JPH11338128A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】可視光に対して透過性が良好で、リブ下部の硬
化性が向上し、プロファイル及びリブ形成用ベースとの
密着性が良好で、高密度かつアスペクト比が３以上のリ
ブが形成可能な感光性樹脂組成物及びそれを用いたリブ
形成法を提供すること。 【解決手段】少なくともエチレン性不飽和化合物、増感
色素及びラジカル重合開始剤を含有するフォトレジスト
および平均粒子径が０．０１〜１０μｍの無機粒子から
少なくともなることを特徴とする感光性樹脂組成物。前
記感光性樹脂組成物を層としてプラズマディスプレイ用
ベース上に設け、該ベースの裏からの露光処理および該
ベースの表からの露光処理を各々少なくとも１回行うこ
とを特徴とするプラズマディスプレイのリブ形成方法

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な感光性樹脂
組成物、特にプラズマディスプレイのリブ形成用の無機
粒子とフォトレジストからなる感光性樹脂組成物及び該
リブ形成方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、プラズマディスプレイ用のリブ等
は、リブ形成用ガラス等を含む組成物をパターン印刷
し、次いで焼成することにより、形成する方法が知られ
ている。しかしながら、近年の高密度化した画素を実現
するために線幅をより狭く、かつ高さをより高くして高
アスペクト比を有したリブが非常に望まれている。

【０００３】そこで、感光性樹脂組成物を用いたフォト
プロセスが検討されているが、高アスペクト比を実現す
るためには、高さを確保するために塗布、露光、現像の
各工程を複数回行わなければならなかったり、１回の工
程では、リブ下部の硬化度が不足し、リブ断面形状が逆
台形型になってしまったり、リブを担持するベースとの
密着性が低下してしまったり等の問題があった。

【０００４】このような問題は、フォトレジストに混合
するリブ形成物質である無機粒子を高充填で存在させる
ため、露光時の無機粒子からの光散乱強度が増加するた
めである。また、該露光をレーザー等の直接描画により
可視光、例えばグリーンを用いる場合、光透過性を改善
する感光性樹脂組成物が望まれていた。

【０００５】そこで、無機粒子を高充填としても高密度
かつ高アスペクト比、例えば、高さ１００〜１５０μ
ｍ、アスペクト比３以上のリブが得られるフォトレジス
トを含む感光性樹脂組成物及びそのようなリブ形成法が
望まれていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、可視光に対
して透過性が良好で、リブ下部の硬化性が向上し、プロ
ファイル及びリブ形成用ベースとの密着性が良好で、高
密度かつアスペクト比が３以上のリブが形成可能な感光
性樹脂組成物及びそれを用いたリブ形成法を提供するこ
とにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、以下の構成か
らなる。 １．少なくともエチレン性不飽和化合物、増感色素及び
ラジカル重合開始剤を含有するフォトレジストおよび平
均粒子径が０．０１〜１０μｍの無機粒子から少なくと
もなることを特徴とする感光性樹脂組成物。

【０００８】２．前記増感色素は、下記Ａ群から選択さ
れる少なくとも１種であることを特徴とする前記１記載
の感光性樹脂組成物。 Ａ群： 下記一般式（Ｉ）で表される化合物

【０００９】

【化５】

【００１０】（ただし、式中Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ は互いに独立し
て水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ
基、置換アルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表
す。またＲ¹ 〜Ｒ⁴ はそれが結合する炭素原子と共に非
金属原子からなる環を形成していてもよい。Ｒ⁵ ，Ｒ⁶
は互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヘ
テロ芳香族基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボ
ニル基、カルボキシル基、置換アルケニル基を表す。ま
たＲ⁵とＲ⁶ は共に非金属原子からなる環を形成してい
てもよい。

【００１１】ＸはＯ，Ｓ，ＮＨ、または置換基を有する
窒素原子を表す。Ｇ¹ ，Ｇ² は互いに同一でも異なって
いてもよく、各々水素原子、シアノ基、アルコキシカル
ボニル基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、ア
シル基、置換アシル基、アリールカルボニル基、置換ア
リールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、フ
ルオロスルホニル基を表す。ただし、Ｇ¹ とＧ² はそれ
が結合する炭素原子と共に非金属原子からなる環を形成
していてもよい。） 下記一般式（II）で表される化合物

【００１２】

【化６】

【００１３】（ただし、式中Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ は同一でも異な
っていてもよく、水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルコキシカル
ボニル基、アリール基、置換アリール基、アルキニル基
または置換アルキニル基を表す。Ａは酸素原子、硫黄原
子、アルキル基またはアリール基により置換された炭素
原子、またはアルキル基２個に置換された炭素原子を表
す。

【００１４】Ｊは含窒素ヘテロ５員環を形成するのに必
要な非金属原子群を表す。Ｙはフェニル基、置換フェニ
ル基、無置換または置換されたヘテロ芳香族環を表す。
Ｚ¹ は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、置換アミノ基、アシル基、または
アルコキシカルボニル基を表し、Ｚ¹ とＹは互いに結合
して環を生成しても良い。） 下記一般式（III）で表される化合物

【００１５】

【化７】

【００１６】（ただし、式中Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³は互いに独立し
て水素原子、炭素数１〜６の非置換または置換アルコキ
シ基、炭素数１〜６の非置換または置換アルケニルオキ
シ基、炭素数１〜６の非置換または置換アルキルチオ
基、各アルキル基の炭素数が１〜４であるジアルキルア
ミノ基、水酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、または複数環基を表す。Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³の２個または
３個と前記Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³の置換基が結合されている環構成
炭素原子とが一緒になり各縮合環が５または６員環であ
る縮合環または縮合環系を形成してもよい。

【００１７】Ｒ⁹ は水素原子、炭素数１〜４の非置換ま
たは置換アルキル基または炭素数６〜１２の非置換また
は置換アリール基、またはＲ¹⁴−ＣＯ−を表す。ここ
で、Ｒ ¹⁴はアルコキシ基、シクロアルコキシ基、水酸
基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アラルキ
ルオキシ基、アルコキシカルボニルアルコキシ基、アル
キルカルボニルアルコキシ基、あるいは下記（III-a)〜
(III-c) で表される置換基を表す。

【００１８】

【化８】

【００１９】Ｒ¹⁵〜Ｒ¹⁸は水素原子、アルキル基、ヒド
ロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、
アルコキシアルキル基、シクロアルキル基を表し、ｍは
１〜５であり、ｎは０〜１０である。Ｑ¹ はシアノ基、
複素環、または−Ｚ² −Ｒ¹⁹を表す。ここでＲ¹⁹は炭素
数１〜１０の非置換または置換アルキル基、アルケニル
基、またはアルコキシ基、炭素数６〜１２の非置換また
は置換アリール基、炭素数６〜１２の非置換または置換
アリールオキシ基、または環を構成する炭素原子および
異原子が５〜１５個である非置換または置換複素環基、
または水酸基、アシル基を表す。Ｚ² はカルボニル基、
スルホニル基、スルフィニル基またはアリーレンジカル
ボニル基、−（ＣＨ＝ＣＨ）_k（ｋは１または２）を表
す。） ３．該エチレン性不飽和化合物は、アクリル系化合物で
あることを特徴とする前記１又は２記載の感光性樹脂組
成物。

【００２０】４．該フォトレジストは、高分子結合剤及
び／又は架橋剤を含むことを特徴とする前記１〜３の何
れか１項に記載の感光性樹脂組成物。 ５．該無機粒子は低融点ガラス粒子、金属粉末、金属酸
化物及び蛍光体から選択される少なくとも１種を含むこ
とを特徴とする前記１〜４の何れか１項に記載の感光性
樹脂組成物。

【００２１】６．プラズマディスプレイのリブ形成用で
あることを特徴とする前記１〜５の何れか１項に記載の
感光性樹脂組成物。 ７．前記６に記載の感光性樹脂組成物を層としてプラズ
マディスプレイ用ベース上に設け、該ベースの裏からの
露光処理および該ベースの表からの露光処理を各々少な
くとも１回行うことを特徴とするプラズマディスプレイ
のリブ形成方法。

【００２２】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
感光性樹脂組成物は、特定組成のフォトレジストと特定
サイズの無機粒子からなる。本発明に使用するフォトレ
ジストは、好ましくは、ネガ型である。該フォトレジス
トは、少なくともエチレン性不飽和化合物、上記Ａ群か
ら選択される少なくとも１種の増感色素及びラジカル重
合開始剤からなる。

【００２３】本発明に用いられるエチレン性不飽和化合
物としては、特に制限されるべきものではないが、好適
なエチレン性不飽和化合物は、少なくとも２個の末端不
飽和基を有し、活性光線の照射により、光重合が可能な
化合物である（以下、多官能モノマーと略す。）。多官
能モノマーとしては、中でもアクリル系化合物が好まし
い。ここで、アクリル系とは、アクリル酸誘導体及びメ
タアクリル酸誘導体を含む。

【００２４】具体的には、特公昭３５−５，０９３号公
報、特公昭３５−１４，７１９号公報、特公昭４４−２
８，７２７号公報等に記載される下記の化合物である。
先ずアクリル系化合物としては、アクリル酸エステル類
及びメタクリル酸エステル類が挙げられ、多価アルコー
ルのポリアクリレート類及びポリメタクリレート類（こ
こで「ポリ」とはジ（メタ）アクリレート以上を指
す。）がある。上記多価アルコールとしては、ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチ
レングリコール、ポリシクロヘキセンオキサイド、ポリ
スチレンオキサイド、ポリオキセタン、ポリテトラヒド
ロフラン、シクロヘキサンジオール、キシリレンジオー
ル、ジ−（β−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、グリセ
リン、ジグリセリン、ネオペンチルグリコール、トリメ
チロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリ
スリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビタン、ソ
ルビトール、ブタンジオール、ブタントリオール、２−
ブテン−１，４−ジオール、２−ｎ−ブチル−２−エチ
ル−プロパンジオール、２−ブテン−１，４−ジオー
ル、３−クロル−１，２−プロパンジオール、１，４−
シクロヘキサンジメタノール、３−シクロヘキセン−
１，１−ジメタノール、デカリンジオール、２，３−ジ
ブロム−２−ブテン−１，４−ジオール、２，２−ジエ
チル−１，３−プロパンジオール、１，５−ジヒドロキ
シ−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン、２，５
−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、２，２−ジメ
チル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジフェニル
−１，３−プロパンジオール、ドデカンジオール、メゾ
エリスリトール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオー
ル、２−エチル−２−（ヒドロキシメチル）−１，３−
プロパンジオール、２−エチル−２−メチル−１，３−
プロパンジオール、ヘプタンジオール、ヘキサンジオー
ル、３−ヘキセン−２，５−ジオール、ヒドロキシベン
ジルアルコール、ヒドロキシエチルレゾルシノール、２
−メチル−１，４−ブタンジオール、２−メチル−２，
４−ペンタンジオール、ノナンジオール、オクタンジオ
ール、ペンタンジオール、１−フェニル−１，２−エタ
ンジオール、プロパンジオール、２，２，４，４−テト
ラメチル−１，３−シクロブタンジオール、２，３，
５，６−テトラメチル−ｐ−キシレン−α，α′−ジオ
ール、１，１，４，４−テトラフェニル−１，４−ブタ
ンジオール、１，１，４，４−テトラフェニル−２−ブ
チン−１，４−ジオール、１，２，６−トリヒドロキシ
ヘキサン、１，１′−ビ−２−ナフトール、ジヒドロキ
シナフタレン、１，１′−メチレンジ−２−ナフトー
ル、１，２，４−ベンゼントリオール、ビフェノール、
２，２′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、ビス（ヒドロキシフェニル）メタン、カテコール、
４−クロルレゾルシノール、３，４−ジヒドロキシハイ
ドロシンナミックアシッド、ハイドロキノン、ヒドロキ
シベンジルアルコール、メチルハイドロキノン、メチル
−２，４，６−トリヒドロキシベンゾエート、フロログ
ルシノール、ピロガロール、レゾルシノール、グルコー
ス、α−（１−アミノエチル）−ｐ−ヒドロキシベンジ
ルアルコール、２−アミノ−２−エチル−１，３−プロ
パンジオール、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロ
パンジオール、３−アミノ−１，２−プロパンジオー
ル、Ｎ−（３−アミノプロピル）−ジエタノールアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシエチル）ピペラ
ジン、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−２，２′，
２″−ニトリロトリエタノール、２，２−ビス（ヒドロ
キシメチル）プロピオニックアシド、１，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）ウレア、１，２−ビス（４−ピリジ
ル）−１，２−エタンジオール、Ｎ−ｎ−ブチルジエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−エチレンジエ
タノールアミン、３−メルカプト−１，２−プロパンジ
オール、３−ピペリジノ−１，２−プロパンジオール、
２−（２−ピリジル）−１，３−プロパンジオール、ト
リエタノールアミン、α−（１−アミノエチル）−ｐ−
ヒドロキシベンジルアルコール、３−アミノ−４−ヒド
ロキシフェニルスルホンなどがある。これらのアクリル
酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類のうち、最
も好ましいものは、その入手の容易さから、エチレング
リコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアク
リレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テ
トラエチレングリコールジアクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタ
クリレート、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジアクリレート、テトラプロピレン
グリコールジアクリレート、ドデカプロピレングリコー
ルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、グ
リセリントリアクリレート、ジグリセリンジメタクリレ
ート、１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，
２，４−ブタントリオールトリメタクリレート、１，４
−シクロヘキサンジオールジアクリレート、１，５−ペ
ンタンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート、エチレンオキサイド付加したトリメ
チロールプロパンのトリアクリル酸エステル等である。

