JPH11333773A

JPH11333773A - 真空吸着機器の吸着用部材及びその製造方法

Info

Publication number: JPH11333773A
Application number: JP10143791A
Authority: JP
Inventors: Yasuo Murakami; 泰夫村上; Takahiro Nakahigashi; 孝浩中東; Jo Takeuchi; 上竹内
Original assignee: Nissin Electric Co Ltd
Current assignee: Nissin Electric Co Ltd
Priority date: 1998-05-26
Filing date: 1998-05-26
Publication date: 1999-12-07

Abstract

(57)【要約】【課題】長期にわたり被吸着物の吸着保持及び離脱を
繰り返し円滑に行うことができ、それでいて格別のコス
ト高を招かず、また環境に対して安全である真空吸着機
器の吸着用部材及びその製造方法を提供する。【解決手段】被吸着物に当てがわれ、該被吸着物を真
空吸引作用にて吸着保持するための真空吸着機器の吸着
パッド（吸着用部材）であって、吸着保持のために該被
吸着物に当接される部分表面が潤滑性のある炭素膜Ｆで
形成されている吸着パッドＰ、及び、真空吸着機器の吸
着パッド（吸着用部材）の製造方法であって、該吸着パ
ッドの基体Ｓを形成する工程と、該吸着パッド基体Ｓの
少なくとも被吸着物体に当てがわれる部分の表面Ｓ１に
潤滑性のある炭素膜Ｆを形成する工程とを含む吸着パッ
ドＰの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、物品の移動用保持
手段として用いられる真空吸着機器、すなわち、被搬送
物の吸着保持のために、それに当接される吸着用部材を
含む真空吸着機器のための吸着用部材及びその製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】物品の移動用保持手段として用いられる
真空吸着機器は被搬送物の吸着保持のための吸着用部材
を備えている。該吸着用部材は被搬送物の大きさ、形状
等に応じて様々の形態に形成される。例えば、ガラス板
等の板体の移動用保持のための真空吸着装置では、板体
面に当接されるカップ形状の吸着用パッドが用いられ、
電子部品等の移動用保持には、真空ピンセットとして知
られている真空吸着装置において、該ピンセットの先端
部に電子部品等に当てがわれる吸着チップ（吸引孔を形
成したもの）が用いられる。

【０００３】いずれにしても真空吸着機器における吸着
用部材は排気手段に連通され、その排気手段による吸着
用部材での気体吸引作用を利用して被吸着物を吸着保持
する。また、気体吸引を停止することで、吸着した物体
を離脱させる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、真空吸
着機器のかかる吸着用部材には、該吸着用部材の材質、
被吸着物の材質等によって、或いは使用環境によって、
次第に塵埃等が固着することがあり、そのため吸引力を
作用させても気体漏れが生じて、被吸着物をうまく吸着
保持できなくなることがある。

【０００５】また、吸着用部材の被吸着物との摩擦係数
が大きいと、吸引力を解除しても被吸着物の離れ性が悪
く、そのために吸着、解除を繰り返すうちに吸着用部材
が損傷して次第に十分な吸着機能を発揮できなくなるこ
とがある。この問題を解決するために潤滑性オイルを塗
布することが考えられるが、それでは被吸着物がオイル
のために汚れたり、吸着用部材に塵埃等が付着し易くな
る。

【０００６】また、以上説明したような問題を解決する
ために吸着用部材の材質を選択することや、吸着用部材
の材質をゴムとする場合において、該部材の被吸着物へ
の接触面を塩酸処理してゴム表面の硬化をはかることも
考えられる。しかし、前者の場合には材料選択の幅が狭
くなり、材料の選出自体が困難となったり、材料の選択
は可能であっても吸着用部材コストが高くついたりす
る。後者の塩酸処理は環境に悪影響を与えるので採用し
難い。

【０００７】そこで本発明は、長期にわたり被吸着物の
吸着保持及び離脱を繰り返し円滑に行うことができ、そ
れでいて格別のコスト高を招かず、また環境に対して安
全である真空吸着機器の吸着用部材及びその製造方法を
提供することを課題とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明は、被吸着物に当てがわれ、該被吸着物を真空
吸引作用にて吸着保持するための真空吸着機器の吸着用
部材であって、吸着保持のために該被吸着物に当接され
る部分表面が潤滑性のある炭素膜で形成されていること
を特徴とする真空吸着機器の吸着用部材を提供する。

