JPH11327187A - Method for producing substrate for electrophotographic photoreceptor - Google Patents
Method for producing substrate for electrophotographic photoreceptorInfo
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- JPH11327187A JPH11327187A JP15516898A JP15516898A JPH11327187A JP H11327187 A JPH11327187 A JP H11327187A JP 15516898 A JP15516898 A JP 15516898A JP 15516898 A JP15516898 A JP 15516898A JP H11327187 A JPH11327187 A JP H11327187A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子写真有機感光体の円筒状アルミニウム基
体の表面に粗面化処理を施す。
【解決手段】 0.3〜1.0mmのドライアイスペレ
ットをノズルから300〜1000rpmで回転する基
体表面に、噴射量0.5〜4kg/分、圧縮空気圧×3
〜6kg/cm2、流量0.5〜2.5m3/分で噴射
し、刃物台移動によってノズルを移動させ、基体1回転
当りのノズル移動速度2〜15mmでドライアイスペレ
ットを吹き付ける。
(57) Abstract: A surface of a cylindrical aluminum substrate of an electrophotographic organic photoreceptor is subjected to a surface roughening treatment. SOLUTION: A dry ice pellet of 0.3 to 1.0 mm is sprayed from a nozzle onto a surface of a substrate rotating at 300 to 1000 rpm at an injection rate of 0.5 to 4 kg / min, compressed air pressure × 3.
噴射 6 kg / cm 2 at a flow rate of 0.5 to 2.5 m 3 / min, the nozzle is moved by moving the tool post, and dry ice pellets are sprayed at a nozzle moving speed of 2 to 15 mm per rotation of the substrate.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は電子写真感光体に用
いられる基体の製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a substrate used for an electrophotographic photosensitive member.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子写真有機感光体はアルミニウム又は
その合金などの基体上に、直接あるいは下引き層を介し
て、有機感光層を設けた構成からなる。有機感光体は成
膜性、軽量性、低価格性などの点ですぐれており、多く
使用されるようになっている。そして、この有機感光体
には感光層が電荷発生材、電荷移動材を含有する単層型
のものと、電荷発生層と電荷移動層の積層型(機能分離
型)のものとが知られているが、後者の積層型有機感光
体の方が材料選択性の幅が広がる等の理由から有利であ
る。2. Description of the Related Art An electrophotographic organic photoreceptor has a structure in which an organic photosensitive layer is provided on a substrate such as aluminum or an alloy thereof, directly or via an undercoat layer. Organic photoreceptors are excellent in terms of film-forming properties, light weight, low cost, and the like, and are increasingly used. As the organic photoreceptor, there are known a single layer type in which a photosensitive layer contains a charge generating material and a charge transfer material, and a layered type (separation type) of a charge generation layer and a charge transfer layer. However, the latter stacked organic photoreceptor is more advantageous because the range of material selectivity is widened.
【0003】ところで、有機感光体を用いて画像形成を
行なう複写機やプリンタにおいては、光書き込み用単色
光や半導体レーザ光の可干渉性のために、感光層を透過
した光の基体表面での反射光と、感光層表面での反射光
が干渉を起こすことがあり、これが画像面に干渉縞状の
濃淡ムラとして現れるという問題があった。In a copying machine or a printer that forms an image using an organic photoreceptor, light transmitted through a photosensitive layer on the surface of a substrate due to the coherence of monochromatic light for optical writing or semiconductor laser light. The reflected light and the reflected light on the surface of the photosensitive layer sometimes cause interference, and this has been a problem that this appears as interference fringe-like uneven shading on the image surface.
