JPH11339467A - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor deviceInfo
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- JPH11339467A JPH11339467A JP10147094A JP14709498A JPH11339467A JP H11339467 A JPH11339467 A JP H11339467A JP 10147094 A JP10147094 A JP 10147094A JP 14709498 A JP14709498 A JP 14709498A JP H11339467 A JPH11339467 A JP H11339467A
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- refresh
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- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Dram (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、リフレッシュが必
要なメモリ、つまりダイナミックランダムアクセスメモ
リ(以下、DRAMと略す)とロジック回路とが1チッ
プ化された半導体装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device in which a memory requiring refresh, that is, a dynamic random access memory (hereinafter abbreviated as DRAM) and a logic circuit are integrated into one chip.
【0002】[0002]
【従来の技術】メモリセルがコンデンサによって形成さ
れているDRAMにおいては、ある時間経つと、電荷と
してメモリセルに保持されているデータがリーク電流に
より失われてしまう。したがって、メモリセルが保持す
るデータを書き直して維持するために、リフレッシュ動
作を行う必要がある。DRAMにおけるリフレッシュ動
作は、メモリセルが有するそれぞれ複数の行と列とによ
り構成されたメモリマトリクスにおいて、1行分の行線
(ワード線)を選択した後にそのワード線上のすべての
メモリセルについて読み出し・増幅・再書き込みを行う
動作を、全ワード線に対して順次行うことにより実現さ
れる。2. Description of the Related Art In a DRAM in which a memory cell is formed by a capacitor, after a certain period of time, data stored in the memory cell as charges is lost due to a leak current. Therefore, it is necessary to perform a refresh operation in order to rewrite and maintain the data held in the memory cell. A refresh operation in a DRAM is performed by selecting a row line (word line) for one row in a memory matrix composed of a plurality of rows and columns included in a memory cell, and then reading out all memory cells on the word line. This is realized by sequentially performing the operation of performing amplification and rewriting on all the word lines.
【0003】DRAMのリフレッシュ動作としては、メ
モリセルに対するデータの読み出し/書き込みといった
ランダムアクセス動作中に割り込んで行われるリフレッ
シュ動作と、DRAMがランダムアクセス動作中でなく
データ保持モードである期間、例えば電池によるバック
アップ期間中に行われるリフレッシュ動作とがある。[0003] The refresh operation of the DRAM includes a refresh operation interrupted during a random access operation such as reading / writing of data from / to a memory cell, and a period during which the DRAM is in a data holding mode without a random access operation, for example, by a battery. There is a refresh operation performed during the backup period.
【0004】前者、つまりアクセス動作中に割り込んで
行われるリフレッシュ動作には2つの方式がある。1つ
は、リフレッシュ用の行アドレスを外部のリフレッシュ
アドレスカウンタから与え、行アドレスストローブ信号
/RASを立ち下げてから立ち上げるまでの期間にリフ
レッシュを行う、RASオンリリフレッシュ方式であ
る。もう1つは、外部からリフレッシュ要求信号を与
え、行アドレスを外部アドレスからDRAM内蔵のリフ
レッシュアドレスカウンタへ切り換えてリフレッシュを
行う、オートリフレッシュ方式である。現在、オートリ
フレッシュ方式としては、列アドレスストローブ信号/
CAS、行アドレスストローブ信号/RASの順にLo
wレベル“L”にし、かつ、行アドレスストローブ信号
/RASを立ち下げてから立ち上げるまでの間にリフレ
ッシュを行う、CASビフォアRASリフレッシュ(以
下、CBRリフレッシュと略す)が標準仕様になってい
る。The former, that is, the refresh operation performed by interrupting during the access operation, has two methods. One is a RAS-only refresh method in which a row address for refresh is given from an external refresh address counter, and refreshing is performed during a period from a fall to a rise of a row address strobe signal / RAS. The other is an auto-refresh method in which a refresh request signal is supplied from the outside and a row address is switched from an external address to a refresh address counter built in the DRAM to perform refresh. At present, the auto refresh method uses a column address strobe signal /
CAS, row address strobe signal / RAS in order of Lo
A CAS-before-RAS refresh (hereinafter abbreviated as CBR refresh), which performs w-level “L” and performs refresh between the fall and the rise of the row address strobe signal / RAS, is a standard specification.
【0005】後者、つまりデータ保持モードにおけるリ
フレッシュ動作には、内部のタイマーが自動的に生成し
たリフレッシュ要求信号に応じて、内蔵したリフレッシ
ュアドレスカウンタの出力を行アドレスとしてリフレッ
シュを行うことにより、外部から制御信号を与えなくて
も一定の周期でリフレッシュを継続して行うセルフリフ
レッシュ方式がある。現在、セルフリフレッシュ方式と
しては、CBRリフレッシュにおいて行アドレスストロ
ーブ信号/RAS及び列アドレスストローブ信号/CA
Sの双方を“L”のまま100μsec以上保つことに
よりセルフリフレッシュ動作に入る、CBRセルフリフ
レッシュが標準仕様になっている。In the latter case, that is, in the refresh operation in the data holding mode, external refresh is performed by using the output of a built-in refresh address counter as a row address in response to a refresh request signal automatically generated by an internal timer. There is a self-refresh method in which refresh is continuously performed at a constant cycle without applying a control signal. At present, as a self refresh method, a row address strobe signal / RAS and a column address strobe signal / CA are used in CBR refresh.