【０００９】また本発明は、被吸着物に当てがわれ、該
被吸着物を真空吸引作用にて吸着保持するための真空吸
着機器の吸着用部材の製造方法であって、該吸着用部材
の基体を形成する工程と、該吸着用部材基体の少なくと
も被吸着物に当てがわれる部分の表面に潤滑性のある炭
素膜を形成する工程とを含むことを特徴とする真空吸着
機器の吸着用部材の製造方法を提供する。

【００１０】本発明に係る真空吸着機器の吸着用部材
は、吸着保持のために被吸着物に当接される部分表面が
潤滑性のある炭素膜で形成されているため、その部分へ
塵埃等が固着し難く、吸引力を作用させたときの塵埃等
による気体漏れを抑制できる。また、該被吸着物との滑
りが良く、その部分の摩擦係数は小さいので、吸引力を
解除したときの該被吸着物の離れ性が良くなり、吸着、
解除の繰り返しによる吸着用部材の損傷を抑制できる。
また、潤滑性オイル等を塗布しなくてもよいので被吸着
物がオイルのために汚れることがなく、オイルによる吸
着用部材への塵埃等の付着もない。これらのことから、
長期にわたり被吸着物の吸着保持及び離脱を繰り返し円
滑に行うことができる。

【００１１】また、吸着用部材基体の材質は、その炭素
膜形成対象面に炭素膜を形成できるものであればよいの
で、吸着用部材の材料選択の幅が格別制限されることは
なく、材料面で格別のコスト高を招くことはない。さら
に、前記吸着用部材の被吸着物への接触面を塩酸処理す
ることがないので、環境に対して安全である。

【００１２】本発明における真空吸着機器の吸着用部材
の基体は、少なくとも炭素膜形成面或いは炭素膜形成対
象面が、ゴム及び樹脂から選ばれた少なくとも１種の材
料からなっているものとすることができる。なお、ゴム
及び樹脂の他、真空吸着機器の吸着用部材として吸着機
能を発揮できる材料であれば、特に限定されない。前記
ゴムとしては天然ゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレ
ンゴム、クロロプレンゴム、塩素化ポリエチレンゴム、
エピクロルヒドリンゴム、アクリルゴム、ニトリルゴ
ム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム等を例
示できる。

【００１３】また、樹脂としては熱硬化性樹脂、熱可塑
性樹脂のいずれでも採用でき、熱硬化性樹脂としては、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、尿素樹脂、メラミ
ン・ホルムアルデヒド樹脂、エポキシ樹脂、フラン樹
脂、キシレン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコー
ン樹脂、ジアリルフタレート樹脂等を例示できる。熱可
塑性樹脂では、ビニル系樹脂（ポリ塩化ビニル、ポリビ
ニルブチレート、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルホルマール、ポリ２塩化ビニル等）、ポ
リ塩化ビニリデン、塩素化ポリエーテル、ポリエステル
系樹脂（ポリスチレン、スチレン・アクリロニトリル共
重合体等）、ＡＢＳ、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリアセタール、アクリル系樹脂（ポリメチルメタクリ
レート、変性アクリル等）、ポリアミド系樹脂（ナイロ
ン６、６６、６１０、１１等）、セルロース系樹脂（エ
チルセルロース、酢酸セルロース、プロピルセルロー
ス、酢酸・酪酸セルロース、硝酸セルロース等）、ポリ
カーボネート、フェノキシ系樹脂、フッ素系樹脂（３フ
ッ化塩化エチレン、４フッ化エチレン、４フッ化エチレ
ン・６フッ化プロピレン、フッ化ビニリデン等の樹
脂）、ポリウレタン等を例示できる。

【００１４】本発明における炭素膜は、前記吸着用部材
が吸着機能を発揮するために柔軟な特性を要求されるこ
とがあり、その場合には、該吸着用部材の変形に追随で
きる硬度を有することが望ましい。このような炭素膜と
しては、代表例としてＤＬＣ(Diamond Like Carbon、ダ
イヤモンド状炭素）膜を挙げることができる。ＤＬＣ膜
は、潤滑性良好であり、また、他物品との摩擦により摩
耗し難く、且つ、その厚さを調整することにより、基体
本来の柔軟性を損なわない程度にすることができる適度
な硬度を有する炭素膜である。また、比較的低温で形成
できる等、成膜を容易に行うことができる。