【００２５】アクリル系化合物に内、アクリルアミド
類、及びメタクリルアミド類としては、メチレンビスア
クリルアミド、メチレンビスメタクリルアミドのほか、
エチレンジアミン、ジアミノプロパン、ジアミノブタ
ン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレン、ビス
（２−アミノプロピル）アミン、ジエチレントリアミン
ジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジ
アミン並びに異種原子により中断されたポリアミン、環
を有するポリアミン（例えばフェニレンジアミン、キシ
リレンジアミン、β−（４−アミノフェニル）エチルア
ミン、ジアミノベンゾイックアシッド、ジアミノトルエ
ン、ジアミノアントラキシン、ジアミノフルオレンな
ど）のポリアクリルアミド及びポリメタクリルアミドが
ある。

【００２６】Ｎ−β−ヒドロキシエチル−β−（メタク
リルアミド）エチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ビス（β−
メタクリロキシエチル）アクリルアミド、アリルメタク
リレートなどの如き、異なった付加重合性不飽和結合を
２個以上有する化合物も、アクリル系化合物として好適
に用いられる。

【００２７】他のエチレン不飽和化合物としては、以下
のものが例示される。例えば、アリル化合物としては、
例えばフタル酸、テレフタル酸、セバシン酸、アジピン
酸、グルタール酸、マロン酸、蓚酸等のジカルボン酸の
ジアリルエステル、例えば、アントラキノンジスルホン
酸、ベンゼンジスルホン酸、２，５−ジヒドロキシ−ｐ
−ベンゼンジスルホン酸、ジヒドロキシナフタレンジス
ルホン酸、ナフタレンジスルホン酸などのジスルホン酸
のジアリルエステル、ジアリルアミドなどがある。

【００２８】ビニルエーテル化合物としては、前記多価
アルコールのポリビニルエーテルがあり、例えばエチレ
ングリコールジビニルエーテル、１，３，５−トリ−β
−ビニロキシエトキシベンゼン、１，３−ジ−β−ビニ
ロキシエトキシベンゼン、グリセロールトリビニルエー
テルなどがある。

【００２９】ビニルエステル類としては、ジビニルサク
シネート、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート、
ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−１，３−
ジスルホネート、ジビニルブタン−１，４−ジスルホネ
ートなどがある。

【００３０】スチレン化合物としては、ジビニルベンゼ
ン、ｐ−アリルスチレン、ｐ−イソプロペンスチレンな
どがある。

【００３１】更に、少なくとも二つの水酸基を有するポ
リオール化合物と、やや過剰の少なくとも二つのイソシ
アネート基を有するポリイソシアネート化合物とを反応
させた反応生成物に、少なくとも一つの水酸基と少なく
とも一つのエチレン性不飽和基を有する化合物を反応さ
せて得られる少なくとも二つのエチレン性不飽和基を有
する多官能ウレタン化合物も本発明に好適に用いられ
る。

【００３２】これらの多官能モノマーは単独あるいは二
種以上を併用して用いることができ、フォトレジスト固
形分の５〜９０wt％、好ましくは１５〜６０wt％の範囲
で用いられる。また、本発明に使用されるフォトレジス
トは、バインダー成分として、更に高分子結合剤、架橋
剤等を用いることが好ましい高分子結合剤としては、特
に制限されるものではなく、例えば、広範な種類の合
成、半合成、天然の高分子物質の中から次の条件を満足
するものが好ましく用いられる。即ち、無機粒子との親
和性、及びエチレン性不飽和化合物、ラジカル重合開始
剤、更には他の成分、例えば架橋剤等との相溶性が感光
性樹脂組成物の調製から、保存中に脱混合を起こさない
程度に良いこと、該結合剤自体の強度、延伸性、耐摩耗
性、耐薬品性などが適当であること、更に、高分子結合
剤の分子量、分子間力、硬さ、軟化温度、結晶性、破壊
伸度などが適切なことである。

【００３３】高分子結合剤の具体例を挙げると塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレンなどの塩素化ポリオ
レフィン、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル
（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ブチル基
など）、（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリル酸アル
キルエステル（アルキル基は同上）との共重合物、ポリ
（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエス
テル（アルキル基は同上）とアクリロニトリル、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタジエン等のモノ
マーの少くとも一種との共重合物、ポリ塩化ビニル、塩
化ビニルとアクリロニトリルとの共重合物、ポリ塩化ビ
ニリデン、塩化ビニリデンとアクリロニトリルとの共重
合物、酢酸ビニルと塩化ビニルとの共重合物、ポリアク
リロニトリル、アクリロニトリルとスチレンとの共重合
物、アクリロニトリルとブタジエン及びスチレンとの共
重合物、スチレンと無水マレイン酸などの不飽和二塩基
酸無水物との共重合物、ポリビニルブチラール、スチレ
ンブタジエンゴム、塩化ゴム、環化ゴム、アセチルセル
ロースなどのホモポリマー又は共重合物などがある。こ
こで、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタク
リル酸を意味する。

【００３４】該高分子結合剤が共重合物の場合、その成
分モノマーの含有比は広範囲の値をとりうるが、一般に
は共重合物の主体となる特定のモノマーに対して他の共
重合モノマーがモル比で５％以上含まれているものが好
適である。またこれら以外のポリマーであっても、前記
の条件を満たすものであれば、本発明のフォトレジスト
高分子結合剤として用いることが出来る。

【００３５】上記高分子結合剤の内、特に好適に用いら
れるものは、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレ
ン、ポリメチルメタアクリレート、メチルメタクリレー
ト−アクリロニトリル共重合物（メチルメタクリレート
のモル含量２０〜８０％）、塩化ビニル−アクリロニト
リル共重合物（塩化ビニルのモル含量２０〜８０％）、
塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合物（塩化ビニ
リデンのモル含量２０〜８０％）、スチレン−無水マレ
イン酸共重合物、特願昭５９−１１４７３６号（高分子
結合剤は、メタクリル酸メチル／メタクリル酸／２−エ
チルヘキシルメタクリレート／ベンジルメタクリレート
四元共重合体である）、特公昭５４−３４３２７号（高
分子結合剤は、例えばメタクリル酸メチル／メタクリル
酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸の三元共重合体で
ある）、特公昭５５−３８９６１号（高分子結合剤は例
えばスチレン／マレイン酸モノ−ｎ−ブチルエステル共
重合体である）、特公昭５４−２５９５７号（高分子結
合剤は例えばエチレン／メタクリル酸メチル／アクリル
酸エチル／メタクリル酸の四元共重体である）、特開昭
５２−９９８１０号（高分子結合剤は例えばメタクリル
酸ベンジル／メタクリル酸共重合体である）、特公昭５
８−１２５７７号（高分子結合剤は例えばアクリロニト
リル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸
の三元共重合体である）および特公昭５５−６２１０号
（高分子結合剤は例えばメタクリル酸メチル／アクリル
酸エチル／アクリル酸の三元共重合体とイソプロパノー
ルで一部分エステル化したスチレン／マレイン酸無水物
共重合体の２種である）の各公報または明細書に記載の
高分子結合剤などである。

【００３６】これらの高分子結合剤は、単独もしくは併
用して用いてもよいが、二種以上のフォトレジストの調
製から、感光性樹脂組成物の層形成に至る工程中および
得られる感光性樹脂組成物の保存中に脱混合を起さない
程度に互いに相溶性のあるポリマーを適当な比で混合し
てて用いることが出来る。このような高分子結合剤の分
子量は、ポリマーの種類によって広範な値をとりうる
が、一般的には５，０００〜２，０００，０００、より
好ましくは、５０，０００〜１，０００，０００の範囲
のものが本発明に好適に用いられる。

【００３７】上記高分子結合剤の量はフォトレジストの
固形分に対して５〜９５wt％、好ましくは４０〜８０wt
％である。

【００３８】また、本発明に使用され得る架橋剤として
は、上記エチレン不飽和化合物及び／又は高分子結合剤
等と架橋反応が可能なものが好ましく、特に制限される
べきものではないが、例えば、シラン系架橋剤が好まし
い。シラン系架橋剤としては、例えば、

【００３９】

【化９】

【００４０】等が挙げられ、

【００４１】

【化１０】

【００４２】が好ましいものとして例示できる。架橋剤
は、フォトレジスト固形分に対して通常、５〜９５重量
％、好ましくは１０〜９０重量％の範囲で用いることが
できる。架橋剤が適量から少なくなると感度が低下し、
膜減りが増加し、プロファイルが悪化する傾向がある。
また、架橋剤が適量から多くなると現像性が悪化し現像
残りが生じやすくなる傾向がある。

【００４３】本発明に用いられる増感色素としては、特
に制限されるべきものではないが、例えば、４，４−ビ
ス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチ
ルアミノ）カルコン、２，４−ジエチルチオキサント
ン、イソプロプリチオキサントン、２，３−ビス（４−
ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−
ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノ
ン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４
−メチルヘキサノン、ミヒラ−ケトン、４，４−ビス
（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、ｐ−ジメチルア
ミノベンジリデンインダノン、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチ
ルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、
Ｎ−トリルジエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香
酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３
−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フ
ェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾール、２
−（ｐ−ジメチルアミノフェニルピニレン）−イソナフ
トチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベン
ザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエ
チルアミノベンザル）アセトン等が挙げられ、好ましく
は、上記一般式（Ｉ）、一般式（II）または一般式（II
I)で表される化合物から選択される。

【００４４】一般式（Ｉ）において、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ のアル
キル基としては、メチル、エチル、ｔ−ブチル等炭素数
１〜２０個までのものを用いることができる。また、ア
リール基としては、フェニル等炭素数１〜１０個までの
ものを用いることができる。さらに、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ のアル
コキシ基としては、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等炭
素数１〜６個までのものを用いることができる。加え
て、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ の置換アミノ基としてはメチルアミノ、
ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミノ、
ピペリジノ、モルホリノ等炭素数１〜２０個を有するア
ルキルアミノ基、アリールアミノ基を用いることができ
る。

【００４５】これらのアルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基は、置換
基を有していても良い。また、置換基としては、フッ
素、塩素、臭素等のハロゲン原子、エトキシカルボニル
基等のアルコキシカルボニル基、メトキシ、エトキシ等
のアルコキシ基、フェニルなどのアリール基、シアノ基
等がある。Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ がそれと結合させる炭素原子と共
に非金属原子から成る環を形成する場合、環を含む構造
としては下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に示すものが挙げ
られる。

【００４６】

【化１１】

【００４７】また、Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ がアシル基の場合、アセ
チル、ベンゾイル等の炭素数１〜１０個のアルキル基、
アリール基を有するもの、アルコキシカルボニル基の場
合エトキシカルボニル等炭素数１〜６個のアルキル基を
有するものがあげられる。さらに、置換アルケニル基の
場合スチリル基等炭素数２〜１０個のものを、ヘテロ芳
香族基の場合、下記（Ｄ）〜（Ｆ）に示すものを用いる
ことができる。

【００４８】

【化１２】

【００４９】また、Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ は共にそれと結合させる
炭素原子と共に環を形成していても良い。例としては下
記（Ｇ）に示される構造が挙げられる。

