JPH11340121A - Exposure equipment - Google Patents

Exposure equipment

Info

Publication number
JPH11340121A
JPH11340121A JP10144161A JP14416198A JPH11340121A JP H11340121 A JPH11340121 A JP H11340121A JP 10144161 A JP10144161 A JP 10144161A JP 14416198 A JP14416198 A JP 14416198A JP H11340121 A JPH11340121 A JP H11340121A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
stage
arm
cassette
control unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10144161A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3449220B2 (en
Inventor
Teruo Kikuchi
輝夫 菊地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK, Ushio Inc filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP14416198A priority Critical patent/JP3449220B2/en
Publication of JPH11340121A publication Critical patent/JPH11340121A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3449220B2 publication Critical patent/JP3449220B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 2本のアームを有するワーク搬送機構を用い
てワークを搬送し、粗アライメント、露光処理を行う露
光装置のスループットを向上させること。 【解決手段】 複数のワークを収納したカセットステー
ジCSから、ワーク搬送機構RAによりワークを取り出
し、粗アライメント部FAで粗アライメントを行い、ワ
ークステージWSに搬送してワーク露光処理を行う。ワ
ークステージWSでは、予めマスクアライメントマーク
の位置を検出・記憶しておき、ワークステージWSにワ
ークが搬入されると、上記検出・記憶したマスクアライ
メントマークと、ワークのアライメントマークとの位置
合わせを行って、露光処理を行う。その際、マスクアラ
イメントマークの検出・記憶を行っている時間に、ワー
クステージから取り出された処理済ワークを、カセット
ステージCSに収納する。これによりスループットを向
上させることができる。
(57) [PROBLEMS] To improve the throughput of an exposure apparatus that transports a workpiece using a workpiece transport mechanism having two arms and performs rough alignment and exposure processing. SOLUTION: A work is taken out from a cassette stage CS accommodating a plurality of works by a work transfer mechanism RA, coarsely aligned by a rough alignment unit FA, and transferred to a work stage WS to perform a work exposure process. In the work stage WS, the position of the mask alignment mark is detected and stored in advance, and when the work is carried into the work stage WS, the detected and stored mask alignment mark is aligned with the work alignment mark. Then, an exposure process is performed. At this time, the processed work taken out of the work stage is stored in the cassette stage CS while the mask alignment mark is being detected and stored. Thereby, the throughput can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体装置
やプリント基板、LCDの製造等に使用される露光装置
に関し、さらに詳細には、ワーク搬送機構により、ワー
クをワークカセットから取り出して、粗アライメントを
行ったのちワークステージに搬送して露光を行い、処理
済のワークをワークカセットに自動的に搬送するように
した露光装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus used for manufacturing, for example, a semiconductor device, a printed circuit board, an LCD, and the like. And then transporting the workpiece to a work stage for exposure, and automatically transporting the processed workpiece to a work cassette.

【0002】[0002]

【従来の技術】図1は、露光装置において、ワークの搬
送および露光処理工程を説明するための概略構成図であ
る。同図において、CSはカセットステージであり、複
数のワークを収納するワークカセットが載置されてい
る。また、RAはワーク搬送機構であり、ワーク搬送用
のアームを備え、ワークを真空吸着により保持し、ワー
クを露光装置の各構成部位(カセットステージCS、粗
アライメント部FA、ワークステージWS)に搬送す
る。FAは粗アライメント部であり、後述する精アライ
メント時にワークに印されたワークアライメントマーク
がアライメント用顕微鏡の視野内に入るように、上記ワ
ーク搬送機構RAのアームに対してワークの粗い位置合
せを行う。WSは、マスクに印されたマスクアライメン
トマークの検出とその位置の記憶処理を行った後に、マ
スクとワークの精アライメント及び露光処理を行うワー
クステージである。
2. Description of the Related Art FIG. 1 is a schematic configuration diagram for explaining a work transfer and an exposure processing step in an exposure apparatus. In the figure, CS is a cassette stage on which a work cassette for accommodating a plurality of works is placed. RA is a work transfer mechanism, which is provided with a work transfer arm, holds the work by vacuum suction, and transfers the work to each component of the exposure apparatus (cassette stage CS, coarse alignment unit FA, work stage WS). I do. FA is a rough alignment unit, which performs rough alignment of the work with respect to the arm of the work transfer mechanism RA so that the work alignment mark marked on the work at the time of fine alignment described later falls within the field of view of the alignment microscope. . WS is a work stage that performs fine alignment of the mask and the work and exposure processing after detecting a mask alignment mark marked on the mask and storing the position of the mark.

【0003】以下、ワークステージWS、粗アライメン
ト部FAでの作業の内容およびワーク搬送機構RA、上
記露光装置を制御する制御システムについて説明する。 (1)ワークステージWSでの処理 ワークステージWSは、回路パターン等のマスクパター
ンが形成されたマスクを介して、露光光をワークステー
ジ上に載置されたワークに照射し、ワーク上にマスクパ
ターンを転写する場所である。マスクパターンの転写
は、ワークのあらかじめ決められた位置に行わねばなら
ない。そこで、マスクの位置とワークの位置とを正確に
検出し位置合わせしておく必要がある。露光処理や周囲
の環境温度の変化によって装置の温度が変化すると、マ
スクアライメントマークの位置がずれ、露光精度に影響
することもあり、ワークの露光処理を行う前に、まず、
マスクのアライメントマークを検出し、その位置を記憶
する(以下この処理をマスクマーク検出・記憶処理PA
と呼ぶ)ことを行う。
Hereinafter, the work stage WS, the contents of the work in the rough alignment section FA, the work transport mechanism RA, and a control system for controlling the above-described exposure apparatus will be described. (1) Processing at Work Stage WS The work stage WS irradiates the work placed on the work stage with exposure light through a mask on which a mask pattern such as a circuit pattern is formed, and forms a mask pattern on the work. Is the place to transcribe. The transfer of the mask pattern must be performed at a predetermined position on the work. Therefore, it is necessary to accurately detect and position the position of the mask and the position of the work. If the temperature of the apparatus changes due to exposure processing or changes in the surrounding environmental temperature, the position of the mask alignment mark will shift, which may affect the exposure accuracy.Before performing the workpiece exposure processing, first,
A mask alignment mark is detected and its position is stored (hereinafter, this processing is referred to as a mask mark detection / storage processing PA
Call).