CBR self-refresh is a standard specification, in which a self-refresh operation is started by keeping both S at "L" for 100 μsec or more.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の構成によれば、セルフリフレッシュ時のリフレッシ
ュ要求信号を生成するセルフリフレッシュ回路のチェッ
クするための信号を外部端子に出力していないため、セ
ルフリフレッシュ回路の不良を検出するために、メモリ
にデータを書き込んでから、セルフリフレッシュモード
に入り、リフレッシュしなければメモリセルに保持され
ているデータがリークして失われてしまう時間以上待っ
た後、メモリセルのデータを読んで、データが失なわれ
たかどうかのテストを行っており、テスト時間が長くな
るという課題と前記リフレッシュ要求信号のパルス幅を
チェックできないのとセルフリフレッシュ時のリフレッ
シュ周期のチェックできないので、トリミングによるリ
フレッシュ周期の最適化ができないという課題と前記パ
ルス幅またはリフレッシュ周期が規格外の時にトリミン
グにより前記パルス幅または周期を規格内にすることが
できないという課題とを有していた。本発明は、上記従
来の問題に鑑み、リフレッシュが必要なメモリ、つまり
DRAMとロジック回路とが1チップ化された半導体装
置であって、前記セルフリフレッシュ回路のテストを短
時間で行うことができ、トリミングによるセルフリフレ
ッシュ周期の最適化及び不良品の救済を行うことができ
る半導体装置を提供することを目的とする。However, according to the above-mentioned conventional configuration, a signal for checking the self-refresh circuit for generating a refresh request signal at the time of self-refresh is not output to the external terminal. To detect circuit failure, write data to the memory, then enter self-refresh mode, and wait for more than the time that data held in the memory cell will leak and be lost if not refreshed. In order to test whether the data has been lost, the test time becomes longer, the pulse width of the refresh request signal cannot be checked, and the refresh cycle during self-refresh cannot be checked. Of the refresh cycle by trimming Optimization is the pulse width or refresh period and a problem that can not be had a problem that it is impossible to make the pulse width or period by trimming at the time of non-standard in the standard. In view of the above conventional problems, the present invention is a semiconductor device in which a memory requiring refresh, that is, a DRAM and a logic circuit are integrated into one chip, and the test of the self refresh circuit can be performed in a short time. An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of optimizing a self-refresh cycle by trimming and relieving a defective product.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の半導体装置は、データを記憶するためのリフ
レッシュが必要なメモリセルを有するメモリと、セルフ
リフレッシュ制御信号が入力されると、一定の周期を有
する発振クロックを供給するための発振手段と、前記発
振クロックに基づいて、前記メモリセルをリフレッシュ
するための内部セルフリフレッシュ制御信号を供給する
ための信号生成手段と、前記内部セルフリフレッシュ制
御信号を外部端子に出力する信号出力手段とを備えるこ
とにより、セルフリフレッシュ時のリフレッシュ周期を
チェックすることができるようにした。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve this problem, a semiconductor device according to the present invention comprises a memory having a memory cell which needs to be refreshed for storing data, and a self-refresh control signal. Oscillating means for supplying an oscillating clock having a fixed period, signal generating means for supplying an internal self-refresh control signal for refreshing the memory cell based on the oscillating clock, By providing a signal output means for outputting a control signal to an external terminal, a refresh cycle at the time of self-refresh can be checked.
【0008】これにより、前記セルフリフレッシュ回路
のテストを短時間で行うことができ、トリミングによる
セルフリフレッシュ周期の最適化及び不良品の救済を行
うことができる半導体装置を実現することができた。Thus, a test of the self-refresh circuit can be performed in a short time, and a semiconductor device capable of optimizing a self-refresh cycle by trimming and relieving a defective product can be realized.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態1の半
導体装置について図面を参照しながら説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0010】図1は本発明の実施の形態1における半導
体装置の構成を示すものである。図1において、メモリ
セル及び周辺回路3は、複数のメモリセルで構成された
メモリアレイとその周辺回路で構成されたブロック、ロ
ジック部4は、マイコン又はロジックで構成されたブロ
ック、リフレッシュカウンタ224は、リフレッシュ時
の行アドレスを生成するためのカウンタ回路、210〜
214、230、231はインバータ回路、215〜2
18はDフリップフロップ(以下DFFと略す)、セレ
クタ201〜208、229は、S入力が“H”の場合
に、B入力が選択される。行アドレスラッチ225、列
アドレスラッチ226、バイトアドレスラッチ227
は、EN入力が、“H”の場合にクロック(2)の立ち
上がりで入力信号をラッチする回路である。テストデコ
ード回路228は、複数本の外部テスト入力端子をデコ
ードして、DRAM2のテストモードを決定する回路で
ある。FIG. 1 shows a configuration of a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1, a memory cell and a peripheral circuit 3 are a memory array composed of a plurality of memory cells and a block composed of peripheral circuits, a logic unit 4 is a block composed of a microcomputer or logic, and a refresh counter 224 is a Counter circuit for generating a row address at the time of refresh, 210 to 210
214, 230, 231 are inverter circuits;
Reference numeral 18 denotes a D flip-flop (hereinafter abbreviated as DFF), and selectors 201 to 208 and 229 select the B input when the S input is "H". Row address latch 225, column address latch 226, byte address latch 227
Is a circuit that latches an input signal at the rising edge of the clock (2) when the EN input is “H”. The test decode circuit 228 is a circuit that decodes a plurality of external test input terminals and determines a test mode of the DRAM 2.
【0011】図2は、図1のメモリセルアレイ及び周辺
回路3の構成図である。メモリセルM01〜MN2m
は、容量に1ビット分のデータを記憶するための記憶素
子である。メモリセルアレイ300は、N行×2m列の
メモリセルM01〜MN2mを有する記憶手段である。
そして、メモリセルアレイ300は、N本の行選択線で
あるワード線WL1〜Nと、2mペアのビット対線であ
るビット線(1)〜2m、/ビット線(1)〜2mによ
りデータの読み書きが実行される構成を有する。行選択
回路301は、行選択制御信号を受け取り、かつ、受け
取った行アドレスに基づいてワード線WLを選択して、
選択されたワード線WLにパルスを印加するための行選
択手段である。センスアンプSA1〜2mは、ビット
線,/ビット線間の微小な電圧差を増幅するための増幅
手段、PchトランジスタT01〜T0(2m)、T11
〜T1(2m)は、行選択制御信号に応じてビット線,
/ビット線へプリチャージ電圧を印加して、各ビット
線、/ビット線をプリチャージするためのスイッチング
手段である。PchトランジスタT21〜T2(2m)
は、行選択制御信号に応じて各ビット線、/ビット線を
イコライズするためのスイッチング手段である。Nch
のトランスファーゲートTG01〜TG0(2m)、TG
11〜TG1(2m)は、センスアンプで増幅されたビ
ット線,/ビット線をメインアンプMA0〜MAのメイ
ンビット線、/メインビット線に接続するためのスイッ
チング手段である。FIG. 2 is a configuration diagram of the memory cell array and the peripheral circuit 3 of FIG. Memory cells M01 to MN2m
Is a storage element for storing 1-bit data in a capacity. The memory cell array 300 is storage means having memory cells M01 to MN2m of N rows × 2m columns.
The memory cell array 300 reads and writes data by using word lines WL1 to N, which are N row selection lines, and bit lines (1) to 2m, / bit lines (1) to 2m, which are 2m pairs of bit pairs. Is executed. The row selection circuit 301 receives a row selection control signal, and selects a word line WL based on the received row address.
This is row selection means for applying a pulse to the selected word line WL. The sense amplifiers SA1 to SA2m are amplifying means for amplifying a minute voltage difference between the bit lines and the / bit lines, and Pch transistors T01 to T0 (2m) and T11.
To T1 (2m) are bit lines according to a row selection control signal,
A switching means for applying a precharge voltage to the / bit line to precharge each bit line and / bit line. Pch transistors T21 and T2 (2 m)
Is switching means for equalizing each bit line and / bit line according to a row selection control signal. Nch
Transfer gates TG01 to TG0 (2m), TG
11 to TG1 (2m) are switching means for connecting the bit lines and / bit lines amplified by the sense amplifiers to the main bit lines and / main bit lines of the main amplifiers MA0 to MA.
