JPH11335722A - 粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランス - Google Patents
粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランスInfo
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- JPH11335722A JPH11335722A JP14407398A JP14407398A JPH11335722A JP H11335722 A JPH11335722 A JP H11335722A JP 14407398 A JP14407398 A JP 14407398A JP 14407398 A JP14407398 A JP 14407398A JP H11335722 A JPH11335722 A JP H11335722A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｏ2 ガスと粉体を同一のランス孔で供給で
き、かつ、専用のランスと同程度の冷却能を得て、パー
ジガスを流す必要もない上吹き精錬用ランスを提供す
る。 【解決手段】 精錬炉に挿入される上吹き精錬用ランス
である。外周を冷却水路１１ｂで囲ったランス中央部
を、Ｏ2 ガスと粉体の兼用供給孔１１ａとなす。兼用供
給孔１１ａ内に形成する絞り部１１ｄの前後をテーパ状
となす。絞り部１１ｄと、この前後のテーパ状部１１ｅ
を、耐摩耗性部材で形成する。 【効果】 処理中にランスを交換する必要がなく、処理
時間を短縮できる。また、処理中にパージガスを流す必
要もなく、ガスコストも削減できる。さらに、専用のラ
ンスと同程度の冷却能を得ることができ、ランスを大径
にする必要がないので、重量も専用のランスと同程度で
済み、ランスの昇降装置を増強する必要もない。
き、かつ、専用のランスと同程度の冷却能を得て、パー
ジガスを流す必要もない上吹き精錬用ランスを提供す
る。 【解決手段】 精錬炉に挿入される上吹き精錬用ランス
である。外周を冷却水路１１ｂで囲ったランス中央部
を、Ｏ2 ガスと粉体の兼用供給孔１１ａとなす。兼用供
給孔１１ａ内に形成する絞り部１１ｄの前後をテーパ状
となす。絞り部１１ｄと、この前後のテーパ状部１１ｅ
を、耐摩耗性部材で形成する。 【効果】 処理中にランスを交換する必要がなく、処理
時間を短縮できる。また、処理中にパージガスを流す必
要もなく、ガスコストも削減できる。さらに、専用のラ
ンスと同程度の冷却能を得ることができ、ランスを大径
にする必要がないので、重量も専用のランスと同程度で
済み、ランスの昇降装置を増強する必要もない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば溶鋼を真空
槽内に吸い上げて真空処理するＲＨ真空脱ガス装置など
の真空精錬炉、或いは、転炉、脱リン炉等に挿入する上
吹き精錬用ランスに関するものである。
槽内に吸い上げて真空処理するＲＨ真空脱ガス装置など
の真空精錬炉、或いは、転炉、脱リン炉等に挿入する上
吹き精錬用ランスに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＲＨ式真空脱ガス装置は、図２に示すよ
うに、真空槽１の下部に設けた２つの浸漬管２，３を取
鍋４内の溶鋼５中に浸漬し、一方の浸漬管２内にＮ2 或
いはＡｒガスを吹込むことにより、真空槽１内に溶鋼５
を吸い上げ、吸い上げた溶鋼５を真空槽１内の減圧下で
脱ガス、成分調整した後、他方の浸漬管３から取鍋４内
に排出して還流させるものである。
うに、真空槽１の下部に設けた２つの浸漬管２，３を取
鍋４内の溶鋼５中に浸漬し、一方の浸漬管２内にＮ2 或
いはＡｒガスを吹込むことにより、真空槽１内に溶鋼５
を吸い上げ、吸い上げた溶鋼５を真空槽１内の減圧下で
脱ガス、成分調整した後、他方の浸漬管３から取鍋４内
に排出して還流させるものである。
【０００３】このようなＲＨ式真空脱ガス装置において
は、処理中の溶鋼温度の低下を抑制する事を目的とし
て、真空槽１内に水冷の上吹きランス６を挿入し、この
上吹きランス６からＯ2 ガスを上吹きし、溶鋼中のＡｌ
との反応熱によって溶鋼を昇熱している。