【００５０】

【化１３】

【００５１】Ｘが置換基を有する窒素の場合、置換基と
してはＲ¹ 〜Ｒ⁶ で挙げたアルキル基、アリール基と同
等のものを用いることができる。Ｇ¹ ，Ｇ² は互いに同
一でも異なっていてもよく、各々水素原子、シアノ基、
エトキシカルボニル基等の炭素数１〜１０個のアルキル
基を有するアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボ
ニル基等炭素数６〜１０個のアリール基を有するアリー
ルオキシカルボニル基、アセチル基、プロピオニル基等
炭素数１〜６個のアシル基、ベンゾイル基等炭素数７〜
１１個のアリールカルボニル基、メチルチオ基、エチル
チオ基等炭素数１〜６個のアルキルチオ基、フェニルチ
オ基等炭素数６〜１０個のアリールチオ基、フェニルス
ルホニル基等の炭素数６〜１０個のアリールスルホニル
基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等の炭素
数１〜６個のアルキルスルホニル基、またはフルオロス
ルホニル基を表わす。

【００５２】これらのアルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリールスルホ
ニル基、アルキルスルホニル基は置換基を有していても
良く置換基としては、塩素等のハロゲン原子、炭素数１
〜６個のアルキル基を有するアルコキシカルボニル基、
カルボキシル基、炭素数６〜１０個のアリール基、炭素
数１〜６個のアルコキシ基、シアノ基が挙げられる。ま
たアリールオキシカルボニル基、アリールカルボニル
基、アリールチオ基、アリールスルホニル基の場合上記
の置換基の外にメチル基等の炭素数１〜６個のアルキル
基も用いることができる。

【００５３】またＧ¹ とＧ² はそれが結合する炭素原子
と共に非金属原子から成る環を形成する場合、環として
は通常メロシアニン色素で酸性核として用いられるもの
で以下のものを挙げることができる。 （ａ） １，３−ジカルボニル核、例えば１，３−イン
ダンジオン、１，３−シクロヘキサンジオン、５，５−
ジメチル−１，３−シクロヘキサンジオン、１，３−ジ
オキサン−４，６−ジオンである。

【００５４】（ｂ） ピラゾリノン核、例えば３−メチ
ル−１−フエニル−２−ピラゾリン−５−オン、１−フ
ェニル−２−ピラゾリン−５−オン、１−（２−ベンゾ
チアゾイル）−３−メチル−２−ピラゾリン−５−オン
である。 （ｃ） イソオキサゾリノン核、例えば３−フェニル−
２−イソオキサゾリン−５−オン、３−メチル−２−イ
ソオキサゾリン−５−オン等である。

【００５５】（ｄ） オキシインドール核、例えば１−
アルキル−２，３−ジヒドロ−２−オキシインドールで
ある。 （ｅ） ２，４，６−トリケトヘキサヒドロピリミジン
核、例えばバルビツル酸または２−チオバルビツル酸及
びその誘導体である。かかる誘導体としては、１−メチ
ル、１−エチル等の１−アルキル体、１，３−ジエチ
ル、１，３−ジブチル等の１，３−ジアルキル体、１，
３−ジフェニル、１，３−ジ（ｐ−クロロフェニル）、
１，３−ジ（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）等の
１，３−ジアリール体、１−エチル−３−フェニル等の
１−アルキル−３−アリール体などが挙げられる。

【００５６】（ｆ） ２−チオ−２，４−チアゾリジン
ジオン核、例えばローダニン及びその誘導体である。か
かる誘導体としては３−エチルローダニン、３−アリル
ローダニン等の３−アルキルローダニン、３−フェニル
ローダニン等の３−アリールローダニン等が挙げられ
る。 （ｇ） ２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン（２
−チオ−２，４−（３Ｈ，５Ｈ）−オキサゾールジオ
ン）核、例えば２−エチル−２−チオ−２，４−オキサ
ゾリジンジオンである。

【００５７】（ｈ） チアナフテノン核、例えば３（２
Ｈ）−チアナフテノンおよび３（２Ｈ）−チアナフテノ
ン−１，１−ジオキサイドである。 （ｉ） ２−チオ−２，５−チアゾリジンジオン核、例
えば３−エチル−２−チオ−２，５−チアゾリジンジオ
ンである。 （ｊ） ２，４−チアゾリジンジオン核、例えば２，４
−チアゾリジンジオン、３−エチル−２，４−チアゾリ
ジンジオン、３−フェニル−２，４−チアゾリジンジオ
ンである。

【００５８】（ｋ） チアゾリジオン核、例えば４−チ
アゾリジノン、３−エチル−４−チアゾリジノンであ
る。 （ｌ） ４−チアゾゾリノン核、例えば２−エチルメル
カプト−５−チアゾリン−４−オン、２−アルキルフェ
ニルアミノ−５−チアゾリン−４−オンである。

【００５９】（ｍ） ２−イミノ−２−オキソゾリン−
４−オン（凝ヒダントイン）核である。 （ｎ） ２，４−イミダゾリジンジオン（ヒダントイ
ン）核、例えば、２，４−イミダゾリジンジオン、３−
エチル−２，４−イミダゾリジンジオンである。 （ｏ） ２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオン（２
−チオヒダントイン）核、例えば２−チオ−２，４−イ
ミダゾリジンジオン、３−エチル−２−チオ−２，４−
イミダゾリジンジオンである。

【００６０】（ｐ） ２−イミダゾリン−５−オン核、
例として２−ｎ−プロピル−メルカプト−２−イミダゾ
リン−５−オンである。 （ｑ） フラン−５−オンである。

【００６１】本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表
される化合物は、一般式（Ｉ−ａ）又は（Ｉ−ｂ）で表
される化合物および（Ｉ−ｃ）で表される化合物から合
成することができる。

【００６２】

【化１４】

【００６３】（上式でＬ₁ ，Ｌ₂ はアルキル基、Ｚa ^-
はアニオンを表わす） 本発明で用いられる一般式（Ｉ）で表される化合物の具
体例を下記に示す。

【００６４】

【化１５】

【００６５】

【化１６】

【００６６】

【化１７】

【００６７】

【化１８】

【００６８】

【化１９】

【００６９】

【化２０】

【００７０】

【化２１】

【００７１】

【化２２】

【００７２】次に一般式(II)で表される増感色素につい
て説明する。式(II)において、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ は水素原子、
アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アル
ケニル基、アルコキシカルボニル基、アリール基、置換
アリール基、アルキニル基、置換アルキニル基を表し、
同じでも異なっていても良い。 アルキル基としては炭
素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、および環
状のアルキル基をあげることができ、その具体例として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、
イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチル
ブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２
−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチ
ル基、２−ノルボニル基をあげることができる。これら
の中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原
子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５か
ら１０までの環状のアルキル基がより好ましい。

【００７３】置換アルキル基の置換基としては、水素を
除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例として
は、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカ
プト基、アルキルチオ基、アリルーチオ基、アルキルジ
チオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルア
ミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、
Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウ
レイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール
ウレイド基、

【００７４】Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′
−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−
ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール
−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリ
ールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
ルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−
Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ
−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−
アリロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ
−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバ
モイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、スルフォ基（-SO₃H）及びその共役塩基基（以下、
スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリ
ーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アル
キルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィ
ナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ
−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アリールスルフィナモイル基、

【００７５】スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−
アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフ
ァモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイ
ル基、ホスフォノ基（−PO₃H₂）及びその共役塩基基
（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホスフォ
ノ基（-PO₃（アルキル)₂）、ジアリールホスフォノ基
（-PO₃（アリール)₂）、アルキルアリールホスフォノ基
（-PO₃（アルキル）（アリール））、モノアルキルホス
フォノ基（-PO₃H（アルキル））及びその共役塩基基
（以後、アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリー
ルホスフォノ基（-PO₃H（アリール））及びその共役塩
基基（以後、アリールホスフォナト基と称す）、ホスフ
ォノオキシ基（-OPO₃H₂）及びその共役塩基基（以後、
ホスフォナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノ
オキシ基（-OPO₃（アルキル)₂）、ジアリールホスフォ
ノオキシ基（-OPO₃（アリール)₂）、アルキルアリール
ホスフォノオキシ基（-OPO₃（アルキル）（アリー
ル））、モノアルキルホスフォノオキシ基（−OPO₃H
（アルキル））及びその共役塩基基（以後、アルキルホ
スフォナトオキシ基と称す）、モノアリールホスフォノ
オキシ基（-OPO₃H（アリール））及びその共役塩基基
（以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す）、シア
ノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基等が挙げられる。

【００７６】これらの置換基におけるアルキル基の具体
例としては、前述のアルキル基があげられ、アリール基
の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチ
ル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェ
ニル基、ホスホナトフェニル基等が挙げることができ
る。

【００７７】また、アルケニル基の例としては、ビニル
基、１−プロペニル基、１−ブチニル基、シンナミル
基、２−クロロ−１−エテニル基、等があげられ、アル
キニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル
基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が
あげられる。アシル基（RCO−）におけるＲとしては、
水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げる
ことができる。これら置換基の内、更により好ましいも
のとしてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−
Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルフォ基、スルホナト基、スルファモイル
基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、
Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフ
ォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジ
アリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、ア
ルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、ア
リールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォ
ナトオキシ基、アリール基、アルケニル基があげられ
る。

【００７８】具体例としては、クロロメチル基、ブロモ
メチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル
基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、ア
リルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオ
メチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル
基、ジエチルアミノプロピル基、モルフォリノプロピル
基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル
基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、
Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルア
ミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル
基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カル
ボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリ
ルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボ
ニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカル
バモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメ
チル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル
基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルフォフェニル）カルバモイ
ルメチル基、スルフォブチル基、スルフォナトブチル
基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイ
ルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピ
ル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイル基、オ
クチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル
基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォ
ノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホス
フォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリ
ルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル
基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネ
チル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェ
ニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、
アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、
２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、
２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基等
を挙げることができる。

【００７９】アリール基としては１個から３個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和
環が縮合環を形成したものを挙げることができる。また
置換アリール基の置換基としては、前述の置換アルキル
基の置換基を挙げることができる。これらの具体例とし
ては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナ
ントリル基、インデニル基、アセトナフテニル基、フル
オレニル基を挙げることがでぎる。

【００８０】アルケニル基としては、炭素原子数１〜２
０までの直鎖状、分岐状および環状のアルケニル基を挙
げることができる。また置換アルケニル基の置換基とし
ては、置換アルキル基で述ベた置換基を挙げることがで
き、これらの具体例としては、ビニル基、１−プロペニ
ル基、１−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル
基、スチリル基、２−ペンテニル基、２−シクロヘキシ
ニル基などを挙げることができる。

【００８１】アルキニル基としては、炭素数１〜２０ま
での直鎖状、分岐状のアルキニル基を挙げることができ
る。

【００８２】また置換アルキニル基の置換基としては、
置換アルキル基で述べた置換基を挙げることができ、こ
れらの具体例としては、エチニル、２−フェニルエチニ
ル、１−ブチニル基等を挙げることができる。アルコキ
シカルボニル基としては、炭素原子数１から１０までの
直鎖状、分岐状および環状のアルキル基がオキシカルボ
ニル基に結合した残基を挙げることができ、その具体例
としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、
ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル基を挙げることができる。

【００８３】以上、Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ について述べたが、本発
明においてはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル
基が好適である。

【００８４】一般式（II）のＡは酸素原子、硫黄原子、
アルキル基又はアリール基により置換された炭素原子、
またはアルキル基２個に置換された炭素原子を表す。Ａ
中のアリール基、アルキル基としては、Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ にお
いて述べたものを挙げることができる。一般式（II）に
おいてＪがＡ、ＣおよびＮと協働して完成する含窒素五
員環の例としては、以下のものが挙げられる。

【００８５】

【化２３】

【００８６】（ａ−１）〜（ａ−４）の式中の置換基Ｅ
はハメットのρ値が−０．９から＋０．５までの範囲に
あるものである。その例としては、水素原子、メチル
基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル
基、トリフルオロメチル基、アセチル基、エトキシカル
ボニル基、カルボキシル基、カルボキシラト基（−ＣＯ
Ｏ ^- ）、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ
基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アセチルアミ
ノ基、−ＰＯ₃Ｈ基、メトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ベンジルオキ
シ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基、アセトキシ基、メ
チルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基、メル
カプト基、アセチルチオ基、チオシアノ基（−ＳＣ
Ｎ）、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、アミノスル
ホニル基、ジメチルスルホニル基、（−Ｓ⁺ （Ｃ
Ｈ₃)₂ ）、スルホナト基、（−ＳＯ₂ ^- ）、弗素原子、
塩素原子、臭素原子、沃素原子、ヨージル基、トリメチ
ルシリル基（−Ｓｉ（ＣＨ₃)₃ ）、トリエチルシリル
基、トリメチルスタニル基（−Ｓn(ＣＨ₃)₃ ）を挙げる
ことができる。これらの置換基のうちで好ましいもの
は、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エト
キシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、塩素原
子、臭素原子である。

