系フィ
ルムや部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィル
ム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィル
ムの如き親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料
等の二色性物質を吸着させて延伸したもの、ポリビニル
アルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理
物の如き偏光フィルムがあげられる。偏光フィルムの厚
さは、５〜８０μmが一般的であるが、これに限定され
ない。
ちなみにその例としては、ポリビニルアルコール系フィ
ルムや部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィル
ム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィル
ムの如き親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料
等の二色性物質を吸着させて延伸したもの、ポリビニル
アルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理
物の如き偏光フィルムがあげられる。偏光フィルムの厚
さは、５〜８０μmが一般的であるが、これに限定され
ない。
【００２６】また前記した偏光フィルムの片面又は両面
に耐水性等の保護目的で、ポリマーの塗布層やフィルム
のラミネート層等からなる透明保護層を設けたものなど
もあげられる。透明保護層の形成には、上記した透明基
材で例示のポリマーなどの適宜なものを用いうるが、透
明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性などに優れる
ものが好ましく用いうる。
に耐水性等の保護目的で、ポリマーの塗布層やフィルム
のラミネート層等からなる透明保護層を設けたものなど
もあげられる。透明保護層の形成には、上記した透明基
材で例示のポリマーなどの適宜なものを用いうるが、透
明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性などに優れる
ものが好ましく用いうる。
【００２７】一方、位相差板としても、適宜なものを用
いうる。ちなみにその例としては、上記の透明基材で例
示したポリマーフィルムの一軸や二軸等の適宜な方式に
よる延伸フィルムや液晶ポリマーフィルムなどがあげら
れる。位相差板は、２層以上の延伸フィルムの重畳体な
どとして形成されていてもよい。
いうる。ちなみにその例としては、上記の透明基材で例
示したポリマーフィルムの一軸や二軸等の適宜な方式に
よる延伸フィルムや液晶ポリマーフィルムなどがあげら
れる。位相差板は、２層以上の延伸フィルムの重畳体な
どとして形成されていてもよい。
【００２８】楕円偏光板は、偏光板と位相差板を積層す
ることにより形成しうる。その場合、光拡散層は少なく
とも偏光板側に設けることが実用性などの点より好まし
い。なお楕円偏光板における偏光板と位相差板は、上記
の接着層などを介して接着積層されていることがズレ防
止等による光学特性の安定性などの点より好ましい。
ることにより形成しうる。その場合、光拡散層は少なく
とも偏光板側に設けることが実用性などの点より好まし
い。なお楕円偏光板における偏光板と位相差板は、上記
の接着層などを介して接着積層されていることがズレ防
止等による光学特性の安定性などの点より好ましい。
【００２９】また光学素子における光拡散層は、図３に
例示の如く光学層４に直接付設されていてもよいし、図
４に例示の如く透明基材２と一体化した光拡散シートと
して付設されていてもよい。光拡散シートの場合にも上
記の接着層などを介して光学層と接着積層されているこ
とがズレ防止等による光学特性の安定性などの点より好
ましい。
例示の如く光学層４に直接付設されていてもよいし、図
４に例示の如く透明基材２と一体化した光拡散シートと
して付設されていてもよい。光拡散シートの場合にも上
記の接着層などを介して光学層と接着積層されているこ
とがズレ防止等による光学特性の安定性などの点より好
ましい。
【００３０】上記のように本発明による光拡散層や光学
素子は、画素を介した表示光の歪が問題となる表示装
置、就中、ノート型やディスクトップ型等のパーソナル
コンピュータにおける液晶表示装置などに好ましく用い
うる。特にＴＦＴ式やＳＴＮ式の液晶表示素子の如く、
表示単位としての画素が遮光部（ブラックマトリクス）
にて等間隔に区切られて所定のピッチで形成され、その
画素ピッチが例えば５０〜５００μmである液晶表示装
置などに好ましく用いうる。
素子は、画素を介した表示光の歪が問題となる表示装
置、就中、ノート型やディスクトップ型等のパーソナル
コンピュータにおける液晶表示装置などに好ましく用い
うる。特にＴＦＴ式やＳＴＮ式の液晶表示素子の如く、
表示単位としての画素が遮光部（ブラックマトリクス）
にて等間隔に区切られて所定のピッチで形成され、その
画素ピッチが例えば５０〜５００μmである液晶表示装
置などに好ましく用いうる。
【００３１】前記において光拡散層や光学素子は、液晶
表示装置の視認側に設けられるが、その場合、ギラツキ
防止やノングレア作用などの点より光拡散層は、装置の
最表面等の可及的に外表面に位置させることが好まし
い。なお液晶表示装置は、本発明による光拡散層又は光
学素子を少なくとも１層配置する点を除いて特に限定は
