JPH11328962A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents
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- JPH11328962A JPH11328962A JP11064192A JP6419299A JPH11328962A JP H11328962 A JPH11328962 A JP H11328962A JP 11064192 A JP11064192 A JP 11064192A JP 6419299 A JP6419299 A JP 6419299A JP H11328962 A JPH11328962 A JP H11328962A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低消費電力化と素子の高信頼性を図りつつ、
動作の高速化及び降圧電圧により内部回路が動作させら
れ、クロック信号に同期して出力信号を送出させる半導
体集積回路装置を提供する。簡単な構成による論理付レ
ベルシフト回路を備えた半導体集積回路装置を提供す
る。
【解決手段】 外部端子から供給される電源電圧を受
け、それを降圧した電圧で動作させられる内部回路と、
上記内部回路で形成された出力すべき信号をタイミング
信号に従って外部端子を通して出力させる出力回路とを
備えた半導体集積回路装置において、上記内部回路で形
成された出力すべき信号をレベルシフト回路により上記
外部端子から供給された電圧レベルに対応した信号レベ
ルに変換し、上記出力回路により上記外部端子から供給
された電源電圧に対応した電圧レベルのタイミング信号
を用いて上記レベル変換された信号を出力させる。
(57) [Abstract] [Problem] To achieve low power consumption and high device reliability,
Provided is a semiconductor integrated circuit device in which an internal circuit is operated by high-speed operation and a step-down voltage, and an output signal is transmitted in synchronization with a clock signal. Provided is a semiconductor integrated circuit device having a level shift circuit with logic having a simple configuration. SOLUTION: An internal circuit which receives a power supply voltage supplied from an external terminal and is operated by a stepped down voltage,
An output circuit for outputting a signal to be output formed by the internal circuit through an external terminal in accordance with a timing signal, wherein a signal to be output formed by the internal circuit is output to the external circuit by a level shift circuit. The signal is converted to a signal level corresponding to the voltage level supplied from the terminal, and the output circuit outputs the level-converted signal using a timing signal of a voltage level corresponding to the power supply voltage supplied from the external terminal.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体集積回路
装置に関し、主として内部回路が降圧電圧で動作させら
れるダイナミック型RAM(ランダム・アクセス・メモ
リ)をはじめとする半導体メモリにおける出力系回路と
それに用いられる論理付レベルシフト回路に利用して有
効な技術に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly to an output system circuit in a semiconductor memory such as a dynamic RAM (random access memory) in which an internal circuit is operated at a step-down voltage, and used therefor. The present invention relates to a technology that is effective when used in a level shift circuit with logic.
【0002】[0002]
【従来の技術】高集積半導体メモリでは、微細デバイス
の信頼性確保と消費電力の低減のために、内部回路を外
部電源電圧から降下した降圧電圧で動作させる方式が広
く用いられている。このような降圧回路を搭載したダイ
ナミック型RAMの例として、特開平9−270191
号公報がある。2. Description of the Related Art In a highly integrated semiconductor memory, a method of operating an internal circuit at a step-down voltage lower than an external power supply voltage has been widely used in order to secure reliability of a fine device and reduce power consumption. An example of a dynamic RAM having such a step-down circuit is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-270191.
There is an official gazette.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記のような降圧電圧
で内部回路を動作させる場合、出力回路においてはその
前段でレベルシフトあるいはレベル変換(増幅)動作を
行わせ、入出力インターフェイスを所望の仕様に合わせ
る必要がある。この場合、上記出力回路においては、ク
ロック信号等のタイミング信号に従った出力動作を行わ
せるものでは、上記レベルシフトあるいはレベル変換動
作の分だけ速度が遅くってしまう。例えば、クロック信
号に同期した出力信号を得るようにしたシンクロナスD
RAM等においては、クロック信号に対する信号出力タ
イミングの遅延時間tACが約5ns程度と小くするこ
とが要求されるので、上記レベル変換に費やされる時間
は決して無視できない。そして、上記微細デバイス化の
進展に伴い低消費電力化と素子の高信頼性等のために降
圧電圧をより小さくする場合には、レベル変換に費やさ
れる時間がいっそう長くなるため、かかる降圧電圧で内
部回路が動作させられる半導体集積回路装置において、
上記レベルシフト(変換)動作での信号遅延が重要な課
題となるものである。When the internal circuit is operated with the step-down voltage as described above, in the output circuit, a level shift or level conversion (amplification) operation is performed in the preceding stage, and the input / output interface is set to a desired specification. It is necessary to match. In this case, if the output circuit performs an output operation in accordance with a timing signal such as a clock signal, the speed is reduced by the level shift or level conversion operation. For example, a synchronous D that obtains an output signal synchronized with a clock signal
In a RAM or the like, since the delay time tAC of the signal output timing with respect to the clock signal is required to be as small as about 5 ns, the time spent for the level conversion cannot be ignored. In the case where the step-down voltage is further reduced for the purpose of low power consumption and high reliability of the element with the progress of the miniaturization of the device, the time spent for level conversion is further increased. In a semiconductor integrated circuit device in which an internal circuit is operated,
Signal delay in the level shift (conversion) operation is an important issue.
【0004】この発明の目的は、低消費電力化と素子の
高信頼性を図りつつ、動作の高速化を実現した半導体集
積回路装置を提供することにある。この発明の他の目的
は、降圧電圧により内部回路が動作させられ、クロック
信号に同期して出力信号を送出させる半導体集積回路装
置を提供することにある。この発明の更に他の目的は、
簡単な構成による論理付レベルシフト回路を備えた半導
体集積回路装置を提供することにある。この発明の前記
ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記
述および添付図面から明らかになるであろう。An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device which realizes high-speed operation while achieving low power consumption and high device reliability. Another object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device in which an internal circuit is operated by a step-down voltage and an output signal is transmitted in synchronization with a clock signal. Still another object of the present invention is to provide
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device having a level shift circuit with logic having a simple configuration. The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、外部端子から供給される電
源電圧を受け、それを降圧した電圧で動作させられる内
部回路と、上記内部回路で形成された出力すべき信号を
タイミング信号に従って外部端子を通して出力させる出
力回路とを備えた半導体集積回路装置において、上記内
部回路で形成された出力すべき信号をレベルシフト回路
により上記外部端子から供給された電圧レベルに対応し
た信号レベルに変換し、上記出力回路により上記外部端
子から供給された電源電圧に対応した電圧レベルのタイ
ミング信号を用いて上記レベル変換された信号を出力さ
せる。The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application. That is, an internal circuit that receives a power supply voltage supplied from an external terminal and operates at a stepped-down voltage, and an output circuit that outputs a signal to be output formed by the internal circuit through an external terminal according to a timing signal. In the semiconductor integrated circuit device provided, a signal to be output formed in the internal circuit is converted into a signal level corresponding to a voltage level supplied from the external terminal by a level shift circuit, and the signal is output from the external terminal by the output circuit. The level-converted signal is output using a timing signal having a voltage level corresponding to the supplied power supply voltage.
【0006】本願において開示される発明のうち他の代
表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りであ
る。すなわち、外部端子から供給される電源電圧を受
け、それを降圧した電圧で動作させられる内部回路と、
上記内部回路で形成された第1信号と外部端子から供給
される電源電圧に対応した第2信号との論理処理を行う
論理部として、上記第1信号に対応して相補的にスイッ
チ動作を行う一対からなる第1と第2のNチャンネル型
MOSFETと、かかる第1と第2のNチャンネル型M
OSFETのドレインと外部端子から供給された電源電
圧との間に設けられ、互いにゲートとドレインとが交差
接続された第1と第2のPチャンネル型MOSFET
と、上記第2信号をゲートに受けて上記一対のNチャン
ネル型MOSFETのうち出力端子にドレインが接続さ
れたものと直列(又は並列)に接続された第3のNチャ
ンネル型MOSFETと、上記第2信号をゲートに受け
て上記交差接続されPチャンネル型MOSFETのうち
出力端子にドレインが接続されたものと並列(又は直
列)に接続された第3のPチャンネル型MOSFETと
で構成する。The following is a brief description of an outline of another typical invention disclosed in the present application. That is, an internal circuit that receives a power supply voltage supplied from an external terminal and operates at a stepped down voltage,
As a logic unit that performs logical processing of a first signal formed by the internal circuit and a second signal corresponding to a power supply voltage supplied from an external terminal, performs a switch operation complementarily in response to the first signal. A pair of first and second N-channel MOSFETs, and the first and second N-channel MOSFETs;
First and second P-channel MOSFETs provided between a drain of an OSFET and a power supply voltage supplied from an external terminal and having a gate and a drain cross-connected to each other
And a third N-channel MOSFET connected in series (or in parallel) with the drain of which is connected to the output terminal of the pair of N-channel MOSFETs, receiving the second signal at the gate; Two cross-connected P-channel MOSFETs whose gates receive two signals have a drain connected to the output terminal and a third P-channel MOSFET connected in parallel (or in series).
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】図1には、この発明が適用される
ダイナミック型RAMの一実施例の概略レイアウト図が
示されている。同図においては、この発明が適用される
ダイナミック型RAMを構成する各回路ブロックのう
ち、その主要部が判るように示されており、それが公知
の半導体集積回路の製造技術により、単結晶シリコンの
ような1個の半導体基板上において形成される。FIG. 1 is a schematic layout diagram showing one embodiment of a dynamic RAM to which the present invention is applied. In the figure, the main part of each circuit block constituting the dynamic RAM to which the present invention is applied is shown so that it can be understood. Are formed on one semiconductor substrate.
【0008】この実施例では、特に制限されないが、メ
モリアレイは、全体として4個に分けられる。半導体チ
ップの長手方向に対して中央部分14にアドレス入力回
路、データ入出力回路及びボンディングパッド列からな
る入出力インターフェイス回路及び降圧回路を含む電源
回路等が設けられる。これら中央部分14の両側のメモ
リアレイに接する部分には、カラムデコーダ領域13が
配置される。In this embodiment, although not particularly limited, the memory array is divided into four as a whole. A power supply circuit including an input / output interface circuit composed of an address input circuit, a data input / output circuit, a bonding pad array, a step-down circuit, and the like are provided in a central portion 14 in the longitudinal direction of the semiconductor chip. Column decoder regions 13 are arranged in portions of both sides of the central portion 14 in contact with the memory array.
【0009】上述のように半導体チップの長手方向に対
して左右に2個、上下に2個ずつに分けられた4個から
なる各メモリアレイにおいて、長手方向に対して上下中
央部にメインロウデコーダ領域11が設けられる。この
メインロウデコーダの上下には、メインワードドライバ
領域12が形成されて、上記上下に分けられたメモリア
レイのメインワード線をそれぞれが駆動するようにされ
る。As described above, in each of the four memory arrays divided into two on the left and right and two on the upper and lower sides with respect to the longitudinal direction of the semiconductor chip, the main row decoder is disposed at the upper and lower central parts in the longitudinal direction. An area 11 is provided. Main word driver regions 12 are formed above and below the main row decoder, and drive the main word lines of the vertically divided memory array.
【0010】上記メモリセルアレイ(サブアレイ)15
は、その拡大図に示すように、メモリセルアレイ15を
挟んでセンスアンプ領域16、サブワードドライバ領域
17に囲まれて形成されるものである。上記センスアン
プ領域と、上記サブワードドライバ領域の交差部は、交
差領域(クロスエリア)18とされる。上記センスアン
プ領域16に設けられるセンスアンプは、シェアードセ
ンス方式により構成され、メモリセルアレイの両端に配
置されるセンスアンプを除いて、センスアンプを中心に
して左右に相補ビット線が設けられ、左右いずれかのメ
モリセルアレイの相補ビット線に選択的に接続される。The above-mentioned memory cell array (sub-array) 15
Are formed so as to be surrounded by the sense amplifier region 16 and the sub-word driver region 17 with the memory cell array 15 interposed therebetween, as shown in the enlarged view. An intersection between the sense amplifier area and the sub-word driver area is an intersection area (cross area) 18. The sense amplifiers provided in the sense amplifier region 16 are configured by a shared sense method, and except for the sense amplifiers arranged at both ends of the memory cell array, complementary bit lines are provided on the left and right around the sense amplifier. Selectively connected to the complementary bit lines of the memory cell array.
【0011】上述のように半導体チップの長手方向に対
して左右に4個ずつに分けられたメモリアレイは、2個
ずつ組となって配置される。このように2個ずつ組とな
って配置された2つのメモリアレイは、その中央部分に
上記メインロウデコーダ領域11とメインワードドライ
バ12が配置される。メインワードドライバ12は、上
記1つのメモリアレイを貫通するように延長されるメイ
ンワード線の選択信号を形成する。また、上記メインワ
ードドライバ12にサブワード選択用のドライバも設け
られ、後述するように上記メインワード線と平行に延長
されてサブワード選択線信号を形成する。As described above, the memory arrays divided into four on the left and right sides in the longitudinal direction of the semiconductor chip are arranged in groups of two. In the two memory arrays thus arranged in pairs, the main row decoder region 11 and the main word driver 12 are arranged in the center. The main word driver 12 generates a selection signal of a main word line extended so as to penetrate the one memory array. The main word driver 12 is also provided with a driver for selecting a sub-word, and extends in parallel with the main word line to form a sub-word selection line signal, as described later.
【0012】拡大図として示された1つのメモリセルア
レイ(サブアレイ)15は、図示しないがサブワード線
が256本と、それと直交する相補ビット線(又はデー
タ線)が256対とされる。上記1つのメモリアレイに
おいて、上記メモリセルアレイ(サブアレイ)15がビ
ット線方向に16個設けられるから、全体としての上記
サブワード線は約4K分設けられ、ワード線方向に8個
設けられるから、相補ビット線は全体として約2K分設
けられる。このようなメモリアレイが全体で8個設けら
れるから、全体では8×2K×4K=64Mビットのよ
うな記憶容量を持つようにされる。Although not shown, one memory cell array (sub-array) 15 shown as an enlarged view has 256 sub-word lines and 256 pairs of complementary bit lines (or data lines) orthogonal thereto. In the one memory array, 16 memory cell arrays (sub-arrays) 15 are provided in the bit line direction. Therefore, about 4K sub-word lines are provided as a whole, and 8 sub-word lines are provided in the word line direction. A total of about 2K lines are provided. Since eight such memory arrays are provided as a whole, the memory array has a total storage capacity of 8 × 2K × 4K = 64 Mbits.
【0013】上記1つのメモリアレイは、メインワード
線方向に対して8個に分割される。かかる分割されたメ
モリセルアレイ15毎にサブワードドライバ(サブワー
ド線駆動回路)17が設けられる。サブワードドライバ
17は、メインワード線に対して1/8の長さに分割さ
れ、それと平行に延長されるサブワード線の選択信号を
形成する。この実施例では、メインワード線の数を減ら
すために、言い換えるならば、メインワード線の配線ピ
ッチを緩やかにするために、特に制限されないが、1つ
のメインワード線に対して、相補ビット線方向に4本か
らなるサブワード線を配置させる。このようにメインワ
ード線方向には8本に分割され、及び相補ビット線方向
に対して4本ずつが割り当てられたサブワード線の中か
ら1本のサブワード線を選択するために、サブワード選
択ドライバが配置される。このサブワード選択ドライバ
は、上記サブワードドライバの配列方向に延長される4
本のサブワード選択線の中から1つを選択する選択信号
を形成する。The one memory array is divided into eight in the main word line direction. A sub-word driver (sub-word line driving circuit) 17 is provided for each of the divided memory cell arrays 15. The sub-word driver 17 is divided into の 長 of the length of the main word line, and forms a sub-word line selection signal extending in parallel with the length. In this embodiment, in order to reduce the number of main word lines, in other words, to reduce the wiring pitch of the main word lines, there is no particular limitation. Are arranged four sub-word lines. In order to select one sub-word line from among the sub-word lines divided into eight in the main word line direction and four in the complementary bit line direction, a sub-word selection driver is used. Be placed. This sub-word selection driver is extended in the arrangement direction of the sub-word drivers.
A selection signal for selecting one of the sub-word selection lines is formed.
【0014】上記1つのメモリアレイに着目すると、1
本のメインワード線に割り当てられる8個のメモリセル
アレイのすべての中から、1本ずつのサブワード線を選
択する。上記のようにメインワード線方向に2K(20
48)のメモリセルが設けられるので、1つのサブワー
ド線には、2048/8=256個のメモリセルが接続
されることとなる。Focusing on the one memory array, 1
One sub word line is selected from all eight memory cell arrays allocated to the main word lines. As described above, 2K (20
Since the memory cell of 48) is provided, 2048/8 = 256 memory cells are connected to one sub-word line.
【0015】上記のように1つのメモリアレイは、相補
ビット線方向に対して4Kビットの記憶容量を持つ。し
かしながら、1つの相補ビット線に対して4Kものメモ
リセルを接続すると、相補ビット線の寄生容量が増大
し、微細な情報記憶用キャパシタとの容量比により読み
出される信号レベルが得られなくなってしまうために、
相補ビット線方向に対しても16分割される。つまり、
太い黒線で示されたセンスアンプ16により 相補ビッ
ト線が16分割される。特に制限されないが、センスア
ンプ16は、シェアードセンス方式により構成され、メ
モリアレイの両端に配置されるセンスアンプ16を除い
て、センスアンプ16を中心にして左右に相補ビット線
が設けられ、左右いずれかの相補ビット線に選択的に接
続される。As described above, one memory array has a storage capacity of 4K bits in the complementary bit line direction. However, if as many as 4K memory cells are connected to one complementary bit line, the parasitic capacitance of the complementary bit line increases, and a signal level that is read out cannot be obtained due to the capacitance ratio with a fine information storage capacitor. To
It is also divided into 16 in the complementary bit line direction. That is,
The complementary bit line is divided into 16 by the sense amplifier 16 indicated by a thick black line. Although not particularly limited, the sense amplifier 16 is configured by a shared sense method, and except for the sense amplifiers 16 arranged at both ends of the memory array, complementary bit lines are provided on the left and right around the sense amplifier 16, and the left and right sides are provided. Are selectively connected to the complementary bit lines.
【0016】図2には、この発明が適用されるダイナミ
ック型RAMを説明するための概略レイアウト図が示さ
れている。同図には、メモリチップ全体の概略レイアウ
トと、8分割された1つのメモリアレイのレイアウトが
示されている。同図は、図1の実施例を別の観点から図
示したものである。つまり、図1と同様にメモリアレイ
は、長手方向(ワード線方向)対して左右に4分割、上
下に分割される。メモリアレイ(Array)が8分割され、
その長手方向における中央部分には複数からなるボンデ
ィングパッド及びアドレスバッファ、制御回路やプリデ
コーダ及びタイミング制御回路等のような間接周辺回路
(Bonding Pad & peripheral Circuit)が設けられる。FIG. 2 is a schematic layout diagram for explaining a dynamic RAM to which the present invention is applied. FIG. 1 shows a schematic layout of the entire memory chip and a layout of one memory array divided into eight. This figure illustrates the embodiment of FIG. 1 from another point of view. That is, as in FIG. 1, the memory array is divided into four parts in the left-right direction and up and down in the longitudinal direction (word line direction). The memory array (Array) is divided into 8
A plurality of bonding pads and address buffers, a control circuit, a predecoder, a timing control circuit, and other indirect peripheral circuits (Bonding Pad & peripheral Circuit) are provided at the central portion in the longitudinal direction.