【００１５】いずれにしても前記炭素膜の膜厚は、基体
上に密着性良好に形成でき、さらに基体が柔軟性を有す
るものであるときは、その柔軟性を損なわない程度であ
ればよい。また、本発明における炭素膜形成方法として
は、プラズマＣＶＤ法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法等を挙げることができるが、特にプラズマ
ＣＶＤ法を用いる場合は、後述するプラズマによる前処
理と炭素膜形成とを同一の装置を用いて行うことができ
る。プラズマＣＶＤ、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング等の膜形成方法は、吸着用部材基体の膜形成対象
面の材料としてゴム、樹脂等の比較的耐熱性に劣る材料
を用いた基体に熱的損傷を与えない温度範囲で膜形成で
きる利点がある。

【００１６】プラズマＣＶＤ法により炭素膜を形成する
場合のプラズマ原料ガスとしては、炭素膜形成に一般に
用いられるメタン（ＣＨ₄）、エタン（Ｃ₂Ｈ₆）、プ
ロパン（Ｃ₃Ｈ₈）、ブタン（Ｃ₄Ｈ₁₀）、アセチレン
（Ｃ₂Ｈ₂）、ベンゼン（Ｃ ₆Ｈ₆）等の炭化水素化合
物ガス及び必要に応じて、これらの炭化水素化合物ガス
にキャリアガスとして水素ガス、不活性ガス等を混合し
たものを用いることができる。

【００１７】なお、いずれにしても炭素膜は吸着用部材
の被吸着物に当接される部分以外にも形成されてもよ
い。また、本発明に係る真空吸着機器の吸着用部材の製
造方法において、前記炭素膜形成に先立ち、前処理とし
て前記吸着用部材基体の膜形成対象面を前処理用ガス、
例えばフッ素（Ｆ）含有ガス、水素（Ｈ₂）ガス及び酸
素（Ｏ₂）ガスから選ばれた少なくとも１種の前処理用
ガスのプラズマに曝すことができる。

【００１８】前記フッ素含有ガスとしては、フッ素（Ｆ
₂）ガス、３フッ化窒素（ＮＦ₃）ガス、６フッ化硫黄
（ＳＦ₆）ガス、４フッ化炭素（ＣＦ₄）ガス、４フッ
化ケイ素（ＳｉＦ₄）ガス、６フッ化２ケイ素（Ｓｉ₂
Ｆ₆）ガス、３フッ化塩素（ＣｌＦ₃）ガス、フッ化水
素（ＨＦ）ガス等を挙げることができる。吸着用部材の
基体を前記前処理用ガスのプラズマに曝すことにより、
基体の表面が清浄化され、又はさらに基体の表面粗度が
向上する。これらは、炭素膜の密着性向上に寄与し、高
密着性炭素膜を得ることができる。

【００１９】また、吸着用部材基体の膜形成対象面がゴ
ム、樹脂等の有機材料からなる場合、フッ素含有ガスプ
ラズマを採用するときは、これによって基体表面がフッ
素終端され、水素ガスプラズマを採用するときはこれに
よって基体表面が水素終端される。フッ素−炭素結合及
び水素−炭素結合は安定であるため、このような終端処
理を施した面上に炭素膜を形成する場合は、膜中の炭素
原子が基体表面部分のフッ素原子又は水素原子と安定に
結合を形成する。そしてこれらのことから、その後形成
する炭素膜と前記基体との密着性を向上させることがで
きる。

【００２０】また、酸素ガスプラズマを採用するとき
は、基体表面に付着した有機物等の汚れを特に効率良く
除去でき、これらのことからその後形成する炭素膜の密
着性を向上させることができる。本発明方法において、
プラズマによる前処理は同種類のプラズマを用いて或い
は異なる種類のプラズマを用いて複数回行っても構わな
い。例えば、吸着用部材の基体を酸素ガスプラズマに曝
した後、フッ素含有ガスプラズマ又は水素ガスプラズマ
に曝し、その上に炭素膜を形成するときには、基体表面
がクリーニングされた後、該面がフッ素終端又は水素終
端されて、その後形成する炭素膜と該基体表面との密着
性は非常に良好なものとなる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図１は本発明に係る真空吸着機器
の吸着用部材の製造に用いることができる成膜装置の１
例の概略構成を示す図である。また、図２は本発明に係
る真空吸着機器の吸着用部材の１例（吸着用パッド）の
断面図である。