は、処理中の溶鋼温度の低下を抑制する事を目的とし
て、真空槽１内に水冷の上吹きランス６を挿入し、この
上吹きランス６からＯ2 ガスを上吹きし、溶鋼中のＡｌ
との反応熱によって溶鋼を昇熱している。
【０００４】ところで、この上吹きランス６は、Ｏ2 ガ
スと溶鋼中のＡｌとの反応効率を増加するため、図３に
示すように、急激に縮小する内径部（以下、「ラバール
部」という。）６ａを有するラバールノズルが一般的に
採用されている（特開昭５０−６７７１０号）。なお、
図３中の６ｂは冷却水路６ｃを形成する仕切管を示す。
スと溶鋼中のＡｌとの反応効率を増加するため、図３に
示すように、急激に縮小する内径部（以下、「ラバール
部」という。）６ａを有するラバールノズルが一般的に
採用されている（特開昭５０−６７７１０号）。なお、
図３中の６ｂは冷却水路６ｃを形成する仕切管を示す。
【０００５】一方、最近の高純度鋼製造の要求に対応す
るため、ＲＨ式真空脱ガス装置における真空槽内にて、
同じく上吹きランスを介して、鉄鉱石や脱硫剤のような
粉体を上吹きする技術も開発され、実施されている。
るため、ＲＨ式真空脱ガス装置における真空槽内にて、
同じく上吹きランスを介して、鉄鉱石や脱硫剤のような
粉体を上吹きする技術も開発され、実施されている。
【０００６】しかしながら、一般に粉体を輸送する管体
においては、その内径が急激に変化しているラバール部
や、曲管部での管内摩耗が極めて大きい。管内摩耗が進
行すると、ランス本体に孔が空いて冷却水が漏れ、溶鋼
との反応により水蒸気爆発が発生するなど、きわめて危
険である。従って、従来は、粉体の上吹きランスには、
特開昭５９−３５６１５号で開示されているような、ス
トレート型の上吹きランスが採用されていた。
においては、その内径が急激に変化しているラバール部
や、曲管部での管内摩耗が極めて大きい。管内摩耗が進
行すると、ランス本体に孔が空いて冷却水が漏れ、溶鋼
との反応により水蒸気爆発が発生するなど、きわめて危
険である。従って、従来は、粉体の上吹きランスには、
特開昭５９−３５６１５号で開示されているような、ス
トレート型の上吹きランスが採用されていた。
【０００７】すなわち、従来は、Ｏ2 ガスと粉体は同じ
上吹きランスを用いて供給する事ができず、夫々専用の
ランスを用いて供給していた。従って、従来は、Ｏ2 ガ
スと粉体の専用ランスを２基準備する必要があるので、
設備投資費用が大きくなっていた。また、処理中にラン
スを交換していたので、ランスの交換時、処理を中断す
る必要があり、処理時間が増加してコスト増となってい
た。
上吹きランスを用いて供給する事ができず、夫々専用の
ランスを用いて供給していた。従って、従来は、Ｏ2 ガ
スと粉体の専用ランスを２基準備する必要があるので、
設備投資費用が大きくなっていた。また、処理中にラン
スを交換していたので、ランスの交換時、処理を中断す
る必要があり、処理時間が増加してコスト増となってい
た。
【０００８】そこで、本出願人は、特開平３−２７４２
１８号で、同一のランスで、Ｏ2 ガスと粉体を供給でき
る三重管ランスを提案した。この三重管ランス７は、図
４に示すように、中央に粉体を噴射する粉体供給孔７ａ
を形成し、この粉体供給孔７ａの回りにＯ2 ガスを噴射
するガス供給孔７ｂを複数個形成し、これらガス供給孔
７ｂの回りに冷却水路７ｃを設けたものである。この三
重管ランス７によれば、専用のランスを使用する場合の
問題をすべて解決する事ができる。
１８号で、同一のランスで、Ｏ2 ガスと粉体を供給でき
る三重管ランスを提案した。この三重管ランス７は、図
４に示すように、中央に粉体を噴射する粉体供給孔７ａ
を形成し、この粉体供給孔７ａの回りにＯ2 ガスを噴射
するガス供給孔７ｂを複数個形成し、これらガス供給孔
７ｂの回りに冷却水路７ｃを設けたものである。この三
重管ランス７によれば、専用のランスを使用する場合の
問題をすべて解決する事ができる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
３−２７４２１８号で提案した三重管ランスは、構造が
複雑となるため、冷却水路が狭くなり、冷却不足による
溶損が生じ易いという問題を内在していることがその後
の実験で判明した。この冷却不足を解決するためには、
ランス径を増加すれば良いが、ランス径を増加すると、
重量が増加し、ランスの昇降装置の能力増強などのコス