【0012】図3は、図1のセルフリフレッシュ回路2
50の詳細説明図である。図3において、発振回路25
1は、受け取ったセルフリフレッシュ制御信号が“H”
の場合には、クロックCLK1を供給するための発振手
段である。2分周器268,269,270は、受け取
ったクロックCLK1を順次分周し、それぞれ分周クロ
ックCLK2,CLK4,CLK8を供給するための分
周手段である。セレクタ271は、クロック選択信号
が、”H”の場合には、分周クロックCLK8を選択し
て、クロック選択信号が、”L”の場合には、分周クロ
ックCLK8を選択して、分周信号CKOを供給するた
めの選択手段である。1ショットパルス発生回路274
は、受け取った分周信号CKOの立ち上がりに応じて、
所定のパルス幅を有するセットパルスSETPを生成す
るためのパルス生成手段である。セットリセット回路2
75は、それぞれ受け取ったセットパルスSETPとリ
セットパルスRSTPとに応じて、セルフリフレッシュ
信号SROを供給するための信号生成手段である。FIG. 3 is a circuit diagram of the self-refresh circuit 2 shown in FIG.
It is a detailed explanatory view of 50. In FIG. 3, the oscillation circuit 25
1 indicates that the received self refresh control signal is "H"
In the case of (1), it is an oscillating means for supplying the clock CLK1. The two-frequency dividers 268, 269, and 270 are frequency dividing means for sequentially dividing the frequency of the received clock CLK1 and supplying the frequency-divided clocks CLK2, CLK4, and CLK8, respectively. The selector 271 selects the divided clock CLK8 when the clock selection signal is “H”, and selects the divided clock CLK8 when the clock selection signal is “L” to divide the clock. It is a selection unit for supplying the signal CKO. One shot pulse generation circuit 274
According to the rising edge of the received frequency-divided signal CKO,
This is a pulse generation unit for generating a set pulse SETP having a predetermined pulse width. Set reset circuit 2
Reference numeral 75 denotes a signal generation unit for supplying a self-refresh signal SRO in accordance with the received set pulse SETP and reset pulse RSTP.
【0013】第1の遅延回路276は、受け取った内部
セルフリフレッシュ信号を一定時間遅延させたリセット
パルスRSTPを、セットリセット回路275のリセッ
ト端子に供給するための遅延手段である。The first delay circuit 276 is a delay means for supplying a reset pulse RSTP obtained by delaying the received internal self-refresh signal for a predetermined time to the reset terminal of the set / reset circuit 275.
【0014】以下、第1の実施の形態である半導体装置
1に内蔵されたDRAM2のデータ読み出しテスト時の
動作を説明する。テスト時は、外部入力端子より信号を
入力して、DRAM2を単体でテストする。The operation of the DRAM 2 incorporated in the semiconductor device 1 according to the first embodiment during a data read test will be described below. At the time of testing, a signal is input from an external input terminal to test the DRAM 2 alone.
【0015】まず、データ読み出しテスト時の入力信号
の選択動作について、図1を用いて説明する。図1にお
いて、外部テスト入力端子によりデータ読み出しテスト
のモードに設定されるとテストデコード回路228によ
り、DRAMテスト信号が、Highレベルに設定され
るため、セレクタ201〜セレクタ208でB入力が選
択される。従って、クロック(2)には、外部入力端子
(1)が入力され、/セルフリフレッシュ制御信号
(2)には、外部入力端子(2)が入力され、/オート
リフレッシュ制御信号(2)には、外部入力端子(3)
が入力され、/行選択制御信号(2)には、外部入力端
子(4)が入力され、/列選択制御信号(2)には、外
部入力端子(5)が入力され、/ライト制御信号(2)
には外部入力端子(6)が入力され、行アドレス2と列
アドレス(2)には共に外部入力端子(7)が入力され
る。First, an operation of selecting an input signal during a data read test will be described with reference to FIG. In FIG. 1, when the data read test mode is set by the external test input terminal, the DRAM test signal is set to the high level by the test decode circuit 228, so that the selector 201 to the selector 208 select the B input. . Therefore, the external input terminal (1) is input to the clock (2), the external input terminal (2) is input to the / self-refresh control signal (2), and the / auto-refresh control signal (2) is input to the / auto-refresh control signal (2). , External input terminal (3)
, An external input terminal (4) is input to the / row selection control signal (2), an external input terminal (5) is input to the / column selection control signal (2), and a / write control signal (2)
, An external input terminal (6) is input, and an external input terminal (7) is input to both the row address 2 and the column address (2).
【0016】ここで、DRAMのアドレス入力として、
行アドレス(2)及び列アドレス(2)は共に外部入力
端子(7)からの入力となるが、これはテスト時の外部
端子数を減らすために共用しているものであり、行アド
レスと列アドレスを多重化した信号を外部入力端子
(7)に与え、DRAM2内で行アドレスと列アドレス
に分離している。Here, as an address input of the DRAM,
The row address (2) and the column address (2) are both input from the external input terminal (7), which are shared in order to reduce the number of external terminals at the time of the test. A multiplexed address signal is supplied to an external input terminal (7), and is separated into a row address and a column address in the DRAM 2.
【0017】図1及び図2及び図4のタイミングチャー
トを使ってDRAM2のテスト時の読み出し動作を説明
する。The read operation at the time of testing the DRAM 2 will be described with reference to the timing charts of FIGS. 1, 2 and 4.
【0018】DRAM2のデータ読み出しテスト時のペ
ージモードでの読み出し動作について、図4のタイミン
グチャート及び図1、図2を参照して説明する。図4の
時間t0において、/セルフリフレッシュ制御信号
(2)がHighレベルであるので、後述するがセルフ
リフレッシュ回路の出力である内部セルフリフレッシュ
制御信号は、Lowレベル、/オートリフレッシュ制御
信号(2)を図1のDFF215によりクロック(2)
で同期化した信号内部オートリフレッシュ制御信号がL
owレベル、/行選択制御信号(2)を図1のDFF2
16によりクロック(2)で同期化した信号内部行選択
制御信号がLowレベルであるため、OR回路222の
出力である行選択制御信号がLowレベルになり、Pc
hトランジスタT01〜T0(2m)、T11〜T1(2
m)、T21〜T2(2m)がONして、ビット線(1)
〜2m、/ビット線(1)〜2mが1/2Vddにプリ
チャージ、イコライズされる。A read operation in the page mode during a data read test of the DRAM 2 will be described with reference to a timing chart of FIG. 4 and FIGS. At time t0 in FIG. 4, since the / self-refresh control signal (2) is at the high level, the internal self-refresh control signal which is the output of the self-refresh circuit is at the low level and the / auto-refresh control signal (2), as will be described later. Is clocked by the DFF 215 of FIG.
The internal auto-refresh control signal synchronized with
ow level // row selection control signal (2) to DFF2 in FIG.
16, the internal row selection control signal synchronized by the clock (2) is at the low level, so that the row selection control signal output from the OR circuit 222 is at the low level, and Pc
h transistors T01 to T0 (2 m), T11 to T1 (2
m), T21 and T2 (2m) are turned on, and the bit line (1)
22 m, / bit lines (1) 〜2 m are precharged and equalized to V Vdd.