【0004】こうした問題に対して、従来は下引き層に
光散乱剤を添加して干渉を防止したり、円筒状アルミニ
ウム基体の表面を切削加工で刃具により連続した粗さの
散乱面を形成したり、液体ホーニング、超仕上げ、湿式
又は乾式ブラスト、あるいは陽極酸化皮膜の形成等によ
り粗面化し、干渉防止処理を必要に応じて行なってい
る。In order to solve such problems, conventionally, a light scattering agent is added to the undercoat layer to prevent interference, or the surface of the cylindrical aluminum substrate is formed by a cutting tool to form a continuous scattering surface with a cutting tool. The surface is roughened by liquid honing, superfinishing, wet or dry blasting, or formation of an anodic oxide film, and interference prevention treatment is performed as necessary.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、下引き
層に光散乱剤を加えて干渉を防止する方法は、熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂等に酸化チタン粉末を分散させて絶
縁性塗膜を形成するというものであるが、この塗膜では
画像形成上残留電位の上昇抑制から5μm以下の膜厚と
なり、半導体レーザによる光書き込みを行うと電荷発生
層で吸収されなかった光は下引き層を透過して基体表面
に到達し、反射する事による画像濃淡ムラが現れるとい
う問題を生じる。また、基体表面を切削加工しただけで
は、或いは液体ホーニング等によったのでは、実質上基
体表面を均一に粗面化するのは極めて困難であり、大き
なうねりや局部的な凸凹を発生しやすい。However, a method of preventing interference by adding a light scattering agent to the undercoat layer is to disperse titanium oxide powder in a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like to form an insulating coating film. This coating film has a thickness of 5 μm or less in order to suppress a rise in residual potential in image formation, and light that has not been absorbed by the charge generation layer when performing optical writing with a semiconductor laser passes through the undercoat layer. There is a problem that image density unevenness due to transmission and reaching to the substrate surface and reflection is caused. Furthermore, it is extremely difficult to substantially uniformly roughen the surface of the substrate by simply cutting the surface of the substrate or by using liquid honing or the like, and large undulations and local irregularities are likely to occur. .
【0006】従って、本発明の目的は光の可干渉性が極
力抑えられ良質の画像が得られる電子写真有機感光体を
製造するため、その有機感光体で用いられている円筒状
アルミニウム基体の処理法を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to manufacture an electrophotographic organic photoreceptor in which the coherence of light is suppressed as much as possible and a good quality image can be obtained by treating a cylindrical aluminum substrate used in the organic photoreceptor. It provides the law.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明によれば、第一
に、切削加工機の刃物台上の刃具の対面側に又は刃具を
切削位置より戻した時にノズル噴射口の軸芯が被加工物
の軸芯に直角になるように、ドライアイスペレット噴射
ブラスト装置を設置し、このノズル口径を被加工物の外
径側に40%以下の開口として、切削加工後の基体表面
に、径0.3〜1.0mmのドライアイスペレットを噴
射量0.5〜4kg/分、圧縮空気圧力3〜6kg/c
m2、流量0.5〜2.5m3/分、かつ、刃物台移動に
よってノズルを移動させ、基体1回転当りのノズル移動
距離2〜15mmで吹付け、該基体表面を粗面化するこ
とを特徴とする電子写真感光体用基体の製造方法が提供
される。According to the present invention, firstly, the axis of the nozzle orifice is processed on the opposite side of the cutting tool on the tool post of the cutting machine or when the cutting tool is returned from the cutting position. A dry ice pellet injection blasting device is installed so as to be perpendicular to the axis of the workpiece, and the nozzle diameter is set to an opening of 40% or less on the outer diameter side of the workpiece, and a diameter of 0% is formed on the substrate surface after cutting. 0.3 to 1.0 mm dry ice pellets sprayed at 0.5 to 4 kg / min, compressed air pressure at 3 to 6 kg / c
m 2 , a flow rate of 0.5 to 2.5 m 3 / min, and moving the nozzle by moving the tool post, spraying the nozzle at a nozzle moving distance of 2 to 15 mm per rotation of the substrate to roughen the surface of the substrate. The present invention provides a method for producing a substrate for an electrophotographic photoreceptor, characterized in that:
【0008】第二に、上記粗面化を刃物台復路時に基体
切削回転数以下の300〜1000回転/分で行なうこ
とを特徴とする上記第一の電子写真感光体用基体の製造
方法が提供される。Secondly, there is provided the first method for producing a substrate for an electrophotographic photosensitive member, wherein the surface roughening is performed at a speed of 300 to 1,000 rotations / minute or less, which is lower than the substrate rotation speed, when the tool post is returned. Is done.
【0009】第三に、表面粗面化前の基体は切削加工に
より0.01〜0.3μmの鏡面加工が施され、次いで
粗面化によるランダムな表面粗さ0.5〜2μmが施さ
れることを特徴とする上記第一又は第二の電子写真感光
体用基体の製造方法が提供される。Third, the substrate before surface roughening is subjected to mirror finishing of 0.01 to 0.3 μm by cutting and then to random surface roughness of 0.5 to 2 μm by roughening. The first or second method for producing a substrate for an electrophotographic photosensitive member is provided.
【0010】第四に、表面粗面化後の円筒状アルミニウ
ム基体に、膜厚1〜5μmで硬度HV350〜600の
陽極酸化膜を形成することを特徴とする上記第一、第二
又は第三の電子写真感光体基体の製造方法が提供され
る。Fourth, the first, second or third anodic oxide film having a thickness of 1 to 5 μm and a hardness of HV 350 to 600 is formed on the cylindrical aluminum substrate after surface roughening. The present invention also provides a method for producing an electrophotographic photoreceptor substrate.