【0004】上記マスクアライメントマークの検出・記
憶処理PAは、特開平8−233529号公報、特開平
9−115812号公報に示したように、ワークステー
ジWS上にワークがない状態で行う。この処理に必要な
時間は、約10秒である。次に、ワークに設けられたワ
ークアライメントマークを、アライメント用顕微鏡を用
いて検出し、マスク及び/またはワークを移動させ、記
憶しているマスクアライメントマークとを重ね合わせる
という位置合わせ(精アライメント)を行う。その後、
露光処理を行う。この精アライメントと露光処理に必要
な時間は、普通約20秒である。
The mask alignment mark detection / storage processing PA is performed in a state where there is no work on the work stage WS, as shown in JP-A-8-233529 and JP-A-9-115812. The time required for this process is about 10 seconds. Next, a work alignment mark provided on the work is detected by using an alignment microscope, the mask and / or the work are moved, and the alignment (fine alignment) of overlapping the stored mask alignment mark is performed. Do. afterwards,
Perform exposure processing. The time required for this fine alignment and exposure processing is usually about 20 seconds.

【0005】(2)粗アライメント部FAでの処理 上記のマスクとワークとの精アライメントを行うために
は、ワークのアライメントマークが、アライメント用顕
微鏡の視野の中に入るように、ワークを、ワークステー
ジWSの所定の位置に載置しなければならない。そのた
めには、粗アライメント部FAにおいてあらかじめワー
クステージWSの位置に対するワークの位置を、おおよ
そ位置合わせしておき、その後ワークステージWSに搬
送する必要がある。即ち、ワーク搬送機構RAが、ワー
クを粗アライメント部FAからワークステージWSに搬
送した時、マスクアライメントマークとワークアライメ
ントマークとが一致した時のワークの位置を再現するよ
うに、ワークを粗アライメント部FAにより移動する。
このことにより、およその位置合わせができる。これを
粗アライメントという。
(2) Processing in Rough Alignment Section FA In order to perform fine alignment between the mask and the workpiece, the workpiece is positioned such that the alignment mark of the workpiece is within the field of view of the alignment microscope. It must be placed at a predetermined position on the stage WS. For this purpose, it is necessary to roughly align the position of the work with respect to the position of the work stage WS in the rough alignment section FA in advance, and then transport the work to the work stage WS. That is, when the work transfer mechanism RA transfers the work from the rough alignment unit FA to the work stage WS, the work is moved to the coarse alignment unit so as to reproduce the position of the work when the mask alignment mark and the work alignment mark match. Move by FA.
As a result, rough positioning can be performed. This is called coarse alignment.

【0006】粗アライメントは、ワークのエッジをピン
などに突き当てる方式、ワークのエッジを光センサ等に
より非接触にて検出する方式によって、エッジの位置情
報に基づき、ワークの周縁に設けられたオリエンテーシ
ョンフラットやノッチといった形状上の特異点を検出
し、その後、ワークを所定量回転し、また、ワーク中心
を前記したような位置に移動する、ということが行われ
る。粗アライメント部FAは、例えば、図2に示すよう
に、ワークWを載置し回転させる回転ステージRS、回
転ステージRSをXY(Xは例えば同図の左右方向、Y
は同図紙面の垂直方向)方向に移動させるXYステージ
XYS、回転中のワークWのエッジ検出するエッジ検出
センサES、検出したワークのエッジの位置情報からワ
ークWの中心と特異点(オリフラまたはノッチ等)の向
きを演算する制御部C1から構成される。
The rough alignment is performed by a method in which the edge of the work is abutted against a pin or the like, or a method in which the edge of the work is detected in a non-contact manner by an optical sensor or the like. A singular point on a shape such as a flat or a notch is detected, and thereafter, the work is rotated by a predetermined amount, and the center of the work is moved to the position described above. For example, as shown in FIG. 2, the coarse alignment unit FA mounts the rotation stage RS on which the work W is mounted and rotates, and the rotation stage RS with XY (X is, for example, the left-right direction in FIG.
Is an XY stage XYS that moves in the direction perpendicular to the plane of the drawing, an edge detection sensor ES that detects the edge of the rotating workpiece W, and the center of the workpiece W and a singular point (orifla or notch) based on the detected positional information of the edge of the workpiece. And the like, and a control unit C1 for calculating the direction of the control.

【0007】そして、粗アライメント時、制御部C1は
ワークWが載置された回転ステージRSを回転させ、エ
ッジ検出センサESにより検出されたワークWのエッジ
位置に基づき、オリフラまたはノッチを所定の方向に向
けるとともに、XYステージXYSを移動させ、ワーク
Wの中心をワークステージWSの所定の位置に対応する
位置に移動させる。この粗アライメントは以上のような
処理のために、粗アライメントに必要な時間は約25秒
である。
At the time of rough alignment, the controller C1 rotates the rotary stage RS on which the work W is mounted, and moves the orientation flat or the notch in a predetermined direction based on the edge position of the work W detected by the edge detection sensor ES. And the XY stage XYS is moved to move the center of the work W to a position corresponding to a predetermined position on the work stage WS. The time required for the rough alignment is approximately 25 seconds because of the above-described processing.

【0008】(3)ワーク搬送機構 ワーク搬送機構RAは、ワークを露光装置のカセットス
テージCS、粗アライメント部FA、ワークステージW
Sの各構成部位に搬送するロボットであり、ワークを保
持するためのアームが1本のもの、あるいは、2本のも
のを使用することができる。以下、1本のアームにより
ワークを保持するワーク搬送機構、2本のアームにより
ワークを保持するワーク搬送機構について説明する。
(3) Work transfer mechanism The work transfer mechanism RA transfers the work to the cassette stage CS, the rough alignment section FA, and the work stage W of the exposure apparatus.
It is a robot that conveys to each component of S, and can use a single arm or two arms for holding a work. Hereinafter, a work transfer mechanism that holds a work by one arm and a work transfer mechanism that holds a work by two arms will be described.