【0019】図4の時間t1において、行選択制御信号
(2)がHighレベルよりLowレベルに立ち下がる
と、行選択制御信号がLowレベルよりHighレベル
に立ち上がり、PchトランジスタT01〜T0(2
m)、T11〜T1(2m)、T21〜T2(2m)がOF
Fして、ビット線(1)〜2m、/ビット線(1)〜2
mのプリチャージ、イコライズが停止され、時間t1の
クロック(2)の立ち上がりで、インバータ214の出
力信号である行アドレスラッチ225のラッチイネーブ
ル信号がHighレベルであるため、行アドレスラッチ
225は、行アドレス(2)をクロック(2)によりラ
ッチし、行アドレスを出力する。内部セルフリフレッシ
ュ制御信号、内部オートリフレッシュ制御信号がLow
レベルであるので、NOR回路221の出力である/内
部リフレッシュ制御信号がHighレベルになり、セレ
クタ229のB入力である行アドレス(3)が選択さ
れ、行アドレスに出力される。At time t1 in FIG. 4, when the row selection control signal (2) falls from the High level to the Low level, the row selection control signal rises from the Low level to the High level, and the Pch transistors T01 to T0 (2
m), T11-T1 (2m), T21-T2 (2m) are OF
F, bit lines (1) to 2 m, / bit lines (1) to 2
m, the precharge and equalization are stopped, and at the rising edge of the clock (2) at time t1, the latch enable signal of the row address latch 225, which is the output signal of the inverter 214, is at the high level. The address (2) is latched by the clock (2) and a row address is output. Internal self-refresh control signal and internal auto-refresh control signal are Low
Therefore, the output of the NOR circuit 221 / the internal refresh control signal becomes High level, and the row address (3) which is the B input of the selector 229 is selected and output to the row address.
【0020】図2において、行選択回路301は、行選
択制御信号がHighレベルなので、行アドレスにより
選択された行線WLnがHighレベルになり、遅延回
路(2)−303によりセンスアンプイネーブルが、時
間t1より遅延してHighレベルになり、センスアン
プSA1〜SA2mが活性化され、WLnに接続された
メモリセルのデータが、ビット線(1)〜2m、/ビッ
ト線(1)〜2mに読み出されて、センスアンプSA1
〜SA2mで差動増幅される。In FIG. 2, since the row selection control signal is at the high level, the row line WLn selected by the row address goes to the high level, and the delay circuit (2) -303 enables the sense amplifier enable. The level goes high after a delay from time t1, the sense amplifiers SA1 to SA2m are activated, and the data of the memory cell connected to WLn is read to bit lines (1) to 2m and / bit lines (1) to 2m. Issued and sense amplifier SA1
SASA2m.
【0021】/内部リフレッシュ制御信号がHighレ
ベルのため行選択制御信号がHighレベルになり、本
実施の形態では、行アドレスの中の1ビットである行ア
ドレス(0)をLowレベルとするため、AND回路30
6の出力であるゲートイネーブル(0)が図4に示した
ように、行選択制御信号の立ち上がりより、遅延回路
(3)−304の遅延時間遅れてHighレベルにな
り、AND回路307の出力であるゲートイネーブル
(1)がLowレベルであるため、奇数番目のトランジ
スタTG01、TG11、TG03、TG13、TG0
5、TG15・・・・・TG0(2m−1)、TG1(2m−
1)がオンして、奇数番目のセンスアンプS1、S3、
S5・・・・・S(2m−1)の出力がメインアンプMA1
〜MAmに入力され、センスアンプの出力であるメイン
ビット線と/メインビット線の電圧の差が大きくなった
時点で、メインアンプMA1〜MAmの差動増幅が開始
して、図4に示したようにメインアンプMA1〜MAm
よりMOUT1〜MOUTmが出力される。Since the internal refresh control signal is at the high level, the row selection control signal is at the high level. In this embodiment, the row address (0), which is one bit in the row address, is at the low level. AND circuit 30
As shown in FIG. 4, the gate enable (0), which is the output of the output of the AND circuit 307, becomes High level with the delay time of the delay circuit (3) -304 delayed from the rise of the row selection control signal. Since a certain gate enable (1) is at a low level, the odd-numbered transistors TG01, TG11, TG03, TG13, TG0
5, TG15 ... TG0 (2m-1), TG1 (2m-
1) is turned on, and the odd-numbered sense amplifiers S1, S3,
S5: The output of S (2m-1) is the main amplifier MA1
When the voltage difference between the main bit line and the / main bit line, which are input to 〜MAm and output from the sense amplifier, becomes large, the differential amplification of the main amplifiers MA1 to MAm starts, as shown in FIG. So that the main amplifiers MA1 to MAm
Thus, MOUT1 to MOUTm are output.
【0022】時間t2において、行選択制御信号
(2)、列選択制御信号(2)ともLowレベルのた
め、図1のインバータ211、212の出力がHigh
レベルになるため、ANDゲート219の出力がHig
hレベルになるため、列アドレスラッチ226がラッチ
イネーブルになり、時間t2において、クロックの立ち
上がりで列アドレス(2)がラッチされ、列アドレスが
出力される。同じように、バイトアドレスラッチ227
もクロックの立ち上がりでバイトアドレス(1)をラッ
チして、バイトアドレスを出力する。図2に示したよう
に、列選択回路302で、MOUT1〜MOUTmのm
ビットのデータより列アドレス(3)により、選択され
た8kビットのデータ出力信号がデータ選択回路308
に出力され、データ選択回路308により、8kビット
のデータ出力信号の中からバイトアドレスにより8ビッ
トのテストデータが選択されて、テストデータ(7:0)
として出力される。前記テストデータ(7:0)のうちテ
ストデータ(7:1)は、セレクタ309に出力され、テ
ストデータ(0)は、セレクタ312に出力される。D
RAMテスト信号が、Highレベルのため、インバー
タ314の出力がLowレベルになるため、セレクタ3
09はA入力であるテストデータ(7:1)が、トライス
テートバッファ310に出力される。時間t2におい
て、/行選択制御信号(2)及び/列選択制御信号
(2)がLowレベル、/ライト制御信号2がHigh
レベルであるからAND回路220がHighレベルに
なるため、前記AND回路220の出力とクロック
(2)によりタイミング生成回路223は、図4に示し
たようなタイミングで出力制御信号をHighレベルに
する。出力制御信号がHighレベル、インバータ31
4の出力がLowレベルであるためOR回路315の出
力であるIO制御信号(1)がHighレベルになり、
テストデータ(7:1)が外部入出力端子(7:1)に出
力される。At time t2, since both the row selection control signal (2) and the column selection control signal (2) are at the low level, the outputs of the inverters 211 and 212 in FIG.
Level, the output of the AND gate 219 becomes High.