【0017】上記8個のメモリアレイは、それぞれが約
8Mビットの記憶容量を持つようにされるものであり、
そのうちの一つが拡大して示されているように、ワード
線方向に8分割され、ビット線方向に16分割されたサ
ブアレイが設けられる。上記サブアレイのビット線方向
の両側には、上記ビット線方向に対してセンスアンプ
(Sence Amplifier)が配置される。上記サブアレイのワ
ード線方向の両側には、サブワードドライバ(Sub-Word
Driver)が配置される。Each of the eight memory arrays has a storage capacity of about 8 Mbits.
As one of them is shown enlarged, a sub-array divided into eight in the word line direction and divided into sixteen in the bit line direction is provided. On both sides of the sub-array in the bit line direction, sense amplifiers (Sence Amplifiers) are arranged in the bit line direction. A sub-word driver (Sub-Word driver) is provided on both sides of the sub-array in the word line direction.
Driver) is placed.
【0018】上記1つのアレイには、全体で4096本
のワード線と2048対の相補ビット線が設けられる。
これにより、全体で約8Mビットの記憶容量を持つよう
にされる。上記のように4096本のワード線が16個
のサブアレイに分割して配置されるので、1つのサブア
レイには256本のワード線(サブワード線)が設けら
れる。また、上記のように2048対の相補ビット線が
8個のサブアレイに分割して配置されるので、1つのサ
ブアレイには256対の相補ビット線が設けられる。The one array is provided with a total of 4096 word lines and 2048 pairs of complementary bit lines.
As a result, the storage capacity is about 8 Mbits in total. As described above, 4096 word lines are divided into 16 sub-arrays and arranged, so that one sub-array is provided with 256 word lines (sub-word lines). In addition, since 2048 pairs of complementary bit lines are divided into eight sub-arrays as described above, one sub-array is provided with 256 pairs of complementary bit lines.
【0019】上記2つのアレイの中央部には、メインロ
ウデコーダ、アレイコントロール(Array control)回路
及びメインワードドライバ(Main Word driver)が設けら
れる。上記アレイコントロール回路には、第1のサブワ
ード選択線を駆動するドライバが含まれる。上記アレイ
には、上記8分割されたサブアレイを貫通するように延
長されるメインワード線が配置される。上記メインワー
ドドライバは、上記メインワード線を駆動する。上記メ
インワード線と同様に第1のサブワード選択線も上記8
分割されたサブアレイを貫通するように延長される。上
記アレイの上部には、Yデコーダ(YDecoder) 及びY選
択線ドライバ(YSdriver) が設けられる。At the center of the two arrays, a main row decoder, an array control circuit and a main word driver are provided. The array control circuit includes a driver for driving a first sub-word selection line. A main word line extending so as to penetrate the eight divided sub-arrays is arranged in the array. The main word driver drives the main word line. Like the main word line, the first sub-word select line is also connected to
It is extended so as to penetrate the divided sub-array. Above the array, a Y decoder (YDecoder) and a Y select line driver (YSdriver) are provided.
【0020】図3には、この発明に係るダイナミック型
RAMにおけるサブアレイとその周辺回路の一実施例の
概略レイアウト図が示されている。同図には、図2に示
されたメモリアレイの中の斜線を付した位置に配置され
た4つのサブアレイSBARYが代表として示されてい
る。図3においては、サブアレイSBARYが形成され
る領域には斜線を付すことによって、その周辺に設けら
れサブワードドライバ領域、センスアンプ領域及びクロ
スエリアとを区別するものである。FIG. 3 is a schematic layout diagram showing one embodiment of a sub-array and its peripheral circuits in a dynamic RAM according to the present invention. In FIG. 4, four sub-arrays SBARY arranged at hatched positions in the memory array shown in FIG. 2 are shown as representatives. In FIG. 3, a region where the sub-array SBARY is formed is shaded to distinguish a sub-word driver region, a sense amplifier region, and a cross area provided therearound.
【0021】サブアレイSBARYは、次のような4種
類に分けられる。つまり、ワード線の延長方向を水平方
向とすると、右下に配置される第1のサブアレイSBA
RYは、サブワード線SWLが256本配置され、相補
ビット線対は256対から構成される。それ故、上記2
56本のサブワード線SWLに対応した256個のサブ
ワードドライバSWDは、かかるサブアレイの左右に1
28個ずつに分割して配置される。上記256対の相補
ビット線BLに対応して設けられる256個のセンスア
ンプSAは、前記のようなシェアードセンスアンプ方式
に加えて、さらに交互配置とし、かかるサブアレイの上
下において128個ずつに分割して配置される。The subarray SBARY is divided into the following four types. That is, when the extending direction of the word line is the horizontal direction, the first sub-array SBA
RY has 256 sub-word lines SWL and 256 complementary bit line pairs. Therefore, the above 2
The 256 sub-word drivers SWD corresponding to the 56 sub-word lines SWL are connected to the left and right of the sub-array by one.
It is divided into 28 pieces and arranged. The 256 sense amplifiers SA provided corresponding to the 256 pairs of complementary bit lines BL are arranged alternately in addition to the above-described shared sense amplifier system, and are divided into 128 pieces above and below the sub-array. Placed.
【0022】右上配置される第2のサブアレイSBAR
Yは、特に制限されないが、正規のサブワード線SWL
が256本に加えて8本の予備(冗長)ワード線が設け
られ、相補ビット線対は256対から構成される。それ
故、上記256+8本のサブワード線SWLに対応した
264個のサブワードドライバSWDは、かかるサブア
レイの左右に132個ずつに分割して配置される。セン
スアンプは、上記同様に128個ずつが上下に配置され
る。すなわち、上記右側の上下に配置されるサブアレイ
SBARYに形成される256対のうちの128対の相
補ビット線は、それに挟まれたセンスアンプSAに対し
てシェアードスイッチMOSFETを介して共通に接続
される。Second sub-array SBAR arranged at the upper right
Although Y is not particularly limited, the regular sub word line SWL
Is provided with eight spare (redundant) word lines in addition to 256, and the complementary bit line pairs are composed of 256 pairs. Therefore, the 264 sub-word drivers SWD corresponding to the above-mentioned 256 + 8 sub-word lines SWL are divided and arranged on the left and right of the sub-array in units of 132. As described above, 128 sense amplifiers are vertically arranged. That is, 128 pairs of complementary bit lines of the 256 pairs formed in the upper and lower sub-arrays SBARY arranged above and below the right side are commonly connected to the sense amplifier SA interposed therebetween via the shared switch MOSFET. .
【0023】左下配置される第3のサブアレイSBAR
Yは、右隣接のサブアレイSBARYと同様にサブワー
ド線SWLが256本により構成される。上記同様に1
28個のサブワードドライバが分割して配置される。上
記下側左右に配置されたサブアレイSBARYの256
本のうちの128本のサブワード線SWLは、それに挟
まれた領域に形成された128個のサブワードドライバ
SWDに対して共通に接続される。上記のように左下配
置されるサブアレイSBARYは、256対からなる正
規の相補ビット線BLに加えて、4対の予備(冗長)ビ
ット線4REDが設けられる。それ故、上記260対か
らなる相補ビット線BLに対応した260個のセンスア
ンプSAは、かかるサブアレイの上下に130個ずつに
分割して配置される。A third sub-array SBAR arranged at the lower left
Y is composed of 256 sub-word lines SWL in the same manner as the right adjacent sub-array SBARY. 1 as above
28 sub-word drivers are divided and arranged. 256 of the subarray SBARY arranged on the lower left and right sides
The 128 sub-word lines SWL are commonly connected to the 128 sub-word drivers SWD formed in the region sandwiched between them. The subarray SBARY arranged at the lower left as described above is provided with four pairs of spare (redundant) bit lines 4RED in addition to 256 pairs of normal complementary bit lines BL. Therefore, the 260 sense amplifiers SA corresponding to the 260 pairs of complementary bit lines BL are divided and arranged in 130 units above and below the subarray.
【0024】左上配置される第4のサブアレイSBAR
Yは、右隣接のサブアレイSBARYと同様に正規のサ
ブワード線SWLが256本に予備サブワード線が8本
設けられ、下隣接のサブアレイと同様に正規の相補ビッ
ト線対の256対に加えて、予備のビット線が4対設け
られるので、サブワードドライバは、左右に132個ず
つ分割して配置され、センスアンプSAは上下に130
ずつが分割して配置される。Fourth subarray SBAR arranged at the upper left
Y has 256 regular sub-word lines SWL and eight spare sub-word lines as in the right adjacent sub-array SBARY. In addition to the 256 normal complementary bit line pairs as in the lower adjacent sub-array, the spare Are provided, and the sub-word drivers are divided into 132 units each on the left and right sides, and the sense amplifier SA is
Are divided and arranged.
【0025】メインワード線MWLは、その1つが代表
として例示的に示されているように前記のような水平方
向に延長される。また、カラム選択線YSは、その1つ
が代表として例示されるように縦方向に延長される。上
記メインワード線MWLと平行にサブワード線SWLが
配置され、上記カラム選択線YSと平行に相補ビット線
BL(図示ぜす)が配置されるものである。この実施例
では、特に制限されないが、上記4つのサブアレイを基
本単位の1組として、図2のように8Mビット分のメモ
リアレイでは、ビット線方向には8組のサブアレイが形
成され、ワード線方向には4組のサブアレイが構成され
る。1組のサブアレイが4個で構成されるから、上記8
Mビットのメモリアレイでは、8×4×4=128個の
サブアレイが設けられる。上記8Mビットのメモリアレ
イがチップ全体では8個設けられるから、メモリチップ
全体では128×8=1024個ものサブアレイが形成
されるものである。The main word line MWL is extended in the horizontal direction as described above, one of which is exemplarily shown as a representative. The column selection line YS is extended in the vertical direction so that one of them is exemplified as a representative. A sub-word line SWL is arranged in parallel with the main word line MWL, and a complementary bit line BL (not shown) is arranged in parallel with the column selection line YS. In this embodiment, although not particularly limited, in the memory array of 8 Mbits as shown in FIG. 2, eight sub arrays are formed in the bit line direction with the above four sub arrays as one set of basic units. Four sets of subarrays are configured in the direction. Since one set of sub-arrays is composed of four,
In an M-bit memory array, 8 × 4 × 4 = 128 sub-arrays are provided. Since eight 8M-bit memory arrays are provided in the entire chip, 128 × 8 = 1024 subarrays are formed in the entire memory chip.
【0026】上記4個からなるサブアレイに対して、8
本のサブワード選択線FX0B〜FX7Bが、メインワ
ード線MWLと同様に4組(8個)のサブアレイを貫通
するように延長される。そして、サブワード選択線FX
0B〜FX3Bからなる4本と、FX4B〜FX7Bか
らなる4本とが上下のサブアレイ上に分けて延長させる
ようにする。このように2つのサブアレイに対して1組
のサブワード選択線FX0B〜FX7Bを割り当て、か
つ、それらをサブアレイ上を延長させるようにする理由
は、メモリチップサイズの小型化を図るためである。For the above four sub-arrays, 8
The sub-word select lines FX0B to FX7B are extended so as to penetrate four sets (eight) of sub-arrays, similarly to the main word line MWL. Then, the sub word select line FX
Four lines consisting of 0B to FX3B and four lines consisting of FX4B to FX7B are separately extended on the upper and lower sub-arrays. The reason why one set of sub-word selection lines FX0B to FX7B are allocated to the two sub-arrays and they are extended on the sub-arrays is to reduce the memory chip size.
【0027】つまり、各サブアレイに対して上記8本の
サブワード選択線FX0B〜FX7Bを割り当て、しか
もそれをセンスアンプエリア上の配線チャンネルに形成
した場合、図1のメモリアレイのように短辺方向の32
個ものセンスアンプで、8×32=256本分もの配線
チャンネルが必要になるものである。これに対して、上
記の実施例では、配線そのものが、上下2つのサブアレ
イに対して上記8本のサブワード選択線FX0B〜FX
7Bを共通に割り当て、しかも、それをサブアレイ上を
メインワード線と平行に互いに混在させるように配置さ
せることにより、格別な配線専用領域を設けることなく
形成することができる。That is, when the above-mentioned eight sub-word select lines FX0B to FX7B are allocated to each sub-array and are formed in the wiring channels on the sense amplifier area, the short-side direction as in the memory array of FIG. 32
As many as 256 sense channels are required for each sense amplifier. On the other hand, in the above-described embodiment, the wiring itself is connected to the upper and lower sub-arrays by the eight sub-word select lines FX0B to FX0B.
By allocating 7B in common and arranging them so that they are mixed on the sub-array in parallel with the main word line, it can be formed without providing a special wiring-dedicated area.
【0028】そもそも、サブアレイ上には、8本のサブ
ワード線に対して1本のメインワード線が設けられるも
のであり、その8本の中の1本のサブワード線を選択す
るためにサブワード選択線が必要になるものである。メ
モリセルのピッチに合わせて形成されるサブワード線S
WLの8本分に1本の割り合いでメインワード線MWL
が形成されるものであるために、メインワード線MWL
の配線ピッチは緩やかになっている。したがって、メイ
ンワード線MWLと同じ配線層を利用して、上記サブワ
ード選択線をメインワード線の間に形成することは配線
ピッチの緩やかさを少し犠牲にするだけで比較的容易に
できるものである。In the first place, one main word line is provided for eight sub-word lines on the sub-array, and a sub-word selection line is used to select one of the eight sub-word lines. Is necessary. Sub-word line S formed according to the pitch of the memory cells
Main word line MWL by one of eight WLs
Is formed, the main word line MWL
Have a gentle wiring pitch. Therefore, it is relatively easy to form the above-mentioned sub-word selection line between the main word lines by using the same wiring layer as the main word line MWL, with only a slight sacrifice in the looseness of the wiring pitch. .
【0029】この実施例のサブワードドライバSWD
は、上記サブワード選択線FX0B等を通して供給され
る選択信号と、それを反転させた選択信号とを用いて1
つのサブワード線SWLを選択する構成を採る。そし
て、サブワードドライバSWDは、それを中心として左
右に配置されるサブアレイのサブワード線SWLを同時
に選択するような構成を採るものである。そのため、上
記のようにFX0B等を共有する2つのサブアレイに対
しては、128×2=256個ものサブワードドライバ
に対して、上記4本のサブワード選択線を割り振って供
給する。つまり、サブワード選択線FX0Bに着目する
と、2つのサブアレイに対して256÷4=64個もの
サブワードドライバSWDに選択信号を供給する必要が
ある。The sub-word driver SWD of this embodiment
Is obtained by using a selection signal supplied through the sub-word selection line FX0B and the like and a selection signal obtained by inverting the selection signal.
A configuration for selecting one sub-word line SWL is adopted. The sub-word driver SWD is configured to simultaneously select the sub-word lines SWL of the sub-arrays arranged on the left and right of the sub-word driver SWD. Therefore, as described above, for the two sub-arrays sharing the FX0B or the like, the four sub-word selection lines are allocated and supplied to 128 × 2 = 256 sub-word drivers. That is, focusing on the sub-word selection line FX0B, it is necessary to supply a selection signal to as many as 256 ÷ 4 = 64 sub-word drivers SWD for two sub-arrays.
【0030】上記メインワード線MWLと平行に延長さ
れるものを第1のサブワード選択線FX0Bとすると、
左上部のクロスエリアに設けられ,上記第1のサブワー
ド選択線FX0Bからの選択信号を受けるサブワード選
択線駆動回路FXDを介して、上記上下に配列される6
4個のサブワードドライバに選択信号を供給する第2の
サブワード選択線FX0が設けられる。上記第1のサブ
ワード選択線FX0Bは上記メインワード線MWL及び
サブワード線SWLと平行に延長されるのに対して上記
第2のサブワード選択線は、それと直交するカラム選択
線YS及び相補ビット線BLと平行にサブワードドライ
バ領域上を延長される。上記8本の第1のサブワード選
択線FX0B〜FX7Bと同様に、上記第2のサブワー
ド選択線FX0〜FX7も、偶数FX0,2,4,6
と、奇数FX1,3,5,7とに分割されてサブアレイ
SBARYの左右に設けられたサブワードドライバSW
Dに振り分けられて配置される。If the one extending in parallel with the main word line MWL is a first sub-word selection line FX0B,
The six sub-word selection line driving circuits FXD which are provided in the upper left cross area and receive the selection signal from the first sub-word selection line FX0B are arranged in the above-mentioned vertical direction.
A second sub-word selection line FX0 that supplies a selection signal to four sub-word drivers is provided. The first sub-word selection line FX0B extends in parallel with the main word line MWL and the sub-word line SWL, while the second sub-word selection line has a column selection line YS and a complementary bit line BL which are orthogonal thereto. The sub word driver area is extended in parallel. Similarly to the eight first sub-word selection lines FX0B to FX7B, the second sub-word selection lines FX0 to FX7 also have even numbers FX0, 2, 4, 6
And odd word FX1, 3, 5, 7 and subword drivers SW provided on the left and right of subarray SBARY.
D.
【0031】上記サブワード選択線駆動回路FXDは、
同図において■で示したように、1つのクロスエリアの
上下に2個ずつ分配して配置される。つまり、上記のよ
うに左上部のクロスエリアでは、下側に配置されたサブ
ワード選択線駆動回路が上記第1のサブワード選択線F
X0Bに対応され、左中間部のクロスエリアに設けられ
た2つのサブワード選択線駆動回路FXDが、第1のサ
ブワード選択線FX2Bと、FX4Bに対応され、左下
部のクロスエリアの上側に配置されたサブワード選択線
駆動回路が上記第1のサブワード選択線FX6Bに対応
される。The sub word select line driving circuit FXD is
In the same drawing, as shown by a triangle, two pieces are distributed above and below one cross area. That is, as described above, in the upper left cross area, the sub-word selection line driving circuit arranged on the lower side operates the first sub-word selection line F
Two sub-word selection line driving circuits FXD corresponding to X0B and provided in the cross area in the left middle part are disposed above the lower left cross area in correspondence to the first sub-word selection lines FX2B and FX4B. The sub-word selection line driving circuit corresponds to the first sub-word selection line FX6B.