【００８７】一般式（II）におけるＹの例を以下に示
す。置換フェニル基の置換基としては上述のＥと同じも
のが挙げられる。多核芳香環としては、ナフチル基、ア
ンスリル基、フェナンスリル基が挙げられ、これらは上
述の置換基Ｅにより置換されていても良い。ヘテロ芳香
環の例としては２−フリル基、３−フリル基、２−チエ
ニル基、３−チエニル基、２−ピロリル基、３−ピロリ
ル基が挙げられ、これらは上述の置換基Ｅによって置換
されていても良い。

【００８８】また、一般式（II）におけるＺ¹ の例を以
下に述べる。アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基としては、一般式（II）のＲ⁷ とＲ
⁸ の例として述べたものと同じものを挙げることができ
る。アルキルチオ基、アリールチオ基としては炭素原子
数１〜１０までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキ
ル基、炭素原子数１〜２０までのアリール基がチオ基
（イオウ原子）に結合した残基を挙げることができ、そ
の具体例としてはメチルチオ基、エチルチオ基、プロピ
ルチオ基、ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅ
ｒｔ−ブチルチオ基、フェニルチオ基、ナフチルチオ基
などを挙げることができる。

【００８９】アルコキシル基としては炭素原子数が１か
ら１０までの直線状、分岐状および環状のアルキル基が
オキシ基（酸素原子）に結合した残基を挙げることがで
き、その具体例としてはメトキシル基、エトキシル基、
プロポキシル基、ブトキシル基、ｓｅｃ−ブトキシル
基、ｔｅｒｔ−ブトキシル基を挙げることができる。置
換アミノ基としては炭素数が１から１０までの直線状、
分岐状および環状のアルキル基により置換されたアミノ
基を挙げることができ、その具体例としてはジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基を挙げ
ることができる。

【００９０】アシル基としては水素原子、炭素原子数１
から１０まで、好ましくは同じく１から６までの直線
状、分岐状または環状のアルキル基、フェニル基または
ナフチル基がカルボニルに結合した残基を挙げることが
でき、その具体例としては、ホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、ベンゾイル
基、ナフトイル基を挙げることができる。

【００９１】アルコキシカルボニル基としては、炭素原
子数１から１０までの直線状、分岐状または環状のアル
キル基がオキシカルボニル基に結合した残基を挙げるこ
とができ、その具体例としては、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、
ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル
基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基を挙げることがで
ぎる。

【００９２】また、ＹとＺ¹ とが互いに結合して形成す
る環の例を以下に示す。

【００９３】

【化２４】

【００９４】

【化２５】

【００９５】一般式（II）で表される化合物群は、「Ru
ll. Soc. Chimie Belges」誌第５７巻第３６４〜３７２
頁（１９４８年）抄録：「Chemical Abstracts」誌第４
４巻第６０ｅ〜６１ｄ欄（１９５０年））に記載の方法
に従って合成することができる。以下に一般式（II）で
表される化合物の具体例を示す。

【００９６】

【化２６】

【００９７】

【化２７】

【００９８】

【化２８】

【００９９】

【化２９】

【０１００】

【化３０】

【０１０１】

【化３１】

【０１０２】

【表１】

【０１０３】

【表２】

【０１０４】次に、本発明に使用される一般式(III)で
表される増感色素について述べる。式中Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³は互
いに独立して水素原子、炭素数１〜６の非置換または置
換アルコキシ基、炭素数１〜６の非置換または置換アル
ケニルオキシ基、炭素数１〜６の非置換または置換アル
キルチオ基、各アルキル基の炭素数が１〜４であるジア
ルキルアミノ基、水酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原
子、ニトロ基、または複数環基を表す。Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³の２
個または３個と前記Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³の置換基が結合されてい
る環構成炭素原子とが一緒になり各縮合環が５または６
員環である縮合環または縮合環系を形成してもよい。

【０１０５】Ｒ⁹ は水素原子、炭素数１〜４の非置換ま
たは置換アルキル基または炭素数６〜１２の非置換また
は置換アリール基、またはＲ¹⁴−ＣＯ−を表す。ここ
で、Ｒ ¹⁴はアルコキシ基、シクロアルコキシ基、水酸
基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アラルキ
ルオキシ基、アルコキシカルボニルアルコキシ基、アル
キルカルボニルアルコキシ基、あるいは（III-a)〜（II
I-c)で表される置換基（Ｒ ¹⁵〜Ｒ¹⁸は水素原子、アルキ
ル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシア
ルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基を
表す。）を表す。

【０１０６】Ｑ¹ は−ＣＮ、複素環、−Ｚ² −Ｒ¹⁹を示
し、Ｒ¹⁹はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ｔ−ブチル、イソブチル、ブチル、アミル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルおよびシクロペン
チル、シクロヘキシル等のようなシクロアルキルを含む
炭素数１〜１０のアルキル；置換アルキル；フェニルの
ようなアリール；ニトロ、アルコキシ、ハロゲン、カル
ボアルコキシ、アルキル、アリール、カルボキシ、ヒド
ロキシ、アミノ、ジアルキルアミノまたはトリアルキル
アンモニウム等の置換アミノ等で置換された置換アリー
ル；メトキシ、エトキシ、ブトキシ等のアルコキシ；フ
ェノキシ等のアリールオキシ；環構成炭素および異原子
の数が約５〜１５の複素環基、例えば式

【０１０７】

【化３２】

【０１０８】（式中、Ｒ⁴¹はメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ｎ−ブチル、イソブチル、
ｓ−ブチル等を含む炭素数１〜４のアルキルであり、Ｘ
^-はＦＳＯ₃ ^-、Ｂｒ₄ ^-、ｐ−トルエンスルホネート、ハ
ロゲン（例えば、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）等を含む陰イオンで
ある）のピリジニウム；ニコチニル；ニコチニウム；フ
リル；２−ベンゾフラニル；２−チアゾリル；２−チエ
ニル等；または式

【０１０９】

【化３３】

【０１１０】（式中Ｒ⁴²〜Ｒ⁴⁶は上記の置換基と同様な
基から選ばれる）で表わされる３−置換クマリニル、ア
セチルなどのアシル基であり、Ｚ² はカルボニル、スル
ホニル、スルフィニルまたはアリーレンジカルボニルか
ら選ばれる結合基である。Ｒ¹⁹のアリール基としては、
フェニル基、ナフチル基、インデニル基等が挙げられ
る。

【０１１１】また、複素環としては下式のような構造を
有するものを挙げることができる。

【０１１２】

【化３４】

【０１１３】ここで、Ｍは−ＣＨ又は窒素原子、Ｔは−
ＣＨ₂−、ＮＨ、Ｓを表し、Ｗは、１核又は２核の縮合
多環芳香族炭化水素残基もしくは１核又は２核の芳香族
複素環基を表す。具体的には、

【０１１４】

【化３５】

【０１１５】等を挙げることができる。式(III)の増感
色素の例としては、以下のものを挙げることができる。 ３−ベンゾイル−５，７−ジメトキシクマリン ３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン ３−ベンゾイル−６−メトキシクマリン ３−ベンゾイル−８−エトキシクマリン ７−メトキシ−３−（ｐ−ニトロベンゾイル）クマリン ３−ベンゾイルクマリン ３−（ｐ−ニトロベンゾイル）クマリン ３−ベンゾイルベンゾ〔ｆ〕クマリン ３，３′−カルボニルビス（７−メトキシクマリン） ３−アセチル−７−メトキシクマリン ３−ベンゾイル−６−ブロモクマリン ３，３′−カルボニルビスクマリン ３−ベンゾイル−７−ジメチルアミノクマリン ３，３′−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン） ３−カルボキシクマリン ３−カルボキシ−７−メトキシクマリン ３−エトキシカルボニル−６−メトキシクマリン ３−エトキシカルボニル−７−メトキシクマリン ３−アセチルベンゾ〔ｆ〕クマリン ３−アセチル−７−メトキシクマリン ３−（１−アダマントイル）−７−メトキシクマリン ３−ベンゾイル−７−ヒドロキシクマリン ３−ベンゾイル−６−ニトロクマリン ３−ベンゾイル−７−アセトクマリン ３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン ７−ジメチルアミノ−３−（４−ヨードベンゾイル）ク
マリン ７−ジエチルアミノ−３−（４−ジエチルアミノベンゾ
イル）クマリン ７−メトキシ−３−（４−メトキシベンゾイル）クマリ
ン ３−（４−ニトロベンゾイル）ベンゾ〔ｆ〕クマリン ３−（４−エトキシシンナモイル）−７−メトキシクマ
リン ３−（４−ジメチルアミノシンナモイル）クマリン ３−（４−ジフェニルアミノシンナモイル）クマリン ３−〔（３−メチルベンゾチアゾール−２−イリデン）
アセチル〕クマリン ３−〔（１−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾール−
２−イリデン）アセチル〕クマリン ３，３′−カルボニルビス（６−メトキシクマリン） ３，３′−カルボニルビス（７−アセトキシクマリン） ３，３′−カルボニルビス（７−ジメチルアミノクマリ
ン） ３，３′−カルボニルビス−（５，７−ジイソプロポキ
シ）クマリン ３，３′−カルボニルビス−（５，７−ジ−ｎ−プロポ
キシ）クマリン ３，３′−カルボニルビス−（５，７−ジ−ｎ−ブトキ
シ）クマリン ３−シアノ−６−メトキシクマリン ３−シアノ−７−メトキシクマリン ７−メトキシ−３−フェニルスルホニルクマリン ７−メトキシ−３−フェニルスルフィニルクマリン １，４−ビス（７−ジエチルアミノ−３−クマリルカル
ボニル）ベンゼン ７−ジエチルアミノ−５′，７′−ジメトキシ−３，
３′−カルボニルビスクマリン ７−ジメチルアミノ−３−テノイルクマリン ７−ジエチルアミノ−３−フロイルクマリン ７−ジエチルアミノ−３−テノイルクマリン ３−ベンゾイル−７−（１−ピロリジニル）クマリン ５，７，６′−トリメトキシ−３，３′−カルボニルビ
スクマリン ５，５，７′−トリメトキシ−３，３′−カルボニルビ
スクマリン ７−ジエチルアミノ−６′−メトキシ−３，３′−カル
ボニルビスクマリン ３−ニコチノイル−７−メトキシクマリン ３−（２−ベンゾフラニルカルボニル）−７−メトキシ
クマリン ３−（７−メトキシ−３−クマリノイル）−１−メチル
ピリミジウムフロロサルフェート ３−（５，７−ジエトキシ−３−クマリノイル−１−メ
チルピリミジウムフロロボレート Ｎ−（７−メトキシ−３−クマリノイルメチル）ピリジ
ニウムブロミド ９−（７−ジエチルアミノ−３−クマリノイル）−１，
２，４，５−テトラヒドロ−３Ｈ，６Ｈ，１０Ｈ〔１〕
ベンゾピラノ［ａ，９ａ・ｌ−ｇｈ］キノラジン−１０
−オン 及び、下記化学式（III-1)〜(III-15)で表される化合物
である。

【０１１６】

【化３６】

【０１１７】

【化３７】

【０１１８】これらの一般式（Ｉ）〜(III)で表した増
感色素は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
これらの増感色素の使用量は、エチレン性不飽和二重結
合を有する化合物１００重量部に対し、０．０５〜３０
重量部、好ましくは、０．１〜２０重量部、さらに好ま
しくは０．２〜１０重量部である。

【０１１９】次に、本発明で使用されるラジカル重合開
始剤について説明する。ラジカル重合開始剤は特に制限
されるものではないが、下記（イ）〜（ヌ）に示される
化合物が好ましい。 （イ）炭素−ハロゲン結合を有する化合物 （ロ）下記一般式（IV）で示されるケトン化合物

【０１２０】

【化３８】

【０１２１】（ただしＡｒは下記（VI-a) または（VI-
b) で表される芳香族基であり、またＲ ²⁰、Ｒ²¹は水素
原子またはアルキル基を表し、またＲ²⁰、Ｒ²¹は互いに
連結してアルキレン基を表してもよい。

【０１２２】

【化３９】

【０１２３】上記式中Ｒ²²〜Ｒ²⁶は互いに同一でも異な
っていてもよく、各々水素原子、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、アリール基、置換アリール基、
水酸基、アルコキシ基、−Ｓ−Ｒ²⁸基、−ＳＯ−Ｒ
²⁸基、−ＳＯ₂−Ｒ²⁸基を表すが、Ｒ²²〜Ｒ²⁶の少なく
とも一つは−Ｓ−Ｒ²⁸基、−ＳＯ−Ｒ²⁸基、−ＳＯ₂−
Ｒ^{2 8}基であり、Ｒ²⁸はアルキル基、アルケニル基を表
す。Ｒ²⁷は水素原子、アルキル基またはアシル基を表
し、Ｙ¹は水素原子または