Since the level becomes the h level, the column address latch 226 is latch-enabled, and at time t2, the column address (2) is latched at the rising edge of the clock, and the column address is output. Similarly, byte address latch 227
Also latches the byte address (1) at the rise of the clock and outputs the byte address. As shown in FIG. 2, the column selection circuit 302 outputs m of MOUT1 to MOUTm.
The data output signal of 8k bits selected by the column address (3) from the bit data is output to the data selection circuit 308.
And the data selection circuit 308 selects the 8-bit test data from the 8 k-bit data output signal based on the byte address, and outputs the test data (7: 0).
Is output as The test data (7: 1) of the test data (7: 0) is output to the selector 309, and the test data (0) is output to the selector 312. D
Since the RAM test signal is at a high level, the output of the inverter 314 is at a low level.
Reference numeral 09 denotes the A-input test data (7: 1) which is output to the tri-state buffer 310. At time t2, the / row selection control signal (2) and the / column selection control signal (2) are at the low level, and the / write control signal 2 is at the high level.
Since the level is at the high level, the AND circuit 220 goes to the high level, and the timing generation circuit 223 sets the output control signal to the high level at the timing shown in FIG. 4 by the output of the AND circuit 220 and the clock (2). Output control signal is High level, inverter 31
4 is at a low level, the IO control signal (1) output from the OR circuit 315 becomes a high level,
The test data (7: 1) is output to the external input / output terminal (7: 1).
【0023】セルフテスト信号がLowレベルのため、
セレクタ312はA入力であるテストデータ(0)をセ
レクタ313に出力する。インバータ314の出力がL
owレベルになるため、セレクタ313はA入力である
セレクタ312の出力であるテストデータ(0)をトラ
イステートバッファ317に出力する。前述したよう
に、IO制御信号(1)がHighレベル、セルフテス
ト信号がLowレベルのためOR回路316の出力であ
るIO制御信号(0)がHighレベルになるため、テ
ストデータ(0)が外部入出力端子(0)に出力され
る。テストデータ(7:0)は、外部入出力端子(7:
0)に図4に示したようなタイミングで出力される。Since the self test signal is at a low level,
The selector 312 outputs test data (0), which is an A input, to the selector 313. The output of inverter 314 is L
Since the level becomes the low level, the selector 313 outputs the test data (0), which is the output of the selector 312, which is the A input, to the tri-state buffer 317. As described above, since the IO control signal (1) is at the high level and the self-test signal is at the low level, the IO control signal (0) output from the OR circuit 316 is at the high level. Output to the input / output terminal (0). The test data (7: 0) is supplied to an external input / output terminal (7:
0) is output at the timing shown in FIG.
【0024】時間t3、t4、t5においても時間t2
の時と同じようにクロック(2)の立ち上がりにおい
て、/行選択制御信号(2)及び/列選択制御信号
(2)ともLowレベルであり、/ライトイネーブル信
号がHighレベルであるから、前述したようにクロッ
クの立ち上がりで、ラッチした列アドレスとバイトアド
レスで選択されたメモリセルのデータを図4のタイミン
グチャートに示したように順番に外部入出力端子(7:
0)に読み出す。時間t6において、/行選択制御信号
(2)及び/列選択制御信号(2)がHighレベルの
ため、AND回路220の出力がLowレベルになるた
め出力制御信号がLowレベルになり、IO制御信号
(0),(1)がLowレベルになるため、外部入出力
端子(7:0)の出力が、ハイインピーダンスになる。At times t3, t4 and t5, time t2
At the rise of the clock (2), the / row selection control signal (2) and the / column selection control signal (2) are both at the low level and the / write enable signal is at the high level, as in the case of (1). As shown in the timing chart of FIG. 4, the data of the memory cell selected by the latched column address and byte address are sequentially output to the external input / output terminals (7:
Read it out to 0). At time t6, since the / row selection control signal (2) and / column selection control signal (2) are at the high level, the output of the AND circuit 220 goes to the low level, so that the output control signal goes to the low level, and the IO control signal Since (0) and (1) become Low level, the output of the external input / output terminal (7: 0) becomes high impedance.
【0025】次に、セルフリフレッシュ動作をテストす
るためのセルフテスト時の動作を以下に説明する。ま
ず、図3のセルフリフレッシュ回路の動作を図5のタイ
ミングチャートを使って説明する。Next, the operation at the time of the self test for testing the self refresh operation will be described below. First, the operation of the self-refresh circuit of FIG. 3 will be described with reference to the timing chart of FIG.
【0026】時刻0〜t0の期間において、外部入力端
子により、/行選択制御信号(2)、/オートリフレッ
シュ制御信号(2)を“H”に初期設定し、かつ、/セ
ルフリフレッシュ制御信号(2)を“H”にして供給す
ると、セルフリフレッシュ制御信号が“H”になり、N
AND回路257の一方の入力が“L”になるのでその
出力である信号S4が“H”に、かつPMOSトランジ
スタ254がONしてインバータ11の入力である信号
S1が“H”になる。したがって、発振用コンデンサ2
59、260の両端の信号S0と信号S3とが強制的に
“H”、つまり電源電圧Vddに初期化されて発振が停
止される。また、セルフリフレッシュ制御信号が“L”
なので、2分周器268,269、270の出力である
分周クロックCLK2,CLK4、CLK8はいずれも
“L”に初期化される。During a period from time 0 to t0, the / row selection control signal (2) and the / auto refresh control signal (2) are initialized to "H" by the external input terminal, and the / self refresh control signal (/ 2) When “H” is supplied, the self-refresh control signal becomes “H” and N
Since one input of the AND circuit 257 becomes "L", the output signal S4 thereof becomes "H", and the PMOS transistor 254 turns on, so that the signal S1 of the input of the inverter 11 becomes "H". Therefore, the oscillation capacitor 2
The signals S0 and S3 at both ends of 59 and 260 are forcibly initialized to "H", that is, the power supply voltage Vdd, and the oscillation is stopped. When the self-refresh control signal is "L"
Therefore, the frequency-divided clocks CLK2, CLK4, and CLK8 output from the two-frequency dividers 268, 269, and 270 are all initialized to "L".