【0032】中央上部のクロスエリアでは、下側に配置
されたサブワード選択線駆動回路が上記第1のサブワー
ド選択線FX1Bに対応され、中央中間部のクロスエリ
アに設けられた2つのサブワード選択線駆動回路FXD
が、第1のサブワード選択線FX3Bと、FX5Bに対
応され、中央下部のクロスエリアの上側に配置されたサ
ブワード選択線駆動回路が上記第1のサブワード選択線
FX7Bに対応される。そして、右上部のクロスエリア
では、下側に配置されたサブワード選択線駆動回路が上
記第1のサブワード選択線FX0Bに対応され、右中間
部のクロスエリアに設けられた2つのサブワード選択線
駆動回路FXDが、第1のサブワード選択線FX2B
と、FX4Bに対応され、右下部のクロスエリアの上側
に配置されたサブワード選択線駆動回路が上記第1のサ
ブワード選択線FX6Bに対応される。このようにメモ
リアレイの端部に設けられたサブワードドライバでは、
その右側にはサブアレイが存在しないから、左側だけの
サブワード線SWLのみを駆動する。In the upper central cross area, a lower sub word select line driving circuit corresponding to the first sub word select line FX1B is provided, and two sub word select line drivers provided in the central middle cross area are driven. Circuit FXD
Correspond to the first sub-word selection lines FX3B and FX5B, and the sub-word selection line driving circuit disposed above the cross area at the lower center corresponds to the first sub-word selection line FX7B. In the upper right cross area, the lower sub word select line drive circuit corresponds to the first sub word select line FX0B, and two sub word select line drive circuits provided in the right middle cross area. FXD is the first sub-word select line FX2B
And the sub-word selection line driving circuit disposed above the cross area at the lower right of FIG. 4 corresponds to the first sub-word selection line FX6B. Thus, in the sub-word driver provided at the end of the memory array,
Since there is no sub-array on the right side, only the left sub-word line SWL is driven.
【0033】この実施例のようにサブアレイ上のメイン
ワード線MWLのピッチの隙間にサブワード選択線FX
Bを配置する構成では、格別な配線チャンネルが不要に
できるから、1つのサブアレイに8本のサブワード選択
線を配置するようにしてもメモリチップが大きくなるこ
とはない。しかしながら、上記のようなサブワード選択
線駆動回路FXDを形成するためにクロス領域の面積が
増大し、高集積化を妨げることとなる。つまり、上記ク
ロスエリアには、同図において点線で示したようなメイ
ン入出力線MIOやローカル入出力線LIOに対応して
設けられるスイッチ回路IOSWや、センスアンプを駆
動するパワーMOSFET、シェアードスイッチMOS
FETを駆動するための駆動回路、プリチャージMOS
FETを駆動する駆動回路等の周辺回路が形成されるた
めに面積的な余裕が無いからである。このため、図3の
実施例では、上/下の2つのサブアレイでサブワード選
択線駆動回路FXDを共用して面積増加を抑えている。As in this embodiment, the sub-word selection line FX is provided in the gap of the pitch of the main word line MWL on the sub-array.
In the configuration in which B is arranged, a special wiring channel can be made unnecessary, so that arranging eight sub-word selection lines in one sub-array does not increase the size of the memory chip. However, the formation of the sub-word select line driving circuit FXD as described above increases the area of the cross region, which hinders high integration. That is, in the cross area, a switch circuit IOSW provided corresponding to the main input / output line MIO and the local input / output line LIO, a power MOSFET driving a sense amplifier, a shared switch MOS
Driving circuit for driving FET, precharge MOS
This is because there is no area allowance because peripheral circuits such as a drive circuit for driving the FET are formed. For this reason, in the embodiment of FIG. 3, the upper and lower sub-arrays share the sub-word select line driving circuit FXD to suppress an increase in area.
【0034】上記クロスエリアのうち、偶数に対応した
第2のサブワード選択線FX0〜FX6の延長方向Aに
配置されたものには、後述するようにセンスアンプに対
して定電圧化された内部電圧VDLを供給するNチャン
ネル型のパワーMOSFETQ16及びオーバードライ
ブ用の電源電圧VDDを供給するNチャンネル型のパワ
ーMOSFETQ15、及びセンスアンプに対して回路
の接地電位VSSを供給するためのNチャンネル型のパ
ワーMOSFETQ14が設けられる。Among the cross areas, those arranged in the extension direction A of the second sub-word selection lines FX0 to FX6 corresponding to the even numbers have internal voltages which are made constant with respect to the sense amplifiers as described later. An N-channel power MOSFET Q16 for supplying VDL, an N-channel power MOSFET Q15 for supplying an overdrive power supply voltage VDD, and an N-channel power MOSFET Q14 for supplying a circuit ground potential VSS to the sense amplifier. Is provided.
【0035】上記クロスエリアのうち、奇数に対応した
第2のサブワード選択線FX1〜FX7の延長方向Bに
配置されたものには、ビット線のプリチャージ及びイコ
ライズ用MOSFETをオフ状態にさせるインバータ回
路と、特に制限されないが、センスアンプに対して回路
の接地電位VSSを供給するためのNチャンネル型のパ
ワーMOSFETが設けられる。このNチャンネル型の
パワーMOSFETは、センスアンプ列の両側からセン
スアンプを構成するNチャンネル型MOSFETの増幅
MOSFETの共通ソース線(CSN)に接地電位を供
給するものである。つまり、センスアンプエリアに設け
られる128個又は130個のセンスアンプに対して
は、上記A側のクロスエリアに設けられたNチャンネル
型のパワーMOSFETと、上記B側のクロスエリアに
設けられたNチャンネル型のパワーMOSFETの両方
により接地電位が供給される。In the above-mentioned cross areas, those arranged in the extending direction B of the odd-numbered second sub-word select lines FX1 to FX7 include an inverter circuit for turning off the MOSFETs for precharging and equalizing bit lines. Although not particularly limited, an N-channel type power MOSFET for supplying the circuit ground potential VSS to the sense amplifier is provided. This N-channel type power MOSFET supplies a ground potential to the common source line (CSN) of the N-channel type MOSFET amplifying MOSFETs constituting the sense amplifier from both sides of the sense amplifier row. That is, for the 128 or 130 sense amplifiers provided in the sense amplifier area, the N-channel type power MOSFET provided in the cross area on the A side and the N-channel power MOSFET provided in the cross area on the B side are provided. The ground potential is supplied by both of the channel type power MOSFETs.
【0036】上記のようにサブワード線駆動回路SWD
は、それを中心にして左右両側のサブアレイのサブワー
ド線を選択する。これに対して、上記選択された2つの
サブアレイのサブワード線に対応して左右2つのセンス
アンプが活性化される。つまり、サブワード線を選択状
態にすると、アドレス選択MOSFETがオン状態とな
り、記憶キャパシタの電荷がビット線電荷と合成されて
しまうので、センスアンプを活性化させてもとの電荷の
状態に戻すという再書き込み動作を行う必要があるから
である。このため、上記端部のサブアレイに対応したも
のを除いて、上記パワーMOSFETは、それを挟んで
両側のセンスアンプを活性化させるために用いられる。
これに対して、サブアレイ群の端に設けられたサブアレ
イの右側又は左側に設けられたサブワード線駆動回路S
WDでは、上記サブアレイのサブワード線しか選択しな
いから、上記パワーMOSFETは、上記サブアレイに
対応した片側のセンスアンプ群のみを活性化するもので
ある。As described above, the sub word line drive circuit SWD
Selects the sub-word lines of the sub-array on both the left and right sides with the center as the center. On the other hand, two left and right sense amplifiers are activated corresponding to the sub-word lines of the two selected sub-arrays. That is, when the sub-word line is set to the selected state, the address selection MOSFET is turned on and the charge of the storage capacitor is combined with the bit line charge, so that the sense amplifier is activated to return to the original charge state. This is because a write operation needs to be performed. Therefore, except for the one corresponding to the subarray at the end, the power MOSFET is used to activate the sense amplifiers on both sides of the power MOSFET.
On the other hand, the sub-word line driving circuit S provided on the right or left side of the sub-array provided at the end of the sub-array group
In WD, only the sub-word line of the sub-array is selected, so that the power MOSFET activates only one sense amplifier group corresponding to the sub-array.
【0037】上記センスアンプは、シェアードセンス方
式とされ、それを挟んで両側に配置されるサブアレイの
うち、上記サブワード線が非選択された側の相補ビット
線に対応したシェアードスイッチMOSFETがオフ状
態にされて切り離されることにより、上記選択されたサ
ブワード線に対応した相補ビット線の読み出し信号を増
幅し、メモリセルの記憶キャパシタをもとの電荷状態に
戻すという再書き込み動作を行う。The sense amplifier is of a shared sense type, and among the subarrays arranged on both sides of the shared amplifier, the shared switch MOSFET corresponding to the complementary bit line on the side where the subword line is not selected is turned off. As a result, the read signal of the complementary bit line corresponding to the selected sub-word line is amplified, and a rewrite operation of returning the storage capacitor of the memory cell to the original charge state is performed.
【0038】図4には、この発明に係るダイナミック型
RAMのセンスアンプ部を中心にして、アドレス入力か
らデータ出力までの簡略化された一実施例の回路図が示
されている。同図においては、2つのサブアレイ15に
上下から挟まれるようにされたセンスアンプ16と前記
交差エリア18に設けられる回路が例示的に示され、他
はブロック図として示されている。また、点線で示され
た回路ブロックは、前記符号によりそれぞれが示されて
いる。FIG. 4 is a circuit diagram of a simplified embodiment from the address input to the data output centering on the sense amplifier section of the dynamic RAM according to the present invention. In the figure, a sense amplifier 16 sandwiched between two sub-arrays 15 from above and below and a circuit provided in the intersection area 18 are exemplarily shown, and others are shown as block diagrams. The circuit blocks indicated by the dotted lines are indicated by the above-mentioned reference numerals.
【0039】ダイナミック型メモリセルは、上記1つの
サブアレイ15に設けられたサブワード線SWLと、相
補ビット線BL,BLBのうちの一方のビット線BLと
の間に設けられた1つが代表として例示的に示されてい
る。ダイナミック型メモリセルは、アドレス選択MOS
FETQmと記憶キャパシタCsから構成される。アド
レス選択MOSFETQmのゲートは、サブワード線S
WLに接続され、このMOSFETQmのドレインがビ
ット線BLに接続され、ソースに記憶キャパシタCsが
接続される。記憶キャパシタCsの他方の電極は共通化
されてプレート電圧VPLTが与えられる。上記MOS
FETQmの基板(チャンネル)には負のバックバイア
ス電圧VBBが印加される。上記サブワード線SWLの
選択レベルは、上記ビット線のハイレベルに対して上記
アドレス選択MOSFETQmのしきい値電圧分だけ高
くされた高電圧VPPとされる。The dynamic memory cell is typically exemplified by one provided between the sub-word line SWL provided in the one sub-array 15 and one of the complementary bit lines BL and BLB. Is shown in The dynamic memory cell has an address selection MOS
It comprises an FET Qm and a storage capacitor Cs. The gate of the address selection MOSFET Qm is connected to the sub word line S
The drain of the MOSFET Qm is connected to the bit line BL, and the source is connected to the storage capacitor Cs. The other electrode of the storage capacitor Cs is shared and supplied with the plate voltage VPLT. MOS above
A negative back bias voltage VBB is applied to the substrate (channel) of the FET Qm. The selection level of the sub-word line SWL is a high voltage VPP higher than the high level of the bit line by the threshold voltage of the address selection MOSFET Qm.
【0040】センスアンプを内部降圧電圧VDLで動作
させるようにした場合、センスアンプにより増幅されて
ビット線に与えられるハイレベルは、上記内部電圧VD
Lレベルにされる。したがって、上記ワード線の選択レ
ベルに対応した高電圧VPPはVDL+Vth+αにされ
る。センスアンプの左側に設けられたサブアレイの一対
の相補ビット線BLとBLBは、同図に示すように平行
に配置され、ビット線の容量バランス等をとるために必
要に応じて適宜に交差させられる。かかる相補ビット線
BLとBLBは、シェアードスイッチMOSFETQ1
とQ2によりセンスアンプの単位回路の入出力ノードと
接続される。When the sense amplifier is operated at the internal step-down voltage VDL, the high level amplified by the sense amplifier and given to the bit line is equal to the internal voltage VD
The level is set to L level. Therefore, the high voltage VPP corresponding to the word line selection level is set to VDL + Vth + α. A pair of complementary bit lines BL and BLB of the sub-array provided on the left side of the sense amplifier are arranged in parallel as shown in the figure, and are appropriately crossed as necessary to balance the bit line capacitance. . The complementary bit lines BL and BLB are connected to the shared switch MOSFET Q1.
And Q2 are connected to the input / output node of the unit circuit of the sense amplifier.
【0041】センスアンプの単位回路は、ゲートとドレ
インとが交差接続されてラッチ形態にされたNチャンネ
ル型の増幅MOSFETQ5,Q6及びPチャンネル型
の増幅MOSFETMOSFETQ7,Q8から構成さ
れる。Nチャンネル型MOSFETQ5とQ6のソース
は、共通ソース線CSNに接続される。Pチャンネル型
MOSFETQ7とQ8のソースは、共通ソース線CS
Pに接続される。上記共通ソース線CSNとCSPに
は、それぞれパワースイッチMOSFETが接続され
る。特に制限されないが、Nチャンネル型の増幅MOS
FETQ5とQ6のソースが接続された共通ソース線C
SNには、上記クロスエリア18に設けられたNチャン
ネル型のパワースイッチMOSFETQ14により接地
電位に対応した動作電圧が与えられる。The unit circuit of the sense amplifier is composed of N-channel type amplifying MOSFETs Q5, Q6 and P-channel type amplifying MOSFETs Q7, Q8, whose gates and drains are cross-connected to form a latch. The sources of the N-channel MOSFETs Q5 and Q6 are connected to a common source line CSN. The sources of the P-channel MOSFETs Q7 and Q8 are connected to a common source line CS.
Connected to P. Power switch MOSFETs are connected to the common source lines CSN and CSP, respectively. Although not particularly limited, an N-channel type amplification MOS
Common source line C to which the sources of FETs Q5 and Q6 are connected
An operating voltage corresponding to the ground potential is applied to SN by an N-channel type power switch MOSFET Q14 provided in the cross area 18.
【0042】特に制限されないが、上記Pチャンネル型
の増幅MOSFETQ7とQ8のソースが接続された共
通ソース線CSPには、上記クロスエリア18に設けら
れたオーバードライブ用のNチャンネル型のパワーMO
SFETQ15と、上記内部電圧VDLを供給するNチ
ャンネル型のパワーMOSFETQ16が設けられる。
上記オーバードライブ用の電圧には、特に制限されない
が、外部端子から供給される電源電圧VDDが用いられ
る。あるいはセンスアンプ動作速度の電源電圧VDD依
存性を軽減するために、ゲートに昇圧電圧VPPが印加
され、ドレインが電源電圧VDDに接続され、ソースか
ら上記電源電圧VDDに対してわずかに降圧された上記
電圧を得るようにするものであってもよい。Although not particularly limited, the common source line CSP to which the sources of the P-channel type amplification MOSFETs Q7 and Q8 are connected is connected to the N-channel type power MO for overdrive provided in the cross area 18.
An SFET Q15 and an N-channel power MOSFET Q16 for supplying the internal voltage VDL are provided.
The power supply voltage VDD supplied from an external terminal is used for the overdrive voltage, although there is no particular limitation. Alternatively, in order to reduce the dependency of the operation speed of the sense amplifier on the power supply voltage VDD, the boosted voltage VPP is applied to the gate, the drain is connected to the power supply voltage VDD, and the voltage is slightly lowered from the source with respect to the power supply voltage VDD. The voltage may be obtained.
【0043】上記Nチャンネル型のパワーMOSFET
Q15のゲートに供給されるセンスアンプオーバードラ
イブ用活性化信号SAP1は、上記Nチャンネル型MO
SFETQ16のゲートに供給される活性化信号SAP
2と同相の信号とされ、SAP1,SAP2は時系列的
にハイレベルにされる。特に制限されないが、上記SA
P1,SAP2のハイレベルが昇圧電圧VPPレベルの
信号とされる。つまり、昇圧電圧VPPは、約3.8V
であるので、上記Nチャンネル型MOSFETQ15,
Q16を十分にオン状態にさせることができる。MOS
FETQ15がオフ状態の後にはMOSFETQ16が
オン状態となり、ソース側から内部電圧VDLに対応し
た電圧を出力させる。The N-channel type power MOSFET
The sense amplifier overdrive activation signal SAP1 supplied to the gate of Q15 is
Activation signal SAP supplied to the gate of SFET Q16
2, and SAP1 and SAP2 are set to a high level in time series. Although not particularly limited, the above SA
The high level of P1 and SAP2 is a signal of the boosted voltage VPP level. That is, the boost voltage VPP is about 3.8 V
Therefore, the N-channel MOSFET Q15,
Q16 can be sufficiently turned on. MOS
After the FET Q15 is turned off, the MOSFET Q16 is turned on, and a voltage corresponding to the internal voltage VDL is output from the source side.
【0044】上記センスアンプの単位回路の入出力ノー
ドには、相補ビット線を短絡させるイコライズMOSF
ETQ11と、相補ビット線にハーフプリチャージ電圧
VBLRを供給するスイッチMOSFETQ9とQ10
からなるプリチャージ回路が設けられる。これらのMO
SFETQ9〜Q11のゲートは、共通にプリチャージ
信号PCBが供給される。このプリチャージ信号PCB
を形成するドライバ回路は、図示しないが、上記クロス
エリアにインバータ回路を設けて、その立ち下がりを高
速にする。つまり、メモリアクセスの開始時にワード線
選択タイミングに先行して、各クロスエリアに分散して
設けられたインバータ回路を通して上記プリチャージ回
路を構成するMOSFETQ9〜Q11を高速に切り替
えるようにするものである。An equalizing MOSF for short-circuiting the complementary bit line is provided at the input / output node of the unit circuit of the sense amplifier.
ETQ11 and switch MOSFETs Q9 and Q10 for supplying half precharge voltage VBLR to complementary bit lines
Is provided. These MOs
The precharge signal PCB is commonly supplied to the gates of the SFETs Q9 to Q11. This precharge signal PCB
Although not shown, an inverter circuit is provided in the cross area to speed up the fall of the driver circuit. In other words, prior to the word line selection timing at the start of the memory access, the MOSFETs Q9 to Q11 constituting the precharge circuit are switched at high speed through inverter circuits distributed in each cross area.
【0045】上記クロスエリア18には、図4に示した
回路以外にも、必要に応じて、センスアンプのコモンソ
ース線CSPとCSNのハーフプリチャージ回路、ロー
カル入出力線LIOのハーフプリチャージ回路、シェア
ード選択信号線SHRとSHLの分散ドライバ回路等も
設けられる。In the cross area 18, in addition to the circuit shown in FIG. 4, if necessary, a half precharge circuit for the common source lines CSP and CSN of the sense amplifier and a half precharge circuit for the local input / output line LIO are provided. , Shared distributed signal lines SHR and SHL are also provided.