ト増を招く。
３−２７４２１８号で提案した三重管ランスは、構造が
複雑となるため、冷却水路が狭くなり、冷却不足による
溶損が生じ易いという問題を内在していることがその後
の実験で判明した。この冷却不足を解決するためには、
ランス径を増加すれば良いが、ランス径を増加すると、
重量が増加し、ランスの昇降装置の能力増強などのコス
ト増を招く。
【００１０】また、特開平３−２７４２１８号で提案し
た三重管ランスは、Ｏ2 ガスと粉体の供給孔が別のた
め、一方の処理を実施している間、他方の孔からは、地
金の飛込みを防止する目的で、絶えずパージガスを流す
必要があり、ガスコストの増加を招く。
た三重管ランスは、Ｏ2 ガスと粉体の供給孔が別のた
め、一方の処理を実施している間、他方の孔からは、地
金の飛込みを防止する目的で、絶えずパージガスを流す
必要があり、ガスコストの増加を招く。
【００１１】本発明は、Ｏ2 ガスと粉体を同一のランス
孔で供給でき、しかも、特開平３−２７４２１８号で提
案した三重管ランスにあった問題点を解決できる、粉
体、酸素兼用上吹き精錬用ランスを提供することを目的
としている。
孔で供給でき、しかも、特開平３−２７４２１８号で提
案した三重管ランスにあった問題点を解決できる、粉
体、酸素兼用上吹き精錬用ランスを提供することを目的
としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランス
は、ランス中央部を、Ｏ2 ガスと粉体の兼用供給孔とな
すと共に、兼用供給孔内に形成する絞り部の前後をテー
パ状となしている。そして、このようにすることで、専
用のランスと同程度の冷却能を得ることができ、しか
も、パージガスを流す必要もなくなる。
ために、本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランス
は、ランス中央部を、Ｏ2 ガスと粉体の兼用供給孔とな
すと共に、兼用供給孔内に形成する絞り部の前後をテー
パ状となしている。そして、このようにすることで、専
用のランスと同程度の冷却能を得ることができ、しか
も、パージガスを流す必要もなくなる。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の粉体、酸素兼用上吹き精
錬用ランスは、精錬炉に挿入される上吹き精錬用ランス
であって、外周を冷却水路で囲ったランス中央部を、Ｏ
2 ガスと粉体の兼用供給孔となすと共に、兼用供給孔内
に形成する絞り部の前後をテーパ状となしたものであ
り、絞り部と、この前後のテーパ状部を、耐摩耗性部材
で形成すれば、粉体による摩耗をより抑制することがで
きる。
錬用ランスは、精錬炉に挿入される上吹き精錬用ランス
であって、外周を冷却水路で囲ったランス中央部を、Ｏ
2 ガスと粉体の兼用供給孔となすと共に、兼用供給孔内
に形成する絞り部の前後をテーパ状となしたものであ
り、絞り部と、この前後のテーパ状部を、耐摩耗性部材
で形成すれば、粉体による摩耗をより抑制することがで
きる。
【００１４】本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ラン
スでは、粉体とＯ2 ガスを同一のランスの、同一の経路
で供給できるので、処理中にランスを交換する必要がな
く、処理時間を短縮できる。また、同一の経路からの吹
込みであるから、処理中にパージガスを流す必要もな
く、ガスコストを削減できる。
スでは、粉体とＯ2 ガスを同一のランスの、同一の経路
で供給できるので、処理中にランスを交換する必要がな
く、処理時間を短縮できる。また、同一の経路からの吹
込みであるから、処理中にパージガスを流す必要もな
く、ガスコストを削減できる。
【００１５】さらに、ランスの先端部の構造が簡単であ
るから、専用のランスと同程度の冷却能を得ることがで
き、ランスの重量も専用のランスと同程度で済む。した
がって、ランスの昇降装置を増強する必要もない。
るから、専用のランスと同程度の冷却能を得ることがで
き、ランスの重量も専用のランスと同程度で済む。した
がって、ランスの昇降装置を増強する必要もない。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用
ランスを図１に示す一実施例に基づいて説明する。図１