【0009】 1本のアームによりワークを保持する
ワーク搬送機構 図3は1本のアームによりワークを保持するワーク搬送
機構の一例を示す図である。ワーク搬送機構RAは同図
に示すように、ベースRA1上に回転可能に支持された
回転部RA2と、回転部RA2上で回転する第1のアー
ムRA3と、第1の関節部RA4で第1のアームRA3
に回転可能に取り付けられた第2のアームRA5と、第
2の関節部RA6で第2のアームRA5に回転可能に取
り付けられたワーク保持アームRA7とを備えており、
ワーク保持アームRA7に先端には、ワークを真空吸着
等により保持するワーク保持部RA8が設けられてい
る。
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a work transfer mechanism that holds a work with one arm. As shown in the figure, the work transfer mechanism RA includes a rotating part RA2 rotatably supported on a base RA1, a first arm RA3 rotating on the rotating part RA2, and a first joint RA4. Arm RA3
A second arm RA5 rotatably mounted on the second arm RA5, and a work holding arm RA7 rotatably mounted on the second arm RA5 at the second joint RA6.
The work holding arm RA7 is provided at the tip thereof with a work holding part RA8 for holding the work by vacuum suction or the like.

【0010】第1のアームRA3、第2のアームRA5
は、図4(a)(b)に示すように折れ曲がり、これに
より、ワーク保持アームRA7は、回転軸aを原点とし
て、同図の矢印方向に移動する。また、回転部RA2を
回転させることにより、ワーク保持アームRA7の向き
は図4(c)に示すように変わる。すなわち、ワーク搬
送機構RAのワーク保持アームRA7は、回転部RA2
の軸aを中心として回転するとともに、軸aを原点とし
て放射方向に移動し、ワーク保持部RA8で保持したワ
ークを搬送する。また、ベースRA1は回転部RA2を
上下方向に移動させる機構を備えており、これによりワ
ーク保持アームRA7は上下方向に移動する。
A first arm RA3, a second arm RA5
Is bent as shown in FIGS. 4A and 4B, whereby the work holding arm RA7 moves in the direction of the arrow in FIG. Further, by rotating the rotating part RA2, the direction of the work holding arm RA7 changes as shown in FIG. That is, the work holding arm RA7 of the work transfer mechanism RA is connected to the rotating unit RA2.
, And moves in the radial direction with the axis a as the origin, and conveys the work held by the work holding unit RA8. Further, the base RA1 has a mechanism for moving the rotating part RA2 in the vertical direction, whereby the work holding arm RA7 moves in the vertical direction.

【0011】 2本のアームによりワークを保持する
ワーク搬送機構 図5は2本のアームを備えたワーク搬送機構の一例を示
す図である。同図に示すワーク搬送機構RAは、ベース
RA1上に回転可能に支持された回転部RA2と、回転
部RA2上で回転する第1のアームRA3,RA3’
と、第1の関節部RA4,RA4’において第1のアー
ムRA3,RA3’に回転可能に取り付けられた第2の
アームRA5,RA5’と、第2の関節部RA6,RA
6’において第2のアームRA5,RA5’に回転可能
に取り付けられたワーク保持アームRA7,RA7’と
を備えており、上下に配置されたワーク保持アームRA
7,RA7’の先端には、ワークを真空吸着等により保
持するワーク保持部RA8,RA8’が設けられてい
る。なお、第2のアームRA5,RA5’には、アーム
相互の干渉を避けるため逃げ部材RA9,RA9’が設
けられており、逃げ部材RA9,RA9’はワーク保持
アームRA7,RA7’に固定されており、逃げ部材R
A9,RA9’を介してワーク保持アームRA7,RA
7’が、第2のアームRA5,RA5’に回転可能に取
り付けられている。
FIG. 5 is a view showing an example of a work transfer mechanism provided with two arms. The work transfer mechanism RA shown in the figure includes a rotating part RA2 rotatably supported on a base RA1, and first arms RA3, RA3 ′ rotating on the rotating part RA2.
A second arm RA5, RA5 'rotatably attached to the first arm RA3, RA3' at the first joint RA4, RA4 ', and a second joint RA6, RA5
6 ', the workpiece holding arms RA7, RA7' rotatably attached to the second arms RA5, RA5 '.
Work holding parts RA8, RA8 'for holding the work by vacuum suction or the like are provided at the tips of the heads 7, RA7'. The second arms RA5 and RA5 'are provided with escape members RA9 and RA9' to avoid interference between the arms. The escape members RA9 and RA9 'are fixed to the work holding arms RA7 and RA7'. And escape member R
Work holding arms RA7, RA via A9, RA9 '
7 'is rotatably attached to the second arms RA5, RA5'.

【0012】図5に示すワーク搬送機構のワーク保持ア
ームRA7,RA7’のそれぞれの動作は、前記図3、
図4で説明したものと同じであり、ワーク保持アームR
A7,RA7’は、回転部RA2の軸bを原点として、
それぞれ独立して同一方向(同図の矢印方向)に移動す
る。そして、回転部RA2が回転することにより、ワー
ク保持アームRA7,RA7’の向きが変わる。すなわ
ち、ワーク保持アームRA7およびRA7’は常に上下
に重なったまま回転し、軸bを原点としてそれぞれ独立
して放射方向に移動する。なお、上記したワーク搬送機
構の詳細については、例えば、特開平8−274140
号公報を参照されたい。
The operation of each of the work holding arms RA7 and RA7 'of the work transfer mechanism shown in FIG.
This is the same as that described with reference to FIG.
A7 and RA7 'are set with the axis b of the rotating part RA2 as the origin.
They move independently in the same direction (the direction of the arrow in the figure). Then, the rotation of the rotating part RA2 changes the direction of the work holding arms RA7, RA7 '. That is, the work holding arms RA7 and RA7 'rotate while always being vertically overlapped, and move independently in the radial direction with the axis b as the origin. The details of the above-described work transfer mechanism are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-274140.
Please refer to Japanese Patent Publication No.