【0027】ここで、時刻t0において、外部入力端子
(2)によりセルフリフレッシュ制御信号を“H”にし
て供給すると、DRAM2はセルフリフレッシュモード
になる。この場合において、時刻t0における信号S3
の電位は“H”なので、時刻t0でNAND回路257
の一方の入力であるセルフリフレッシュ制御信号が
“H”になったことにより、NAND回路257の出力
である信号S4は“L”になる。このため、インバータ
267の出力である発振クロックCLK1が“L”から
“H”へと立ち上がるので、それぞれ2分周器268,
269、270の出力である分周クロックCLK2、C
LK4、CLK8が“L”から“H”へと立ち上がる。
したがって、時刻t0においてセルフリフレッシュ制御
信号が“L”から“H”へ立ち上がると、ヒューズ27
3が切断されてない状態では、セレクタ271のS入力
が“H”のため、CLK4が選択され、CKOに出力さ
れる。1ショットパルス発生回路274は、受け取った
分周クロックCLK4の立ち上がりに応じて1個のセッ
トパルスSETPを生成してセットリセット回路275
をセットする。そして、セットリセット回路275は、
生成したセットパルスSETPが遅延回路1−276に
よって遅延されたリセットパルスRSTPによってリセ
ットされる。このことにより、セットリセット回路27
5は、遅延回路(1)−276による遅延時間に等しい
所定のパルス幅を有するセルフ行選択制御信号を供給す
る。以下、セットリセット回路275は受け取ったセッ
トパルスSETPに応じて、分周クロックCLK4の周
期で内部セルフリフレッシュ制御信号を供給する。Here, at time t0, when the self-refresh control signal is set to "H" by the external input terminal (2) and supplied, the DRAM 2 enters the self-refresh mode. In this case, signal S3 at time t0
Of the NAND circuit 257 at time t0.
Signal S4, which is the output of NAND circuit 257, becomes "L" because the self-refresh control signal, which is one input of the self-refresh signal, becomes "H". Therefore, the oscillation clock CLK1 output from the inverter 267 rises from "L" to "H".
269, 270, the divided clocks CLK2, C
LK4 and CLK8 rise from "L" to "H".
Therefore, when the self-refresh control signal rises from “L” to “H” at time t0, fuse 27
In a state where 3 is not disconnected, CLK4 is selected and output to CKO since the S input of the selector 271 is "H". The one-shot pulse generation circuit 274 generates one set pulse SETP in response to the rising edge of the received divided clock CLK4 and generates a set / reset circuit 275.
Is set. Then, the set reset circuit 275
The generated set pulse SETP is reset by the reset pulse RSTP delayed by the delay circuit 1-276. As a result, the set / reset circuit 27
5 supplies a self row selection control signal having a predetermined pulse width equal to the delay time of the delay circuit (1) -276. Hereinafter, the set reset circuit 275 supplies an internal self-refresh control signal at the cycle of the divided clock CLK4 in accordance with the received set pulse SETP.
【0028】図1において、/オートリフレッシュ制御
信号(2)、/行選択制御信号(2)が“H”に初期設
定されていることから、DFF215、DFF216の
出力が“L”になるため、OR回路222の3入力のう
ち2入力“L”になる。したがって、OR回路222
は、内部セルフリフレッシュ制御信号を、そのまま行選
択制御信号として供給する。前記説明のように、時刻t
0において、内部セルフリフレッシュ制御信号が“H”
になるため、DRAM2は、1回目のリフレッシュ動作
を開始する。行選択制御信号が“H”になると、図3の
DRAM2は次のように動作する。すなわち、リフレッ
シュカウンタ224の出力である行アドレス(アドレス
値A)により選択されたワード線WLnに“H”が印加
され、そのワード線WLn上のすべてのメモリセルMN
1〜MN2mが選択され、2mペアのビット線,/ビッ
ト線に各メモリセルMN1〜MN2mのデータが微小信
号として読み出される。そして、その微小信号が2m個
のセンスアンプSA1〜SA2mによってそれぞれ差動
増幅され、増幅された信号によって各メモリセル80に
データが再書き込みされる。このことによって、1本の
ワード線WLnに対してリフレッシュ動作が行われる。In FIG. 1, since the / auto refresh control signal (2) and the / row selection control signal (2) are initially set to "H", the outputs of the DFFs 215 and 216 become "L". Two of the three inputs of the OR circuit 222 become “L”. Therefore, the OR circuit 222
Supplies the internal self-refresh control signal as it is as a row selection control signal. As described above, the time t
0, the internal self-refresh control signal is "H"
, The DRAM 2 starts the first refresh operation. When the row selection control signal becomes "H", the DRAM 2 of FIG. 3 operates as follows. That is, “H” is applied to the word line WLn selected by the row address (address value A) output from the refresh counter 224, and all the memory cells MN on the word line WLn are applied.
1 to MN2m are selected, and the data of each of the memory cells MN1 to MN2m is read out as a minute signal to the 2m pair of bit lines and / bit lines. Then, the minute signal is differentially amplified by each of the 2m sense amplifiers SA1 to SA2m, and data is rewritten in each memory cell 80 by the amplified signal. Thus, a refresh operation is performed on one word line WLn.
【0029】以下、発振回路251の動作を、図5を参
照して説明する。図3の発振回路251においては、図
3の時刻t0で、PMOSトランジスタ254がOFF
するので信号C1は電源電圧Vddから切り離された状
態になり、かつ、信号S4が“L”になるので、発振用
コンデンサC1、C2は放電を開始する。したがって、
信号S0の信号レベルは、電源電圧Vddから発振用抵
抗R1(抵抗値R)と発振用コンデンサC1、C2(合
計容量C)との時定数RCに従って低下して、時刻t1
でインバータ255のスレッショルド電圧Vthに等し
くなる。つまり、時刻t1において、インバータ255
の出力である信号S2は“L”から“H”へ、インバー
タ256の出力である信号S3は“H”から“L”へと
それぞれ反転する。これにより、信号S0の信号レベル
が−Vthに変化し、かつ、NAND回路14の出力で
ある信号S4は“L”から“H”、つまり、Vddへと
反転する。したがって、時刻t1から、発振用コンデン
サC1、C2は充電を開始する。そして、信号S0の信
号レベルは、時定数RCに従って上昇し、時刻t2でス
レッショルド電圧Vthになるので、インバータ255
の出力である信号S2は“H”から“L”へ、インバー
タ256の出力である信号S3は“L”から“H”へと
それぞれ反転する。これにより、信号S0の信号レベル
がVdd+Vthに変化し、かつ、NAND回路257
の出力である信号S4は“H”から“L”、つまり、0
Vへと反転する。したがって、時刻t2から、発振用コ
ンデンサC1は放電を開始する。ここで、信号S1の信
号レベルは、図5に示すように、信号S0の信号レベル
に対して保護ダイオード252,253の順方向電圧V
fを加算した電位でクランプされる。Hereinafter, the operation of the oscillation circuit 251 will be described with reference to FIG. In the oscillation circuit 251 of FIG. 3, the PMOS transistor 254 is turned off at time t0 of FIG.
As a result, the signal C1 is disconnected from the power supply voltage Vdd, and the signal S4 becomes "L", so that the oscillation capacitors C1 and C2 start discharging. Therefore,
The signal level of the signal S0 decreases from the power supply voltage Vdd according to the time constant RC of the oscillation resistor R1 (resistance value R) and the oscillation capacitors C1 and C2 (total capacitance C), and the time t1
And becomes equal to the threshold voltage Vth of the inverter 255. That is, at time t1, the inverter 255
Is inverted from "L" to "H", and the signal S3 output from the inverter 256 is inverted from "H" to "L". As a result, the signal level of the signal S0 changes to −Vth, and the signal S4 output from the NAND circuit 14 is inverted from “L” to “H”, that is, Vdd. Therefore, from time t1, the oscillation capacitors C1 and C2 start charging. Then, the signal level of signal S0 rises according to time constant RC, and reaches threshold voltage Vth at time t2.