は本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランスの先端部
分の一実施例を示したもので、（ａ）は中央縦断面図、
（ｂ）は（ａ）の矢視Ａ−Ａ図である。
ランスを図１に示す一実施例に基づいて説明する。図１
は本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランスの先端部
分の一実施例を示したもので、（ａ）は中央縦断面図、
（ｂ）は（ａ）の矢視Ａ−Ａ図である。
【００１７】図１において、１１は真空精錬炉の真空槽
内に挿入される本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ラ
ンスであり、図２に示したように、十分に長い管で構成
され、真空槽の上端部から上下方向に昇降可能なように
取付けられる。
内に挿入される本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ラ
ンスであり、図２に示したように、十分に長い管で構成
され、真空槽の上端部から上下方向に昇降可能なように
取付けられる。
【００１８】そして、本発明の粉体、酸素兼用上吹き精
錬用ランス１１では、ランス中央部をＯ2 ガスと粉体の
兼用供給孔１１ａとなし、この兼用供給孔１１ａの外周
を冷却水路１１ｂで囲った構成である。この冷却水路１
１ｂは、その内部に仕切管１１ｃを設け、冷却水はラン
スの内周側を冷却した後、外周側を冷却するようにして
いる。
錬用ランス１１では、ランス中央部をＯ2 ガスと粉体の
兼用供給孔１１ａとなし、この兼用供給孔１１ａの外周
を冷却水路１１ｂで囲った構成である。この冷却水路１
１ｂは、その内部に仕切管１１ｃを設け、冷却水はラン
スの内周側を冷却した後、外周側を冷却するようにして
いる。
【００１９】また、本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬
用ランス１１では、兼用供給孔１１ａ内に形成する絞り
部１１ｄの前後をテーパ状となし、粉体供給時における
絞り部１１ｄの摩耗を抑制するようにしている。
用ランス１１では、兼用供給孔１１ａ内に形成する絞り
部１１ｄの前後をテーパ状となし、粉体供給時における
絞り部１１ｄの摩耗を抑制するようにしている。
【００２０】この絞り部１１ｄと、テーパ状部１１ｅ
は、例えば予め当該形状に形成し、兼用供給孔１１ａ内
の所定位置に接合するなどして形成すれば良い。また、
絞り部１１ｄと、テーパ状部１１ｅを、例えば高Ｍｎ
鋼、ＳＣＭｎＨ２（ＪＩＳ Ｇ５１３１）、ＳＫＤ６
（ＪＩＳ Ｇ４４０４）、或いは、セラミックスやＨｉ
−Ｎｉなどの耐摩耗性部材で形成すれば、粉体供給時に
おける摩耗をさらに抑制することができる。
は、例えば予め当該形状に形成し、兼用供給孔１１ａ内
の所定位置に接合するなどして形成すれば良い。また、
絞り部１１ｄと、テーパ状部１１ｅを、例えば高Ｍｎ
鋼、ＳＣＭｎＨ２（ＪＩＳ Ｇ５１３１）、ＳＫＤ６
（ＪＩＳ Ｇ４４０４）、或いは、セラミックスやＨｉ
−Ｎｉなどの耐摩耗性部材で形成すれば、粉体供給時に
おける摩耗をさらに抑制することができる。
【００２１】本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ラン
ス１１は上記した構成であり、溶鋼昇熱時には、ランス
先端面を溶鋼面に対して最適位置となるように下降さ
せ、Ｏ 2 ガスを兼用供給孔１１ａから音速で吹込んで、
ＡｌとＯ2 ガスを効率良く反応させて、溶鋼を昇熱させ
る。
ス１１は上記した構成であり、溶鋼昇熱時には、ランス
先端面を溶鋼面に対して最適位置となるように下降さ
せ、Ｏ 2 ガスを兼用供給孔１１ａから音速で吹込んで、
ＡｌとＯ2 ガスを効率良く反応させて、溶鋼を昇熱させ
る。
【００２２】また、極低硫鋼製造時には、溶鋼の昇熱時
と同様にランスを下降させ、最初は兼用供給孔１１ａか
らＯ2 ガスを供給して溶鋼を昇熱し、所定の温度に到達
した時点で、Ｏ2 ガスからＡｒガス供給に切替え、兼用
供給孔１１ａからＡｒガスをキャリヤガスとして脱硫剤
を吹込む。溶鋼内に侵入した脱硫剤の脱硫作用により、
効率良く、かつ、短時間にＳ含有量が１０ｐｐｍ以下の
極低硫鋼を製造することができる。
と同様にランスを下降させ、最初は兼用供給孔１１ａか