なく、従来に準じたものとして形成することができる。
表示装置の視認側に設けられるが、その場合、ギラツキ
防止やノングレア作用などの点より光拡散層は、装置の
最表面等の可及的に外表面に位置させることが好まし
い。なお液晶表示装置は、本発明による光拡散層又は光
学素子を少なくとも１層配置する点を除いて特に限定は
なく、従来に準じたものとして形成することができる。
【００３２】
【実施例】実施例１ 紫外線硬化型のウレタンアクリレートモノマー１００部
（重量部、以下同じ）とベンゾフェノン系光重合開始剤
３部からなる紫外線硬化型樹脂に、平均粒径１．４μm
のシリカ粒子１０部を加え、粘度調整用溶剤の添加によ
り固形分濃度を５０重量％としたのち高速撹拌機にて混
合し、その混合液を厚さ５０μmのトリアセチルセルロ
ースフィルムの片面にバーコータにて塗工して溶剤揮発
後、紫外線を照射して硬化処理し、厚さ７μmの光拡散
層を有する光拡散シートを得た。
（重量部、以下同じ）とベンゾフェノン系光重合開始剤
３部からなる紫外線硬化型樹脂に、平均粒径１．４μm
のシリカ粒子１０部を加え、粘度調整用溶剤の添加によ
り固形分濃度を５０重量％としたのち高速撹拌機にて混
合し、その混合液を厚さ５０μmのトリアセチルセルロ
ースフィルムの片面にバーコータにて塗工して溶剤揮発
後、紫外線を照射して硬化処理し、厚さ７μmの光拡散
層を有する光拡散シートを得た。
【００３３】前記の光拡散層は、９％の光拡散性を示
し、その６０度鏡面光沢度が４４％で、微細凹凸構造に
おける触針式表面粗さ測定器に基づく中心線平均粗さ
（以下同じ）が０．１６μm、表面粗さ曲線による平均
山谷間隔（以下同じ）が３９μmであった。
し、その６０度鏡面光沢度が４４％で、微細凹凸構造に
おける触針式表面粗さ測定器に基づく中心線平均粗さ
（以下同じ）が０．１６μm、表面粗さ曲線による平均
山谷間隔（以下同じ）が３９μmであった。
【００３４】比較例 平均粒径２．５μmのシリカ粒子を３部用いたほかは実
施例１に準じて、厚さ７μmの光拡散層を有する光拡散
シートを得た。その光拡散層は、９％の光拡散性を示
し、６０度鏡面光沢度が８６％で、微細凹凸構造におけ
る中心線平均粗さが０．４２μm、平均山谷間隔が１２
０μmであった。
施例１に準じて、厚さ７μmの光拡散層を有する光拡散
シートを得た。その光拡散層は、９％の光拡散性を示
し、６０度鏡面光沢度が８６％で、微細凹凸構造におけ
る中心線平均粗さが０．４２μm、平均山谷間隔が１２
０μmであった。
【００３５】評価試験 歪度 実施例、比較例で得た光拡散シートを、直線を描いた透
明ガラス板上に配置してそのガラス板側から照明し、光
拡散シート側から視認した場合の当該直線の歪による曲
線を山谷曲線として、その山谷中心線から山谷ピーク間
の距離のバラツキを調べ、そのバラツキ度合いを光拡散
シートを介した歪度として評価した。その結果、実施例
１では２．８μmであったが、比較例では３．７μmであ
った。
明ガラス板上に配置してそのガラス板側から照明し、光
拡散シート側から視認した場合の当該直線の歪による曲
線を山谷曲線として、その山谷中心線から山谷ピーク間
の距離のバラツキを調べ、そのバラツキ度合いを光拡散
シートを介した歪度として評価した。その結果、実施例
１では２．８μmであったが、比較例では３．７μmであ
った。
【００３６】画像の鮮明性 実施例、比較例で得た光拡散シートをノート型パソコン
用の液晶表示素子（サイズ１２．１インチ、解像度ＸＧ
Ａ）の上に設置して表示像を視認した。その場合、実施
例１の光拡散シートを用いた液晶表示装置では、非常に
鮮明な表示像が得られ、ギラツキも少なかった。しか
し、比較例の光拡散シートを用いた液晶表示装置では、
表示像の鮮明さに劣り、ギラツキも多く発生した。
用の液晶表示素子（サイズ１２．１インチ、解像度ＸＧ
Ａ）の上に設置して表示像を視認した。その場合、実施
例１の光拡散シートを用いた液晶表示装置では、非常に
鮮明な表示像が得られ、ギラツキも少なかった。しか
し、比較例の光拡散シートを用いた液晶表示装置では、
表示像の鮮明さに劣り、ギラツキも多く発生した。
【図１】光拡散層例の断面図
【図２】他の光拡散層例の断面図
【図３】光学素子例の断面図
【図４】他の光学素子例の断面図
１：紫外線硬化樹脂皮膜からなる光拡散層 １１，１２：微細凹凸構造 ２：透明基材 ４：偏光板 ５：位相差板 ６：楕円偏光板
Claims (6)
- 【請求項１】 ６０度鏡面光沢度が１０〜７０％であ
り、中心線平均粗さが０．１〜０．３５μmで、平均山
谷間隔が１８〜６０μmの表面粗さの微細凹凸構造を片
面に有する紫外線硬化樹脂皮膜からなることを特徴とす
る光拡散層。 - 【請求項２】 請求項１において、６０度鏡面光沢度が
２０〜７０％であり、中心線平均粗さが０．１５〜０．
３５μmで、平均山谷間隔が３０〜６０μmの表面粗さの
微細凹凸構造である光拡散層。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、透明基材の片
面又は両面に支持されてなる光拡散層。 - 【請求項４】 光学層の片面又は両面に請求項１〜３に
記載の光拡散層を有することを特徴とする光学素子。 - 【請求項５】 請求項４において、光学層が偏光板、位
相差板、又はそれらの積層体からなる楕円偏光板である
光学素子。 - 【請求項６】 液晶表示素子の視認側に請求項１〜３に