Is inverted from "H" to "L", and the signal S3 output from the inverter 256 is inverted from "L" to "H". As a result, the signal level of signal S0 changes to Vdd + Vth, and NAND circuit 257
Is output from "H" to "L", that is, 0.
Invert to V. Therefore, from time t2, the oscillation capacitor C1 starts discharging. Here, as shown in FIG. 5, the signal level of the signal S1 is different from the signal level of the signal S0 by the forward voltage V of the protection diodes 252 and 253.
It is clamped at the potential obtained by adding f.
【0030】発振回路10は、以上のような発振動作を
繰り返して、図5に示すように、時定数RCに従って決
定された周期で発振クロックCLK1を供給する。した
がって、発振回路10が時刻t1で発振を開始してから
期間T1経過後の時刻t3において、2分周器269か
ら出力される分周クロックCLK4が立ち上がる。この
ため、時刻t3において、1ショットパルス発生回路2
74はセットリセット回路275をセットし、かつ、セ
ットリセット回路275の出力である内部セルフリフレ
ッシュ制御信号が立ち上がる。これにより、DRAM2
は、時刻t3において、内部セルフリフレッシュ制御信
号つまり行選択制御信号によって2回目のリフレッシュ
動作を開始する。この時、図5に示したように、リフレ
ッシュカウンタ224のカウント値が、時刻t0のAか
らA+1にカウントアップされ、ワード線Wn+1に対
するリフレッシュ動作が行れる。その後、時刻t3から
期間T2経過後の時刻t4において、2分周器269か
ら出力される分周クロックCLK4が立ち上がり、前記
説明のように、行選択制御信号によって3回目のリフレ
ッシュ動作を開始する。その後は、外部入力端子(2)
によりセルフリフレッシュ制御信号が“L”に設定され
るまで時刻t4よりT2間隔でリフレッシュ動作を繰り
返し行う。セルフテスト時、前記説明のように内部セル
フリフレッシュ制御信号が行選択制御信号に出力され、
外部入出力端子(0)に行選択制御信号が出力されてい
るが、その動作を図2を用いて説明する。図2におい
て、行選択制御信号が、セレクタ312に入力される。
セルフテスト信号が、“H”であるから、セレクタ31
2により行選択制御信号が出力され、セレクタ313に
入力される。DRAMテスト信号が、“H”であるから
セレクタ313でA入力が選択されるため、トライステ
ートバッファ317に行選択制御信号が入力され、セル
フテスト信号が“H”のため、IO制御信号(1)が、
“H”になり行選択制御信号が、外部入出力端子(0)
に出力される。The oscillating circuit 10 repeats the above oscillating operation and supplies the oscillating clock CLK1 at a cycle determined according to the time constant RC, as shown in FIG. Therefore, at time t3 after the elapse of the period T1 after the oscillation circuit 10 starts oscillating at time t1, the frequency-divided clock CLK4 output from the two-frequency divider 269 rises. Therefore, at time t3, the one-shot pulse generation circuit 2
Reference numeral 74 sets the set / reset circuit 275, and the internal self-refresh control signal output from the set / reset circuit 275 rises. Thereby, the DRAM 2
Starts a second refresh operation at time t3 by an internal self-refresh control signal, that is, a row selection control signal. At this time, as shown in FIG. 5, the count value of the refresh counter 224 is counted up from A at time t0 to A + 1, and the refresh operation for the word line Wn + 1 is performed. Thereafter, at time t4 after a lapse of the period T2 from time t3, the frequency-divided clock CLK4 output from the frequency divider 269 rises, and the third refresh operation is started by the row selection control signal as described above. After that, the external input terminal (2)
Until the self-refresh control signal is set to "L", the refresh operation is repeated at intervals of T2 from time t4. At the time of the self-test, the internal self-refresh control signal is output as the row selection control signal as described above,
The row selection control signal is output to the external input / output terminal (0). The operation will be described with reference to FIG. In FIG. 2, a row selection control signal is input to a selector 312.
Since the self test signal is “H”, the selector 31
2, a row selection control signal is output and input to the selector 313. Since the DRAM test signal is "H", the input A is selected by the selector 313. Therefore, the row selection control signal is input to the tri-state buffer 317. Since the self test signal is "H", the IO control signal (1 )But,
"H" and the row selection control signal is applied to the external input / output terminal (0)
Is output to
【0031】以上のように本実施の形態によれば、図2
で説明したように、外部テスト入力端子により、半導体
装置1をDRAM2のセルフリフレッシュテストモード
に設定すれば、行選択信号を外部入出力端子(0)に出
力することができるため、セルフリフレッシュテスト時
に外部入出力端子(0)の信号によりセルフリフレッシ
ュ周期を測定することで、周期がトリミングで救済でき
ない範囲であれば、不良品と判定し、救済できる範囲で
あれば、以下のような方法で不良品の救済ができ、短時
間でセルフリフレッシュ回路250のテストを行うこと
ができる。According to the present embodiment as described above, FIG.
As described above, if the semiconductor device 1 is set to the self-refresh test mode of the DRAM 2 by the external test input terminal, the row selection signal can be output to the external input / output terminal (0). By measuring the self-refresh cycle using the signal of the external input / output terminal (0), if the cycle cannot be remedied by trimming, it is determined to be defective. Good products can be relieved, and the test of the self-refresh circuit 250 can be performed in a short time.
【0032】セルフリフレッシュ周期が規格より長い場
合は、図3のヒューズ264を切断することで、CLK
1の発振周期を短くすることで、セルフリフレッシュ周
期を短くすることで、周期を規格内に入れることができ
る。また、セルフリフレッシュ周期が規格より短い場合
は、図3のヒューズ265またはヒューズ266を切断
することでCLK1の発振周期を長くしてセルフリフレ
ッシュ周期を長くする方法か、ヒューズ273を切断す
ることで、セレクタ271のS入力を“L”に設定し
て、CLK8を選択することでセルフリフレッシュ周期
を長く方法のいずれかを選択して、リフレッシュ周期を
規格内にいれることができる。 また、セルフリフレッ
シュ周期が規格内に入っている場合でも、セルフリフレ
ッシュ時の電流値が最小になるよう周期の設定を規格の
最大にトリミングすることもできる。さらに、セルフリ
フレッシュテスト時に外部入出力端子(0)の信号によ
りパルス幅を測定することで、パルス幅がトリミングで
救済できない範囲であれば、不良品と判定し、救済でき
る範囲であれば、図3の第1の遅延回路276の遅延値
をトリミングにより救済する。If the self-refresh cycle is longer than the standard, the fuse 264 shown in FIG.