【0013】(3)制御システム 図6は上記露光装置を制御するためのシステムの構成を
示す図である。図6において、MCは主制御部、C1は
前記した粗アライメント部FAを制御する粗アライメン
ト制御部、C2はワークステージWSを制御するワーク
ステージ制御部、C3は前記したワーク搬送機構RAを
制御するワーク搬送機構制御部、C4はカセットステー
ジCSを制御するカセットステージ制御部である。粗ア
ライメント制御部C1は、前記したように、粗アライメ
ント動作を制御し、ワークステージ制御部C2は、前記
したマスクマークの検出・記憶処理PA、ワークの精ア
ライメント動作、および、露光処理の制御を行う。
(3) Control System FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a system for controlling the exposure apparatus. In FIG. 6, MC is a main control unit, C1 is a coarse alignment control unit that controls the coarse alignment unit FA, C2 is a work stage control unit that controls the work stage WS, and C3 controls the work transfer mechanism RA described above. A work transfer mechanism controller C4 is a cassette stage controller for controlling the cassette stage CS. As described above, the coarse alignment control unit C1 controls the coarse alignment operation, and the work stage control unit C2 controls the mask mark detection / storage processing PA, the work fine alignment operation, and the exposure processing. Do.

【0014】また、カセットステージ制御部C3は、ワ
ークの搬出、回収時、カセットステージを制御し、ワー
ク搬送機構制御部C4は前記図3、図5に示したワーク
搬送機構RAによるワークの搬送を制御する。主制御部
MCは、上記粗アライメント制御部C1、ワークステー
ジ制御部C2、カセットステージ制御部C3、ワーク搬
送機構制御部C4に指令を与えて、ワークの搬送手順を
制御するとともに、各構成部位(カセットステージC
S、粗アライメント部FA、ワークステージWS)にお
いて、露光処理、粗アライメント、ワークの搬入、回収
作業を行わせる。
The cassette stage control unit C3 controls the cassette stage when unloading and collecting the work, and the work transfer mechanism control unit C4 controls the transfer of the work by the work transfer mechanism RA shown in FIGS. Control. The main control unit MC gives instructions to the coarse alignment control unit C1, the work stage control unit C2, the cassette stage control unit C3, and the work transfer mechanism control unit C4 to control the work transfer procedure and to control each component ( Cassette stage C
S, the rough alignment section FA, and the work stage WS), the exposure processing, the rough alignment, the work loading and the collection work are performed.

【0015】次に、上記した露光装置における従来装置
の動作について説明する。 (1)従来例1 図10は、上記図3に示したワーク搬送機構RAを用い
た従来の露光装置において、カセットステージCS、粗
アライメント部FA、ワークステージWSの間をワーク
がどのように移送され、処理されているかを示す図であ
り、横軸は時間であり、縦軸はワークが存在する場所を
示している。また、各線はワークが流れていく道筋を表
し、四角の表示は各処理が行われていることを示す。次
に、前記図1および図10により、ワークの搬送および
露光処理工程を説明する。なお、以下の丸数字は図1に
示された丸数字に対応している。また、図10中のn−
1,n,n+1はそれぞれn−1枚目、n枚目、n+1
枚目のワークを表している。
Next, the operation of the conventional apparatus in the above-described exposure apparatus will be described. (1) Conventional Example 1 FIG. 10 shows how a work is transferred between a cassette stage CS, a rough alignment unit FA, and a work stage WS in a conventional exposure apparatus using the work transfer mechanism RA shown in FIG. The horizontal axis indicates time, and the vertical axis indicates the location where the work exists. Each line represents a path along which the workpiece flows, and a square display indicates that each process is being performed. Next, with reference to FIG. 1 and FIG. 10, the process of transporting and exposing the work will be described. In addition, the following circle numbers correspond to the circle numbers shown in FIG. Further, n- in FIG.
1, n, and n + 1 are the (n-1) th sheet, the nth sheet, and n + 1, respectively.
This represents the first work.

【0016】(1) 粗アライメントの終了したn−1枚目
のワークを、ワーク搬送機構RAのワーク保持アーム
(以下、単にアームという)で保持して、粗アライメン
ト部FAから取りだす(図10のa、図1の)。ワー
クステージWSではマスクアライメントマーク(以下、
マスクマークという)の検出・記憶処理PAが完了し、
マスクマークの位置が記憶されている。 (2) ワークを保持したアームを粗アライメント部FA方
向からワークステージWS方向へ方向転換し、アームを
伸ばして、n−1枚目のワークをワークステージWSに
載置する(図1の)。ワークステージWSでは、アラ
イメント機構により、上記マスクマーク検出・記憶処理
PAにより記憶されたマスクマークとn枚目のワークに
印されたワークアライメントマーク(以下、ワークマー
クという)との位置合わせ(精アライメント)を行い、
ワークの露光処理を行う(図10のb)。その間、ワー
ク搬送機構RAは、n枚目のワークをカセットステージ
CSのワークカセットから取り出し(図1の)、粗ア
ライメント部FAへ搬送し(図10のc、図1の)、
粗アライメント部FAで、上記n枚目のワークの粗アラ
イメントを行う(図10のd)。
(1) The (n-1) th work for which rough alignment has been completed is held by a work holding arm (hereinafter simply referred to as an arm) of the work transfer mechanism RA, and is taken out from the rough alignment unit FA (see FIG. 10). a, FIG. 1). In the work stage WS, a mask alignment mark (hereinafter, referred to as a mask alignment mark)
The detection and storage processing PA of the mask mark) is completed,
The position of the mask mark is stored. (2) The direction of the arm holding the work is changed from the direction of the rough alignment section FA to the work stage WS, the arm is extended, and the (n-1) th work is placed on the work stage WS (FIG. 1). In the work stage WS, the alignment mechanism aligns the mask mark stored in the mask mark detection / storage processing PA with the work alignment mark (hereinafter referred to as a work mark) marked on the n-th work by the alignment mechanism (fine alignment). ),
The work is exposed (FIG. 10B). In the meantime, the work transport mechanism RA takes out the n-th work from the work cassette of the cassette stage CS (FIG. 1) and transports it to the rough alignment unit FA (FIG. 10C, FIG. 1).
The rough alignment of the n-th work is performed by the rough alignment section FA (d in FIG. 10).