【0011】本発明のドライアイスペレットを円筒状ア
ルミニウム基体に吹き付けることによって、基体表面の
粗面化を行う方法によれば、所望どおりの基体表面が形
成されるため、これを用いてつくられた電子写真有機感
光体は光の干渉が著しく阻止される。According to the method of roughening the surface of a substrate by spraying the dry ice pellet of the present invention onto a cylindrical aluminum substrate, a desired surface of the substrate is formed. In the photographic organic photoreceptor, light interference is remarkably prevented.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。本発明で外周面がドライアイスペレットの吹き付
けによって粗面化されるのは有機感光体の円筒状アルミ
ニウム基体である。ここでいう「アルミニウム」はアルミ
ニウムだけでなく、アルミニウムと他の金属との合金を
含むものである。このアルミニウム基体は表面粗面化さ
れるに先立って切削加工されているのが望ましい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In the present invention, it is the cylindrical aluminum substrate of the organic photoreceptor whose outer peripheral surface is roughened by spraying dry ice pellets. The term “aluminum” as used herein includes not only aluminum but also an alloy of aluminum and another metal. This aluminum substrate is desirably cut before surface roughening.
【0013】図1は本発明の実施に有用な装置であっ
て、円筒状アルミニウム基体外径切削加工機と粗面化用
ドライアイスペレット吹き付けノズルを取り付けたもの
の平面図である。1は外形削加工機主軸で、2の主軸ス
ピンドル先端に円筒状アルミニウム基体内径をクランプ
保持するコレットチャック3が取り付けられている。4
はテール軸で、5のテール軸スピンドル先端に上記と同
様のコレットチャック6が取り付けられ、円筒状アルミ
ニウム基体7をクランプ保持する。5のテール軸スピン
ドルは、基体7の着脱のための前進後退軸でもある。FIG. 1 is a plan view of an apparatus useful for carrying out the present invention, which is provided with a cylindrical aluminum substrate outer diameter cutting machine and a dry ice pellet spray nozzle for roughening. Reference numeral 1 denotes a main shaft of an external machining machine, and a collet chuck 3 for clamping and holding an inner diameter of a cylindrical aluminum base is attached to a tip of a main spindle 2. 4
Is a tail shaft, and a collet chuck 6 similar to the above is attached to the tip of the tail shaft spindle 5 to clamp and hold the cylindrical aluminum base 7. The tail shaft spindle 5 is also a forward and backward shaft for attaching and detaching the base 7.
【0014】8は切削加工用刃物台で、単数又は複数の
ダイヤモンドバイトが取り付けられ、9の刃物台テーブ
ルを前進させ、円筒状アルミニウム基体7の外径を切削
加工往路工程A時、スピンドル回転数3000〜600
0rpm、送り速度0.05〜0.5mm/rev、切
削代0.03〜0.2mmにて、表面粗さ0.01〜
0.3μmの鏡面切削加工を施す。折り返し工程Bにて
9の刃物台テーブルを5〜15mm戻し、復路工程Cに
て10のノズルより円筒状アルミニウム基体7を回転数
300〜1000rpmでドライアイスペレットを吹き
付け粗面化する。Reference numeral 8 denotes a cutting tool rest, on which one or a plurality of diamond cutting tools are mounted, the tool rest table 9 is advanced, and the outer diameter of the cylindrical aluminum base 7 is adjusted to the spindle rotational speed during the cutting forward step A. 3000-600
0 rpm, feed rate 0.05-0.5 mm / rev, cutting allowance 0.03-0.2 mm, surface roughness 0.01-
A mirror finish of 0.3 μm is applied. In the return step B, the tool post table 9 is returned by 5 to 15 mm, and in the return step C, the cylindrical aluminum substrate 7 is sprayed with dry ice pellets at a rotation speed of 300 to 1000 rpm from the nozzle 10 to roughen the surface.
【0015】10のノズルには、ドライアイスペレット
供給ホース11と圧縮空気供給ホース12が接続され、
ペレタイザー13よりドライアイスペレットが常時供給
される。A dry ice pellet supply hose 11 and a compressed air supply hose 12 are connected to the nozzle 10.
Dry ice pellets are constantly supplied from the pelletizer 13.