【０１２４】

【化４０】

【０１２５】を表す。Ｒ²⁹は前記Ｒ²⁰と、またＲ³⁰は前
記Ｒ²¹と同義である。） （ハ）下記一般式中（Ｖ）で表されるケトオキシム化合
物

【０１２６】

【化４１】

【０１２７】（ただし式中Ｒ³¹，Ｒ³²は同一でも異なっ
ていてもよく、置換基、不飽和結合を含んでいてもよい
炭化水素基あるいはヘテロ環基を表す。Ｒ³³，Ｒ³⁴は同
一でも異なっていてもよく、置換基、不飽和結合を含ん
でいてもよい炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、
置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基を表す。また
Ｒ³³，Ｒ³⁴は互いに結合して環を形成し、−Ｏ−，−Ｎ
Ｒ³⁷−，−Ｏ−ＣＯ−，−ＮＨ−ＣＯ−，−Ｓ−および
／または、−ＳＯ₂−を環の連結主鎖に含んでいてもよ
い炭素数２〜８のアルキレン基を表す。Ｒ³⁷は水素原
子、または置換基、不飽和結合を含んでいてもよい炭化
水素基、あるいは置換カルボニル基を表す。Ｒ³⁵，Ｒ³⁶
は水素原子、置換基、不飽和結合を含んでいてもよい炭
化水素基、あるいは置換カルボニル基を示す。 （ニ）有機過酸化物 （ホ）下記一般式（VI）で表されるチオ化合物

【０１２８】

【化４２】

【０１２９】（ただし式中Ｒ³⁸はアルキル基、アリール
基または置換アリール基を示し、Ｒ³⁹は水素原子または
アルキル基を示す。またＲ³⁸とＲ³⁹は互いに結合して酸
素、硫黄、窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んでも
よい５員〜７員環を形成するのに必要な非金属原子群を
表す。） （ヘ）ヘキサアリールビイミダゾール （ト）芳香族オニウム塩 （チ）ケトオキシムエステル （リ）Ｎ−フェニルグリシン （ヌ）チタノセン化合物

【０１３０】上記（イ）炭素−ハロゲン結合を有する化
合物としては、下記一般式（VII)〜（XIII) で示される
化合物が好ましい。 一般式（VII)

【０１３１】

【化４３】

【０１３２】（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。Ｙ²
は−ＣＸ₃、−ＮＨ₂、−ＮＨＲ⁴⁷、−ＮＲ⁴⁷、−ＯＲ⁴⁷
を表わす。ここでＲ⁴⁷はアルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基を表わす。またＲ⁴⁸は−Ｃ
Ｘ₃、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基、置換アルケニル基を表わす。）で表わされ
る化合物。 一般式（VIII)

【０１３３】

【化４４】

【０１３４】（ただし、Ｒ⁴⁹は、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基であり、Ｘはハ
ロゲン原子であり、ｎは１〜３の整数である。）で表わ
される化合物。

【０１３５】一般式（IX) Ｒ⁵⁰−Ｚ³−ＣＨ_2-mＸ_m−Ｒ⁵¹ (IX) （ただし、Ｒ⁵⁰は、アリール基又は置換アリール基であ
り、Ｒ⁵¹は−ＣＯ−ＮＲ ⁵²Ｒ⁵³、または、

【０１３６】

【化４５】

【０１３７】又はハロゲンであり、Ｚ³ は−ＣＯ−、−
ＣＳ−又は−ＳＯ₂ −であり、Ｒ⁵²、Ｒ⁵³はアルキル
基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル
基、アリール基又は置換アリール基であり、Ｒ⁵⁴は一般
式（VII)中のＲ⁴⁷と同じであり、ｍは１又は２であ
る。）で表わされる化合物。 一般式（Ｘ）

【０１３８】

【化４６】

【０１３９】ただし、式中Ｒ⁵⁵は置換されていてもよい
アリール基又は複素環式基であり、Ｒ⁵⁶は炭素原子１〜
３個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケニ
ル基であり、ｐは１、２又は３である。

【０１４０】一般式(XI)

【０１４１】

【化４７】

【０１４２】（ただし、Ｌは水素原子又は式：ＣＯ−
（Ｒ⁵⁷）_n （ＣＸ₃)_m で表される置換基（ｎは０〜２で
あり、ｍは１〜３である）であり、Ｄは置換又は非置換
のアルキレン基であり、Ｑ²はイオウ、セレン又は酸素
原子、ジアルキルメチレン基、アルケン−１，２−イレ
ン基、１，２−フェニレン基又はＮ−Ｒ⁵⁸基であり、Ｄ
＋Ｑ² は一緒になって３又は４異環を形成し、Ｒ⁵⁸はア
ルキル基、アラルキル基又はアルコキシアルキル基であ
り、Ｒ⁵⁷は炭素環式又は複素環式の芳香族基であり、Ｘ
は塩素、臭素又はヨウ素原子であり、ｑ＝０及びｒ＝１
であるか又はｑ＝１及びｒ＝１又は２である。）で表わ
される、トリハロゲノメチル基を有するカルボニルメチ
レン複素環式化合物。

【０１４３】一般式(XII)

【０１４４】

【化４８】

【０１４５】（ただし、Ｘはハロゲン原子であり、ｔは
１〜３の整数であり、ｓは１〜４の整数であり、Ｒ⁵⁹は
水素原子又はＣＨ_3-tＸ_t基であり、Ｒ⁶⁰はｓ価の置換さ
れていてもよい不飽和有機基である）。で表わされる、
４−ハロゲノ−５−（ハロゲノメチル−フェニル）−オ
キサゾール誘導体。

【０１４６】一般式(XIII)

【０１４７】

【化４９】

【０１４８】（ただし、Ｘはハロゲン原子であり、ｖは
１〜３の整数であり、ｕは１〜４の整数であり、Ｒ⁶¹は
水素原子又はＣＨ_3-vＸ_v基であり、Ｒ⁶²はｕ価の置換さ
れていてもよい不飽和有機基である）。で表わされる、
２−（ハロゲノメチル−フェニル）−４−ハロゲノ−オ
キサゾール誘導体。

【０１４９】このような炭素−ハロゲン結合を有する化
合物としては、たとえば、若林ら著、Bull. Chem. Soc.
Japan, 42, 2924 (1969)記載の化合物、たとえば、２
−フェニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−
トリアジン、２−（ｐ−クロルフェニル）−４，６−ビ
ス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−
トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−ト
リアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビ
ス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−
（２′，４′−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（ト
リクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリ
ス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−メチル
−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジ
ン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロクメチ
ル）−Ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロル
エチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−ト
リアジン等が挙げられる。その他、英国特許第１３８８
４９２号明細書記載の化合物、たとえば、２−スチリル
−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジ
ン、２−（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリ
クロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシ
スチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−
トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４−アミ
ノ−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、特開昭
５３−１３３４２８号公報記載の化合物、たとえば、２
−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス
−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−エト
キシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロル
メチル−Ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエ
チル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロ
ルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ
−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロルメチ
ル−Ｓ−トリアジン、２−（アセナフト−５−イル）−
４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、
独国特許第３３３７０２４号明細書記載の化合物、たと
えば下記の化合物を挙げることができる。

【０１５０】

【化５０】

【０１５１】

【化５１】

【０１５２】また、F.C. Schaefer等によるJ. Org. Che
m.; 29, 1527 (1964)記載の化合物、たとえば２−メチ
ル−４，６−ビス（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジ
ン、２，４，６−トリス（トリブロムメチル）−Ｓ−ト
リアジン、２，４，６−トリス（ジブロムメチル）−Ｓ
−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリブロ
ムメチル−Ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４−メチル
−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等を挙げるこ
とができる。

【０１５３】更に特開昭６２−５８２４１号公報記載の
化合物、たとえば下記の化合物を挙げることができる。

【０１５４】

【化５２】

【０１５５】

【化５３】

【０１５６】更に特開昭５−２８１７２８号公報記載の
化合物、例えば下記の化合物等を挙げることができる。

【０１５７】

【化５４】

【０１５８】あるいはさらに M.P.Hutt, E.F.Elslager
およびL.M.Werbel著 Journal of Heterocyclic Chemist
ry第７巻（No.３）、第５１１頁以降（１９７０年）に
記載されている合成方法に準じて当業者が容易に合成す
ることができる次のような化合物群を挙げることができ
る。

【０１５９】

【化５５】

【０１６０】

【化５６】

【０１６１】

【化５７】

【０１６２】

【化５８】

【０１６３】

【化５９】

【０１６４】

【化６０】

【０１６５】

【化６１】

【０１６６】

【化６２】

【０１６７】

【化６３】

【０１６８】あるいは、ドイツ特許第２６４１１００号
明細書に記載されているような化合物、例えば、４−
（４−メトキシ−スチリル）−６−（３，３，３−トリ
クロルプロペニル）−２−ピロン及び４−（３，４，５
−トリメトキシ−スチリル）−６−トリクロルメチル−
２−ピロン、あるいはドイツ特許第３３３３４５０号明
細書に記載されている化合物、例えば、

【０１６９】

【化６４】

【０１７０】あるいはドイツ特許第３０２１５９０号明
細書に記載の化合物群、

【０１７１】

【化６５】

【０１７２】あるいはドイツ特許第３０２１５９９号明
細書に記載の化合物群例えば、

【０１７３】

【化６６】

【０１７４】を挙げることができる。

【０１７５】次に、上記（ロ）の一般式(IV)で示される
ケトン化合物について説明する。式中、Ｒ²⁰、Ｒ²¹は水
素原子もしくは炭素原子数１〜８のアルキル基を示す。
またＲ²⁰、Ｒ²¹は結合してアルキレン基を表してもよ
い。Ａｒである（IV-a) 及び（VI-b) 中のＲ²²〜Ｒ
²⁶は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素
原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜１２のア
ルケニル基、アリール基、炭素原子数１〜１２のアルコ
キシ基、水酸基、−Ｓ−Ｒ²⁸基、−ＳＯ−Ｒ²⁸基、−Ｓ
Ｏ₂−Ｒ²⁸基を表し、Ｒ²⁷は水素原子、または炭素原子
数１〜１２のアルキル基、または炭素原子数２〜１３の
アシル基を示す。これらのアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アシル基は更に炭素原子数１〜６の置換基
で置換されていても良い。

【０１７６】Ｙ¹ 中のＲ²⁹はＲ²⁰と、またＲ³⁰はＲ²¹と
同義である。具体的な例としては、米国特許４，３１
８，７９１号、欧州特許０２８４５６１Ａ号各明細書に
記載の下記化合物を挙げることができる。

【０１７７】

【化６７】

【０１７８】

【化６８】

【０１７９】次に、上記（ハ）の一般式（Ｖ）で示され
るケトオキシム化合物について説明する。式中、Ｒ³¹、
Ｒ³²は同一または異なり、置換基を有していても良く不
飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、或いは、ヘテ
ロ環基を表す。Ｒ³³、Ｒ³⁴は同一または異なり、水素原
子、置換基を有していても良く不飽和結合を含んでいて
も良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換
オキシ基、メルカプト基、置換チオ基を表す。また、Ｒ
³³、Ｒ³⁴は互いに結合して環を形成し、−Ｏ−、−ＮＲ
³⁷−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓ−、及び−ＳＯ₂−を環の連
結主鎖に含んでいても良い炭素数２から８のアルキレン
基を表す。Ｒ³⁷は水素原子、または置換基、不飽和結合
を含んでいてもよい炭化水素基、あるいは置換カルボニ
ル基を表す。

【０１８０】Ｒ³⁵、Ｒ³⁶は水素原子、置換基を有してい
ても良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、或
いは置換カルボニル基を表す。具体的な化合物として、
以下のものを挙げることができるがこれに限定されるも
のではない。

【０１８１】

【化６９】

【０１８２】

【化７０】

【０１８３】

【化７１】

【０１８４】

【化７２】

【０１８５】

【化７３】

【０１８６】上記（ニ）の有機過酸化物としては、分子
中に酸素−酸素結合を有する化合物を挙げることができ
る。例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、シク
ロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５−トリメチル
シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサ
ノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイ
ド、１，１−ビス（ターシャリィブチルパーオキシ）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス
（ターシャリィブチルパーオキシ）シクロヘキサン、
２，２−ビス（ターシャリィブチルパーオキシ）ブタ
ン、ターシャリィブチルハイドロパーオキサイド、クメ
ンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハ
イドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサ
イド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロ
パーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチル
ハイドロパーオキサイド、ジターシャリィブチルパーオ
キサイド、ターシャリィブチルクミルパーオキサイド、
ジクミルパーオキサイド、ビス（ターシャリィブチルパ
ーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−
２，５−ジ（ターシャリィブチルパーオキシ）ヘキサ
ン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ターシャリィブチ
ルパーオキシ）ヘキシン−３、アセチルパーオキサイ
ド、イソブチルパーオキサイド、オクタノイルパーオキ
サイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、３，５，５−トリメチルヘキサノイルパーオ
キサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、