【0017】(3) 露光処理の終了したn−1枚目のワー
クを、ワークステージWSから取りだし(図1の)、
n−1枚目のワークを保持したアームをワークステージ
WS方向からカセットステージCS方向へ方向転換す
る。アームを伸ばして、n−1枚目のワークをカセット
ステージCSのワークカセットヘ移し収納する(図10
のe、図1の)。ワークが無くなったワークステージ
WSでは、前記したように、マスクマーク検出・記憶処
理PAが行われる(図10のf)。 (4) 粗アライメントの終了したn枚目のワークを、アー
ムで保持して、粗アライメント部FAから取りだす(図
10のg、図1の)。以下、同様に、n+1,n+
2,…,枚目のワークの搬送・粗アライメント、露光処
理を行う。なお、ワーク搬送機構RAのアームによる、
各部位(カセットステージCS、粗アライメント部F
A、ワークステージWS)へのワークの受け渡し時に
は、必要に応じて、両者を垂直方向に相対移動して高さ
合わせを行う。
(3) The (n-1) -th workpiece after the exposure processing is taken out from the work stage WS (FIG. 1).
The arm holding the (n-1) th work is turned from the work stage WS direction to the cassette stage CS direction. The arm is extended, and the (n-1) -th work is moved to and stored in the work cassette of the cassette stage CS (FIG. 10).
E, FIG. 1). At the work stage WS where there is no work, the mask mark detection / storage processing PA is performed as described above (f in FIG. 10). (4) The n-th work for which rough alignment has been completed is held by the arm and taken out from the rough alignment section FA (g in FIG. 10 and FIG. 1). Hereinafter, similarly, n + 1, n +
2nd,..., Transport and rough alignment of the second work, and exposure processing. Note that the arm of the work transfer mechanism RA
Each part (cassette stage CS, coarse alignment section F
A, when the work is transferred to the work stage WS), if necessary, the two are relatively moved in the vertical direction to adjust the height.

【0018】ここで、カセットステージCS、粗アライ
メント部FA、ワークステージWSにおいて、各作業に
要する時間は、図10に示すように下記の通りである。 ・ワークステージWSでの処理時間(精アライメント+
露光):20s ・粗アライメント時間;25s ・マスクマーク検出・記憶時間:10s また、n枚目のワークの処理開始からn+1枚目のワー
クの処理開始までの時間(タクト)は51sである。
Here, in the cassette stage CS, the rough alignment section FA, and the work stage WS, the time required for each operation is as follows, as shown in FIG.・ Processing time at work stage WS (fine alignment +
Exposure): 20 s Coarse alignment time; 25 s Mask mark detection / storage time: 10 s The time (tact) from the start of processing of the n-th work to the start of processing of the (n + 1) -th work is 51 s.

【0019】(2)従来例2 一般に、ワークを露光処理する装置においては、単位時
間内に処理できるワーク数量(スループット)を少しで
も多くすることが要請されている。スループットを多く
する手段としては、以下の2つが考えられる。 露光装置において、その中における各部位(WS,
FA,CS)での、ワーク1枚あたりの処理時間を短く
する。 露光装置において、各部位間でワークの取り出し、
搬送、載置に要する時間を短くする。すなわち、スルー
プットを良くするためには、装置内でのワークの搬送を
効率良く行うために、前記図3に示したアームが1本の
ロボットを用いてワーク搬送機構RAを構成することに
換えて、図5に示した2本のアームを備えたワーク搬送
機構RAを用いることが考えられる。
(2) Conventional Example 2 In an apparatus for performing exposure processing of a work, it is generally required that the quantity (throughput) of work that can be processed within a unit time be increased as much as possible. The following two methods can be considered as means for increasing the throughput. In the exposure apparatus, each part (WS,
FA, CS) to reduce the processing time per work. In an exposure apparatus, taking out a work between each part,
Reduce the time required for transport and placement. That is, in order to improve the throughput, in order to efficiently transfer the work in the apparatus, the arm shown in FIG. 3 may be replaced with a work transfer mechanism RA using a single robot. It is conceivable to use the work transfer mechanism RA having two arms shown in FIG.

【0020】図5に示した2本のアームRA7,RA
7’を備えたワーク搬送機構を用いると、各処理部で処
理済ワークと処理前ワークとの交換を連続して行うこと
ができるために、スループットの向上を図ることができ
る。すなわち、カセットステージCS、ワークステージ
WS、粗アライメント部FAにおいて、それぞれの処理
終了後に一方のアームによりワークを搬出し、続いて、
もう一方のアームにより処理前ワークの搬入を行うよう
に搬送する。図5に示すワーク搬送機構を用いて前記図
1で説明したワークの搬送および露光処理を行う場合の
従来の手順を図11により説明する。なお、図11中の
n−1,n,n+1はそれぞれn−1枚目、n枚目、n
+1枚目のワークを表している。なお、以下の説明で
は、ワーク保持アームRA7をアーム1、ワーク保持ア
ームRA7’をアーム2として説明する。
The two arms RA7 and RA shown in FIG.
When the work transfer mechanism provided with 7 'is used, it is possible to continuously exchange the processed work and the unprocessed work in each processing unit, so that the throughput can be improved. That is, in each of the cassette stage CS, the work stage WS, and the rough alignment section FA, the work is carried out by one of the arms after the respective processes are completed.
The other arm is transported so as to carry in the unprocessed work. A conventional procedure for performing the work transfer and exposure processing described in FIG. 1 using the work transfer mechanism shown in FIG. 5 will be described with reference to FIG. Note that n-1, n, and n + 1 in FIG.
This represents the + 1st work. In the following description, the work holding arm RA7 is described as the arm 1 and the work holding arm RA7 'is described as the arm 2.