【0016】図2はドライアイスペレット吹きつけノズ
ル10の配置側面図である。ノズル10は、円筒状アル
ミニウム基体7の水平軸中心または刃具を切削位置より
戻した時にノズル噴射口の軸芯が被加工物の軸芯に直角
方向に成るように配置し、ドライアイスペレットが基体
7にできるだけ直角に当たるよう構成する。8は切削加
工用刃物台で、14はダイヤモンドバイトの復路時戻り
位置、15は切削時のアルミ切粉吸引口である。16は
刃物台テーブル9の前進後退用駆動油圧シリンダであ
る。円筒状アルミニウム基体7外径面とノズル10先端
の位置はノズル位置調整台ネジノブ17にて設定する構
造である。FIG. 2 is a side view of the arrangement of the nozzle 10 for spraying dry ice pellets. The nozzle 10 is arranged so that the axis of the nozzle orifice is perpendicular to the axis of the workpiece when the center of the horizontal axis of the cylindrical aluminum substrate 7 or the cutting tool is returned from the cutting position. 7 so as to be as perpendicular as possible. Reference numeral 8 denotes a cutting tool rest, reference numeral 14 denotes a return position of the diamond cutting tool at the time of returning, and reference numeral 15 denotes an aluminum chip suction port for cutting. Reference numeral 16 denotes a drive hydraulic cylinder for moving the tool rest table 9 forward and backward. The position of the outer diameter surface of the cylindrical aluminum base 7 and the position of the tip of the nozzle 10 are set by the screw knob 17 of the nozzle position adjusting table.
【0017】ドライアイスペレットは、従来の粗面化処
理材(サンド、プラスチック、水など)とは異なり、ブ
ラスト材が残留、滞留することなく、瞬時に昇華(気
化)してしまうため、粗面化処理に好適である。ドライ
アイスペレットの径は0.3〜1.0mmが好ましい。
これの噴射量は0.5〜4kg/分を圧縮空気圧力3〜
6kg/cm2、流量0.5〜2.5m3/分の範囲が適
当であり、刃物台移動によってノズルを移動させ、基体
1回転当たりのノズル移動距離2〜15mmでドライア
イスペレットを吹き付け、円筒状アルミニウム基体の表
面を粗面化する。Unlike conventional surface-roughened materials (sand, plastic, water, etc.), dry ice pellets instantly sublimate (vaporize) without remaining or stagnation of the blasting material. It is suitable for chemical treatment. The diameter of the dry ice pellet is preferably 0.3 to 1.0 mm.
The injection amount of this is 0.5 to 4 kg / min.
A range of 6 kg / cm 2 and a flow rate of 0.5 to 2.5 m 3 / min is appropriate. The nozzle is moved by moving the tool post, and dry ice pellets are sprayed at a nozzle moving distance of 2 to 15 mm per one rotation of the substrate. The surface of the cylindrical aluminum substrate is roughened.
【0018】また、この表面粗面化方法は、刃物台復路
時に基体切削回転数以下の300〜1000回転/分で
行うのが望ましい。一般に、切削により基体表面を連続
的な表面粗さに仕上げる加工法では、切削効率を良くす
る方法から刃具を複数セットし、往路にて所定の連続的
な表面粗さに仕上げる方法を取り、復にて刃物台を原点
に戻す方法をとる。すなわち、この復路では感光体に有
効な基体加工機能は備えていない。そこで、本発明にお
いては、刃物台復路時にドライアイスペレットの吹き付
けによる粗面化処理を行うようにするのが有利である。
表面粗面化により円筒状アルミニウム基体の表面粗さは
0.5〜2μmくらいになる。This surface roughening method is desirably performed at a speed of 300 to 1000 rotations / minute or less, which is equal to or lower than the substrate rotation speed, when returning to the tool rest. Generally, in the processing method of finishing the substrate surface to a continuous surface roughness by cutting, a method of setting a plurality of cutting tools to improve the cutting efficiency and finishing to a predetermined continuous surface roughness on the outward path is adopted. Return the turret to the origin with. That is, in this return path, the photosensitive member does not have an effective substrate processing function. Therefore, in the present invention, it is advantageous to perform a roughening process by spraying dry ice pellets when returning to the tool rest.
Due to the surface roughening, the surface roughness of the cylindrical aluminum substrate becomes about 0.5 to 2 μm.