【0046】センスアンプの単位回路は、シェアードス
イッチMOSFETQ3とQ4を介して図下側のサブア
レイ15の同様な相補ビット線BL,BLBに接続され
る。スイッチMOSFETQ12とQ13は、カラムス
イッチ回路を構成するものであり、上記選択信号YSが
選択レベル(ハイレベル)にされるとオン状態となり、
上記センスアンプの単位回路の入出力ノードとローカル
入出力線LIO1とLIO1B、LIO2,LIO2B
等とを接続させる。例えば、上側のサブアレイのサブワ
ード線SWLが選択されたときには、センスアンプの上
側のシェアードスイッチMOSFETQ1とQ2はオン
状態のままにし、下側シェアードスイッチMOSFET
Q3とQ4とをオフ状態にさせる。The unit circuit of the sense amplifier is connected to the similar complementary bit lines BL and BLB of the lower sub-array 15 via shared switch MOSFETs Q3 and Q4. The switch MOSFETs Q12 and Q13 constitute a column switch circuit, and are turned on when the selection signal YS is set to a selection level (high level).
Input / output nodes and local input / output lines LIO1 and LIO1B, LIO2, LIO2B of the unit circuit of the sense amplifier
And so on. For example, when the sub-word line SWL of the upper sub-array is selected, the upper shared switch MOSFETs Q1 and Q2 of the sense amplifier are kept on and the lower shared switch MOSFET
Q3 and Q4 are turned off.
【0047】これにより、センスアンプの入出力ノード
は、上記上側の相補ビット線BL,BLBに接続され
て、選択されたサブワード線SWLに接続されたメモリ
セルの微小信号を増幅し、上記カラムスイッチ回路(Q
12とQ13)を通してローカル入出力線LIO1,L
IO1Bに伝える。上記ローカル入出力線LIO1,L
IO1Bは、クロスエリア18に設けられたNチャンネ
ル型MOSFETQ19,Q20からなるスイッチ回路
IOSWを介してメインアンプ61の入力端子が接続さ
れるメイン入出力線MIO,MIOBに接続される。同
図では、省略されているが、MOSFETQ19,Q2
0と並列にPチャンネル型MOSFETを設けた、いわ
ゆるアナログゲートとすることによりいっそうの高速化
を図ることができる。また、MOSFETQ19,Q2
0のゲート電圧も昇圧電圧VPPを用いいればオン抵抗
を下げ高速化することができる。また、同図では、省略
されているが、上記メイン入出力線MIO,MIOBに
は、書き込みアンプの出力端子も接続される。As a result, the input / output node of the sense amplifier is connected to the upper complementary bit lines BL and BLB to amplify the small signal of the memory cell connected to the selected sub-word line SWL. Circuit (Q
12 and Q13) through the local input / output lines LIO1, L
Communicate to IO1B. The local input / output lines LIO1, L
IO1B is connected to main input / output lines MIO and MIOB to which input terminals of the main amplifier 61 are connected via a switch circuit IOSW including N-channel MOSFETs Q19 and Q20 provided in the cross area 18. Although not shown in the figure, the MOSFETs Q19, Q2
By using a so-called analog gate provided with a P-channel type MOSFET in parallel with 0, it is possible to further increase the speed. In addition, MOSFETs Q19 and Q2
If the boosted voltage VPP is used for the gate voltage of 0, the on-resistance can be reduced and the speed can be increased. Although not shown in the figure, the output terminals of the write amplifier are also connected to the main input / output lines MIO and MIOB.
【0048】特に制限されないが、上記カラムスイッチ
回路は、1つの選択信号YSにより二対の相補ビット線
BL,BLBを二対のローカル入出力線LIO1,LI
O1BとLIO2,LIO2Bと接続させる。それ故、
1つのメインワード線の選択動作により選択されたサブ
アレイにおいて、その両側に設けられる一対のセンスア
ンプに対応して設けられる上記二対のカラムスイッチ回
路により合計四対の相補ビット線が選択されることにな
るので、1本のYS選択により4ビットの同時読み出し
/書き込みができる。Although not particularly limited, the column switch circuit connects two pairs of complementary bit lines BL, BLB to two pairs of local input / output lines LIO1, LI in response to one selection signal YS.
O1B is connected to LIO2 and LIO2B. Therefore,
In the sub-array selected by the operation of selecting one main word line, a total of four pairs of complementary bit lines are selected by the two pairs of column switch circuits provided corresponding to the pair of sense amplifiers provided on both sides thereof. Therefore, simultaneous reading / writing of 4 bits can be performed by selecting one YS.
【0049】アドレス信号Aiは、アドレスバッファ5
1に供給される。このアドレスバッファは、時分割的に
動作してXアドレス信号とYアドレス信号を取り込む。
Xアドレス信号は、プリデコーダ52に供給され、メイ
ンローデコーダ11とメインワードドライバ12を介し
てメインワード線MWLの選択信号が形成される。上記
アドレスバッファ51は、外部端子から供給されるアド
レス信号Aiを受けるものであるので、外部端子から供
給される電源電圧VDDにより動作させられ、上記プリ
デコーダは、降圧電圧VPERIにより動作させられ、
上記メインワードドライバ12は、昇圧電圧VPPによ
り動作させられる。カラムデコーダ(ドライバ)53
は、上記アドレスバフッァ51の時分割的な動作によっ
て供給されるYアドレス信号を受けて、上記カラム選択
信号YSを形成する。The address signal Ai is supplied to the address buffer 5
1 is supplied. The address buffer operates in a time-division manner to receive the X address signal and the Y address signal.
The X address signal is supplied to the predecoder 52, and a selection signal for the main word line MWL is formed via the main row decoder 11 and the main word driver 12. Since the address buffer 51 receives the address signal Ai supplied from the external terminal, it is operated by the power supply voltage VDD supplied from the external terminal, and the predecoder is operated by the step-down voltage VPERI.
The main word driver 12 is operated by the boost voltage VPP. Column decoder (driver) 53
Receives the Y address signal supplied by the time division operation of the address buffer 51 and forms the column selection signal YS.
【0050】上記メインアンプ61は、降圧電圧VPE
RIにより動作させられ、外部端子から供給される電源
電圧VDDで動作させられる出力バッファ62を通して
外部端子Dout (又はDQ)から出力される。外部端子
Din(又はDQ)から入力される書き込み信号は、入力
バッファ63を通して取り込まれ、同図においてメイン
アンプ61に含まれる後述するようなライトアンプを通
して上記メイン入出力線MIOとMIOBに書き込み信
号を供給する。上記出力バッファの入力部には、次に説
明するようなレベルシフト回路と、かかるレベルシフト
された出力すべき信号をタイミング信号に同期させて出
力させるための論理部が設けられる。The main amplifier 61 has a step-down voltage VPE
The signal is output from the external terminal Dout (or DQ) through the output buffer 62 operated by the RI and operated by the power supply voltage VDD supplied from the external terminal. A write signal input from an external terminal Din (or DQ) is taken in through an input buffer 63, and is written to the main input / output lines MIO and MIOB through a write amplifier included in the main amplifier 61 in FIG. Supply. The input section of the output buffer is provided with a level shift circuit as described below and a logic section for outputting the level-shifted signal to be output in synchronization with the timing signal.
【0051】図5には、この発明に係るダイナミック型
RAMの出力バッファの一実施例の回路図が示されてい
る。同図においては、ダイナミック型RAMの全体的な
動作を示す回路ブロックも合わせて示されている。すな
わち、デコーダでは降圧電圧VPERIで動作させら
れ、それに対応した信号振幅のデコード信号が形成され
る。メインワードドライバは昇圧電圧VPPで動作させ
られる。メモリアレイは前記のようにセンスアンプの動
作電圧VDLに対応した信号振幅の読み出し信号が出力
される。センスアンプは、前述したように過渡的にVD
D又はそれに近い高い電圧でオーバードライブされる
が、最終的に上記動作電圧VDLで動作するものとな
る。メインアンプは、上記降圧電圧VPERIで動作さ
せられ、それに対応した読み出し信号MOBを形成す
る。ここで、MOBは論理“1”がロウレベル、論理
“0”がハイレベルであることを意味し、逆相の信号は
MOと表すものである。FIG. 5 is a circuit diagram showing one embodiment of the output buffer of the dynamic RAM according to the present invention. FIG. 1 also shows circuit blocks showing the overall operation of the dynamic RAM. That is, the decoder is operated with the step-down voltage VPERI, and a decode signal having a signal amplitude corresponding to the step-down voltage VPERI is formed. The main word driver is operated with the boost voltage VPP. As described above, the memory array outputs a read signal having a signal amplitude corresponding to the operation voltage VDL of the sense amplifier. As described above, the sense amplifier transitions to VD
Although it is overdriven at D or a high voltage close thereto, it finally operates at the operating voltage VDL. The main amplifier is operated by the step-down voltage VPERI and forms a read signal MOB corresponding to the step-down voltage VPERI. Here, MOB means that the logic "1" is at a low level and the logic "0" is at a high level, and the signal of the opposite phase is represented by MO.
【0052】出力バッファでは、上記メインアンプの出
力信号MOBが、レベルシフト回路LSにより上記降圧
電圧VPERIに対応した信号レベルを外部電源電圧V
DDに対応した電圧レベルに変換(増幅)する。この増
幅された信号MOHは、ナンドゲート回路G1の一方の
入力に供給される。また、上記信号MOHは、インバー
タ回路N1により反転されてナンドゲート回路G2の一
方の入力に供給される。これらのナンドゲート回路G1
とG2の他方の入力には、上記電源電圧VDDに対応し
た信号レベルのデータ出力タイミング信号DOCが供給
される。出力MOSFETQPとQNは、大きな負荷駆
動能力を得るために比較的大きなサイズに形成されるた
めに大きなゲート容量を有する。このような出力MOS
FETQPとQNとを高速に駆動するために順次に上記
ゲート回路G1とG2の出力信号は、インバータ回路N
2〜N4を通して伝達される。In the output buffer, the output signal MOB of the main amplifier is output from the external power supply voltage V
The signal is converted (amplified) to a voltage level corresponding to DD. This amplified signal MOH is supplied to one input of the NAND gate circuit G1. The signal MOH is inverted by an inverter circuit N1 and supplied to one input of a NAND gate circuit G2. These NAND gate circuits G1
And the other input of G2 are supplied with a data output timing signal DOC having a signal level corresponding to the power supply voltage VDD. The output MOSFETs QP and QN have a large gate capacitance because they are formed in a relatively large size in order to obtain a large load driving capability. Such output MOS
In order to drive the FETs QP and QN at high speed, the output signals of the gate circuits G1 and G2 are sequentially output to the inverter circuit N
2 through N4.
【0053】図6には、上記ダイナミック型RAMの各
回路の動作電圧に対応した信号レベルの電位分布図が示
されている。つまり、アドレス入力は、低電圧TTL
(LVTTL)に対応したVIHとVILのような低振
幅信号とされる。アドレスバッファは、電源電圧VDD
と回路の接地電位VSSで動作し、初段回路の出力はV
DDとVSSのようなレベルにレベル変換される。FIG. 6 shows a potential distribution diagram of a signal level corresponding to the operating voltage of each circuit of the dynamic RAM. That is, the address input is the low voltage TTL
(LVTTL) and a low-amplitude signal such as VIH and VIL. The address buffer is connected to the power supply voltage VDD.
And the ground potential VSS of the circuit, and the output of the first stage circuit is V
The level is converted to a level such as DD and VSS.
【0054】アドレスラッチやアドレスデコーダ回路な
どの内部論理回路は、降圧電圧VPERIで動作させら
れるので、VPERIとVSSのような信号とされる。
ワード線(メインワード線、サブワード線)の選択信号
はVPPのような昇圧電圧とされ、非選択レベルはVS
Sのような接地電位にされる。センスアンプは上記降圧
電圧VPERIよりも低くされた電圧VDLにされるの
で、ビット線の電位はそれに対応したハイレベルとロウ
レベルにされる。ローカル入出力線LIO及びメイン入
出力線MIOも上記降圧電圧VDLに対応した信号レベ
ルとされる。カラム選択信号YSの選択レベルは、上記
降圧電圧VPERIに対応されたハイレベルとされる。
そして、メインアンプの出力信号も上記降圧電圧VPE
RIに対応した出力信号とされる。したがって、メイン
アンプでVDLからVPERIへレベル変換が行われ
る。Since the internal logic circuits such as the address latch and the address decoder circuit are operated by the step-down voltage VPERI, they have signals such as VPERI and VSS.
The word line (main word line, sub word line) selection signal is a boosted voltage such as VPP, and the non-selection level is VS.
It is set to the ground potential like S. Since the sense amplifier is set to the voltage VDL lower than the step-down voltage VPERI, the bit line potential is set to the corresponding high level and low level. The local input / output line LIO and the main input / output line MIO are also set to signal levels corresponding to the step-down voltage VDL. The selection level of the column selection signal YS is set to a high level corresponding to the step-down voltage VPERI.
The output signal of the main amplifier is also the above-described step-down voltage VPE.
This is an output signal corresponding to RI. Therefore, level conversion from VDL to VPERI is performed by the main amplifier.
【0055】上記レベルシフト回路LSでは、上記降圧
電圧VPERIに対応したハイレベルを電源電圧VDD
に対応したハイレベルにレベル変換(増幅)する。した
がって、出力バッファ内部では、電源電圧VDDに対応
された信号とされる。このような各回路ブロックでの各
信号レベルが異なることに対応して、クロック系は、2
種類に分けられる。上記LVTTLに対応したクロック
系入力信号が供給され、それが初段回路でレベル変換さ
れて電源電圧VDDに対応した高振幅クロックICLK
Cと、上記降圧電圧VPERIに対応したクロック信号
ICLKAとICLKBが形成される。上記クロック信
号ICLKAとICLKBとは、アドレス入力や内部回
路に用いられる。上記高振幅クロックICLKCは、上
記出力バッファの出力タイミング制御に用いられる。In the level shift circuit LS, the high level corresponding to the step-down voltage VPERI is set to the power supply voltage VDD.
Level conversion (amplification) to a high level corresponding to. Therefore, a signal corresponding to the power supply voltage VDD is generated inside the output buffer. In response to such different signal levels in each circuit block, the clock system has a
Divided into types. A clock-system input signal corresponding to the above LVTTL is supplied, the level of which is converted by a first-stage circuit, and a high-amplitude clock ICLK corresponding to the power supply voltage VDD is supplied.
C and clock signals ICLKA and ICLKB corresponding to the reduced voltage VPERI. The clock signals ICLKA and ICLKB are used for address input and internal circuits. The high amplitude clock ICLKC is used for controlling the output timing of the output buffer.
【0056】特に制限されないが、上記外部端子から供
給される電源電圧VDDは、3.3Vにされ、内部回路
に供給される降圧電圧VPERIは2.5Vに設定さ
れ、上記センスアンプの動作電圧VDLは2.0Vとさ
れる。そして、ワード線の選択信号(昇圧電圧)は、
3.8Vにされる。ビット線のプリチャージ電圧VBL
Rは、VDL/2に対応した1.0Vにされ、プレート
電圧VPLTも1.0Vにされる。そして、基板電圧V
BBは−1.0Vにされる。Although not particularly limited, the power supply voltage VDD supplied from the external terminal is set to 3.3 V, the step-down voltage VPERI supplied to the internal circuit is set to 2.5 V, and the operating voltage VDL of the sense amplifier is set. Is set to 2.0V. Then, the word line selection signal (boosted voltage)
It is set to 3.8V. Bit line precharge voltage VBL
R is set to 1.0 V corresponding to VDL / 2, and the plate voltage VPLT is also set to 1.0 V. And the substrate voltage V
BB is set to -1.0V.
【0057】図7には、上記クロック系回路の一実施例
の回路図が示されている。外部端子から供給されるクロ
ック信号CLKは、電源電圧VDDで動作させられる初
段回路を経たのち、上記クロック信号ICLKA〜IC
LKCに対応して3つの種類の回路で論理処理される。FIG. 7 is a circuit diagram showing one embodiment of the clock system circuit. The clock signal CLK supplied from the external terminal passes through the first-stage circuit operated by the power supply voltage VDD, and then receives the clock signals ICLKA to ICCLK.
Logical processing is performed by three types of circuits corresponding to LKC.
【0058】内部クロック信号ICLKAとICLKB
は、上記初段回路で形成されたVDDレベルの信号を、
降圧電圧VPERIで動作させられるインバータ回路等
の駆動回路を通して入力バッファ制御用のクロック信号
ICLKA、内部論理制御用のクロック信号ICLKB
が形成される。これに対して、出力回路制御用の内部ク
ロック信号ICLKCは、上記電源電圧VDDで動作す
るインバータ回路等の駆動回路を通して高振幅クロック
として出力される。なお、実際には上記各内部クロック
ICLKA〜ICLKCは、上記外部クロック信号CL
Kをインバータチェインでそのままレベルを変えて出力
するものではなく、それぞれの動作モード及び動作タイ
ミングに対応した論理処理が行われて上記入力バッファ
制御用、内部論理制御用及び出力回路制御用として発生
させられる。Internal clock signals ICLKA and ICLKB
Is a signal of the VDD level formed by the first stage circuit,
Clock signal ICLKA for input buffer control and clock signal ICLKB for internal logic control through a drive circuit such as an inverter circuit operated by the step-down voltage VPERI
Is formed. On the other hand, the internal clock signal ICLKC for controlling the output circuit is output as a high-amplitude clock through a drive circuit such as an inverter circuit operated by the power supply voltage VDD. It should be noted that the internal clocks ICLKA to ICLKC actually correspond to the external clock signal CL.
K is not output by changing the level as it is in the inverter chain, but is subjected to logic processing corresponding to each operation mode and operation timing and is generated for the input buffer control, internal logic control, and output circuit control. Can be
【0059】上記図6の実施例のように、デコーダ、メ
モリアレイ、メインアンプ等は低電圧化や微細デバイス
の信頼性確保のために降圧電圧VPERI、VDLを用
いる。メインアンプからの読み出し信号MOBは、降圧
電圧VPERIに対応した信号振幅であるが、クロック
系信号DOCは、電源電圧VDDに対応した高振幅を用
いるようにする。したがって、上記読み出し信号MOB
はレベルシフト回路LSによりレベル変換(シフト)し
て上記タイミング信号DOCとの論理処理を行うように
するものである。通常は、上記信号MOBは、上記タイ
ミング信号DOCに先行して形成されるものであるの
で、上記レベルシフト回路LSを挿入しても、そこでの
信号遅延がDout の遅延として見えないようにすること
ができる。クロック系信号DOCからのパスには、レベ
ルシフト回路が不要なので、Dout確定までのアクセス
時間tACを高速化することができる。As in the embodiment shown in FIG. 6, the decoders, memory arrays, main amplifiers and the like use the step-down voltages VPERI and VDL in order to lower the voltage and ensure the reliability of the fine device. The read signal MOB from the main amplifier has a signal amplitude corresponding to the step-down voltage VPERI, but the clock signal DOC uses a high amplitude corresponding to the power supply voltage VDD. Therefore, the read signal MOB
Is to perform level conversion (shift) by the level shift circuit LS and perform logical processing with the timing signal DOC. Normally, the signal MOB is formed prior to the timing signal DOC. Therefore, even if the level shift circuit LS is inserted, the signal delay there should not be seen as a delay of Dout. Can be. The path from the clock signal DOC does not require a level shift circuit, so that the access time tAC until Dout is determined can be shortened.