らＯ2 ガスを供給して溶鋼を昇熱し、所定の温度に到達
した時点で、Ｏ2 ガスからＡｒガス供給に切替え、兼用
供給孔１１ａからＡｒガスをキャリヤガスとして脱硫剤
を吹込む。溶鋼内に侵入した脱硫剤の脱硫作用により、
効率良く、かつ、短時間にＳ含有量が１０ｐｐｍ以下の
極低硫鋼を製造することができる。
【００２３】必要量の吹込みが完了した時点で、初期の
ランス待機位置までランスを上昇させ、所定の真空処理
が終わるまで真空槽内で待機する。これら一連の動作は
自動若しくは手動で行われる。なお、脱硫剤を供給する
代わりに、鉄鉱石を供給することによって、極低炭素鋼
の製造にも適用することができる。
ランス待機位置までランスを上昇させ、所定の真空処理
が終わるまで真空槽内で待機する。これら一連の動作は
自動若しくは手動で行われる。なお、脱硫剤を供給する
代わりに、鉄鉱石を供給することによって、極低炭素鋼
の製造にも適用することができる。
【００２４】ちなみに、絞り部、テーパ状部にＳＣＭｎ
Ｈ２を用いた本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ラン
スを使用したところ、絞り部、テーパ状部の損耗速度は
１チャージ当り０ｍｍとなり、安定した粉体、Ｏ2 ガス
の吹込みと、安全性の確保が可能になった。なお、絞り
部、テーパ状部を銅製とした本発明の粉体、酸素兼用上
吹き精錬用ランスを使用したところ、絞り部、テーパ状
部の損耗速度は１チャージ当り１ｍｍであった。
Ｈ２を用いた本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ラン
スを使用したところ、絞り部、テーパ状部の損耗速度は
１チャージ当り０ｍｍとなり、安定した粉体、Ｏ2 ガス
の吹込みと、安全性の確保が可能になった。なお、絞り
部、テーパ状部を銅製とした本発明の粉体、酸素兼用上
吹き精錬用ランスを使用したところ、絞り部、テーパ状
部の損耗速度は１チャージ当り１ｍｍであった。
【００２５】以上の実施例では、主としてＲＨ式真空脱
ガス装置に使用（適用）する場合について説明したが、
本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランスは、ＲＨ式
真空脱ガス装置に限らず、転炉や脱リン炉ついても使用
できることは言うまでもない。
ガス装置に使用（適用）する場合について説明したが、
本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランスは、ＲＨ式
真空脱ガス装置に限らず、転炉や脱リン炉ついても使用
できることは言うまでもない。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の粉体、酸
素兼用上吹き精錬用ランスでは、粉体とＯ2 ガスを同一
のランスの、同一の経路で供給できるので、処理中にラ
ンスを交換する必要がなく、処理時間を短縮することが
できる。また、同一の経路からの吹込みであるから、処
理中にパージガスを流す必要もなく、ガスコストも削減
することができる。
素兼用上吹き精錬用ランスでは、粉体とＯ2 ガスを同一
のランスの、同一の経路で供給できるので、処理中にラ
ンスを交換する必要がなく、処理時間を短縮することが
できる。また、同一の経路からの吹込みであるから、処
理中にパージガスを流す必要もなく、ガスコストも削減
することができる。
【００２７】さらに、ランスの先端部の構造が簡単であ
るから、専用のランスと同程度の冷却能を得ることがで
き、ランスを大径にする必要がない。したがって、重量
も専用のランスと同程度で済み、ランスの昇降装置を増
強する必要もなくなる。
るから、専用のランスと同程度の冷却能を得ることがで
き、ランスを大径にする必要がない。したがって、重量
も専用のランスと同程度で済み、ランスの昇降装置を増
強する必要もなくなる。
【図１】本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランスの
先端部分の一実施例を示したもので、（ａ）は中央縦断
面図、（ｂ）は（ａ）の矢視Ａ−Ａ図である。
先端部分の一実施例を示したもので、（ａ）は中央縦断
面図、（ｂ）は（ａ）の矢視Ａ−Ａ図である。
【図２】本発明の粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランスを
使用するＲＨ式真空脱ガス装置の縦断面図である。
使用するＲＨ式真空脱ガス装置の縦断面図である。
【図３】従来のＯ2 ガス吹込み用のランスの先端部分の
中央縦断面図である。
中央縦断面図である。
【図４】特開平３−２７４２１８号で提案した三重管ラ
ンスの先端部分の中央縦断面図である。
ンスの先端部分の中央縦断面図である。
１ 真空槽 １１ 上吹き精錬用ランス １１ａ 兼用供給孔 １１ｂ 冷却水路 １１ｄ 絞り部 １１ｅ テーパ状部
Claims (2)
- 【請求項１】 精錬炉に挿入される上吹き精錬用ランス
であって、外周を冷却水路で囲ったランス中央部を、Ｏ
2 ガスと粉体の兼用供給孔となすと共に、兼用供給孔内
に形成する絞り部の前後をテーパ状としたことを特徴と
する粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランス。 - 【請求項２】 絞り部と、この前後のテーパ状部を、耐
摩耗性部材で形成したことを特徴とする請求項１記載の
粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14407398A JP3503474B2 (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | 粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14407398A JP3503474B2 (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | 粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11335722A true JPH11335722A (ja) | 1999-12-07 |
| JP3503474B2 JP3503474B2 (ja) | 2004-03-08 |
Family
ID=15353661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14407398A Expired - Lifetime JP3503474B2 (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | 粉体、酸素兼用上吹き精錬用ランス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3503474B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100431868B1 (ko) * | 2000-12-13 | 2004-05-20 | 주식회사 포스코 | 미분탄 취입랜스 및 이를 이용한 미분탄 취입방법 |
| JP2007169737A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 溶融金属精錬用ランス |
| JP2019073780A (ja) * | 2017-10-18 | 2019-05-16 | 新日鐵住金株式会社 | 溶鋼の精錬方法 |
-
1998
- 1998-05-26 JP JP14407398A patent/JP3503474B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100431868B1 (ko) * | 2000-12-13 | 2004-05-20 | 주식회사 포스코 | 미분탄 취입랜스 및 이를 이용한 미분탄 취입방법 |
| JP2007169737A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 溶融金属精錬用ランス |
| JP2019073780A (ja) * | 2017-10-18 | 2019-05-16 | 新日鐵住金株式会社 | 溶鋼の精錬方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3503474B2 (ja) | 2004-03-08 |
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