【0021】(1)n−1枚目のワークを粗アライメント
部FAにおいて粗アライメントし(図11のa)、ま
た、n−2枚目のワークをワークステージWSにおいて
露光処理する(図11のb)。その間に、ワーク搬送機
構RAのアーム1がワークカセットからn枚目のワーク
を取り出し、ワーク搬送機構RAを粗アライメント部F
Aの方向に回転させる(図11のc)。 (2) n−1枚目のワークの租アライメントが終了する
と、ワーク搬送機構RAのアーム2が、粗アライメント
部FAからn−1枚目のワークを取り出す(図11の
d)。続いてアーム1がn枚目のワークを粗アライメン
ト部FAに搬入する(図11のe)。
(1) The (n-1) th work is roughly aligned in the rough alignment section FA (FIG. 11A), and the (n-2) th work is exposed on the work stage WS (FIG. 11). b). Meanwhile, the arm 1 of the work transfer mechanism RA takes out the n-th work from the work cassette, and moves the work transfer mechanism RA to the coarse alignment section F.
Rotate in the direction of A (c in FIG. 11). (2) When the alignment of the (n-1) th work is completed, the arm 2 of the work transfer mechanism RA takes out the (n-1) th work from the rough alignment unit FA (d in FIG. 11). Subsequently, the arm 1 carries the n-th work into the rough alignment section FA (e in FIG. 11).

【0022】(3) n枚目のワークの粗アライメントが行
われる(図11のf)。ワーク搬送機構RAが、ワーク
ステージWSの方向に回転し、アーム1が、ワークステ
ージWSから処理の終わったn−2枚目のワークを取り
出す(図11のg)。ワークが無くなったワークステー
ジWSでは、マスクマークの検出・記憶処理PAが行わ
れる(図11のh)。ワークステージWSにおけるマス
クマークの検出・記憶処理PAが終了するのを待って、
アーム2が、n−1枚目のワークをワークステージWS
に搬入し(図11のi)、n−1枚目のワークの露光処
理を行う(図11のj)。 (4) ワーク搬送機構RAはカセットステージCSの方向
に回転し、アーム1がワークカセットに露光済のn−2
枚目のワークを収納する(図11のk)。続いて、ワー
ク搬送機構RAのアーム1は、n+1枚目のワークをワ
ークカセットから取り出す。以下、上記動作を繰り返
す。
(3) The rough alignment of the n-th work is performed (f in FIG. 11). The work transport mechanism RA rotates in the direction of the work stage WS, and the arm 1 takes out the (n-2) -th work that has been processed from the work stage WS (g in FIG. 11). In the work stage WS where the work has disappeared, the mask mark detection / storage processing PA is performed (h in FIG. 11). Waiting for the end of the mask mark detection / storage processing PA in the work stage WS,
The arm 2 moves the (n-1) th work to the work stage WS
(I in FIG. 11), and performs exposure processing on the (n-1) th work (j in FIG. 11). (4) The work transport mechanism RA is rotated in the direction of the cassette stage CS, and the arm 1 is exposed to the work cassette n-2.
The second work is stored (k in FIG. 11). Subsequently, the arm 1 of the work transport mechanism RA takes out the (n + 1) th work from the work cassette. Hereinafter, the above operation is repeated.

【0023】図12、図13は露光装置全体の制御を行
う主制御部MC(前記図2参照)の処理手順を示すフロ
ーチャートであり、同図により、従来例2について主制
御部MCの処理を説明する。なお、同図は、既に、粗ア
ライメント部FA、ワークステージWSにワークが搬入
され、粗アライメント、露光処理が行われている状態か
ら始まる場合を示している。図12のステップS1にお
いて、未処理ワークがあるかを調べ、未処理ワークがな
い場合には処理を終了する。未処理ワークがある場合に
は、ステップS2において、主制御部MCは、ワーク搬
送機構制御部C4、カセットステージ制御部C3に対し
て、アーム1による未処理ワーク(n枚目)の取り出し
を指示する。これにより、ワーク搬送機構RAはカセッ
トステージCS方向に方向転換し、アーム1によりカセ
ットステージCSのワークカセットからワークを取り出
す。ステップS3において、主制御部MCは、粗アライ
メント制御部C1からn−1枚目のワークの粗アライメ
ント完了信号が上がってくるのを待つ。
FIGS. 12 and 13 are flow charts showing the processing procedure of the main control unit MC (see FIG. 2) for controlling the entire exposure apparatus. explain. The figure shows a case where the work is already carried into the rough alignment section FA and the work stage WS, and starts from a state where the rough alignment and the exposure processing are being performed. In step S1 in FIG. 12, it is checked whether there is any unprocessed work, and if there is no unprocessed work, the process ends. If there is an unprocessed work, in step S2, the main control unit MC instructs the work transfer mechanism control unit C4 and the cassette stage control unit C3 to take out the unprocessed work (the n-th work) by the arm 1. I do. As a result, the work transfer mechanism RA changes its direction toward the cassette stage CS, and the arm 1 takes out the work from the work cassette of the cassette stage CS. In step S3, the main control unit MC waits for the rough alignment completion signal of the (n-1) th work to rise from the rough alignment control unit C1.

【0024】粗アライメントが完了すると、ステップS
4において、主制御部MCは、ワーク搬送機構制御部C
4に対して、アーム2による粗アライメント済のワーク
(n−1枚目)の取り出しを指示する。これにより、ワ
ーク搬送機構RAはアーム2により粗アライメント部F
Aからワークを取り出す。ステップS5において、主制
御部MCは、ワーク搬送機構制御部C4に対して、アー
ム1が保持する未処理ワーク(n枚目)の粗アライメン
ト部FAへの搬入を指示する。これにより、ワーク搬送
機構RAはアーム2により粗アライメント部FAに未処
理ワークを搬入する。ステップS6において、主制御部
MCは、粗アライメント制御部C1に対して、未処理ワ
ーク(n枚目)の粗アライメントを指示する。これによ
り、粗アライメント部FAは前記したように未処理ワー
クの粗アライメントを行う。
When the rough alignment is completed, step S
4, the main control unit MC includes a work transfer mechanism control unit C
Instruct the arm 4 to take out the coarsely aligned work (the (n-1) th work) by the arm 2. Thereby, the work transfer mechanism RA is moved by the arm 2 to the coarse alignment section F.
Take out the workpiece from A. In step S5, the main control unit MC instructs the work transfer mechanism control unit C4 to carry the unprocessed work (n-th work) held by the arm 1 into the rough alignment unit FA. Thereby, the work transport mechanism RA carries the unprocessed work into the rough alignment section FA by the arm 2. In step S6, the main control unit MC instructs the rough alignment control unit C1 to perform rough alignment of the unprocessed work (the n-th work). Thus, the rough alignment section FA performs the rough alignment of the unprocessed work as described above.