記載の光拡散層を有することを特徴とする液晶表示装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10146509A JPH11326611A (ja) | 1998-05-11 | 1998-05-11 | 光拡散層、光学素子及び液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10146509A JPH11326611A (ja) | 1998-05-11 | 1998-05-11 | 光拡散層、光学素子及び液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11326611A true JPH11326611A (ja) | 1999-11-26 |
Family
ID=15409250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10146509A Pending JPH11326611A (ja) | 1998-05-11 | 1998-05-11 | 光拡散層、光学素子及び液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11326611A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002236203A (ja) * | 2001-02-08 | 2002-08-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散フィルムおよびその製造方法、ならびに光拡散フィルムを用いた面光源装置及び表示装置 |
| US6861121B2 (en) | 2000-12-25 | 2005-03-01 | Nitto Denko Corporation | Optical diffusing layer, optical diffusing sheet, and optical element |
| US7245433B2 (en) | 2002-04-08 | 2007-07-17 | Nitto Denko Corporation | Light-diffusing sheet, optical element and image viewing display |
| US7245434B2 (en) | 2002-04-25 | 2007-07-17 | Nitto Denko Corporation | Light-diffusing sheet, optical element and image display |
| WO2021125876A1 (ko) * | 2019-12-20 | 2021-06-24 | 주식회사 엘지화학 | 필름 |
| KR20210080245A (ko) * | 2019-12-20 | 2021-06-30 | 주식회사 엘지화학 | 필름 |
| KR20210079498A (ko) * | 2019-12-20 | 2021-06-30 | 주식회사 엘지화학 | 필름 |
-
1998
- 1998-05-11 JP JP10146509A patent/JPH11326611A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6861121B2 (en) | 2000-12-25 | 2005-03-01 | Nitto Denko Corporation | Optical diffusing layer, optical diffusing sheet, and optical element |
| US7264865B2 (en) | 2000-12-25 | 2007-09-04 | Nitto Denko Corporation | Optical diffusing layer, optical diffusing sheet, and optical element |
| JP2002236203A (ja) * | 2001-02-08 | 2002-08-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散フィルムおよびその製造方法、ならびに光拡散フィルムを用いた面光源装置及び表示装置 |
| US7245433B2 (en) | 2002-04-08 | 2007-07-17 | Nitto Denko Corporation | Light-diffusing sheet, optical element and image viewing display |
| US7245434B2 (en) | 2002-04-25 | 2007-07-17 | Nitto Denko Corporation | Light-diffusing sheet, optical element and image display |
| WO2021125876A1 (ko) * | 2019-12-20 | 2021-06-24 | 주식회사 엘지화학 | 필름 |
| KR20210080245A (ko) * | 2019-12-20 | 2021-06-30 | 주식회사 엘지화학 | 필름 |
| KR20210079498A (ko) * | 2019-12-20 | 2021-06-30 | 주식회사 엘지화학 | 필름 |
| JP2022546831A (ja) * | 2019-12-20 | 2022-11-09 | エルジー・ケム・リミテッド | フィルム |
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