By shortening the oscillation cycle of No. 1 and shortening the self-refresh cycle, the cycle can be within the standard. If the self-refresh cycle is shorter than the standard, the self-refresh cycle may be lengthened by cutting the fuse 265 or the fuse 266 in FIG. 3 to increase the oscillation cycle of CLK1, or by cutting the fuse 273. By setting the S input of the selector 271 to "L" and selecting CLK8, the self-refresh cycle can be lengthened and any one of the methods can be selected, and the refresh cycle can be within the standard. Even when the self-refresh cycle is within the standard, the cycle setting can be trimmed to the maximum of the standard so that the current value at the time of the self-refresh is minimized. Further, by measuring the pulse width by the signal of the external input / output terminal (0) during the self-refresh test, if the pulse width is in a range that cannot be remedied by trimming, it is determined to be a defective product. The delay value of the first delay circuit 276 is relieved by trimming.
【0033】図2で説明したように、DRAM2のデー
タ読み出しテスト時にテストデータ0を出力する外部入
出力端子(0)に、セルフリフレッシュテスト時、行選
択制御信号を出力する回路構成にして、テストデータ
(0)と行選択制御信号で外部入出力端子(0)を兼用
することで、DRAMテスト時の外部端子の数を削減す
ることができる。As described with reference to FIG. 2, the circuit configuration for outputting a row selection control signal at the time of a self-refresh test to the external input / output terminal (0) for outputting test data 0 at the data read test of the DRAM 2 By sharing the external input / output terminal (0) with the data (0) and the row selection control signal, the number of external terminals during the DRAM test can be reduced.
【0034】[0034]
【発明の効果】本発明によれば、メモリとロジック回路
とが1チップ化された半導体装置であって、セルフリフ
レッシュ制御信号が入力されると、一定の周期を有する
発振クロックを供給するための発振手段と、前記発振ク
ロックに基づいて、メモリセルをリフレッシュするため
の内部セルフリフレッシュ制御信号を供給するための信
号生成手段と、前記内部セルフリフレッシュ制御信号を
外部端子に出力する信号出力手段とを備えることによ
り、前記外部端子の信号の周期とパルス幅を測定する方
法により、前記発振手段及び前記信号生成手段で構成さ
れるセルフリフレッシュ回路をテストできるようにし
た。According to the present invention, there is provided a semiconductor device in which a memory and a logic circuit are integrated into one chip, and for supplying an oscillation clock having a fixed cycle when a self-refresh control signal is input. Oscillating means, signal generating means for supplying an internal self-refresh control signal for refreshing a memory cell based on the oscillation clock, and signal output means for outputting the internal self-refresh control signal to an external terminal. With this configuration, the self-refresh circuit including the oscillation unit and the signal generation unit can be tested by the method of measuring the period and pulse width of the signal of the external terminal.
【0035】これにより、前記セルフリフレッシュ回路
のテストを短時間で行うことができ、トリミングによる
セルフリフレッシュ周期の最適化及び不良品の救済を行
うことができる半導体装置を実現できる。As a result, a test of the self-refresh circuit can be performed in a short time, and a semiconductor device capable of optimizing a self-refresh cycle by trimming and relieving a defective product can be realized.
【0036】また、本発明によれば、信号出力手段は、
メモリからのデータ読み出しテスト時は、テストデータ
を外部端子に出力し、セルフリフレッシュテスト時は、
前記内部セルフリフレッシュ制御信号を外部端子に出力
する回路構成にすることで、DRAMテスト用の外部端
子を増やすことなくセルフリフレッシュのテストを行う
ことができる。According to the present invention, the signal output means includes:
At the time of the data read test from the memory, the test data is output to the external terminal. At the time of the self refresh test,
By employing a circuit configuration for outputting the internal self-refresh control signal to an external terminal, a self-refresh test can be performed without increasing the number of external terminals for a DRAM test.
【図1】本発明に係る半導体装置の構成図FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor device according to the present invention.
【図2】本発明に係る半導体装置におけるメモリセルア
レイ及びその周辺回路の構成図FIG. 2 is a configuration diagram of a memory cell array and its peripheral circuits in a semiconductor device according to the present invention.
【図3】本発明に係る半導体装置におけるセルフリフレ
ッシュ回路の構成図FIG. 3 is a configuration diagram of a self-refresh circuit in the semiconductor device according to the present invention;
【図4】DRAMのデータ読み出しテスト時のページモ
ードでの読み出しタイミングチャートFIG. 4 is a read timing chart in a page mode during a data read test of a DRAM.
【図5】DRAMのセルフリフレッシュテスト時の動作
タイミングチャートFIG. 5 is an operation timing chart at the time of a DRAM self-refresh test.
1 半導体装置 2 DRAM 3 メモリセルアレイ及び周辺回路 4 ロジック部 201〜208、229 セレクタ 210〜214、230、231 インバータ 215〜218 Dフリップフロップ 219 2入力AND回路 220 3入力AND回路 221、232 2入力OR回路 222 3入力OR回路 223 タイミング生成回路 224 リフレッシュカウンタ 225 行アドレスラッチ 226 列アドレスラッチ 227 バイトアドレスラッチ 228 テストデコード回路 250 セルフリフレッシュ回路 251 発振回路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor device 2 DRAM 3 Memory cell array and peripheral circuit 4 Logic part 201-208, 229 Selector 210-214, 230, 231 Inverter 215-218 D flip-flop 219 2-input AND circuit 220 3-input AND circuit 221 232 2-input OR Circuit 222 Three-input OR circuit 223 Timing generation circuit 224 Refresh counter 225 Row address latch 226 Column address latch 227 Byte address latch 228 Test decode circuit 250 Self-refresh circuit 251 Oscillator circuit
Claims (2)
ルを有するメモリと、 セルフリフレッシュ制御信号が入力されると、一定の周
期を有する発振クロックを供給するための発振手段と、
前記発振クロックに基づいて、前記メモリセルをリフレ
ッシュするための内部セルフリフレッシュ制御信号を供
給するための信号生成手段と、前記内部セルフリフレッ
シュ制御信号を外部端子に出力する信号出力手段とを備
えることを特徴とする半導体装置。1. A semiconductor device integrated into one chip, comprising: a memory having a memory cell requiring refresh for storing data; and an oscillation clock having a constant cycle when a self-refresh control signal is inputted. Oscillating means for supplying
Signal generating means for supplying an internal self-refresh control signal for refreshing the memory cell based on the oscillation clock, and signal output means for outputting the internal self-refresh control signal to an external terminal. Characteristic semiconductor device.
ト時は、テストデータを外部端子に出力し、セルフリフ
レッシュテスト時は、前記内部セルフリフレッシュ制御
信号を外部端子に出力することを特徴とする半導体装
置。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein said signal output means outputs test data to an external terminal during a data read test from a memory, and said internal self refresh control signal during a self refresh test. Output to an external terminal.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1998
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