【0025】ステップS7において、主制御部MCは、
ワークステージ制御部C2からn−2枚目のワークの露
光完了信号が上がってくるのを待つ。露光が完了する
と、ステップS8において、主制御部MCは、ワーク搬
送機構制御部C4に対して、アーム1による露光済ワー
ク(n−2枚目)の取り出しを指示する。これにより、
ワーク搬送機構RAはアーム1により露光済ワークを取
り出す。
In step S7, the main control unit MC
Wait for the exposure completion signal of the (n-2) th work to come up from the work stage control unit C2. When the exposure is completed, in step S8, the main control unit MC instructs the work transfer mechanism control unit C4 to take out the exposed work (the (n-2) th work) by the arm 1. This allows
The work transport mechanism RA takes out the exposed work by the arm 1.

【0026】図13のステップS9において、主制御部
MCは、ワークステージ制御部C2に対して、マスクマ
ークの検出・記憶処理PAの開始を指示し、ステップS
10において、マスクマークの検出・記憶処理終了信号
が上がってくるのを待つ。マスクマークの検出・記憶処
理PAが終了すると、ステップS11において、主制御
部MCは、ワーク搬送機構制御部C4に対して、アーム
2が保持する粗アライメント済のワーク(n−1枚目)
のワークステージWSへの搬入を指示する。これにより
ワーク搬送機構RAは、アーム2が保持する粗アライメ
ント済ワーク(n−1枚目)をワークステージWSに搬
入する。
In step S9 of FIG. 13, the main control unit MC instructs the work stage control unit C2 to start the mask mark detection / storage processing PA.
At 10, the process waits for the detection signal of the mask mark detection / storage completion signal to rise. When the mask mark detection / storage processing PA is completed, in step S11, the main control unit MC instructs the work transfer mechanism control unit C4 to perform the coarsely aligned work (n-1st work) held by the arm 2.
Is carried in to the work stage WS. Thereby, the work transport mechanism RA carries in the work stage WS the coarsely aligned work (n-1st work) held by the arm 2.

【0027】ステップS12において、主制御部MC
は、ワークステージ制御部C2に対し、ワーク(n−1
枚目)の露光開始を指示する。これにより、ワークステ
ージ制御部C2は、前記したようにワークの精アライメ
ント、露光処理を行う。ステップS13において、主制
御部MCはワーク搬送機構制御部C4、カセットステー
ジ制御部C3に対して、アーム1が保持する露光済ワー
ク(n−1枚目)のカセットステージCSへの回収を指
示する。これにより、アーム1が保持している露光済ワ
ークはカセットステージCSのワークカセットに収納さ
れる。ついで、ステップS14において、nに1を加え
てステップS2に戻り、上記処理を繰り返す。
In step S12, the main control unit MC
Indicates the work (n-1) to the work stage control unit C2.
To start the exposure of the (th) sheet. As a result, the work stage control unit C2 performs fine alignment and exposure processing of the work as described above. In step S13, the main control unit MC instructs the work transfer mechanism control unit C4 and the cassette stage control unit C3 to collect the exposed work (the (n-1) th work) held by the arm 1 into the cassette stage CS. . As a result, the exposed work held by the arm 1 is stored in the work cassette of the cassette stage CS. Next, in step S14, 1 is added to n, and the process returns to step S2 to repeat the above processing.

【0028】ここで、カセットステージCS、粗アライ
メント部FA、ワークステージWSにおける各処理時間
は、図11に示すように前記図10の場合と同じである
が、2本のアームを持つワーク搬送機構RAを用いる場
合には、n枚目のワークが処理開始されてからn+1枚
目のワークが処理開始されるまでの時間、いわゆるタク
ト、は前記図10の場合より15秒短縮され46秒であ
る。
Here, the processing time in the cassette stage CS, the rough alignment section FA, and the work stage WS is the same as that in FIG. 10 as shown in FIG. 11, but a work transfer mechanism having two arms. In the case of using RA, the time from the start of the processing of the n-th work to the start of the processing of the (n + 1) -th work, so-called tact, is shortened by 15 seconds from the case of FIG. 10 to 46 seconds. .

【0029】[0029]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、2本の
アームを持つワーク搬送機構RAを用いることにより、
1本のアームを持つワーク搬送機構RAを用いる場合に
較べ、効率の良いワークの搬送ができスループットを改
善することができた。しかしながら、上記した従来技術
は、2本のアームを持つワーク搬送機構RAの能力を十
分に活用したものとはいえず、さらなるスループットの
改善が要望されている。本発明は、上記した事情を考慮
してなされたものであって、その目的とするところは、
2本のアームを持つワーク搬送機構の能力を十分に活用
することができ、スループットをさらに向上させること
ができる露光装置を提供することである。
As described above, by using the work transfer mechanism RA having two arms,
Compared to the case where the work transfer mechanism RA having one arm is used, the work can be transferred more efficiently and the throughput can be improved. However, it cannot be said that the above-described conventional technology fully utilizes the capability of the work transfer mechanism RA having two arms, and a further improvement in throughput is demanded. The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and the object thereof is to:
An object of the present invention is to provide an exposure apparatus capable of fully utilizing the capability of a work transfer mechanism having two arms and further improving throughput.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】上記課題を課題を解決す
るため、本発明は、前記図5に示した2本のアームを備
えたワーク搬送機構を用いた前記図1に示した露光装置
において、一方のアームがワークステージから処理済ワ
ークを取り出してから、他方のアームがワークステージ
に処理前ワークを搬入するまでの時間(すなわち、マス
クのアライメントマークの検出・記憶処理PAを行って
いる時間)に、一方のアームによってワークステージか
ら取り出された処理済ワークを、カセットステージに載
置されたワークカセットに載置収納するようにしたもの
である。これによって、アームの時間を有効に利用して
時間的効率を上げ、スループットを改善することができ
た。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention relates to an exposure apparatus shown in FIG. 1 using a work transfer mechanism having two arms as shown in FIG. The time from when one arm takes out the processed work from the work stage to when the other arm carries the unprocessed work into the work stage (that is, the time during which the mask alignment mark detection / storage processing PA is performed). 2), the processed work taken out of the work stage by one arm is placed and stored in a work cassette placed on a cassette stage. As a result, the time of the arm can be effectively used, the time efficiency can be increased, and the throughput can be improved.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】以下、図7により本発明の実施例
のワークの搬送および露光処理について説明する。本実
施例は、前記図5に示した2本のアームによりワークを
保持するワーク搬送機構RAを用いて、前記図1に示し
た露光装置を図6の制御装置により制御する場合を示し
ている。なお、図7中のn−1,n,n+1はそれぞれ
n−1枚目、n枚目、n+1枚目のワークを表してい
る。なお、以下の説明では、ワーク保持アームRA7を
アーム1、ワーク保持アームRA7’をアーム2として
説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A description will now be given, with reference to FIG. 7, of a workpiece transfer and exposure process according to an embodiment of the present invention. This embodiment shows a case where the exposure apparatus shown in FIG. 1 is controlled by the control device shown in FIG. 6 using the work transfer mechanism RA for holding the work by the two arms shown in FIG. . Note that n-1, n, and n + 1 in FIG. 7 represent the (n-1) th, nth, and (n + 1) th works, respectively. In the following description, the work holding arm RA7 is described as the arm 1 and the work holding arm RA7 'is described as the arm 2.