【０１８７】２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイ
ド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピル
パーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパ
ーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパー
オキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオ
キシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチ
ル）パーオキシジカーボネート、ターシャリィブチルパ
ーオキシアセテート、ターシャリィブチルパーオキシピ
バレート、ターシャリィブチルパーオキシネオデカノエ
ート、ターシャリィブチルパーオキシオクタノエート、
ターシャリィブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチ
ルヘキサノエート、ターシャリィブチルパーオキシラウ
レート、ターシャリィブチルパーオキシベンゾエート、
ジターシャリィブチルパーオキシイソフタレート、２，
５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘ
キサン、ターシャリィブチル過酸化マレイン酸、ターシ
ャリィブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、
３，３′，４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシ
カルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，４，４′−テ
トラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェ
ノン、３，３′，４，４′−テトラ−（ｔ−ヘキシルパ
ーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，４，
４′−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）
ベンゾフェノン、３，３′，４，４′−テトラ（クミル
パーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，
４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブ
チルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ
（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等があ
る。

【０１８８】これらの中で、３，３′，４，４′−テト
ラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、３，３′，４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオ
キシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，４，４′
−テトラ−（ｔ−キシルパーオキシカルボニル）ベンゾ
フェノン、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−オクチル
パーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，
４，４′−テトラ（クミルパーオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、３，３′，４，４′−テトラ（ｐ−イソプ
ロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸
化エステル系が好ましい。

【０１８９】上記（ホ）チオ化合物は、前記一般式(VI)
で示される。一般式(VI)におけるＲ³⁸、Ｒ³⁹のアルキル
基としては炭素原子数１〜４個のものが好ましい。また
Ｒ³⁸のアリール基としてはフェニル、ナフチルのような
炭素原子数６〜１０個のものが好ましく、置換アリール
基としては、上記のようなアリール基に塩素原子のよう
なハロゲン原子、メチル基のようなアルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基のようなアルコキシ基で置換されたも
のが含まれる。

【０１９０】一般式(VI)で示されるチオ化合物の具体例
としては、下表に示すような化合物が挙げられる。

【０１９１】

【表３】

【０１９２】

【表４】

【０１９３】

【表５】

【０１９４】本発明に使用される成分（ヘ）のヘキサア
リールビイミダゾールとしては、２，２′−ビス（ｏ−
クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニ
ルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニ
ル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−
４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，
５，５′−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２′−ビス（ｏ，ｏ′−ジクロロフェニル）
−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾー
ル、２，２′−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，
４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２′−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４′，５，
５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス
（ｏ−トリフルオロメチルフェニル）−４，４′，５，
５′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
ケトオキシムエステルとしては、３−ベンゾイロキシイ
ミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−
２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−
オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−
アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、
２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１
−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノブタ
ン−２−オン、２−エトキシカルボニルオキシイミノ−
１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げられる。

【０１９５】また、上記（ト）芳香族オニウム塩として
は、周期律表の第Ｖ、VI及びVII族の元素、具体的には
Ｎ、Ｐ、As、Sb、Bi、Ｏ、Ｓ、Se、Te、またはＩの芳香
族オニウム塩が含まれる。このような芳香族オニウム塩
としては、特公昭５２−１４２７７号、特公昭５２−１
４２７８号、特公昭５２−１４２７９号各公報に示され
ている化合物を挙げることができ、具体的には、以下の
化合物を挙げることができる。

【０１９６】

【化７４】

【０１９７】

【化７５】

【０１９８】

【化７６】

【０１９９】

【化７７】

【０２００】

【化７８】

【０２０１】

【化７９】

【０２０２】

【化８０】

【０２０３】これらの中で好ましいものは、ＢＦ₄塩、
又はＰＦ₄塩の化合物さらに好ましくは芳香族ヨードニ
ウム塩のＢＦ₄塩、又はＰＦ₄塩である。

【０２０４】上記（チ）ケトオキシムエステルとして
は、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−
アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニル
オキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノ
ペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェ
ニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−
１−フェニルプロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンス
ルホニルオキシイミノブタン−２−オン、２−エトキシ
カルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−
オン等が挙げられる。

【０２０５】上記（ヌ）チタノセン化合物は、前記した
増感色素との共存下で光照射した場合、活性ラジカルを
発生し得るチタノセン化合物であれば、例えば、特開昭
５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号公
報に記載されている公知の化合物を適宜選択して用いる
ことができる。更に具体的には、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフ
ェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビ
ス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，
６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタ
ジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１
−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，
４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペン
タフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタ
ジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオ
ロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、
ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフル
オロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウム等
を挙げることができる。

【０２０６】これらの（イ）〜（ヌ）のラジカル重合開
始剤は、単独でまたは２種以上併用して用いることがで
きる。使用量はエチレン性不飽和化合物１００重量部に
対して０．０５〜１００重量部、好ましくは１〜８０重
量部、更に好ましくは３〜５０重量部の範囲が適当であ
る。ラジカル重合開始剤が不適当に多い場合には有効光
線の遮断等好ましくない結果を生じる傾向がある。本発
明におけるラジカル重合開始剤の量は、エチレン性不飽
和化合物と必要に応じて添加される高分子結合剤との合
計に対して０．０１重量％から６０重量％の範囲で使用
するのが好ましい。より好ましくは、１重量％から３０
重量％で良好な結果を得る。

【０２０７】また、本発明の感光性樹脂組成物において
は、露光部分と未露光部分の色別を行う目的で、有機ハ
ロゲン化合物とロイコ色素を含有させることができる。
有機ハロゲン化物としては前述のラジカル重合開始剤
（イ）炭素−ハロゲン結合を有する化合物が一般に使用
される。この様な焼き出し剤として本発明に用いられる
有機ハロゲン化合物の量はフォトレジスト固形分に対し
０．００１重量％から５重量％の範囲である。さらに好
ましくは、０．００５重量％から１重量％である。

【０２０８】本発明に使用しうるロイコ色素の代表的な
ものとしては、次のものが含まれる。トリス（ｐ−ジメ
チルアミノフェニル）メタン、ロイコクリスタルバイオ
レット、トリス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）メタ
ン、トリス（ｐ−ジメチルアミノ−ｏ−メチルフェニ
ル）メタン、トリス（ｐ−ジエチルアミノ−ｏ−メチル
フェニル）メタン、ビス（ｐ−ジブチルアミノフェニ
ル）−〔ｐ−（２−シアノエチル）メチルアミノフェニ
ル〕メタン、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−２
−キノリルメタン、トリス（ｐ−ジプロピルアミノフェ
ニル）メタン等のアミノトリアリールメタン類、３，６
−ビス（ジエチルアミノ）−９−フェニルキサンテン、
３−アミノ−６−ジメチルアミノ−２−メチル−９−
（ｏ−クロロフェニル）キサンテン等のアミノキサンテ
ン類、３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９−（ｏ−エ
トキシカルボニルフェニル）チオキサンテン、３，６−
ビス（ジメチルアミノ）チオキサンテン等のアミノチオ
キサンテン類、３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９，
１０−ジヒドロ−９−フェニルアクリジン、３，６−ビ
ス（ベンジルアミノ）−９，１０−ジヒドロ−９−メチ
ルアクリジン等のアミノ−９，１０−ジヒドロアクリジ
ン類、３，７−ビス（ジエチルアミノ）フェノキサジン
等のアミノフェノキサジン類、３，７−ビス（エチルア
ミノ）フェノチアジン等のアミノフェノチアジン類、
３，７−ビス（ジエチルアミノ）−５−ヘキシル−５，
１０−ジヒドロフェナジン等のアミノジヒドロフェナジ
ン類、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）アニリノメ
タン等のアミノフェニルメタン類、４−アミノ−４′−
ジメチルアミノジフェニルアミン、４−アミノ−α，β
−ジシアノヒドロケイ皮酸メチルエステル等のアミノヒ
ドロケイ皮酸類、１−（２−ナフチル）−２−フェニル
ヒドラジン等のヒドラジン類、１，４−ビス（エチルア
ミノ）−２，３−ジヒドロアントラキノン等のアミノ−
２，３−ジヒドロアントラキノン類、Ｎ，Ｎ−ジエチル
−ｐ−フェネチルアニリン等のフェネチルアニリン類、
１０−アセチル−３，７−ビス（ジメチルアミノ）フェ
ノチアジン等の塩基性ＮＨ基を含むロイコ色素のアシル
誘導体、トリス（４−ジエチルアミノ−ｏ−トリル）エ
トキシカルボニルメタン等の酸化し得る水素をもってい
ないが、発色化合物に酸化しうるロイコ様化合物、ロイ
コインジゴイド色素、米国特許第３，０４２，５１５号
及び同第３，０４２，５１７号各明細書に記載されてい
るような発色形に酸化しうるような有機アミン類。この
型の代表的な化合物としては、次のものを挙げることが
できる。４，４′−エチレンジアミン、ジフェニルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、４，４′−メチレンジ
アミントリフェニルアミン、Ｎ−ビニルカルバゾール。
これらのうち特に好ましいものはロイコクリスタルバイ
オレットである。

【０２０９】該ロイコ色素の量はフォトレジスト固形分
当り、０．０１〜１０重量％の範囲で、更に好ましくは
０．０５〜５重量％の範囲である。

【０２１０】本発明においては、フォトレジストを着色
させたり、保存安定性を付与したりする目的に染料を用
いることができる。好適な染料の例は、ブリリアントグ
リーン硫酸塩、エオシン、エチルバイオレット、エリス
ロシンＢ、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、
ベイシックフクシン、フェノールフタレイン、１，３−
ジフェニルトリアジン、アリザリンレッドＳ、チモール
フタレイン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッ
ド、ローズベンガル、メタニル−イエロー、チモールス
ルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレン
ジ、オレンジＮ、ジフェニルチオカルバゾン、２，７−
ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴー
レッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチル−レッ
ド、ナイルブルーＡ、フェナセタリン、メチルバイオレ
ッド、マラカイトグリーンシュウ酸塩、パラフクシン、
オイルブルー＃６０３〔オリエント化学工業（株）
製〕、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等である。

【０２１１】特に好ましい染料は、マラカイトグリーン
シュウ酸塩である。

【０２１２】本発明のフォトレジストには、更に熱重合
禁止剤を加えることが好ましい。熱重合禁止剤の具体例
としては、例えば、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロ
キノン、アルキルまたはアリール置換ハイドロキノン、
ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、塩化第一銅、ク
ロラニール、ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６
−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピリジン、ニトロ
ベンゼン、ジニトロベンゼン、ｐ−トルイジン、メチレ
ンブルー、有機銅、サリチル酸メチルなどがある。これ
らの熱重合禁止剤は、多官能モノマーに対して０．００
１〜５重量％の範囲で含有されるのが好ましい。

【０２１３】本発明においては、膜物性をコントロール
するために、可塑剤を添加してもよく、代表例として
は、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチ
ルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフ
タレート、オクチルカプリールフタレート、ジシクロヘ
キシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベ
ンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリー
ルフタレートなどのフタル酸エステル類、ジメチルグリ
コースフタレート、エチルフタリールエチルグリコレー
ト、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタ
リールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジ
カプリル酸エステルなどのグリコールエステル類、トリ
クレジールフォスフェート、トリフェニルフォスフェー
トなどの燐酸エステル類、ジイソブチルアジペート、ジ
オクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセ
バケート、ジオクチルセバケート、ジブチルマレートな
どの脂肪酸二塩基酸エステル類、ベンゼンスルホンアミ
ド、ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセ
トアミドなどのアミド類、クエン酸トリエチル、グリセ
リントリアセチルエステル、ラウリル酸ブチルなどがあ
る。