【0019】上記のように、本発明においては円筒状ア
ルミニウム基体の表面粗面化前加工として切削により
0.01〜0.3μmの鏡面加工を施し、上記粗面化方
法によるランダムな表面粗さ0.5〜2μmを施すのが
よい。切削による粗面化は基体の軸方向に対して交差す
る連続的な粗さを形成させるものであり、現在生産の主
流である感光体製造での浸漬塗布方法では塗布液が乾燥
する際に、その連続的な粗さとそのウネリにより塗布ム
ラの形成という不具合がある。そこで、切削による連続
的な粗さとそれに起因するウネリは鏡面加工と粗面化方
法によって除去することができる。As described above, in the present invention, the surface of the cylindrical aluminum substrate is mirror-finished to 0.01 to 0.3 μm by cutting as a pre-surface roughening process, and the random surface roughness is obtained by the above-mentioned surface roughening method. It is preferable to apply 0.5 to 2 μm. Surface roughening by cutting is to form a continuous roughness that intersects the axial direction of the substrate, and in the dip coating method in photoconductor manufacturing, which is currently the mainstream of production, when the coating liquid is dried, There is a problem that uneven coating is formed due to the continuous roughness and undulation. Therefore, continuous roughness due to cutting and undulations resulting therefrom can be removed by mirror finishing and roughening methods.
【0020】電子写真用機能分離型有機感光体の作像プ
ロセスでは、600〜1000Vの帯電及び露光が繰り
返される。帯電を掌るのは感光体膜で暗時の静電容量C
と抵抗Rで決定され、アルミニウム基体表面が自然酸化
被膜の場合は帯電にほとんど寄与しないため、アルミニ
ウム基体表面に抵抗R及び静電容量Cを付加するため
に、陽極酸化被膜処理を行う事が有効である。一般の陽
極酸化被膜を高帯電側作像プロセスに使用すると、体積
固有抵抗が5×1012Ω・cm程度であり耐電圧がやや
低い傾向にあり、画像形成上白ポチ黒ポチを低減するた
めには耐電圧を高くする必要がある。In the image forming process of the function-separated type organic photoreceptor for electrophotography, charging and exposure at 600 to 1000 V are repeated. It is the photoreceptor film that takes charge of the electrostatic capacitance C in the dark.
And the resistance R is determined. When the aluminum substrate surface is a natural oxide film, it hardly contributes to the charging. Therefore, it is effective to perform the anodic oxide film treatment to add the resistance R and the capacitance C to the aluminum substrate surface. It is. When a general anodic oxide film is used for the image formation process on the high charge side, the volume resistivity is about 5 × 10 12 Ω · cm, and the withstand voltage tends to be slightly low. Requires a high withstand voltage.
【0021】そこで、図3にみられるように、本発明の
電子写真用機能分離型有機感光体では、基体18の表面
19はドライアイスペレット吹き付けにより表面粗さ
0.5〜2μmに粗面化された後、洗浄され、その表面
に陽極酸化被膜20が硬度HV350〜600で1〜5
μmの厚さに形成されている。この陽極酸化被膜は硫
酸、燐酸、硝酸又はこれらの混合液等の電解液中で陽極
酸化を施することに形成できる。Therefore, as shown in FIG. 3, in the function-separated type organic photoreceptor for electrophotography of the present invention, the surface 19 of the substrate 18 is roughened to a surface roughness of 0.5 to 2 μm by spraying dry ice pellets. After cleaning, the anodic oxide film 20 is formed on the surface with a hardness of HV 350-600 and 1-5.
It is formed to a thickness of μm. This anodized film can be formed by performing anodization in an electrolytic solution such as sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, or a mixture thereof.
【0022】機能分離型有機感光体では、下引き層21
に光散乱剤を分散させ3〜5μm又は10〜15μmの
塗膜を形成させて基体18の表面を平滑化させ、塗膜厚
の0.1〜0.5μmと薄い電荷発生層22の塗布ムラ
発生を抑制する。23は電荷輸送層で、帯電量に対応し
て膜厚を決定する。通常の機能分離型有機感光体では1
5〜30μmである。In the function-separated type organic photoreceptor, the undercoat layer 21
A light scattering agent is dispersed to form a coating film of 3 to 5 μm or 10 to 15 μm to smooth the surface of the substrate 18, and the coating unevenness of the charge generation layer 22 as thin as 0.1 to 0.5 μm. Suppress the occurrence. Reference numeral 23 denotes a charge transport layer, which determines the film thickness in accordance with the charge amount. 1 for normal function-separated organic photoreceptor
5 to 30 μm.