【0060】図8には、この発明に係るダイナミック型
RAMの出力バッファの他の一実施例の回路図が示され
ている。この実施例では、出力ラッチ機能を付加した場
合が示されている。信号MOEはラッチ信号であり、信
号MOEがハイレベルのときメインアンプの出力信号M
OがMOLに伝達され、信号MOEがロウレベルのとき
には入力と出力とが交差接続されてなる2つのインバー
タ回路N8とN9からなるラッチ回路でMOLは保持さ
れる。特に制限されないが、上記信号MOEの信号振幅
もVDD振幅とされる。FIG. 8 is a circuit diagram showing another embodiment of the output buffer of the dynamic RAM according to the present invention. In this embodiment, a case where an output latch function is added is shown. The signal MOE is a latch signal. When the signal MOE is at a high level, the output signal M of the main amplifier is output.
O is transmitted to MOL, and when signal MOE is at a low level, MOL is held by a latch circuit including two inverter circuits N8 and N9 whose inputs and outputs are cross-connected. Although not particularly limited, the signal amplitude of the signal MOE is also set to the VDD amplitude.
【0061】この実施例は、シンクロナスDRAMの出
力まわりの回路に好適である。周知のようにシンクロナ
スDRAMでは、CASレーテンシィ制御のためにラッ
チ回路を必要とする。クロックアクセス時間tACを決
定するのは、信号MOEにより制御されるスイッチ回路
から出力端子Dout への経路である。この場合、Nチャ
ンネル型のスイッチMOSFETQ20とPチャンネル
型のスイッチMOSFETQ21からなるアナログゲー
トのゲート信号にクロック系からVDD振幅信号を供給
し、そのソース,ドレイン経路にはメモリアレイ、メイ
ンアンプ系列からのVPERI振幅信号を伝達させる。This embodiment is suitable for circuits around the output of a synchronous DRAM. As is well known, a synchronous DRAM requires a latch circuit for CAS latency control. It is the path from the switch circuit controlled by the signal MOE to the output terminal Dout that determines the clock access time tAC. In this case, a VDD amplitude signal is supplied from a clock system to a gate signal of an analog gate composed of an N-channel type switch MOSFET Q20 and a P-channel type switch MOSFET Q21. Transmit the amplitude signal.
【0062】上記スイッチMOSFETQ20とQ21
のソース,ドレイン経路の信号振幅はVPERI振幅な
ので、低電圧に適した微細デバイスを用いることができ
る。一方、ゲート膜厚は、1種類のゲート膜厚tOXで
ワード線昇圧電圧VPPや電源電圧VDDを印加しても
問題はないように膜厚を設定しているので、ゲートに直
接にVDD振幅信号を印加できる。このようにすれば、
信号MOEからの信号パスではレベル変換は不要とな
る。したがって、クロックアクセス時間を短くすること
ができる。そして、ワード系、カラム系のアクセス時間
は、従来と同様にメモリアレイ、メインアンプ系列から
の信号に対して、ゲート回路G3,G4からなる論理付
レベルシフト回路を用い、ゲート動作とレベル変換動作
とを同時に行いVDD振幅を得る。これにより、回路の
簡素化も合わせて実現できるものとなる。The switch MOSFETs Q20 and Q21
Since the signal amplitudes of the source and drain paths of the above are VPERI amplitudes, a fine device suitable for low voltage can be used. On the other hand, the gate thickness is set so that there is no problem even if the word line boosted voltage VPP or the power supply voltage VDD is applied with one kind of gate thickness tOX, so that the VDD amplitude signal is directly applied to the gate. Can be applied. If you do this,
No level conversion is required in the signal path from the signal MOE. Therefore, the clock access time can be shortened. The access time of the word system and the column system can be controlled by using a level shift circuit with logic composed of gate circuits G3 and G4 for the signals from the memory array and the main amplifier series as in the prior art. At the same time to obtain the VDD amplitude. As a result, the simplification of the circuit can also be realized.
【0063】図9には、この発明に係る論理付レベルシ
フト回路の一実施例の回路図が示されている。図9
(A)には、上記図8のゲート回路G3に対応したナン
ドゲート回路が示され、図9(B)には、上記図8のゲ
ート回路G4に対応したノアゲート回路が示されてい
る。FIG. 9 is a circuit diagram showing one embodiment of a level shift circuit with logic according to the present invention. FIG.
9A shows a NAND gate circuit corresponding to the gate circuit G3 of FIG. 8, and FIG. 9B shows a NOR gate circuit corresponding to the gate circuit G4 of FIG.
【0064】図9(A)において、降圧電圧VPERI
に対応した低振幅のメインアンプ出力信号MOLは、N
チャンネル型MOSFETQ33のゲートと、Nチャン
ネル型MOSFETQ31のソースに接続される。この
MOSFETQ31のゲートには、上記降圧電圧VPE
RIが供給される。上記一対のMOSFETQ31とQ
33のドレインと電源電圧VDDとの間には、互いにゲ
ートとドレインとが交差接続されたPチャンネル型MO
SFETQ30とQ32が設けられる。In FIG. 9A, the reduced voltage VPERI
, The low-amplitude main amplifier output signal MOL corresponding to N
The gate of the channel type MOSFET Q33 is connected to the source of the N-channel type MOSFET Q31. The gate of the MOSFET Q31 has the step-down voltage VPE
An RI is provided. The pair of MOSFETs Q31 and Q
33, between the drain and the power supply voltage VDD, a P-channel MO having a gate and a drain cross-connected to each other.
SFETs Q30 and Q32 are provided.
【0065】ナンド(NAND)論理を実現するため
に、そのドレインが出力端子MIXに接続されたNチャ
ンネル型MOSFETQ33には直列形態にNチャンネ
ル型MOSFETQ35が設けられ、上記出力端子MI
Xにドレインが接続されたPチャンネル型MOSFET
Q32には、Pチャンネル型MOSFETQ34が並列
形態に設けられる。これらのNチャンネル型MOSFE
TQ35とPチャンネル型MOSFETQ34のゲート
には、電源電圧VDDに対応した出力タイミング信号D
OCが供給される。なお、MOSFETQ33とQ35
の接続の上下を変更してもよい。In order to implement NAND logic, an N-channel MOSFET Q35 whose drain is connected to the output terminal MIX is provided with an N-channel MOSFET Q35 in series with the output terminal MI.
P-channel MOSFET with drain connected to X
Q32 is provided with a P-channel MOSFET Q34 in parallel. These N-channel MOSFE
An output timing signal D corresponding to the power supply voltage VDD is provided at the gates of the TQ35 and the P-channel MOSFET Q34.
OC is supplied. Note that MOSFETs Q33 and Q35
May be changed up and down.
【0066】この回路の動作は、次の通りである。上記
メインアンプの出力信号MOLがハイレベル(VPER
I)なら、Nチャンネル型MOSFETQ31がオフ状
態に、Nチャンネル型MOSFETQ33がオン状態に
されている。したがって、タイミング信号DOCがロウ
レベルのときには、上記Pチャンネル型MOSFETQ
30とQ32によるラッチ動作とは無関係に、タイミン
グ信号DOCのロウレベルによりオン状態にされるPチ
ャンネル型MOSFETQ34によって、出力端子MI
Xは電源電圧VDDのようなハイレベルにされる。The operation of this circuit is as follows. The output signal MOL of the main amplifier is at a high level (VPER
In the case of I), the N-channel MOSFET Q31 is turned off and the N-channel MOSFET Q33 is turned on. Therefore, when the timing signal DOC is at a low level, the P-channel MOSFET Q
Irrespective of the latching operation by Q30 and Q32, the output terminal MI is turned on by the P-channel MOSFET Q34 which is turned on by the low level of the timing signal DOC.
X is set to a high level such as the power supply voltage VDD.
【0067】タイミング信号DOCがロウレベルからハ
イレベルに変化すると、上記Pチャンネル型MOSFE
TQ34がオフ状態に、Nチャンネル型MOSFETQ
35がオン状態にされる。したがって、上記信号MOL
がハイレベルなら上記MOSFETQ33とQ35を通
して出力端子MIXはハイレベルからロウレベルに変化
させられる。もしも、信号MOLがロウレベルなら、N
チャンネル型MOSFETQ31がオン状態に、Nチャ
ンネル型MOSFETQ33がオフ状態にされているの
で、上記オン状態のMOSFETQ31を通してゲート
に信号MOLのロウレベルが供給されるPチャンネル型
MOSFETQ32によって、上記出力端子MIXから
は上記電源電圧VDDのようなハイレベルが引き続き出
力される。When the timing signal DOC changes from a low level to a high level, the P-channel MOSFET
When TQ34 is off, N-channel MOSFET Q
35 is turned on. Therefore, the above signal MOL
Is high level, the output terminal MIX is changed from high level to low level through the MOSFETs Q33 and Q35. If the signal MOL is low level, N
Since the channel type MOSFET Q31 is in the ON state and the N-channel type MOSFET Q33 is in the OFF state, the P-channel type MOSFET Q32 whose gate is supplied with the low level of the signal MOL through the MOSFET Q31 in the ON state causes the output terminal MIX to output from the output terminal MIX. A high level such as the power supply voltage VDD is continuously output.
【0068】図9(B)において、降圧電圧VPERI
に対応した低振幅のメインアンプ出力信号MOLは、上
記同様にNチャンネル型MOSFETQ33のゲート
と、Nチャンネル型MOSFETQ31のソースに接続
される。このMOSFETQ31のゲートには、上記降
圧電圧VPERIが供給される。上記一対のMOSFE
TQ31とQ33のドレインと電源電圧VDDとの間に
は、互いにゲートとドレインとが交差接続されたPチャ
ンネル型MOSFETQ30とQ32が設けられる。In FIG. 9B, the reduced voltage VPERI
Is connected to the gate of the N-channel MOSFET Q33 and the source of the N-channel MOSFET Q31 in the same manner as described above. The reduced voltage VPERI is supplied to the gate of the MOSFET Q31. The pair of MOSFEs
P-channel MOSFETs Q30 and Q32 whose gates and drains are cross-connected to each other are provided between the drains of TQ31 and Q33 and the power supply voltage VDD.
【0069】ノア(NOR)論理を実現するために、そ
のドレインが出力端子MIXに接続されたNチャンネル
型MOSFETQ33には並列形態にNチャンネル型M
OSFETQ35’が設けられ、上記出力端子MIXに
ドレインが接続されたPチャンネル型MOSFETQ3
2には、Pチャンネル型MOSFETQ34’が直列形
態に設けられる。これらのNチャンネル型MOSFET
Q35’とPチャンネル型MOSFETQ34’のゲー
トには、電源電圧VDDに対応した出力タイミング信号
DOCが供給される。なお、MOSFETQ32とQ3
4’とは接続の上下を逆にしてもよい。In order to implement NOR logic, an N-channel MOSFET Q33 whose drain is connected to the output terminal MIX is connected in parallel to an N-channel MOSFET M33.
An OSFET Q35 'is provided, and a P-channel MOSFET Q3 having a drain connected to the output terminal MIX.
2, a P-channel MOSFET Q34 'is provided in series. These N-channel MOSFETs
An output timing signal DOC corresponding to the power supply voltage VDD is supplied to the gates of Q35 'and the P-channel MOSFET Q34'. Note that MOSFETs Q32 and Q3
The connection may be reversed from 4 ′.
【0070】この回路の動作は、次の通りである。上記
メインアンプの出力信号MOLがロウレベル(0V)な
ら、Nチャンネル型MOSFETQ31がオン状態に、
Nチャンネル型MOSFETQ33がオフ状態にされて
いる。したがって、タイミング信号DOCがハイレベル
のときには、上記Pチャンネル型MOSFETQ30と
Q32によるラッチ動作とは無関係に、タイミング信号
DOCのハイレベルによりオン状態にされるNチャンネ
ル型MOSFETQ35’によって、出力端子MIXは
回路の接地電位VSSのようなロウレベルにされる。The operation of this circuit is as follows. If the output signal MOL of the main amplifier is low level (0 V), the N-channel MOSFET Q31 is turned on,
N-channel type MOSFET Q33 is turned off. Therefore, when the timing signal DOC is at the high level, the output terminal MIX is turned on by the N-channel MOSFET Q35 'which is turned on by the high level of the timing signal DOC, regardless of the latch operation by the P-channel MOSFETs Q30 and Q32. To a low level like the ground potential VSS.
【0071】タイミング信号DOCがハイレベルからロ
ウレベルに変化すると、上記Pチャンネル型MOSFE
TQ34’がオン状態に、Nチャンネル型MOSFET
Q35’がオフ状態にされる。したがって、上記信号M
OLがロウレベルならNチャンネル型MOSFETQ3
1がオン状態になって、信号MOLのロウレベルを上記
Pチャンネル型MOSFETQ32のゲートに供給して
オン状態にさせる。したがって、オン状態にされた上記
MOSFETQ32とQ34’によって出力端子MIX
はロウレベルからハイレベルに変化させられる。もし
も、信号MOLがハイレベルなら、Nチャンネル型MO
SFETQ31がオフ状態に、Nチャンネル型MOSF
ETQ33がオン状態にされので、上記出力端子MIX
からは上記接地電位VSSのようなロウレベルが引き続
き出力される。When the timing signal DOC changes from the high level to the low level, the P-channel MOSFET
When TQ34 'is ON, N-channel MOSFET
Q35 'is turned off. Therefore, the signal M
If OL is low level, N-channel MOSFET Q3
1 is turned on, and the low level of the signal MOL is supplied to the gate of the P-channel MOSFET Q32 to be turned on. Therefore, the output terminal MIX is controlled by the MOSFETs Q32 and Q34 'turned on.
Is changed from a low level to a high level. If the signal MOL is at a high level, an N-channel type MO
When the SFET Q31 is turned off, the N-channel MOSFET
Since the ETQ 33 is turned on, the output terminal MIX
Output a low level like the ground potential VSS.
【0072】このような論理付レベルシフト回路を図8
に用いた場合には、レベルシフト回路と論理機能とが同
じ回路で構成できるために回路の簡素化が可能になる。
そして、上記のように信号伝達経路に挿入される論理段
数も減るので高速化も図ることができるものとなる。ま
た、図9(a)のNAND機能付レベルシフト回路を図
5のゲート回路G1,G2に用いれば、単なるレベルシ
フト回路であるLSを省略できるので、図5の出力回路
をいっそう高速化、小面積化とすることができる。Such a level shift circuit with logic is shown in FIG.
In this case, the level shift circuit and the logic function can be configured by the same circuit, so that the circuit can be simplified.
Since the number of logic stages inserted in the signal transmission path is reduced as described above, the speed can be increased. Further, if the level shift circuit with the NAND function of FIG. 9A is used for the gate circuits G1 and G2 of FIG. 5, the LS which is merely a level shift circuit can be omitted, so that the output circuit of FIG. The area can be increased.
【0073】つまり、前記のようなタイミング信号DO
Cに同期して信号出力を行わせるものの他、一般的にレ
ベルの異なる2つの信号の論理をとってレベル変換され
た出力信号を得る場合においても、上記のような低振幅
の第1入力信号と、高振幅の第2入力信号とを上記のよ
うに組み合わせることによって、論理和や論理積の論理
出力をレベル変換と合わせて行わせるようにすることが
できるものとなる。That is, the timing signal DO as described above
In addition to the output of the signal in synchronization with C, the first input signal having a low amplitude as described above is generally used also when obtaining an output signal whose level is converted by taking the logic of two signals having different levels. By combining the above and the high-amplitude second input signal as described above, a logical output of a logical sum or a logical product can be performed together with the level conversion.
【0074】図10には、この発明が適用されるシンク
ロナスDARM(ダイナミック型RAM)の一実施例の
概略レイアウト図が示されている。メモリアレイとサブ
アレイの構成は、前記図1の実施例と基本的には同一で
ある。ただし、いっそうの小面積化のためチップの長手
方向の中央部にメインロウデコーダ11とメインワード
ドライバ12をまとめて設けて、前記のような周辺回路
領域14とにより、チップ全体を4分割してそれぞれを
バンク0〜3を割り当てるようにするものである。そし
て、コマンドによって指示されるシンクロナスDRAM
の主な動作モードは、次の通りである。FIG. 10 is a schematic layout diagram of an embodiment of a synchronous DARM (dynamic RAM) to which the present invention is applied. The configurations of the memory array and the sub-array are basically the same as the embodiment of FIG. However, in order to further reduce the area, the main row decoder 11 and the main word driver 12 are collectively provided at the central portion in the longitudinal direction of the chip, and the entire chip is divided into four parts by the peripheral circuit region 14 as described above. Each is assigned to banks 0 to 3. And a synchronous DRAM designated by a command.
Are as follows.
【0075】(1)モードレジスタセットコマンド(M
o) 上記入力回路に含まれるモードレジスタをセットするた
めのコマンドであり、CSB,RASB,CASB,W
EB=ロウレベルによって当該コマンド指定され、セッ
トすべきデータ(レジスタセットデータ)はA0〜Ai
を介して与えられる。ここで、CSBは、チップセレク
ト信号であり、RASBはロウアドレスストローブ信号
であり、CASBはカラムアドレスストローブ信号であ
り、WEBはライトイネーブル信号であり、各信号名の
末尾のBは、ロウレベルがアクティブレベルであること
を表している。(1) Mode register set command (M
o) A command for setting a mode register included in the input circuit, CSB, RASB, CASB, W
The command is designated by EB = low level, and the data to be set (register set data) are A0 to Ai.
Given through. Here, CSB is a chip select signal, RASB is a row address strobe signal, CASB is a column address strobe signal, WEB is a write enable signal, and B at the end of each signal name is low level active. Indicates that it is a level.
【0076】レジスタセットデータは、特に制限されな
いが、バーストレングス、CASレイテンシイ、ライト
モードなどとされる。特に制限されないが、設定可能な
バーストレングスは、1,2,4,8,フルページとさ
れ、設定可能なCASレイテンシイは1,2,3とさ
れ、設定可能なライトモードは、バーストライトとシン
グルライトとされる。The register set data is not particularly limited, but has a burst length, a CAS latency, a write mode, and the like. Although not particularly limited, the settable burst length is 1, 2, 4, 8, and full page, the settable CAS latency is 1, 2, 3, and the settable write modes are burst write and Single light.