【０２１４】本発明においては、ベースとの密着性を向
上させるために、公知のいわゆる密着促進剤を用いるこ
とができる。例えば、特公昭５０−９１７７号、特公昭
５４−５，２９２号、特公昭５５−２２，４８１号、特
開昭５１−６４，９１９号、特開昭５１−６４，９２０
号、特開昭５０−６３，０８７号、特開昭５２−２，７
２４号、特開昭５３−７０２号、特開昭５３−１２４，
５４１号、特開昭５３−１２４，５９４号、特開昭５４
−１３３，５８５号、特開昭５４−１３３，５８６号、
特開昭５５−６５，９４７号、特公昭５７−４６，０５
３号、特公昭５７−４６，０５４号、特開昭５６−１
１，９０４号、特公昭５７−２１，６９７号、特開昭５
６−７５，６４２号、特開昭５６−６７，８４４号、特
公昭５７−４０，５００号、特開昭５６−９９，２０２
号、特開昭５６−１００，８０３号、特開昭５７−６
０，３２７号、特開昭５７−６２，０４７号、ＤＡＳ
２，４４８，８５０号、ＵＳ４，６２９，６７９号、特
公昭５７−４９，８９４号、特開昭５７−１４８，３９
２号、特開昭５７−１９２，９４６号、特開昭５８−１
００，８４４号、特開昭５９−１１３，４３２号、特開
昭５９−１２５，７２５号、特開昭５９−１２５，７２
６号、特開昭５９−１２５，７２７号、特開昭５９−１
２５，７２８号、特開昭５９−１５２，４３９号、特開
昭５９−１５４，４４０号、特開昭５９−１５４，４４
１号、特開昭５９−１６５，０５１号、特開昭６０−１
２，５４３号、特開昭６０−１２，５４４号、特開昭６
０−１３５，９３１号、特開昭６０−１３８，５４０
号、特開昭６０−１４６，２３３号、特開昭６１−４，
０３８号、特開昭６１−６，６４４号、特開昭６１−
６，６４６号、特開昭６１−１６６，５４１号、特開昭
６１−１７２，１３９号、特開昭６１−１８６，９５２
号、特開昭６１−１９０，３３０号、特開昭６１−１９
８，１４６号、特開昭６１−２２３，８３６号、特開昭
６１−２８２，８３５号、特開昭６１−３６０，２３７
号、特開昭６２−９１，９３５号、特開昭６２−９６，
９３９号、特開昭６２−１８０，３５４号、特開昭６２
−１８０，３５５号、特開昭６２−１８０，３５６号、
特開昭６２−１８０，３５７号、特開昭６２−１８１，
３０３号、特開昭６２−２０８，０４２号、特開昭６２
−２４０，９５０号、特開昭６２−２７７，４０５号、
特開昭６２−２８６，０３５号、特開昭６２−２９０，
７０２号、特公昭６３−１３，５２６号、特開昭６３−
２４，２４３号、特開昭６３−５７，６２２号、特開昭
６３−６１，２４１号各公報または明細書に記載の化合
物がある。

【０２１５】具体的には、ベンズイミダゾール、ベンズ
オキサゾール、ベンズチアゾール、２−メルカプトベン
ズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、
２−メルカプトベンズチアゾール、３−モルホリノメチ
ル−１−フェニル−トリアゾール−２−チオン、３−モ
ルホリノメチル−５−フェニル−オキサジアゾール−２
−チオン、５−アミノ−３−モルホリノメチル−チアジ
アゾール−２−チオン、２−メルカプト−５−メチルチ
オ−チアジアゾールなどがある。

【０２１６】特に好ましい化合物としては３−モルホリ
ノメチル−１−フェニルトリアゾール−２−チオンが挙
げられる。次に本発明に使用される無機粒子について述
べる。本発明の無機粒子は、平均粒子径が０．０１〜１
０μｍ、好ましくは０．０５〜５μｍのものであり、そ
の素材は特に限定されるべきものではない。また、無機
粒子の形状も特に制限されるべきものではないが、球
形、楕円形等が好ましい。尚、本発明で言う平均粒子径
とは、粒子の最大長径の平均を言う。

【０２１７】無機粒子の素材としては、好ましくは、ガ
ラス粒子、金属粉末、金属酸化物及び蛍光体等が挙げら
れる。ガラスとしては、融点（Ｔｍ）の低い低融点ガラ
スが好ましい。本発明では、Ｔｍは、感光性樹脂組成物
が設けられる基板素材あるいは被絶縁物、基板上にパタ
ーン化される無機構造体の素材により選定されるが、通
常、３５０〜８００℃、好ましくは４００〜６５０℃の
範囲である。

【０２１８】ガラス組成は、特に制限されるべきもので
はないが、本発明に用いるフォトレジスト及び無機化合
物や金属化合物と親和性があり、フォトレジストに均一
に分散可能であるように適宜調整されたものが好まし
い。また、他の無機粒子についてもこのような特性を有
していることが好ましい。例えば、ガラス組成として
は、ＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｂ₂ Ｏ₂ 、ＣａＯ、Ｍｇ
Ｏ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ｎａ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏ、Ｌｉ₂ Ｏ、Ｆ
ｅ₂ Ｏ₃ 、ＰｂＯ、ＣｅＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、Ｓ
ｂ₂ Ｏ₃ 、ＢｉＯ、Ｂｉ₂ Ｏ₃ 、Ｐ₂ Ｏ₅、Ａｓ
₂ Ｏ₃ 、ＣｏＯ、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、Ａｇ、Ａｕ、Ｆ、Ｃｌ、
Ｂｒ等から少なくとも１種以上適宜選定すればよい。

【０２１９】通常、無機構造体をガラス基板上に形成す
る場合、ガラス組成としては、酸化珪素は３〜８０重量
％の範囲で配合することが挙げられる。３重量％未満の
場合はガラス層の緻密性、強度や安定性が低下し、また
熱膨張係数が所望の値から外れ、ガラス基板とのミスマ
ッチが起こりやすい。

【０２２０】ガラス粒子として、酸化ビスマス、酸化鉛
のうち少なくとも１種類を含有し、その含有率の合計が
５〜６０重量％のもの、あるいは酸化ホウ素、酸化ビス
マスもしくは酸化鉛を合計で８〜６０重量％含有し、か
つ、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのう
ち少なくとも１種類を３〜１５重量％含有するものは、
通常、融点が低い。

【０２２１】金属粉末としては、例えば、銀、白金、
金、ニッケル、パラジウム、タングステン、ルテニウム
等やこれらの合金（珪素、炭素、リン、等を含んでもよ
い）が挙げられる。金属酸化物としては、例えば、硼
素、アルミニウム、バリウム、カルシウム、マグネシウ
ム、チタン、亜鉛、鉄、銅、錫、ジルコニウム等の酸化
物が挙げられ、中でもアルミナが好ましい。これら金属
酸化物の金属原子は、１種でも複数でもよい。これら、
金属酸化物はセラミック構造をとることができる。

【０２２２】本発明は、種々の金属酸化物を添加するこ
とによって、焼成後の無機構造体に着色することができ
る。例えば、感光性樹脂組成物中に黒色の金属酸化物を
１〜１０重量％含むことによって、黒色のパターンの無
機構造体を形成することができる。この際に用いる黒色
の金属酸化物として、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕの
酸化物の内、少なくとも１種、好ましくは３種以上を含
むことによって、黒色化が可能になる。特に、ＦｅとＭ
ｎの酸化物をそれぞれ０．５重量％以上含有することに
よって、より黒色のパターンを形成できる。

【０２２３】さらに、黒色以外に、赤、青、緑等に発色
する無機顔料を添加したペーストを用いることによっ
て、各色のパターンの無機構造体を形成できる。これら
の着色パターンは、プラズマディスプレイのカラーフィ
ルターなどに好適に用いることができる。本発明に使用
される蛍光体としては、特に制限されるべきものではな
いが、紫外線励起型蛍光体が、挙げられ、たとえば 赤色＝Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ，Ｙ₂ＳｉＯ₅：Ｅｕ，Ｙ₂Ａｌ
₅Ｏ₁₂：Ｅｕ，ＹＶＯ₄：Ｅｕ，（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅ
ｕ，ＹＢＯ₃：Ｅｕ，Ｚｎ₃（ＰＯ₄）₂： Ｅｕ，ＧｄＢ
Ｏ₃：Ｅｕ，ＳｃＢＯ₃：Ｅｕ，ＬｕＢＯ₃：Ｅｕ 緑色＝Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ，ＢａＡｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ，Ｂ
ａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃： Ｍｎ，ＳｒＡｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ，Ｚ
ｎＡｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ，ＣａＡｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ 青色＝Ｂ
ａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ，ＢａＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₇：Ｅｕ，
Ｙ₂ＳｉＯ₅：Ｃｅ等を例示することができる。

【０２２４】本発明においては、無機粒子として、低融
点ガラス粒子と共に他の無機粒子、例えば、アルミナ粒
子を含むことが好ましい。この無機粒子として、低融点
ガラス粒子とアルミナ粒子を用いる場合、無機粒子組成
としては、低融点ガラス粒子は無機粒子全体に対して通
常、２０〜９０重量％、好ましくは３５〜８５重量％の
範囲である。

【０２２５】無機粒子としては、その焼成温度は、低い
方が熱エネルギーの節減になり、かつ基板、フィルター
その他の材料選択の範囲が広がるので、また、焼成時に
基板ガラスのそり等の不具合を生じさせないためにも、
線熱膨張係数が５０〜９０×１０^-7、さらには、６０〜
９０×１０^-7のガラス微粒子を用いることが望ましい。

【０２２６】また、本発明に用いられる無機粒子とし
て、成分の異なる微粒子を組み合わせて用いること、特
に、融点の異なるガラス微粒子やセラミックス微粒子を
用いることによって、焼成時の収縮率を抑制することが
できる。本発明の感光性樹脂組成物は、含有される無機
粒子が焼成により形成される無機体を任意の露光領域に
対応して形成することができるから、該無機体の形状乃
至パターンとその用途は特に制限されるべきものではな
い。例えば、無機体は、回路乃至導体、抵抗体、蛍光
体、隔壁等のリブ等に用いられるが、本発明の感光性樹
脂組成物は、プラズマディスプレイのリブ形成用に好適
である。

【０２２７】また、プラズマディスプレイのリブ形成方
法としては、特に制限されるべきものではないが、本発
明の感光性樹脂組成物を層としてプラズマディスプレイ
用ベース上に設け、該ベースの裏からの露光処理および
該ベースの表からの露光処理を各々少なくとも１回行う
ことが好ましい。ここで、ベースの裏からの露光は、ベ
ースを通してベース上の感光性樹脂組成物層の下部近傍
（即ち、ベースにより近い領域）により多くの光を照射
することにより下部の感光性樹脂組成物の光硬化性をよ
り向上させようとするもので、よりプロファイルの向上
が期待できるものである。従って、ベース材料としては
少なくとも光透過性のものである必要がある。また、ベ
ースの表からの露光処理は、通常行われている層へ直接
露光することである。

【０２２８】感光性樹脂組成物の層を形成する方法は、
公知のコート法、例えば、スクリーン印刷、カーテンフ
ローコート、スプレーコート、ロールコート、ブレード
コート、バーコート等が挙げられる。また、感光性樹脂
組成物の粘度は、通常、１００〜１００，０００ｃｐｓ
（センチポイズ）であるが、塗布法により異なる。例え
ばスクリーン印刷法では、好ましくは１５，０００〜７
０，０００ｃｐｓの範囲である。

【０２２９】粘度は、フォトレジストの種類、無機粒子
サイズ、その割合、所望により添加される溶剤、その
他、可塑剤、増粘剤等により適宜調整することができ
る。本発明の感光性樹脂組成物は、フォトレジストと無
機粒子とから少なくとも構成されるが、無機粒子はフォ
トレジスト中に均一に分散されていることが必要であ
り、その分散法としては、特に制限されるべきものでは
ないが、フォトレジスト、無機粒子及び溶剤からなる混
合物を混練、分散する方法、フォトレジスト中に無機粒
子を添加して混練、分散する方法、両者の溶剤分散物を
混練、分散する方法等が例示される。尚、フォトレジス
ト中に無機粒子が均一に分散されるのであれば、溶剤は
必ずしも必要ではない。

【０２３０】本発明の感光性樹脂組成物において、フォ
トレジスト（固形分）と無機粒子との配合割合は、フォ
トレジスト（固形分）対無機粒子が１／９９〜９９／
１、好ましくは５／９５〜８０／２０の範囲である。溶
剤としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロ
パノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ
−ブタノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトンなどのケト
ン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、蟻
酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安
息香酸エチルなどのエステル類、トルエン、キシレン、
ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、四
塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，
１，１−トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロ
ベンゼン、などのハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、１−メトキシ−２−プロパノールなどのエーテル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホオキサイド
などがある。