【0023】半導体レーザ光24による光書き込み用感
光体の帯電露光プロセスでは、帯電量は電荷輸送層2
3、電荷発生層22、下引き層21、及び基体18の表
面層での電気容量C及び抵抗Rで決まるが、基体18の
表面が無処理の場合は電荷注入を容易とし帯電後の暗減
衰が大きくなることや、高帯電では部分的リークが発生
し画像上での黒ポチ白ポチ等の欠点となるため、陽極酸
化被膜20が施される。この被膜により表面積はより増
大化され、電気容量Cは大きくなり、陽極酸化被膜20
を硬質とすることで被膜の体積固有抵抗は1×1013Ω
・cmと大きくなることで帯電時の安定性がより増大す
る。In the charge exposure process of the photowriting photosensitive member by the semiconductor laser light 24, the charge amount is determined by the charge transport layer 2
3. Determined by the electric capacity C and the resistance R of the charge generation layer 22, the undercoat layer 21, and the surface layer of the substrate 18. When the surface of the substrate 18 is untreated, charge injection is facilitated and dark decay after charging is performed. Is increased, or a high charge causes a partial leak to cause defects such as black spots and white spots on an image. Therefore, the anodic oxide coating 20 is applied. With this coating, the surface area is further increased, the capacitance C is increased, and the anodic oxide coating 20 is formed.
The volume resistivity of the coating is 1 × 10 13 Ω
The stability at the time of charging is further increased by increasing the value to cm.
【0024】帯電後画像形成のための光書き込みが行わ
れると、電荷発生層22に吸収された光の大部分は光キ
ャリアを発生させる。しかし、5〜10%の光は光散乱
面である下引き層21をも透過して基体18面にて反射
する。基体18面が鏡面である場合および部分的に正反
射面を形成すると、透過した光が正反射をして再度電荷
発生層に入射し吸収されて、画像上での濃度ムラやモア
レを発生させるが、粗面化され、陽極酸化被膜形成され
た面ではそれらの欠陥を防止できる。When optical writing for image formation is performed after charging, most of the light absorbed by the charge generation layer 22 generates photocarriers. However, 5 to 10% of the light passes through the undercoat layer 21 which is a light scattering surface and is reflected on the surface of the base 18. When the surface of the substrate 18 is a mirror surface or when a regular reflection surface is partially formed, the transmitted light is regularly reflected and re-enters the charge generation layer and is absorbed, thereby causing density unevenness and moire on an image. However, these defects can be prevented on the roughened surface where the anodic oxide film is formed.
【0025】[0025]
【発明の効果】(1)請求項1の発明によれば、ドライ
アイスペレット噴射ブラスト装置を円筒状アルミニウム
基体切削機に取り付ける事により、切削加工直後に円筒
状アルミニウム基体を取り外す事なくペレット吹き付け
粗面化処理することができ、取り外して別工程で粗面化
を行う場合に比べると、円筒状アルミニウム基体を保
持、回転、ノズル送り等の駆動機構及び制御を基体切削
機で共有化でき、製造工程を延長することなく処理可能
となる。(1) According to the first aspect of the present invention, by attaching the dry ice pellet injection blasting device to the cylindrical aluminum substrate cutting machine, it is possible to spray the pellet without removing the cylindrical aluminum substrate immediately after cutting. Compared to the case of removing and roughening in a separate process by removing the surface, it is possible to share the drive mechanism and control such as holding, rotation and nozzle feed of the cylindrical aluminum substrate with the substrate cutting machine, and manufacture Processing can be performed without extending the process.
【0026】(2)請求項2の発明によれば、円筒状ア
ルミニウム基体の切削加工では、被加工物の取り付け取
り外しを容易にする為に、主軸スピンドル側に切削原点
を置き、切削開始点より5〜10mm手前に刃具を配置
して往工程にて切削加工を行い、復工程にて刃物を引き
戻し切削原点に刃物台を戻す。復工程での戻り時間は通
常の円筒状アルミニウム基体では約3〜5秒程度かか
り、上記粗面化工程を基体回転300〜1000rpm
で行うことで切削加工時間をあまり延長する事なく処理
可能となる。(2) According to the second aspect of the present invention, in the cutting of the cylindrical aluminum substrate, a cutting origin is set on the spindle side of the spindle to facilitate attachment and detachment of the workpiece, and the starting point is set from the cutting start point. The cutting tool is arranged 5 to 10 mm before and the cutting process is performed in the forward process, and the tool is pulled back in the returning process to return the tool post to the cutting origin. The return time in the return step takes about 3 to 5 seconds for a normal cylindrical aluminum substrate, and the above-described roughening step is performed at a substrate rotation of 300 to 1000 rpm.
By doing so, processing can be performed without prolonging the cutting time.