【００２２】図１の装置は、排気装置１１が付設された
真空チャンバ１を有し、チャンバ１内には電極２及びこ
れに対向する位置に電極３が設置されている。電極３は
接地され、電極２にはマッチングボックス２２を介して
高周波電源２３が接続されている。また、電極２にはそ
の上に支持される被成膜基体を成膜温度に加熱するため
のヒータ２１が付設されている。また、チャンバ１には
ガス供給部４が付設されて、内部にプラズマ原料ガスを
導入できるようになっている。ガス供給部４には、マス
フローコントローラ４１１、４１２・・・及び弁４２
１、４２２・・・を介して接続された１又は２以上のプ
ラズマ原料ガスのガス源４３１、４３２・・・が含まれ
る。

【００２３】この装置を用いて本発明に係る真空吸着装
置の吸着用部材（ここでは吸着用パッド）を製造する方
法の１例について説明する。先ず、ここでは別途に予め
形成しておいたシリコーンゴムからなっている吸着用パ
ッド基体Ｓを、被吸着物に当接される面を電極３の方に
向けて、チャンバ１内の接地電極２上に設置し、排気装
置１１の運転にてチャンバ１内部を所定の圧力まで減圧
する。また、ガス供給部４からチャンバ１内にフッ素含
有ガス、水素ガス及び酸素ガスのうち１種以上のガスを
前処理用ガスとして導入するとともに高周波電源２３か
らマッチングボックス２２を介して電極２に高周波電力
を供給し、これにより前記導入した前処理用ガスをプラ
ズマ化し、該プラズマの下で基体Ｓの被吸着物に当接さ
れる部分表面Ｓ１の前処理を行う。なお、この表面処理
（前処理）は行うことが望ましいが、必ずしも要しな
い。

【００２４】次いで、必要に応じてチャンバ１内を再び
排気し、さらに圧力を再調整してガス供給部４からチャ
ンバ１内に成膜用原料ガスとして炭化水素化合物ガスを
導入するとともに高周波電源２３からマッチングボック
ス２２を介して電極２に高周波電力を供給し、これによ
り前記導入した炭化水素化合物ガスをプラズマ化し、該
プラズマの下で基体Ｓの表面Ｓ１に炭素膜を形成する。

【００２５】このようにして、図２に示すように、吸着
用パッド基体Ｓの被吸着物に当てがわれる部分表面Ｓ１
が炭素膜Ｆで形成された炭素膜被覆吸着用パッドＰが得
られる。このパッドＰは吸着装置を構成する支持管５の
先端に接着等にて取り付け使用される。支持管５は図示
を省略した排気手段に連設される。この吸着用パッドＰ
は、基体Ｓの被吸着物に当接される部分表面が潤滑性を
有する炭素膜Ｆで形成されているため、その部分へ塵埃
等が固着し難く、吸引力を作用させたときの塵埃等の固
着による気体漏れを抑制できる。また、該被吸着物との
滑りが良く、その部分の摩擦係数は小さいので、吸引力
を解除したときの該被吸着物の離れ性が良くなり、被吸
着物の吸着、解除を繰り返しても吸着用パッドＰの損傷
は抑制される。また、潤滑性オイル等を塗布しなくても
よいので被吸着物がオイルのために汚れることがなく、
吸着用パッドＰにオイルによる塵埃等の付着もない。こ
れらのことから、長期にわたり被吸着物の吸着保持及び
離脱を繰り返し円滑に行うことができる。