【０２３１】上記溶剤には、界面活性剤を加えることも
できる。具体的には、ポリオキシエチレンラウリルエー
テル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオ
キシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル
類、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、
ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリ
オキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシ
エチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー
類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミ
テート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノ
オレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタント
リステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリ
オキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシ
エチレンソルビタンモノパルミテ−ト、ポリオキシエチ
レンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレン
ソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビ
タントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタ
ン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
やＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型等の両性界面
活性剤、また、塗布性を良化するための界面活性剤、例
えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記載されている
ようなフッ素系界面活性剤等を添加することができる。

【０２３２】これらの界面活性剤は単独で添加してもよ
いし、また、いくつかの組み合わせで添加することもで
きる。上記界面活性剤の感光性樹脂組成物中に占める割
合は、通常、５重量％以下、好ましくは１重量％以下で
ある。ベース素材としては、ガラス、セラッミクス、ポ
リマーフィルム等が挙げられる。

【０２３３】露光処理は、公知の手段、例えば、フォト
マスクを通してもしくは可視光レーザー光、Ａｒイオン
レーザー光などで直接露光することができ、露光領域に
対応した無機体のプロファイルを形成することができ
る。露光装置としては、ステッパー型、プロキシミティ
型等が挙げられる。また、ベースを搬送しながら露光処
理を行ってもよい。

【０２３４】露光処理の光としては、特に制限されるべ
きものではないが、可視光、紫外線、電子線、Ｘ線、レ
ーザー光等を挙げることができる。本発明では、露光処
理を裏からも行うので、露光条件を従来より緩和するこ
とができ、省エネ効果も期待できる。例えば、紫外線を
用いる場合、露光条件として、裏から露光量１０〜１，
０００ｍＪ／ｃｍ² 、表から露光量５〜８００ｍＪ／ｃ
ｍ² の処理が好適な処理として例示される。

【０２３５】また、所望により、露光後８０〜１３０℃
程度の温度で加熱する工程を付加してもよい。露光後の
現像法としては、浸漬法、スプレー法、ブラシ法等が挙
げられる。また、現像液としては、アルカリ類の水溶
液、或いはそれにアルコール類等の有機溶媒や界面活性
剤等添加したもの等が挙げられる。

【０２３６】アルカリ類としては、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウ
ム、アンモニア等の無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ
−プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルアミン、
ジ−ｎ−ブチルアミン等の第二アミン類、トリエチルア
ミン、メチルジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチ
ルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコ
ールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第四ア
ンモニウム塩、ピロール、ピペリジン等の環状アミン類
等を挙げることができる。

【０２３７】また、現像時の温度は、通常、１５〜３０
℃であるが、１８〜２８℃で行うことが好ましい。次に
現像で得られた所望のパターンは、焼成を行うことによ
り、パターン化した無機体を得ることができる。焼成雰
囲気、温度等の条件は、感光性樹脂組成物の成分や基板
の種類に応じて選定される。焼成雰囲気としては、空気
中、窒素や水素等の分圧を適宜調整した雰囲気等が挙げ
られる。炉は、バッチ式、連続型等が挙げられる。

【０２３８】焼成時の温度は、通常、３５０〜８００℃
で行われる。ガラス基板上にパターン加工する場合は、
４００〜６５０℃、１０〜１８０分間の保持が一般的で
ある。また、以上の塗布層形成、露光、現像、焼成の各
工程間に、乾燥乃至予備反応のために通常、５０〜１２
０℃の加熱工程を設けてもよい。

【０２３９】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明は、これに限定されるものではない。尚、「部」
とは「重量部」を示す。 実施例１ 下記に示した成分を混合して均一な感光性樹脂組成物を
調製した。 エチレン性不飽和化合物 ポリプロピレングリコールジアクリレート（平均分子量８２２） ６．５部 テトラエチレングリコールジメタクリレート １．５部 増感色素Ｉ−５ ０．０５部 ラジカル重合開始剤 ＶＩＩ−１ ０．１部 高分子結合剤 ４２．９部 メタクリル酸メチル／メタクリル酸／２−エチルヘキシル メタクリレート／ベンジルメタクリレート共重合体（モル比 ５５／２８．８／１１．７／４．５、重量平均分子量９万） の３５重量％溶液（溶媒はメチルエチルケトン／１−メトキ シ−２−プロパノール＝２／１（重量比） 架橋剤 下記化合物 １５部

【０２４０】

【化８１】

【０２４１】 ｐ−トルエンスルホンアミド ０．５部 マラカイトグリーンシュウ酸塩（１％メタノール溶液） １．６２５部 ３−モルホリノメチル−１−フェニルトリアゾール−２− チオン ０．０１部 フェニルトリブロモメチルスルホン ０．０５部 ロイコクリスタルバイオレット ０．２０部 鉛含有低融点ガラス ７０部 （平均粒子径１μｍ、融点５６０℃）

【０２４２】次にプラズマディスプレイ用ガラスベース
上に乾燥厚みで２００μｍの感光性樹脂組成物の層を設
けた。そして、アルゴンレーザを用い、レーザー走査に
てピッチ３００μｍ、線幅６０μｍ（以下、パターン
１）、及びビッチ１００μｍ、線幅３０μｍ（以下、パ
ターン２）の各々のパターンを層に１００ｍＪ／ｃｍ²
の光量で露光を行い、その後、ＮａＯＨ０．５％水溶液
に浸漬して現像を行った。また、上記乾燥厚みを１５０
μｍに代えた以外は、パターン１と同様のレーザーを用
いて露光、現像したもの（パターン３）、パターン２と
同様のレーザーを用いて露光、現像したもの（パターン
４）を作成した。

【０２４３】現像されたパターン１〜４を有したガラス
ベースを乾燥した後、５９０℃、１２０分間焼成を行
い、リブを形成した。 実施例２ 実施例１において、露光条件をベースの裏からの露光と
ベースの表からの露光を各々１回下記露光量にて露光す
ることに変更した以外は実施例１と同様に焼成を行い、
リブを形成した。

【０２４４】１回当たりの露光条件： ベースの裏からの露光：露光量：２０ｍＪ／ｃｍ² ベースの表からの露光：露光量：１００ｍＪ／ｃｍ² 上記のようにして得られたリブのリブとガラスベースと
の密着性は全て良好であった。また、得られたプロファ
イルを下記により評価し、結果を表６に示した。

【０２４５】評価 ◎：ベースに対し垂直方向の断面において、リブのベー
ス近傍の部分が山の裾野状を呈し、その上部は矩形状を
呈している。 ○：ベースに対し垂直方向の断面において、リブのベー
ス近傍の部分の欠落もなく全体的に矩形状を呈してい
る。

【０２４６】

【表６】

【０２４７】上表より、本発明の感光性樹脂組成物から
得られたリブは、高密度にもかかわらず、ベースとの密
着性にも優れ、かつプロファイルに優れていることが分
かる。また、本発明の裏からの露光を併用する方法を用
いることにより、プロファイルの改善を計ることができ
ることが分かる。

【０２４８】

【発明の効果】本発明は、高感度かつ高解像力のあるネ
ガ型フォトレジストと特定範囲の平均粒子径を有する無
機粒子を組み合わせたことにより、プロファイル及びベ
ースとの密着性が良好で、高密度かつ高アスペクト比の
プラズマディスプレイ用のリブを提供することができ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｆ 17/49 17/49 Ｚ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくともエチレン性不飽和化合物、増
   感色素及びラジカル重合開始剤を含有するフォトレジス
   トおよび平均粒子径が０．０１〜１０μｍの無機粒子か
   ら少なくともなることを特徴とする感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 前記増感色素は、下記Ａ群から選択され
   る少なくとも１種であることを特徴とする請求項１記載
   の感光性樹脂組成物。 Ａ群： 下記一般式（Ｉ）で表される化合物 【化１】 （ただし、式中Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ は互いに独立して水素原子、
   ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
   基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換アル
   コキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表す。またＲ¹ 〜
   Ｒ⁴ はそれが結合する炭素原子と共に非金属原子からな
   る環を形成していてもよい。Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ は互いに独立し
   て水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル
   基、アリール基、置換アリール基、ヘテロ芳香族基、ア
   シル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルボキ
   シル基、置換アルケニル基を表す。またＲ⁵とＲ⁶ は共
   に非金属原子からなる環を形成していてもよい。Ｘは
   Ｏ，Ｓ，ＮＨ、または置換基を有する窒素原子を表す。
   Ｇ¹ ，Ｇ² は互いに同一でも異なっていてもよく、各々
   水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換ア
   ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
   置換アリールオキシカルボニル基、アシル基、置換アシ
   ル基、アリールカルボニル基、置換アリールカルボニル
   基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホ
   ニル基、アリールスルホニル基、フルオロスルホニル基
   を表す。ただし、Ｇ¹ とＧ² はそれが結合する炭素原子
   と共に非金属原子からなる環を形成していてもよい。） 下記一般式（II）で表される化合物 【化２】 （ただし、式中Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ は同一でも異なっていてもよ
   く、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニ
   ル基、置換アルケニル基、アルコキシカルボニル基、ア
   リール基、置換アリール基、アルキニル基または置換ア
   ルキニル基を表す。Ａは酸素原子、硫黄原子、アルキル
   基またはアリール基により置換された炭素原子、または
   アルキル基２個に置換された炭素原子を表す。Ｊは含窒
   素ヘテロ５員環を形成するのに必要な非金属原子群を表
   す。Ｙはフェニル基、置換フェニル基、無置換または置
   換されたヘテロ芳香族環を表す。Ｚ¹ は水素原子、アル
   キル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
   基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
   置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシカルボニル
   基を表し、Ｚ¹ とＹは互いに結合して環を生成しても良
   い。） 下記一般式（III）で表される化合物 【化３】 （ただし、式中Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³は互いに独立して水素原子、
   炭素数１〜６の非置換または置換アルコキシ基、炭素数
   １〜６の非置換または置換アルケニルオキシ基、炭素数
   １〜６の非置換または置換アルキルチオ基、各アルキル
   基の炭素数が１〜４であるジアルキルアミノ基、水酸
   基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、または
   複数環基を表す。Ｒ¹⁰〜Ｒ¹³の２個または３個と前記Ｒ
   ¹⁰〜Ｒ¹³の置換基が結合されている環構成炭素原子とが
   一緒になり各縮合環が５または６員環である縮合環また
   は縮合環系を形成してもよい。Ｒ⁹ は水素原子、炭素数
   １〜４の非置換または置換アルキル基または炭素数６〜
   １２の非置換または置換アリール基、またはＲ¹⁴−ＣＯ
   −を表す。ここで、Ｒ ¹⁴はアルコキシ基、シクロアルコ
   キシ基、水酸基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ
   基、アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニルアルコ
   キシ基、アルキルカルボニルアルコキシ基、あるいは下
   記（III-a)〜(III-c) で表される置換基を表す。 【化４】 Ｒ¹⁵〜Ｒ¹⁸は水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキ
   ル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、アルコキシア
   ルキル基、シクロアルキル基を表し、ｍは１〜５であ
   り、ｎは０〜１０である。Ｑ¹ はシアノ基、複素環、ま
   たは−Ｚ² −Ｒ¹⁹を表す。ここでＲ¹⁹は炭素数１〜１０
   の非置換または置換アルキル基、アルケニル基、または
   アルコキシ基、炭素数６〜１２の非置換または置換アリ
   ール基、炭素数６〜１２の非置換または置換アリールオ
   キシ基、または環を構成する炭素原子および異原子が５
   〜１５個である非置換または置換複素環基、または水酸
   基、アシル基を表す。Ｚ² はカルボニル基、スルホニル
   基、スルフィニル基またはアリーレンジカルボニル基、
   −（ＣＨ＝ＣＨ）_k（ｋは１または２）を表す。）
3. 【請求項３】 該エチレン性不飽和化合物は、アクリル
   系化合物であることを特徴とする請求項１又は２記載の
   感光性樹脂組成物。
4. 【請求項４】 該フォトレジストは、高分子結合剤及び
   ／又は架橋剤を含むことを特徴とする請求項１〜３の何
   れか１項に記載の感光性樹脂組成物。
5. 【請求項５】 該無機粒子は低融点ガラス粒子、金属粉
   末、金属酸化物及び蛍光体から選択される少なくとも１
   種を含むことを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に
   記載の感光性樹脂組成物。
6. 【請求項６】 プラズマディスプレイのリブ形成用であ
   ることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の
   感光性樹脂組成物。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の感光性樹脂組成物を層
   としてプラズマディスプレイ用ベース上に設け、該ベー
   スの裏からの露光処理および該ベースの表からの露光処
   理を各々少なくとも１回行うことを特徴とするプラズマ
   ディスプレイのリブ形成方法。