【0077】上記CASレイテンシイは、後述のカラム
アドレス・リードコマンドによって指示されるリード動
作においてCASBの立ち下がりから出力バッファの出
力動作までに内部クロック信号の何サイクル分を費やす
かを指示するものである。読出しデータが確定するまで
にはデータ読出しのための内部動作時間が必要とされ、
それを内部クロック信号の使用周波数に応じて設定する
ためのものである。例えば、周波数の高い内部クロック
信号を用いる場合にはCASレイテンシイを相対的に大
きな値に設定し、周波数の低い内部クロック信号を用い
る場合にはCASレイテンシイを相対的に小さな値に設
定する。The above-described CAS latency indicates how many cycles of the internal clock signal should be spent from the fall of CASB to the output operation of the output buffer in the read operation specified by a column address read command described later. is there. Internal operation time for data reading is required until the read data is determined,
This is to set it according to the operating frequency of the internal clock signal. For example, when using a high-frequency internal clock signal, the CAS latency is set to a relatively large value, and when using a low-frequency internal clock signal, the CAS latency is set to a relatively small value.
【0078】(2)ロウアドレスストローブ・バンクア
クティブコマンド(Ac) これは、ロウアドレスストローブの指示とA12,A1
3による4つのメモリバンクの選択を有効にするコマン
ドであり、CSB,RASB=ロウレベル、CASB,
WEB=ハイレベルによって指示され、このとき上位2
ビットを除いたアドレス信号A11〜A0がロウアドレ
ス信号として、上位2ビットのアドレス信号A12,A
13がメモリバンクの選択信号として取り込まれる。取
り込み動作は上述のように内部クロック信号の立ち上が
りエッジに同期して行われる。例えば、当該コマンドが
指定されると、それによって指定されるメモリバンクに
おけるワード線が選択され、当該ワード線に接続された
メモリセルがそれぞれ対応する相補データ線に導通され
る。(2) Row address strobe / bank active command (Ac) This corresponds to a row address strobe instruction and A12, A1.
3 is a command for enabling selection of four memory banks by CSB, RASB = low level, CASB,
WEB = instructed by high level, at this time
The address signals A11 to A0 excluding the bits are used as row address signals, and
13 is taken in as a memory bank selection signal. The fetch operation is performed in synchronization with the rising edge of the internal clock signal as described above. For example, when the command is specified, a word line in the memory bank specified by the command is selected, and the memory cells connected to the word line are electrically connected to the corresponding complementary data lines.
【0079】(3)カラムアドレス・リードコマンド
(Re) このコマンドは、バーストリード動作を開始するために
必要なコマンドであると共に、カラムアドレスストロー
ブの指示を与えるコマンドであり、CSB,CASB=
ロウレベル、RASB,WEB=ハイレベルによって指
示され、このときに供給されるアドレスがカラムアドレ
ス信号として取り込まれる。これによって取り込まれた
カラムアドレス信号はバーストスタートアドレスとして
カラムアドレスカウンタに供給される。これによって指
示されたバーストリード動作においては、その前にロウ
アドレスストローブ・バンクアクティブコマンドサイク
ルでメモリバンクとそれにおけるワード線の選択が行わ
れており、当該選択ワード線のメモリセルは、内部クロ
ック信号に同期してカラムアドレスカウンタから出力さ
れるアドレス信号に従って順次選択されて連続的に読出
される。連続的に読出されるデータ数は上記バーストレ
ングスによって指定された個数とされる。また、出力バ
ッファからのデータ読出し開始は上記CASレイテンシ
イで規定される内部クロック信号のサイクル数を待って
行われる。(3) Column address read command (Re) This command is a command necessary for starting the burst read operation and a command for giving an instruction of the column address strobe. CSB, CASB =
Instructed by low level, RASB, WEB = high level, the address supplied at this time is taken in as a column address signal. The fetched column address signal is supplied to the column address counter as a burst start address. In the burst read operation designated thereby, the memory bank and the word line in the memory bank are selected in the row address strobe / bank active command cycle, and the memory cell of the selected word line is supplied with the internal clock signal. Are sequentially selected in accordance with the address signal output from the column address counter and are successively read out. The number of data to be continuously read is the number specified by the burst length. The start of reading data from the output buffer is performed after waiting for the number of cycles of the internal clock signal defined by the CAS latency.
【0080】(4)カラムアドレス・ライトコマンド
(Wr) ライト動作の態様としてモードレジスタにバーストライ
トが設定されているときは当該バーストライト動作を開
始するために必要なコマンドとされ、ライト動作の態様
としてモードレジスタにシングルライトが設定されてい
るときは当該シングルライト動作を開始するために必要
なコマンドとされる。更に当該コマンドは、シングルラ
イト及びバーストライトにおけるカラムアドレスストロ
ーブの指示を与える。当該コマンドは、CSB,CAS
B,WEB=ロウレベル、RASB=ハイレベルによっ
て指示され、このときに供給されるアドレスがカラムア
ドレス信号として取り込まれる。これによって取り込ま
れたカラムアドレス信号はバーストライトにおいてはバ
ーストスタートアドレスとしてカラムアドレスカウンタ
に供給される。これによって指示されたバーストライト
動作の手順もバーストリード動作と同様に行われる。但
し、ライト動作にはCASレイテンシイはなく、ライト
データの取り込みは当該カラムアドレス・ライトコマン
ドサイクルから開始される。(4) Column Address Write Command (Wr) When a burst write is set in the mode register as a mode of the write operation, this is a command necessary to start the burst write operation, and the mode of the write operation When single write is set in the mode register, the command is a command necessary to start the single write operation. Further, the command gives an instruction of a column address strobe in single write and burst write. The command is CSB, CAS
Instructed by B, WEB = low level and RASB = high level, the address supplied at this time is taken in as a column address signal. The fetched column address signal is supplied to the column address counter as a burst start address in burst write. The procedure of the burst write operation instructed in this way is performed in the same manner as the burst read operation. However, there is no CAS latency in the write operation, and the capture of write data is started from the column address / write command cycle.
【0081】(5)プリチャージコマンド(Pr) これは、上位2ビットのアドレス信号によって選択され
たメモリバンクに対するプリチャージ動作の開始コマン
ドとされ、CSB,RASB,WEB=ロウレベル、C
ASB=ハイレベルによって指示される。(5) Precharge command (Pr) This is a command to start a precharge operation for the memory bank selected by the upper two-bit address signal. CSB, RASB, WEB = low level, C
Instructed by ASB = high level.
【0082】(6)オートリフレッシュコマンド このコマンドはオートリフレッシュを開始するために必
要とされるコマンドであり、CSB,RASB,CAS
B=ロウレベル、WEB,CKE(クロックイネーブ
ル)=ハイレベルによって指示される。(6) Auto-refresh command This command is a command required to start auto-refresh, and includes CSB, RASB, and CAS.
Instructed by B = low level, WEB, CKE (clock enable) = high level.
【0083】(7)バーストストップ・イン・フルペー
ジコマンド フルページに対するバースト動作を全てのメモリバンク
に対して停止させるために必要なコマンドであり、フル
ページ以外のバースト動作では無視される。このコマン
ドは、CSB,WEB=ロウレベル、RASB,CAS
B=ハイレベルによって指示される。(7) Burst stop in full page command This command is required to stop the burst operation for a full page in all memory banks, and is ignored in burst operations other than the full page. This command is CSB, WEB = low level, RASB, CAS
B = indicated by high level.
【0084】(8)ノーオペレーションコマンド(No
p) これは実質的な動作を行わないこと指示するコマンドで
あり、CSB=ロウレベル、RASB,CASB,WE
Bのハイレベルによって指示される。(8) No operation command (No
p) This is a command for instructing that no substantial operation is performed. CSB = low level, RASB, CASB, WE
Indicated by the high level of B.
【0085】図11には、この発明が適用されたシンク
ロナスDRAMの動作を説明するための波形図が示され
ている。同図では、バースト長BL=2、CASレイテ
ンシCL=2の場合を例にして示されている。上記BL
=2、CL=2は、前記のようなモードレジスタに設定
される。前記説明したように、BL=2とは2つの連続
サイクルで2つのカラムスイッチから読みは出し/書き
込みを行うことであり、CL=2とはリードコマンドか
ら2サイクル後に出力端子DQから出力データを出力さ
せることである。FIG. 11 is a waveform chart for explaining the operation of the synchronous DRAM to which the present invention is applied. FIG. 2 shows a case where the burst length BL = 2 and the CAS latency CL = 2 as an example. The above BL
= 2 and CL = 2 are set in the mode register as described above. As described above, BL = 2 means that reading / writing is performed from two column switches in two continuous cycles, and CL = 2 means that output data is output from the output terminal DQ two cycles after the read command. Output.
【0086】バンクアクティブコマンドにより、図示し
ないアドレス入力端子からロウ系のアドレス信号を取り
込み、それをデコードすることによりサブワード線SW
LがVPPのような選択レベルにされる。これにより、
相補ビット線BL,BLBには、微小読み出し信号が現
れる。センスアンプが動作タイミング信号により活性化
されるのて上記相補ビット線BLとBLBの上記微小読
み出し信号は、VDLのようなハイレベルとVSSのよ
うなロウレベルに増幅され、サブワード線SWLが選択
されたメモリセルへの再書き込み(リフレッシュ)が行
われる。In response to a bank active command, a row-related address signal is fetched from an address input terminal (not shown) and decoded to obtain a sub-word line SW.
L is brought to a selection level such as VPP. This allows
A minute read signal appears on the complementary bit lines BL and BLB. Since the sense amplifier is activated by the operation timing signal, the small read signal of the complementary bit lines BL and BLB is amplified to a high level like VDL and a low level like VSS, and the sub-word line SWL is selected. Rewriting (refresh) to the memory cell is performed.
【0087】バンクアクティブの2サイクル後にリード
コマンドが入力され、図示しないカラム系のアドレス信
号が取り込まれ、カラム選択信号YS1を立ち上げる。
これにより、メイン入出力線MIOとMIOBは、上記
カラム選択直前までVDLレベルにプリチャージされて
おり、上記YS選択のビット線情報により100〜15
0mVの電圧差を得て、これを信号MAEにより活性化
されるメインアンプにより増幅して出力信号MOを形成
する。このメインアンプの出力信号MOは、前記のよう
に降圧電圧VPERIに対応した低振幅信号であるの
で、出力バッファの入力部においてレベルシフトし、図
5又は図8の実施例のようにVDDレベルに変換させ、
出力タイミング信号DOCに同期して出力させる。上記
BL=2のときには、リードコマンドの次のクロックC
LKに同期してY系のアドレスが切り替わり、それに対
応してメインアンプの出力信号MOが形成される。A read command is input after two cycles of bank active, a column address signal (not shown) is fetched, and a column selection signal YS1 rises.
As a result, the main input / output lines MIO and MIOB are precharged to the VDL level until immediately before the column selection, and 100 to 15 bits are determined according to the bit line information of the YS selection.
A voltage difference of 0 mV is obtained and amplified by a main amplifier activated by a signal MAE to form an output signal MO. Since the output signal MO of the main amplifier is a low-amplitude signal corresponding to the step-down voltage VPERI as described above, the level is shifted at the input portion of the output buffer to the VDD level as in the embodiment of FIG. 5 or FIG. Convert,
It is output in synchronization with the output timing signal DOC. When BL = 2, the clock C following the read command
The Y-system address is switched in synchronization with LK, and the output signal MO of the main amplifier is formed correspondingly.
【0088】バンクアクティブコマンドから最初の出力
信号DQが確定するまでのアクセス時間がtRACe
q、リードコマンドから出力信号DQが確定するまでの
アクセス時間がtAAeq、クロック信号CLKから出
力信号DQが確定するまでのアクセス時間がtACであ
る。本発明はレイテンシ制御信号MOEと出力制御信号
DOCにVDDレベルの高振幅信号を用いるものである
ので、レベル変換に費やされる時間を省略でき、その結
果上記アクセス時間tACの短縮化が可能になる。そし
て、上記のような高振幅信号での制御によって、それに
より駆動されるMOSFETに流れる電流を大きくする
ことができ、そこでの信号遅延も小さくできるから高速
化に寄与することととなる。したがって、クロック信号
CLKの周期をその分短くすることができ、シンクロナ
スDARMの高速化を図ることができる。The access time from the bank active command until the first output signal DQ is determined is tRACe
q, the access time from the read command to the determination of the output signal DQ is tAAeq, and the access time from the clock signal CLK to the determination of the output signal DQ is tAC. Since the present invention uses a high-amplitude signal of the VDD level for the latency control signal MOE and the output control signal DOC, the time required for level conversion can be omitted, and as a result, the access time tAC can be reduced. Then, by the control using the high-amplitude signal as described above, the current flowing through the MOSFET driven thereby can be increased, and the signal delay there can be reduced, thereby contributing to an increase in speed. Therefore, the cycle of the clock signal CLK can be shortened accordingly, and the speed of the synchronous DARM can be increased.
【0089】前記図5に示す実施例と前記図8に示した
実施例は、いずれも内部の低電位(VPERI)に対応
した小振幅の信号(MOB,MOL)を外部電圧(VD
D)に対応した大振幅の信号(MOH,S1)に変換し
て外部に信号(Dout)を出力する際の高速化に有効
である。これらの実施例において共通する点は次の通り
である。すなわち、外部にデータを出力するタイミング
信号(DOC)がアクティブになる前に、上記低電位
(VPERI)に対応した信号が上記外部電圧(VD
D)に対応した信号に変換できる構成にされている,従
つて、外部にデータを出力するタイミング信号(DO
C)がアクティブになってから実際に外部に信号(Do
ut)が出力されるまでの期間中に、信号レベルを変換
するための時間が含まれないから、高速出力が可能であ
る。The embodiment shown in FIG. 5 and the embodiment shown in FIG. 8 both output signals (MOB, MOL) having a small amplitude corresponding to the internal low potential (VPERI) to the external voltage (VD
This is effective for speeding up when converting into a large-amplitude signal (MOH, S1) corresponding to D) and outputting the signal (Dout) to the outside. The common points in these embodiments are as follows. That is, before the timing signal (DOC) for outputting data to the outside becomes active, a signal corresponding to the low potential (VPERI) is applied to the external voltage (VDD).
D) corresponding to a timing signal (DO) for outputting data to the outside.
C) becomes active after the signal (Do)
Since the time for converting the signal level is not included in the period until ut) is output, high-speed output is possible.
【0090】特に、メインアンプからの低振幅出力信号
が出力回路またはその近傍に到達した後、内部タイミン
グ信号に応答して高速に外部に出力させる場合に本発明
は有効である。メインアンプと出力回路間は比較的長い
配線を介して接続される場合が多いので、メインアンプ
からの出力信号は低振幅化さたまま出力回路またはその
近傍まで伝達された方が低消費電力化のために有効であ
る。In particular, the present invention is effective when the low-amplitude output signal from the main amplifier reaches the output circuit or its vicinity and is output to the outside at high speed in response to the internal timing signal. Since the main amplifier and the output circuit are often connected via relatively long wiring, it is better to transmit the output signal from the main amplifier to the output circuit or its vicinity with low amplitude, to reduce power consumption Effective for
【0091】図12には、この発明に係る論理付レベル
シフト回路の他の一実施例の回路図が示されている。こ
の実施例の回路は、前記図9(B)に示す回路の変形例
であり、MOSFETQ36が追加されている。信号M
OLがロウレベルで、かつ、タイミング信号DOCがハ
イレベルに変化した時に生じる不所望な電流をカットす
るためにMOSFETQ36が設けられる。すなわち、
MOSFETQ30とQ31を介して電源VDD側から
信号MOL側に不所望な電流が流れることを防止するた
めにMOSFETQ36が設けられる。FIG. 12 is a circuit diagram of another embodiment of the level shift circuit with logic according to the present invention. The circuit of this embodiment is a modified example of the circuit shown in FIG. 9B, and a MOSFET Q36 is added. Signal M
A MOSFET Q36 is provided to cut an undesired current generated when OL is at a low level and the timing signal DOC changes to a high level. That is,
A MOSFET Q36 is provided to prevent an undesired current from flowing from the power supply VDD to the signal MOL via the MOSFETs Q30 and Q31.
【0092】図13には、この発明に係る論理付レベル
シフト回路の他の一実施例の回路図が示されている。こ
の実施例の回路は、前記図9(A)に示す2入力NAN
D回路の変形例であり、3入力(IN1、IN2、IN
3)NAND回路を構成している。すなわち、タイミン
グ信号IN3を受けるためのMOSFETQ37、Q3
8が追加されている。FIG. 13 is a circuit diagram showing another embodiment of the level shift circuit with logic according to the present invention. The circuit of this embodiment is a two-input NAN shown in FIG.
This is a modification of the D circuit, and has three inputs (IN1, IN2, IN
3) Constituting a NAND circuit. That is, MOSFETs Q37 and Q3 for receiving the timing signal IN3
8 has been added.
【0093】図14には、この発明に係る論理付レベル
シフト回路の他の一実施例の回路図が示されている。こ
の実施例の回路は、前記図12に示す2入力NOR回路
の変形例であり、3入力(IN1、IN2、IN3)N
OR回路を構成している。すなわち、タイミング信号I
N3を受けるためのMOSFETQ39、Q40が追加
されている。FIG. 14 is a circuit diagram showing another embodiment of the level shift circuit with logic according to the present invention. The circuit of this embodiment is a modification of the two-input NOR circuit shown in FIG.
An OR circuit is configured. That is, the timing signal I
MOSFETs Q39 and Q40 for receiving N3 are added.
【0094】上記の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1) 外部端子から供給される電源電圧を受け、それ
を降圧した電圧で動作させられる内部回路と、上記内部
回路で形成された出力すべき信号をタイミング信号に従
って外部端子を通して出力させる出力回路とを備えた半
導体集積回路装置において、上記降圧電圧を用いること
により低消費電力化と素子の高信頼性を図りつつ、上記
内部回路で形成された出力すべき信号を電源電圧に対応
した信号レベルに変換しておいて、上記出力回路により
上記外部端子から供給された電源電圧に対応した電圧レ
ベルのタイミング信号を用いて出力させることより、タ
イミング信号から見て上記レベル変換動作を見えなくす
ることができるから動作の高速化を図ることができると
いう効果が得られる。The effects obtained from the above embodiment are as follows. That is, (1) an internal circuit that receives a power supply voltage supplied from an external terminal and operates at a stepped-down voltage, and an output that outputs a signal to be output formed by the internal circuit through an external terminal according to a timing signal. In the semiconductor integrated circuit device provided with a circuit, the signal to be output formed by the internal circuit corresponds to a power supply voltage while reducing power consumption and increasing the reliability of the element by using the step-down voltage. The level conversion operation is made invisible by the output circuit using a timing signal having a voltage level corresponding to the power supply voltage supplied from the external terminal by the output circuit. Therefore, the effect that the operation can be speeded up can be obtained.