【0027】(3)請求項3の発明によれば、切削加工
による円筒状アルミニウム基体表面の機能は一定した平
面化に画像形成上のムラ及びモアレ等防止の粗面を取り
込んだものであり、粗面化を上記方法で行えば切削加工
は平面化のみ必要となり、刃具の刃先半径を大きくして
送りを早くし、鏡面加工に近い切削でよく、切削効率を
上げる事が可能となり、切削復工程での加工時間が取れ
る。表面粗面化前の基体を0.1〜0.3μmの表面粗
さに切削すると正反射面となり、続いて、上記ドライア
イスペレットの吹きつけによる粗面化が行われるとこの
正反射面は消失していくため、この正反射成分を検知す
れば、粗面化の適否判断ができる。上記ドライアイスペ
レットの吹きつけによる粗面化は、切削加工の連続的な
粗さと違ってランダムな粗面であるため、下引き層塗布
時のぬれ性が良く塗布ムラの発生が起こりにくいが、2
μmを越える粗さを形成すると、バリ等の発生が起こり
易くなり画像欠陥となり易くなる。(3) According to the third aspect of the present invention, the function of the surface of the cylindrical aluminum substrate by cutting is to incorporate a rough surface for preventing unevenness in image formation and moire, etc. into a constant flattening. If the surface is roughened by the above method, the cutting process only needs to be flattened, the feed radius is increased by increasing the cutting edge radius of the cutting tool, cutting can be done close to mirror finishing, and cutting efficiency can be increased, and cutting Processing time in the process can be taken. When the substrate before surface roughening is cut to a surface roughness of 0.1 to 0.3 μm, the surface becomes a regular reflection surface, and subsequently, when the surface is roughened by spraying the dry ice pellet, the regular reflection surface becomes Since this disappears, if this specular reflection component is detected, it is possible to determine whether or not the roughening is appropriate. The surface roughening by spraying of the dry ice pellets is a random rough surface unlike the continuous roughness of the cutting process. 2
If the roughness exceeds μm, burrs and the like are likely to occur and image defects are likely to occur.
【0028】(4)請求項4の発明によれば、上記ドラ
イアイスペレットの吹きつけによる粗面化された円筒状
アルミニウム基体の表面を洗浄後陽極酸化処理を行う事
により、下引き層塗布時の濡れをより良好とし、塗布膜
の欠陥サイズが微細化及び消失する。又、表面積が大き
くなる事から電気容量C成分が増し、陽極酸化処理膜が
硬質であれば体積固有抵抗を一般陽極酸化処理膜より高
められ、帯電時の微少部分放電を減少させる事ができ、
画像欠陥として白ポチ黒ポチを減少できる。(4) According to the fourth aspect of the present invention, the surface of the cylindrical aluminum substrate roughened by spraying the dry ice pellets is washed and then subjected to an anodic oxidation treatment, whereby the undercoating layer is coated. And the defect size of the coating film becomes finer and disappears. Also, since the surface area increases, the capacitance C component increases, and if the anodized film is hard, the volume specific resistance can be increased as compared with a general anodized film, and the minute partial discharge during charging can be reduced.
White spots and black spots can be reduced as image defects.
【図1】基体外径切削加工機と粗面化用ドライアイスペ
レット吹き付けノズル取り付け位置とを表わした図であ
る。FIG. 1 is a diagram showing a substrate outer diameter cutting machine and a dry ice pellet spraying nozzle mounting position for roughening.
【図2】ドライアイスペレット吹き付けノズルの配置を
表わした図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an arrangement of a nozzle for spraying dry ice pellets.
【図3】電子写真用機能分離型有機感光体の概略断面図
である。FIG. 3 is a schematic sectional view of a function-separated organic photoconductor for electrophotography.