【００２６】また、吸着用パッドＰの炭素膜Ｆは容易に
形成できるので、格別のコスト高を招くことはない。さ
らに、吸着用パッドＰの被吸着物への接触面を塩酸処理
することがないので、環境に対して安全である。次に、
図１の装置を用いて、シリコーンゴムからなっている吸
着用パッドＰの基体Ｓの被吸着物に当接される部分表面
Ｓ１にＤＬＣ膜を形成した実験例１及びプラズマによる
前処理を施した後ＤＬＣ膜を形成した実験例２〜５につ
いて説明する。実験例１前述の図１の装置を用いた成膜方法において、前処理用
ガスプラズマによる吸着用パッド基体の前処理を行わ
ず、チャンバ１内で該吸着用パッド基体の被吸着物に当
接される部分表面Ｓ１に直接ＤＬＣ膜を形成した。被成膜基体材質シリコーンゴムサイズパッド径（外径Ｄ）５０ｍｍ（内径ｄ）４６ｍｍ高周波電極サイズ４０ｃｍ×４０ｃｍの正方形ＤＬＣ膜形成の成膜条件成膜用原料ガスメタン（ＣＨ₄）、１００ｓｃｃｍ高周波電力１３．５６ＭＨｚ、３００Ｗ成膜圧力０．１Ｔｏｒｒ成膜速度２００Å／ｍｉｎ成膜時間６０ｍｉｎ実験例２前記実験例１において、ＤＬＣ膜形成に先立ち、吸着用
パッド基体に次の条件で水素ガスプラズマによる前処理
を施した。成膜条件は前記実験例１と同様とした。前処理条件前処理用ガス水素（Ｈ₂）、１００ｓｃｃｍ高周波電力１３．５６ＭＨｚ、３００Ｗ処理圧力０．１Ｔｏｒｒ処理時間５ｍｉｎ実験例３前記実験例１において、ＤＬＣ膜形成に先立ち、吸着用
パッド基体に次の条件でフッ素化合物ガスプラズマによ
る前処理を施した。成膜条件は前記実験例１と同様とし
た。前処理条件前処理用ガス６フッ化硫黄（ＳＦ₆）、１００ｓｃｃｍ高周波電力１３．５６ＭＨｚ、３００Ｗ処理圧力０．１Ｔｏｒｒ処理時間５ｍｉｎ実験例４前記実験例１において、ＤＬＣ膜形成に先立ち、吸着用
パッド基体に次の条件で酸素ガスプラズマによる第１の
前処理を施し、さらに水素ガスプラズマによる第２の前
処理を施した。成膜条件は前記実験例１と同様とした。第１前処理条件前処理用ガス酸素（Ｏ₂）、１００ｓｃｃｍ高周波電力１３．５６ＭＨｚ、３００Ｗ処理圧力０．１Ｔｏｒｒ処理時間５ｍｉｎ第２前処理条件前処理用ガス水素（Ｈ₂）、１００ｓｃｃｍ高周波電力１３．５６ＭＨｚ、３００Ｗ処理圧力０．１Ｔｏｒｒ処理時間５ｍｉｎ実験例５前記実験例１において、ＤＬＣ膜形成に先立ち、吸着用
パッド基体に次の条件で酸素ガスプラズマによる第１の
前処理を施し、さらにフッ素化合物ガスプラズマによる
第２の前処理を施した。成膜条件は前記実験例１と同様
とした。第１前処理条件前処理用ガス酸素（Ｏ₂）、１００ｓｃｃｍ高周波電力１３．５６ＭＨｚ、３００Ｗ処理圧力０．１Ｔｏｒｒ処理時間５ｍｉｎ第２前処理条件前処理用ガス６フッ化硫黄（ＳＦ₆）、１００ｓｃｃｍ高周波電力１３．５６ＭＨｚ、３００Ｗ処理圧力０．１Ｔｏｒｒ処理時間５ｍｉｎ次に、前記実験例１〜５により得られた各ＤＬＣ膜被覆
吸着用パッドについて膜の密着性を測定した。膜密着性
は、吸着用パッドの膜表面に円柱状の部材（直径５ｍ
ｍ）を接着剤を用いて接合させ垂直方向に引っ張り、膜
の剥離に要した引っ張り力を測定した。結果を次表に示
す。

【００２７】このように、ＤＬＣ膜形成に先立ちシリコーンゴムから
なっている吸着用パッド基体の被吸着物に当接される部
分表面にプラズマによる前処理を施すことで膜密着性が
向上したことが分かる。

【００２８】また、前記実験例１〜５により得られた各
ＤＬＣ膜被覆吸着用パッド及び未処理の吸着用パッド基
体（比較例）について、潤滑性を評価した。潤滑性は、
３／８インチのＳＵＪ−２（ＪＩＳＧ４８０５高炭
素クロム軸受鋼鋼材）からなるボールを用い、荷重５０
ｇｆ、速度０．１ｍ／ｓｅｃの条件で走行開始直後及び
１ｋｍ走行終了直前の膜被覆基体又は基体との摩擦係数
を測定するボールオンディスク法で評価した。結果を次
表に示す。

【００２９】このように、シリコーンゴムからなっている吸着用パッ
ド基体にＤＬＣ膜を被覆することで測定用のボールとの
摩擦係数が大きく低減したことが分かる。未処理の吸着
用パッド基体（比較例）では、ボールが固着し、測定不
能になった。