【0095】(2) 上記入力回路のうち上記外部端子
から供給されるクロック信号を受ける入力回路と、上記
出力回路に供給されるクロック信号を発生させるクロッ
ク分配回路とを上記外部端子から供給される電源電圧を
動作電圧にすることより、内部クロック信号を発生させ
る経路にレベル変換が存在しないために、上記クロック
信号に対応して出力信号を高速に出力させることができ
るという効果が得られる。(2) Of the input circuit, an input circuit for receiving a clock signal supplied from the external terminal and a clock distribution circuit for generating a clock signal supplied to the output circuit are supplied from the external terminal. By setting the power supply voltage to the operating voltage, the output signal can be output at a high speed corresponding to the clock signal because there is no level conversion in the path for generating the internal clock signal.
【0096】(3) 上記入力回路は、外部端子から供
給される電源電圧により動作させられることより、入出
力インターフェイスを電源電圧に対応したものとするこ
とができるという効果が得られる。(3) Since the input circuit is operated by the power supply voltage supplied from the external terminal, an effect that the input / output interface can correspond to the power supply voltage can be obtained.
【0097】(4) 上記出力回路に含まれる上記タイ
ミング信号に従って上記出力すべき信号を伝達させる論
理部と上記レベルシフト回路とを、上記内部回路で形成
された出力すべき信号に対応して相補的にスイッチ動作
を行う一対からなる第1と第2のNチャンネル型MOS
FETと、かかる第1と第2のNチャンネル型MOSF
ETのドレインと外部端子から供給された電源電圧との
間に設けられ、ゲートとドレインとが交差接続された第
1と第2のPチャンネル型MOSFETと、上記タイミ
ング信号をゲートに受け、上記一対のNチャンネル型M
OSFETのうち出力端子にドレインが接続されたもの
と直列(又は並列)に接続された第3のNチャンネル型
MOSFETと、上記交差接続されPチャンネル型MO
SFETのうち出力端子にドレインが接続されたものと
並列(又は直列)に接続された第3のPチャンネル型M
OSFETからなる論理付レベルシフト回路を用いるこ
とより回路の簡素化も図ることができるという効果が得
られる。(4) The logic section for transmitting the signal to be output in accordance with the timing signal included in the output circuit and the level shift circuit are complemented in correspondence with the signal to be output formed in the internal circuit. First and second N-channel MOSs that perform a switching operation
FET and the first and second N-channel type MOSFs
First and second P-channel MOSFETs provided between a drain of the ET and a power supply voltage supplied from an external terminal and having a gate and a drain cross-connected to each other; N-channel type M
A third N-channel MOSFET connected in series (or in parallel) with a drain connected to the output terminal of the OSFET, and a cross-connected P-channel MOSFET
A third P-channel type M connected in parallel (or in series) with the SFET whose drain is connected to the output terminal
The use of the level shift circuit with logic including the OSFET has an effect that the circuit can be simplified.
【0098】(5) 上記論理付レベルシフト回路とし
て、上記第1のNチャンネル型MOSFETのゲートに
は、上記内部回路で形成された出力すべき信号を供給
し、第2のNチャンネル型MOSFETのゲートには上
記内部降圧電圧を供給し、ソースには上記上記内部回路
で形成された出力すべき信号を供給し、上記第1のNチ
ャンネル型MOSFETのドレインを上記出力端子に接
続させるものとすることにより、回路の簡素化と上記出
力すべき信号をシングルエンドの増幅回路で形成するこ
とができるために信号配線を少なくできるという効果が
得られる。(5) As the level shift circuit with logic, a signal to be output formed by the internal circuit is supplied to the gate of the first N-channel MOSFET, and the gate of the second N-channel MOSFET is supplied to the gate of the first N-channel MOSFET. The gate is supplied with the internal step-down voltage, the source is supplied with a signal to be output formed by the internal circuit, and the drain of the first N-channel MOSFET is connected to the output terminal. This has the effect of simplifying the circuit and reducing the number of signal wirings because the signal to be output can be formed by a single-ended amplifier circuit.
【0099】(6) ゲートがワード線に接続され、一
方のソース,ドレインが上記ワード線と交差するビット
線に接続され、他方のソース,ドレインが記憶キャパシ
タの蓄積ノードに接続されたアドレス選択MOSFET
からなるダイナミック型メモリセルと、上記ビット線に
読み出された上記記憶キャパシタの情報電荷に従った微
小電圧を増幅するセンスアンプの増幅MOSFETと、
上記ビット線にプリチャージ電圧を与えるプリチャージ
MOSFETと、上記ビット線を選択するカラムスイッ
チMOSFETとを含むメモリアレイと、上記ワード線
とビット線の選択信号を形成するデコーダと、上記カラ
ムスイッチを通して選択されたメモリセルの記憶情報を
読み出すメインアンプを含むダイナミック型RAMにお
いて、上記デコーダとメインアンプには、上記降圧回路
で形成された第1の動作電圧を供給し、上記センスアン
プの増幅MOSFETには、上記降圧回路で形成され、
上記第1の動作電圧よりも低くされた第2の動作電圧が
供給することにより、低消費電力、高信頼性を図りつ
つ、上記のような出力バッファを設けることにより動作
の高速化を実現することができるという効果が得られ
る。(6) An address selection MOSFET having a gate connected to a word line, one source and drain connected to a bit line crossing the word line, and the other source and drain connected to a storage node of a storage capacitor.
A dynamic memory cell consisting of: an amplification MOSFET of a sense amplifier that amplifies a minute voltage according to the information charge of the storage capacitor read to the bit line;
A memory array including a precharge MOSFET for applying a precharge voltage to the bit line, a column switch MOSFET for selecting the bit line, a decoder for forming a signal for selecting the word line and the bit line, and a selection through the column switch In a dynamic RAM including a main amplifier that reads stored information of a memory cell, a first operating voltage formed by the step-down circuit is supplied to the decoder and the main amplifier. , Formed by the step-down circuit,
By supplying the second operating voltage lower than the first operating voltage, low power consumption and high reliability are achieved, and high-speed operation is realized by providing the output buffer as described above. The effect that it can be obtained is obtained.
【0100】(7) 上記ワード線は、メインワード線
と、かかるメインワード線に対して共通に割り当てられ
てなる複数のサブワード線を設けて上記ダイナミック型
メモリセルのアドレス選択MOSFETのゲートを接続
し、上記サブワード線を上記メインワード線の信号とサ
ブワード選択線の信号とを受けるサブワードドライバに
より上記複数のうちの1つを選択し、上記サブワードド
ライバも上記メモリアレイに含ませることより、高集積
化で高容量のダイナミック型RAMを得ることができる
という効果が得られる。(7) The word line includes a main word line and a plurality of sub-word lines commonly assigned to the main word line, and connects the gates of the address selection MOSFETs of the dynamic memory cell. One of the plurality of sub-word lines is selected by a sub-word driver receiving the signal of the main word line and the signal of the sub-word selection line, and the sub-word driver is also included in the memory array, thereby achieving high integration. Thus, an effect that a high capacity dynamic RAM can be obtained can be obtained.
【0101】(8) 外部端子から供給される電源電圧
を受け、それを降圧した電圧で動作させる内部回路を用
いることより低消費電力と高信頼性を図るとともに、上
記内部回路で形成された第1信号と外部端子から供給さ
れる電源電圧に対応した第2信号との論理処理を行う論
理部として、上記第1信号に対応して相補的にスイッチ
動作を行う一対からなる第1と第2のNチャンネル型M
OSFETと、かかる第1と第2のNチャンネル型MO
SFETのドレインと外部端子から供給された電源電圧
との間に設けられ、ゲートとドレインとが交差接続され
た第1と第2のPチャンネル型MOSFETと、上記第
2信号をゲートに受けて上記一対のNチャンネル型MO
SFETのうち出力端子にドレインが接続されたものと
直列に接続された第3のNチャンネル型MOSFET
と、上記第2信号をゲートに受けて上記交差接続されP
チャンネル型MOSFETのうち出力端子にドレインが
接続されたものと並列に接続された第3のPチャンネル
型MOSFETとで構成することより、簡単な回路で論
理機能とレベル変換動作を行わせることができるという
効果が得られる。(8) Low power consumption and high reliability are achieved by using an internal circuit that receives a power supply voltage supplied from an external terminal and operates at a stepped down voltage. As a logic unit for performing a logical process of one signal and a second signal corresponding to a power supply voltage supplied from an external terminal, a pair of first and second pairs that perform a switching operation complementarily in response to the first signal N-channel type M
OSFET and the first and second N-channel type MOs
First and second P-channel MOSFETs provided between a drain of an SFET and a power supply voltage supplied from an external terminal and having a gate and a drain cross-connected to each other; A pair of N-channel MOs
A third N-channel MOSFET connected in series with an SFET having a drain connected to the output terminal
And the second signal is received by the gate and is cross-connected to P
Since the channel type MOSFET is configured with the third P-channel type MOSFET connected in parallel with the drain connected to the output terminal, the logic function and the level conversion operation can be performed with a simple circuit. The effect is obtained.
【0102】(9) 上記第1のNチャンネル型MOS
FETのゲートに上記第1信号を供給し、上記第2のN
チャンネル型MOSFETのゲートには、上記降圧電圧
を供給し、ソースには上記第1信号を供給し、上記第1
のNチャンネル型MOSFETのドレインを上記出力端
子に接続することにより、回路の簡素化と上記出力すべ
き信号をシングルエンドの増幅回路で形成することがで
きるために信号配線を少なくできるという効果が得られ
る。(9) First N-channel MOS
The first signal is supplied to the gate of the FET and the second N
The step-down voltage is supplied to the gate of the channel type MOSFET, the first signal is supplied to the source, and the first signal is supplied to the source.
By connecting the drain of the N-channel MOSFET to the output terminal, the effect of simplifying the circuit and reducing the number of signal wirings can be obtained because the signal to be output can be formed by a single-ended amplifier circuit. Can be
【0103】以上本発明者よりなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、上記
図1又は図10に示したダイナミック型RAMにおいて
メモリアレイ、サブアレイ及びサブワードドライバの構
成は、種々の実施形態を採ることができるし、サブワー
ドドライバを用いないワードシャント方式でもよい。The invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the invention of the present application is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say. For example, in the dynamic RAM shown in FIG. 1 or FIG. 10, the configurations of the memory array, the sub-array, and the sub-word driver can adopt various embodiments, and may be a word shunt system without using a sub-word driver.
【0104】論理付レベルシフト回路は、図9(A)
(B)においてNチャンネル型MOSFETQ31とQ
33のゲートに相補の入力信号MOとMOBを供給する
構成としてもよい。またクロック系信号は電源電圧VD
Dレベルそのものでなくとも、後段でレベル変換が必要
のない程度のわずかな降圧をおこなってもよい。例え
ば、このようなわずかな降圧は、昇圧電圧VPPをゲー
トに印加し、電源電圧VDDをドレインに印加したNチ
ャンネル型MOSFETのソース側電圧を用いれば簡単
に実現できる。FIG. 9A shows a level shift circuit with logic.
In (B), N-channel MOSFETs Q31 and Q31
The configuration may be such that complementary input signals MO and MOB are supplied to the 33 gates. The clock signal is the power supply voltage VD.
Instead of the D level itself, a slight step-down may be performed to the extent that level conversion is not necessary in the subsequent stage. For example, such a slight step-down can be easily realized by using the source side voltage of the N-channel MOSFET in which the boosted voltage VPP is applied to the gate and the power supply voltage VDD is applied to the drain.
【0105】クロック信号に対応したデータ出力を行う
ものとしては、前記ダイナミック型RAMの他同様な動
作を行うものであれば何であってもよい。つまり、この
発明は、タイミング信号に対応して出力動作を行わせる
もの、あるいは内部降圧回路で動作する内部回路を持
ち、それを外部電源電圧に対応したレベルに変換させて
出力させる出力回路を備えた半導体集積回路装置に広く
利用することができる。As the device for outputting data corresponding to the clock signal, any device can be used as long as it performs the same operation as that of the dynamic RAM. That is, the present invention includes an output circuit that performs an output operation in response to a timing signal or an internal circuit that operates by an internal voltage down converter, and converts the output to a level corresponding to an external power supply voltage and outputs the converted signal. Widely used in semiconductor integrated circuit devices.
【0106】[0106]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、外部端子から供給される電
源電圧を受け、それを降圧した電圧で動作させられる内
部回路と、上記内部回路で形成された出力すべき信号を
タイミング信号に従って外部端子を通して出力させる出
力回路とを備えた半導体集積回路装置において、上記降
圧電圧を用いることにより低消費電力化と素子の高信頼
性を図りつつ、上記内部回路で形成された出力すべき信
号を電源電圧に対応した信号レベルに変換しておいて、
上記出力回路により上記外部端子から供給された電源電
圧に対応した電圧レベルのタイミング信号を用いて出力
させることより、上記レベル変換動作を見えなくするこ
とができるから動作の高速化を図ることができる。The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, an internal circuit that receives a power supply voltage supplied from an external terminal and operates at a stepped-down voltage, and an output circuit that outputs a signal to be output formed by the internal circuit through an external terminal according to a timing signal. In a semiconductor integrated circuit device provided with the above-described step-down voltage, a signal to be output formed in the internal circuit is converted into a signal level corresponding to a power supply voltage while reducing power consumption and increasing the reliability of elements by using the step-down voltage. And keep
The level conversion operation can be made invisible by causing the output circuit to output using a timing signal of a voltage level corresponding to the power supply voltage supplied from the external terminal, so that the operation can be speeded up. .
【0107】外部端子から供給される電源電圧を受け、
それを降圧した電圧で動作させられる内部回路を用いる
ことより低消費電力と高信頼性を図るとともに、上記内
部回路で形成された第1信号と外部端子から供給される
電源電圧に対応した第2信号との論理処理を行う論理部
として、上記第1信号信号に対応して相補的にスイッチ
動作を行う一対からなる第1と第2のNチャンネル型M
OSFETと、かかる第1と第2のNチャンネル型MO
SFETのドレインと外部端子から供給された電源電圧
との間に設けられ、ゲートとドレインとが交差接続され
た第1と第2のPチャンネル型MOSFETと、上記第
2信号をゲートに受けて上記一対のNチャンネル型MO
SFETのうち出力端子にドレインが接続されたものと
直列に接続された第3のNチャンネル型MOSFET
と、上記第2信号をゲートに受けて上記交差接続されP
チャンネル型MOSFETのうち出力端子にドレインが
接続されたものと並列に接続された第3のPチャンネル
型MOSFETとで構成することより、簡単な回路で論
理機能とレベル変換動作を行わせることができる。Upon receiving a power supply voltage supplied from an external terminal,
A low power consumption and high reliability are attained by using an internal circuit that can be operated at a voltage stepped down from the second circuit. A pair of first and second N-channel type Ms that perform a switching operation complementarily in response to the first signal signal as a logic unit that performs logical processing on a signal.
OSFET and the first and second N-channel type MOs
First and second P-channel MOSFETs provided between a drain of an SFET and a power supply voltage supplied from an external terminal and having a gate and a drain cross-connected to each other; A pair of N-channel MOs
A third N-channel MOSFET connected in series with an SFET having a drain connected to the output terminal
And the second signal is received by the gate and is cross-connected to P
By configuring the channel type MOSFET with the drain connected to the output terminal and the third P-channel type MOSFET connected in parallel, the logic function and the level conversion operation can be performed by a simple circuit. .
【図1】この発明が適用されるダイナミック型RAMの
一実施例を示す概略レイアウト図である。FIG. 1 is a schematic layout diagram showing one embodiment of a dynamic RAM to which the present invention is applied.
【図2】この発明が適用されるダイナミック型RAMを
説明するための概略レイアウト図である。FIG. 2 is a schematic layout diagram for explaining a dynamic RAM to which the present invention is applied;
【図3】この発明に係るダイナミック型RAMにおける
サブアレイとその周辺回路の一実施例を示す概略レイア
ウト図である。FIG. 3 is a schematic layout diagram showing one embodiment of a sub-array and its peripheral circuits in a dynamic RAM according to the present invention.
【図4】この発明に係るダイナミック型RAMのセンス
アンプ部を中心にして、アドレス入力からデータ出力ま
での簡略化された一実施例を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing a simplified embodiment from address input to data output centering on the sense amplifier section of the dynamic RAM according to the present invention.
【図5】この発明に係るダイナミック型RAMの出力バ
ッファの一実施例を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing one embodiment of an output buffer of a dynamic RAM according to the present invention.
【図6】図5に示したダイナミック型RAMの動作順序
に対応した各回路の動作電圧に対応した信号レベルを示
す電位分布図である。6 is a potential distribution diagram showing signal levels corresponding to operation voltages of respective circuits corresponding to the operation order of the dynamic RAM shown in FIG. 5;
【図7】図6のクロック系回路の一実施例を示す回路図
である。FIG. 7 is a circuit diagram showing one embodiment of the clock system circuit of FIG. 6;
【図8】この発明に係るダイナミック型RAMの出力バ
ッファの他の一実施例を示す回路図である。FIG. 8 is a circuit diagram showing another embodiment of the output buffer of the dynamic RAM according to the present invention.
【図9】この発明に係る論理付レベルシフト回路の一実
施例を示す回路図である。FIG. 9 is a circuit diagram showing one embodiment of a level shift circuit with logic according to the present invention.
【図10】この発明が適用されるシンクロナスダイナミ
ック型RAMの一実施例を示す概略レイアウト図であ
る。FIG. 10 is a schematic layout diagram showing an embodiment of a synchronous dynamic RAM to which the present invention is applied.
【図11】図10のシンクロナスダイナミック型RAM
の動作の一例を説明するための波形図である。11 is a synchronous dynamic RAM of FIG.
FIG. 6 is a waveform chart for explaining an example of the operation of FIG.
【図12】この発明に係る論理付レベルシフト回路の他
の一実施例を示す回路図である。FIG. 12 is a circuit diagram showing another embodiment of the level shift circuit with logic according to the present invention.
【図13】この発明に係る論理付レベルシフト回路の他
の一実施例を示す回路図である。FIG. 13 is a circuit diagram showing another embodiment of the level shift circuit with logic according to the present invention.
【図14】この発明に係る論理付レベルシフト回路の他
の一実施例を示す回路図である。FIG. 14 is a circuit diagram showing another embodiment of the level shift circuit with logic according to the present invention.
10…メモリチップ、11…メインロウデコーダ領域、
12…メインワードドライバ領域、13…カラムデコー
ダ領域、14…周辺回路、ポンディングパッド領域、1
5…メセリセルアレイ(サブアレイ)、16…センスア
ンプ領域、17…サブワードドライバ領域、18…交差
領域(クロスエリア)、51…アドレスバッファ、52
…プリデコーダ、53…デコーダ、61…メインアン
プ、62…出力バッファ、63…入力バッファ、LS…
レベルシフト回路、G1〜G4…ゲート回路、N1〜N
13…インバータ回路、QP…Pチャンネル型出力MO
SFET、QN…Nチャンネル型出力MOSFET、Q
1〜Q35…MOSFET。10: memory chip, 11: main row decoder area,
12: Main word driver area, 13: Column decoder area, 14: Peripheral circuit, bonding pad area, 1
5 Meseli cell array (subarray), 16 Sense amplifier area, 17 Subword driver area, 18 Cross area (cross area), 51 Address buffer, 52
... Predecoder, 53 ... Decoder, 61 ... Main amplifier, 62 ... Output buffer, 63 ... Input buffer, LS ...