1 外径切削加工機主軸 2 主軸スピンドル 3 コレットチャック 4 テール軸 5 テール軸スピンドル 6 コレットチャック 7 円筒状アルミニウム基体 8 切削加工用刃物台 9 刃物台テーブル 10 ドライアイスペレット吹き付けノズル 11 ドライアイスペレット供給ホース 12 圧縮空気供給ホース 13 ペレタイザー 14 ダイヤモンドバイトの復路時戻り位置 15 アルミニウム切粉吸引口 16 刃物台テーブル前進後退用駆動油圧シリンダ 17 ノズル位置調整台ネジノブ 18 基体 19 基体表面 20 陽極酸化膜 21 下引き層 22 電荷発生層 23 電荷移動層 24 半導体レーザ光 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Outer diameter cutting machine main spindle 2 Spindle spindle 3 Collet chuck 4 Tail axis 5 Tail axis spindle 6 Collet chuck 7 Cylindrical aluminum base 8 Cutting tool post 9 Tool post table 10 Dry ice pellet spray nozzle 11 Dry ice pellet supply hose Reference Signs List 12 compressed air supply hose 13 pelletizer 14 return position of diamond cutting tool at return path 15 aluminum chip suction port 16 tool post table table drive forward / backward hydraulic cylinder 17 nozzle position adjustment stand screw knob 18 base 19 base surface 20 anodic oxide film 21 undercoat layer Reference Signs List 22 charge generation layer 23 charge transfer layer 24 semiconductor laser light
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 立嶋 照璽 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Terushima Tateshima Ricoh Co., Ltd. 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo
Claims (4)
又は刃具を切削位置より戻した時にノズル噴射口の軸芯
が被加工物の軸芯に直角になるように、ドライアイスペ
レット噴射ブラスト装置を設置し、このノズル口径を被
加工物の外径側に40%以下の開口として、切削加工後
の基体表面に、径0.3〜1.0mmのドライアイスペ
レットを噴射量0.5〜4kg/分、圧縮空気圧力3〜
6kg/cm2、流量0.5〜2.5m3/分、かつ、刃
物台移動によってノズルを移動させ、基体1回転当りの
ノズル移動距離2〜15mmで吹付け、該基体表面を粗
面化することを特徴とする電子写真感光体用基体の製造
方法。Dry ice pellets such that the axis of a nozzle orifice is at right angles to the axis of a workpiece when the tool is returned from the cutting position to the opposite side of the tool on the tool rest of the cutting machine. An injection blasting device is installed, and the diameter of the nozzle is set to an opening of 40% or less on the outer diameter side of the workpiece. 0.5 to 4 kg / min, compressed air pressure 3 to
The nozzle is moved by 6 kg / cm 2 , the flow rate is 0.5 to 2.5 m 3 / min, and the tool post is moved, and the nozzle is sprayed at a nozzle moving distance of 2 to 15 mm per rotation of the substrate to roughen the surface of the substrate. A method for producing a substrate for an electrophotographic photoreceptor.
転数以下の300〜1000回転/分で行なうことを特
徴とする請求項1記載の電子写真感光体用基体の製造方
法。2. The method for manufacturing a substrate for an electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein said surface roughening is performed at a speed of 300 to 1000 revolutions / minute or less, which is equal to or lower than the substrate cutting speed, when the tool post is returned.
0.01〜0.3μmの鏡面加工が施され、次いで粗面
化によるランダムな表面粗さ0.5〜2μmが施される
ことを特徴とする請求項1又は2記載の電子写真感光体
用基体の製造方法。3. The substrate before surface roughening is subjected to mirror finishing of 0.01 to 0.3 μm by cutting, and then to random surface roughness of 0.5 to 2 μm by roughening. The method for producing a substrate for an electrophotographic photoreceptor according to claim 1 or 2, wherein
に、膜厚1〜5μmで硬度HV350〜600の陽極強
化膜を形成することを特徴とする請求項1、2又は3記
載の電子写真感光体基体の製造方法。4. The electrophotograph according to claim 1, wherein an anode strengthening film having a thickness of 1 to 5 μm and a hardness of HV 350 to 600 is formed on the cylindrical aluminum substrate after the surface roughening. A method for manufacturing a photoreceptor substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15516898A JPH11327187A (en) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | Method for producing substrate for electrophotographic photoreceptor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15516898A JPH11327187A (en) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | Method for producing substrate for electrophotographic photoreceptor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11327187A true JPH11327187A (en) | 1999-11-26 |
Family
ID=15600007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15516898A Pending JPH11327187A (en) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | Method for producing substrate for electrophotographic photoreceptor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11327187A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009271283A (en) * | 2008-05-07 | 2009-11-19 | Konica Minolta Business Technologies Inc | Organic photoreceptor, image forming method, image forming apparatus and image forming unit |
| JP2013015823A (en) * | 2011-06-07 | 2013-01-24 | Canon Inc | Electrophotographic device |
-
1998
- 1998-05-20 JP JP15516898A patent/JPH11327187A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009271283A (en) * | 2008-05-07 | 2009-11-19 | Konica Minolta Business Technologies Inc | Organic photoreceptor, image forming method, image forming apparatus and image forming unit |
| JP2013015823A (en) * | 2011-06-07 | 2013-01-24 | Canon Inc | Electrophotographic device |
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