【００３０】また、前記実験例１〜５により得られた各
ＤＬＣ膜被覆吸着用パッド及び未処理の吸着用パッド基
体（比較例）について、吸着用パッドの耐久性を確認す
るために、５０ｃｍ×５０ｃｍ×厚さ１ｃｍ（質量５７
５ｇ）のガラス板を繰り返して吸着保持及び離脱できる
回数を測定した。なお、吸着真空度を−２００ｍｍＨ
ｇ、離脱時のパッドとガラス板の距離を２ｍｍ、吸着時
間を１秒、吸着していない待機時間を１秒とした。

【００３１】なお、パッドの理論吸着力Ｗ（ｋｇ）＝
｛パッド吸着面積（ｃｍ²）×吸着真空度（−ｍｍＨ
ｇ）｝／７６０であり、パッド径５０ｍｍでは、理論吸着力Ｗは約５ｋ
ｇ（ただし静的条件で水平つりで約２．５ｋｇ）とな
る。このように、シリコーンゴムからなっている吸着用パッ
ド基体にＤＬＣ膜を被覆することで、未処理の吸着用パ
ッド基体（比較例）に比べて６倍から１０倍の回数、吸
着保持及び離脱を繰り返せることが分かる。

【００３２】以上のことから、吸着保持のために被吸着
物に当接される部分表面を炭素膜（特にＤＬＣ膜）で形
成した本発明の真空吸着機器の吸着用部材は、潤滑性に
優れることが分かる。さらに、被吸着物の吸着保持及び
離脱を長期にわたり繰り返し円滑に行うことができるこ
とが分かる。なお、以上の説明は吸着用パッドについて
のものであるが、本発明は種々の真空吸着機器用の吸着
用部材について適用できる。例えば、特開平９−１３９
４２０号公報に開示されている電子部品等の吸着保持の
ための真空ピンセットにおける吸引孔を有する吸着チッ
プ等にも適用できる。

【００３３】

【発明の効果】以上説明したように本発明によると、長
期にわたり被吸着物の吸着保持及び離脱を繰り返し円滑
に行うことができ、それでいて格別のコスト高を招か
ず、また環境に対して安全である真空吸着機器の吸着用
部材及びその製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る真空吸着機器の吸着用部材の製造
に用いることができる成膜装置の１例の概略構成を示す
図である。

【図２】本発明に係る真空吸着機器の吸着用部材の１例
の断面図である。

【符号の説明】

１真空チャンバ１１排気装置２高周波電極２１ヒータ２２マッチングボックス２３高周波電源３接地電極４プラズマ原料ガス供給部Ｐ吸着用パッドＳ真空吸着機器の吸着用部材基体Ｓ１吸着保持のために被吸着物に当てがわれる基体Ｓ
の部分の表面Ｆ炭素膜５支持管

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被吸着物に当てがわれ、該被吸着物を真空
吸引作用にて吸着保持するための真空吸着機器の吸着用
部材であって、吸着保持のために該被吸着物に当接され
る部分表面が潤滑性のある炭素膜で形成されていること
を特徴とする真空吸着機器の吸着用部材。
【請求項２】前記炭素膜がＤＬＣ膜である請求項１記載
の真空吸着機器の吸着用部材。
【請求項３】前記吸着用部材の基体の炭素膜形成面がゴ
ム又は樹脂からなっている請求項１又は２記載の真空吸
着機器の吸着用部材。
【請求項４】被吸着物に当てがわれ、該被吸着物を真空
吸引作用にて吸着保持するための真空吸着機器の吸着用
部材の製造方法であって、該吸着用部材の基体を形成す
る工程と、該吸着用部材基体の少なくとも被吸着物に当
てがわれる部分の表面に潤滑性のある炭素膜を形成する
工程とを含むことを特徴とする真空吸着機器の吸着用部
材の製造方法。
【請求項５】前記炭素膜をＤＬＣ膜とする請求項４記載
の真空吸着機器の吸着用部材の製造方法。
【請求項６】前記炭素膜をプラズマＣＶＤ法により形成
する請求項４又は５記載の真空吸着機器の吸着用部材の
製造方法。
【請求項７】前記吸着用部材の基体の炭素膜形成対象面
をゴム又は樹脂で形成する請求項４、５又は６記載の真
空吸着機器の吸着用部材の製造方法。
【請求項８】前記炭素膜形成に先立ち、前処理として前
記吸着用部材基体の膜形成対象面をフッ素（Ｆ）含有ガ
ス、水素（Ｈ₂）ガス及び酸素（Ｏ₂）ガスから選ばれ
た少なくとも１種のガスのプラズマに曝す請求項４から
７のいずれかに記載の真空吸着機器の吸着用部材の製造
方法。