Level shift circuits, G1 to G4 gate circuits, N1 to N
13: Inverter circuit, QP: P-channel type output MO
SFET, QN ... N-channel type output MOSFET, Q
1 to Q35: MOSFET.
Claims (14)
する降圧回路と、 外部端子から供給される入力信号を受ける入力回路と、 上記降圧回路で形成された内部電圧で動作する内部回路
と、 タイミング信号に従って外部端子を通して信号を出力さ
せる出力回路と、 上記内部回路で形成された出力すべき信号を上記外部端
子から供給された電源電圧レベルに対応した信号レベル
に変換するレベルシフト回路とを備え、 上記タイミング信号は、上記外部端子から供給された電
源電圧レベルに対応した信号レベルであり、 上記出力回路は、上記レベルシフト回路で変換された信
号を出力させるものであることを特徴とする半導体集積
回路装置。A step-down circuit for stepping down a power supply voltage supplied from an external terminal; an input circuit receiving an input signal supplied from an external terminal; an internal circuit operating with an internal voltage formed by the step-down circuit; An output circuit that outputs a signal through an external terminal according to a timing signal; and a level shift circuit that converts a signal to be output formed by the internal circuit into a signal level corresponding to a power supply voltage level supplied from the external terminal. Wherein the timing signal has a signal level corresponding to a power supply voltage level supplied from the external terminal, and the output circuit outputs a signal converted by the level shift circuit. Integrated circuit device.
イミング信号を形成するタイミング信号発生回路を更に
有し、 上記入力回路と上記タイミング信号発生回路とは、上記
外部端子から供給される電源電圧を動作電圧とするもの
であることを特徴とする半導体集積回路装置。2. The circuit according to claim 1, further comprising a timing signal generation circuit for forming the timing signal based on a clock signal supplied from an external terminal, wherein the input circuit and the timing signal generation circuit are connected to the external circuit. A semiconductor integrated circuit device wherein a power supply voltage supplied from a terminal is used as an operating voltage.
り動作させられるものであることを特徴とする半導体集
積回路装置。3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the input circuit is operated by a power supply voltage supplied from an external terminal.
れかにおいて、 上記レベルシフト回路は、論理付レベルシフト回路によ
り構成され、 かかる論理付レベルシフト回路は、 上記内部回路で形成された出力すべき信号に対応して相
補的にスイッチ動作を行う一対からなる第1と第2のN
チャンネル型MOSFETと、かかる第1と第2のNチ
ャンネル型MOSFETのドレインと外部端子から供給
された電源電圧との間に設けられ、互いにゲートとドレ
インとが交差接続された第1と第2のPチャンネル型M
OSFETと、 上記タイミング信号をゲートに受け、上記一対のNチャ
ンネル型MOSFETのうち出力端子にドレインが接続
されたものと直列に接続された第3のNチャンネル型M
OSFETと、上記交差接続されたPチャンネル型MO
SFETのうち出力端子にドレインが接続されたものと
並列に接続された第3のPチャンネル型MOSFETか
らなることを特徴とする半導体集積回路装置。4. The level shift circuit according to claim 1, wherein the level shift circuit is constituted by a level shift circuit with logic, and the level shift circuit with logic is formed by the internal circuit. A first and a second N, which comprise a pair that performs a switching operation complementarily in accordance with a signal to be output.
A channel type MOSFET, and first and second N-channel type MOSFETs provided between a drain of each of the first and second N-channel type MOSFETs and a power supply voltage supplied from an external terminal. P channel type M
An OSFET, a third N-channel MOSFET M connected to the gate of the N-channel MOSFET receiving the timing signal and having an output terminal connected to the drain of the pair of N-channel MOSFETs;
OSFET and the cross-connected P-channel type MO
A semiconductor integrated circuit device comprising a third P-channel MOSFET connected in parallel with one of the SFETs having a drain connected to an output terminal.
れかにおいて、 上記レベルシフト回路は、論理付レベルシフト回路によ
り構成され、 かかる論理付レベルシフト回路は、 上記内部回路で形成された出力すべき信号をゲートに受
ける第1のNチャンネル型MOSFETと、 上記内部降圧電圧をゲートに受け、上記内部回路で形成
された出力すべき信号をソースに受ける第2のNチャン
ネル型MOSFETと、 上記第1と第2のNチャンネル型MOSFETのドレイ
ンと外部端子から供給された電源電圧との間に設けら
れ、互いにゲートとドレインとが交差接続された第1と
第2のPチャンネル型MOSFETと、 上記タイミング信号をゲートに受け、上記第1のNチャ
ンネル型MOSFETと直列に接続された第3のNチャ
ンネル型MOSFETと、上記交差接続されたPチャン
ネル型MOSFETのうち出力端子にドレインが接続さ
れたものと並列に接続された第3のPチャンネル型MO
SFETからなることを特徴とする半導体集積回路装
置。5. The level shift circuit according to claim 1, wherein the level shift circuit is configured by a level shift circuit with logic, and the level shift circuit with logic is formed by the internal circuit. A first N-channel MOSFET receiving a signal to be output at its gate; a second N-channel MOSFET receiving the internal step-down voltage at its gate and receiving at its source the signal to be output formed by the internal circuit; First and second P-channel MOSFETs provided between a drain of the first and second N-channel MOSFETs and a power supply voltage supplied from an external terminal, and having a gate and a drain cross-connected to each other; A third N-channel type M which receives the timing signal at its gate and is connected in series with the first N-channel type MOSFET. An OSFET and a third P-channel MOSFET connected in parallel with the cross-connected P-channel MOSFET whose drain is connected to the output terminal.
A semiconductor integrated circuit device comprising an SFET.
項4のいずれかにおいて、 上記内部回路は、 ゲートがワード線に接続され、一方のソース,ドレイン
が上記ワード線と交差するビット線に接続され、他方の
ソース,ドレインが記憶キャパシタの蓄積ノードに接続
されたアドレス選択MOSFETからなるダイナミック
型メモリセルと、上記ビット線に読み出された上記記憶
キャパシタの情報電荷に従った微小電圧を増幅するセン
スアンプの増幅MOSFETと、上記ビット線にプリチ
ャージ電圧を与えるプリチャージMOSFETと、上記
ビット線を選択するカラムスイッチMOSFETとを含
むメモリアレイと、 上記ワード線とビット線の選択信号を形成するプリデコ
ーダ及びデコーダと、 上記カラムスイッチを通して選択されたメモリセルの記
憶情報を読み出すメインアンプを含み、 上記プリデコーダ及びデコーダとメインアンプには、上
記降圧回路で形成された第1の動作電圧が供給され、 上記センスアンプの増幅MOSFETには、上記降圧回
路で形成され、上記第1の動作電圧よりも低くされた第
2の動作電圧が供給されるものであることを特徴とする
半導体集積回路装置。6. The internal circuit according to claim 1, wherein the gate is connected to a word line, and one of the source and the drain intersects the word line. A dynamic memory cell comprising an address selection MOSFET connected to the bit line and having the other source and drain connected to the storage node of the storage capacitor; and a micro memory cell according to the information charge of the storage capacitor read to the bit line. A memory array including an amplification MOSFET of a sense amplifier for amplifying a voltage, a precharge MOSFET for applying a precharge voltage to the bit line, and a column switch MOSFET for selecting the bit line; and a signal for selecting the word line and the bit line. And a pre-decoder and a decoder forming the A first operating voltage formed by the step-down circuit is supplied to the predecoder, the decoder, and the main amplifier; and the step-down circuit is supplied to an amplification MOSFET of the sense amplifier. And a second operating voltage lower than the first operating voltage is supplied to the semiconductor integrated circuit device.
ド線に対して共通に割り当てられてなる複数のサブワー
ド線からなり、 上記サブワード線に対して上記ダイナミック型メモリセ
ルのアドレス選択MOSFETのゲートが接続され、 上記サブワード線は、上記メインワード線の信号とサブ
ワード選択線の信号とを受けるサブワードドライバによ
り上記複数のうちの1つが選択されるものであり、 上記サブワードドライバも上記メモリアレイに含まれる
ものであることを特徴とする半導体集積回路装置。7. The dynamic memory according to claim 6, wherein the word line comprises a main word line and a plurality of sub-word lines commonly assigned to the main word line. A gate of an address selection MOSFET of a cell is connected; one of the plurality of sub-word lines is selected by a sub-word driver receiving a signal of the main word line and a signal of a sub-word selection line; A semiconductor integrated circuit device, wherein a driver is also included in the memory array.
する降圧回路と、 外部端子から供給される入力信号を受ける入力回路と、 上記降圧回路で形成された内部電圧で動作する内部回路
と、 上記外部端子から供給される電源電圧で動作し、内部回
路で形成された出力すべき信号を外部端子を通して出力
させる出力回路とを備え、 上記出力回路は、 上記内部回路で形成された第1信号と外部端子から供給
される電源電圧に対応した第2信号との論理処理を行う
論理部を含み、 上記論理部は、上記第1信号に対応して相補的にスイッ
チ動作を行う一対からなる第1と第2のNチャンネル型
MOSFETと、かかる第1と第2のNチャンネル型M
OSFETのドレインと外部端子から供給された電源電
圧との間に設けられ、ゲートとドレインとが交差接続さ
れた第1と第2のPチャンネル型MOSFETと、 上記第2信号をゲートに受けて上記一対のNチャンネル
型MOSFETのうち出力端子にドレインが接続された
ものと直列に接続された第3のNチャンネル型MOSF
ETと、上記第2信号をゲートに受けて上記交差接続さ
れPチャンネル型MOSFETのうち出力端子にドレイ
ンが接続されたものと並列に接続された第3のPチャン
ネル型MOSFETとからなることを特徴とする半導体
集積回路装置。8. A step-down circuit for stepping down a power supply voltage supplied from an external terminal, an input circuit receiving an input signal supplied from an external terminal, an internal circuit operated by an internal voltage formed by the step-down circuit, An output circuit operable with a power supply voltage supplied from the external terminal to output a signal to be output formed in an internal circuit through the external terminal, the output circuit comprising: a first signal formed by the internal circuit; And a logic unit for performing a logic process on a second signal corresponding to a power supply voltage supplied from an external terminal, wherein the logic unit comprises a pair of a pair that performs a complementary switching operation in response to the first signal. First and second N-channel MOSFETs and such first and second N-channel MOSFETs
First and second P-channel MOSFETs provided between a drain of an OSFET and a power supply voltage supplied from an external terminal and having a gate and a drain cross-connected to each other; A third N-channel MOSFET connected in series with one having a drain connected to the output terminal of the pair of N-channel MOSFETs;
ET and a third P-channel MOSFET connected in parallel with the cross-connected P-channel MOSFET whose drain is connected to the output terminal among the cross-connected P-channel MOSFETs receiving the second signal at the gate. Semiconductor integrated circuit device.
第1信号を供給し、上記第2のNチャンネル型MOSF
ETのゲートには、上記降圧電圧を供給し、ソースには
上記第1信号を供給し、上記第1のNチャンネル型MO
SFETのドレインを上記出力端子に接続してなること
を特徴とする半導体集積回路装置。9. The N-channel MOSFET according to claim 8, wherein the first signal is supplied to a gate of the first N-channel MOSFET.
The step-down voltage is supplied to the gate of the ET, the first signal is supplied to the source, and the first N-channel type MO is supplied.
A semiconductor integrated circuit device comprising a drain of an SFET connected to the output terminal.
圧する降圧回路と、 第2端子から供給される入力信号を受ける入力回路と、 上記降圧回路で形成された第2電圧で動作する内部回路
と、 上記内部回路で形成された出力すべき信号をタイミング
信号に従って第3端子を通して出力させる出力回路とを
備え、 上記内部回路で形成された出力すべき信号は、レベルシ
フト回路により上記第1電圧レベルに対応した信号レベ
ルに変換されて上記出力回路に供給され、 上記出力回路においては、上記第1電圧に対応した電圧
レベルのタイミング信号を受け、上記レベルシフト回路
を通した信号を出力させるものであることを特徴とする
半導体集積回路装置。10. A step-down circuit for stepping down a first voltage supplied from a first terminal, an input circuit receiving an input signal supplied from a second terminal, and operating with a second voltage formed by the step-down circuit. An internal circuit; and an output circuit for outputting a signal to be output formed by the internal circuit through a third terminal in accordance with a timing signal. The signal is converted to a signal level corresponding to one voltage level and supplied to the output circuit. The output circuit receives a timing signal of a voltage level corresponding to the first voltage, and outputs a signal passed through the level shift circuit. A semiconductor integrated circuit device.
ク信号に従って形成されるものであり、 上記入力回路のうち上記第4端子から供給されるクロッ
ク信号を受ける入力部と、上記出力回路に供給されるク
ロック信号を発生させるクロック分配回路とは、上記第
1電圧を動作電圧とするものであることを特徴とする半
導体集積回路装置。11. The input circuit according to claim 10, wherein the timing signal is formed according to a clock signal supplied from a fourth terminal, and an input of the input circuit receiving the clock signal supplied from the fourth terminal. And a clock distribution circuit for generating a clock signal to be supplied to the output circuit, wherein the first voltage is used as an operation voltage.
あることを特徴とする半導体集積回路装置。12. The semiconductor integrated circuit device according to claim 10, wherein the input circuit is operated by a first voltage.
とは、論理付レベルシフト回路により構成され、 かかる論理付レベルシフト回路は、 上記内部回路で形成された出力すべき信号に対応して相
補的にスイッチ動作を行う一対からなる第1と第2のN
チャンネル型MOSFETと、かかる第1と第2のNチ
ャンネル型MOSFETのドレインと第1端子から供給
された第1電圧との間に設けられ、互いにゲートとドレ
インとが交差接続された第1と第2のPチャンネル型M
OSFETと、 上記タイミング信号をゲートに受け、上記一対のNチャ
ンネル型MOSFETのうち出力端子にドレインが接続
されたものに接続された第3のNチャンネル型MOSF
ETと、上記交差接続されたPチャンネル型MOSFE
Tのうち出力端子にドレインが接続されたものに接続さ
れた第3のPチャンネル型MOSFETからなることを
特徴とする半導体集積回路装置。13. The level shift circuit according to claim 10, wherein the logic unit included in the output circuit and the level shift circuit are configured by a level shift circuit with logic, and the level shift circuit with logic is formed by the internal circuit. First and second N pairs of a pair that perform a switching operation complementarily in response to a signal to be output
A first and second N-channel MOSFETs provided between a drain of the first and second N-channel MOSFETs and a first voltage supplied from a first terminal, and having a gate and a drain cross-connected to each other; 2 P-channel type M
An OSFET, and a third N-channel MOSFET connected to one of the pair of N-channel MOSFETs having a drain connected to an output terminal, the gate receiving the timing signal.
ET and the cross-connected P-channel MOSFET
A semiconductor integrated circuit device comprising a third P-channel MOSFET connected to a transistor having a drain connected to an output terminal of T.
路と、 上記第1電源電圧より低い第2電源電圧を受けて動作す
る内部回路とを備え、 上記出力回路は、 上記内部回路で形成された信号に対応して相補的にスイ
ッチ動作を行う一対からなる第1と第2のNチャンネル
型MOSFETと、かかる第1と第2のNチャンネル型
MOSFETのドレインと第1電源電圧が供給される端
子との間に設けられ、互いにゲートとドレインとが交差
接続された第1と第2のPチャンネル型MOSFET
と、 出力端子と、 上記第1電源電圧レベルのタイミング信号をゲートに受
け、上記一対のNチャンネル型MOSFETのうち上記
出力端子にドレインが接続されたものと直列に接続され
た第3のNチャンネル型MOSFETと、 上記タイミング信号をゲートに受け、上記交差接続され
たPチャンネル型MOSFETのうち上記出力端子にド
レインが接続されたものと並列に接続された第3のPチ
ャンネル型MOSFETとを含むことを特徴とする半導
体集積回路装置。14. An output circuit that operates by receiving a first power supply voltage, and an internal circuit that operates by receiving a second power supply voltage lower than the first power supply voltage, wherein the output circuit is formed by the internal circuit. A pair of first and second N-channel MOSFETs that perform a switching operation in a complementary manner in response to the supplied signal, drains of the first and second N-channel MOSFETs, and a first power supply voltage are supplied. And a second P-channel MOSFET having a gate and a drain cross-connected to each other.
An output terminal; a third N-channel MOSFET which receives the timing signal of the first power supply voltage level at its gate, and is connected in series with one of the pair of N-channel MOSFETs whose drain is connected to the output terminal. And a third P-channel MOSFET that receives the timing signal at its gate and that is connected in parallel with the cross-connected P-channel MOSFET whose drain is connected to the output terminal. A semiconductor integrated circuit device characterized by the above-mentioned.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11064192A JPH11328962A (en) | 1998-03-16 | 1999-03-11 | Semiconductor integrated circuit device |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8492598 | 1998-03-16 | ||
| JP10-84925 | 1998-03-16 | ||
| JP11064192A JPH11328962A (en) | 1998-03-16 | 1999-03-11 | Semiconductor integrated circuit device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11328962A true JPH11328962A (en) | 1999-11-30 |
Family
ID=26405321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11064192A Pending JPH11328962A (en) | 1998-03-16 | 1999-03-11 | Semiconductor integrated circuit device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11328962A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001110185A (en) * | 1999-10-07 | 2001-04-20 | Mitsubishi Electric Corp | Clock synchronous semiconductor memory device |
| JP2008071474A (en) * | 2006-07-25 | 2008-03-27 | Qimonda North America Corp | Boosted clock circuit for semiconductor memory |
| JP2008220584A (en) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Daikoku Denki Co Ltd | Display control device for gaming machine |
| JP2018182492A (en) * | 2017-04-11 | 2018-11-15 | 新日本無線株式会社 | Level shift circuit |
-
1999
- 1999-03-11 JP JP11064192A patent/JPH11328962A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001110185A (en) * | 1999-10-07 | 2001-04-20 | Mitsubishi Electric Corp | Clock synchronous semiconductor memory device |
| JP2008071474A (en) * | 2006-07-25 | 2008-03-27 | Qimonda North America Corp | Boosted clock circuit for semiconductor memory |
| JP2008220584A (en) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Daikoku Denki Co Ltd | Display control device for gaming machine |
| JP2018182492A (en) * | 2017-04-11 | 2018-11-15 | 新日本無線株式会社 | Level shift circuit |
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