【0032】(1)n−3枚目のワークをワークステージ
WSにおいて露光処理している間(図7のa)に、ワー
ク搬送機構RAのアーム1がワークカセットからn−1
枚目のワークを取り出し、粗アライメント部FAに搬入
し(図7のb)、粗アライメント部FAでn−1枚目の
ワークの粗アライメントを行う(図7のc)。なお、粗
アライメントが終了したn−2枚目のワークは、ワーク
搬送機構RAのアーム2が保持している。 粗アライメント部FAへのn−1枚目のワークの搬入
後、ワーク搬送機構RAはワークステージWSの方向に
回転する。 (2) ワークステージWSでの露光が終了すると、アーム
1がワークステージWSから露光済のn−3枚目のワー
クを取り出す。ワークが無くなったワークステージWS
では、前記したマスクマークの検出・記憶処理PAを行
う(図7のe)。また、この間の時間を利用して、ワー
ク搬送機構RAのアーム1はカセットステージCSの方
向に回転し、アーム1はワークステージWSから取り出
した処理済のn−3枚目のワークを、カセットステージ
CSのワークカセットに収納する(図7のd)。
(1) While the exposure process is being performed on the (n−3) th work on the work stage WS (FIG. 7A), the arm 1 of the work transfer mechanism RA is moved from the work cassette to (n−1).
The first work is taken out and carried into the rough alignment section FA (FIG. 7B), and the rough alignment section FA performs rough alignment of the (n-1) th work (FIG. 7C). The (n-2) -th work after the rough alignment is held by the arm 2 of the work transfer mechanism RA. After loading the (n-1) -th work into the rough alignment section FA, the work transfer mechanism RA rotates in the direction of the work stage WS. (2) When the exposure on the work stage WS is completed, the arm 1 takes out the (n−3) th exposed work from the work stage WS. Work stage WS with no work
Then, the above-described mask mark detection / storage processing PA is performed (FIG. 7E). Further, using the time during this time, the arm 1 of the work transfer mechanism RA rotates in the direction of the cassette stage CS, and the arm 1 transfers the processed (n−3) th work taken out from the work stage WS to the cassette stage CS. It is stored in the CS work cassette (d in FIG. 7).

【0033】(3) その後、ワーク搬送機構RAはワーク
ステージWS方向に回転し、ワークステージWSに、ア
ーム2が保持している露光処理前のn−2枚目のワーク
を載置し(図7のf)、n−2枚目のワークの露光処理
を行う(図7のg)。 (4) 再びワーク搬送機構RAはカセットステージCSの
方向に回転し、アーム1はワークカセットからn枚目の
ワークを取り出す(図7のh)。 (5) 続いてワーク搬送機構RAは粗アライメント部FA
の方向に回転し、アーム2により、粗アライメントが終
了したn−1枚目のワークを取り出し(図7のi)、ま
た、アーム1が保持していたn枚目のワークを粗アライ
メント部FAへ搬入する(図7のj)。 (6) 粗アライメント部FAへのn枚目のワークの搬入
後、ワーク搬送機構RAはワークステージWSの方向に
回転する。 (7) 以下、上記(2) 〜(6) を繰り返す。
(3) Thereafter, the work transport mechanism RA rotates in the direction of the work stage WS, and places the (n-2) -th work before the exposure processing held by the arm 2 on the work stage WS (FIG. 7f), an exposure process for the (n-2) th work is performed (g in FIG. 7). (4) The work transport mechanism RA rotates again in the direction of the cassette stage CS, and the arm 1 takes out the n-th work from the work cassette (h in FIG. 7). (5) Subsequently, the work transfer mechanism RA is moved to the rough alignment section FA.
And the arm 2 takes out the (n-1) -th workpiece after the rough alignment is completed (i in FIG. 7), and removes the n-th workpiece held by the arm 1 from the rough alignment section FA. (J in FIG. 7). (6) After loading the n-th work into the rough alignment section FA, the work transfer mechanism RA rotates in the direction of the work stage WS. (7) Thereafter, the above (2) to (6) are repeated.

【0034】図8、図9は露光装置全体の制御を行う主
制御部MC(前記図6参照)の処理手順を示すフローチ
ャートであり、同図により、本実施例の主制御部MCの
処理を説明する。なお、同図は、図12、図13の場合
と同様、既に、粗アライメント部FA、ワークステージ
WSにワークが搬入され、粗アライメント、露光処理が
行われている状態から始まる場合を示している。また、
図9の点線で囲んだ部分の処理が前記従来例2の処理と
異なっている。図8に示した処理は前記図12と同じで
あり、以下簡単に説明する。図8のステップS1におい
て、未処理ワークがあるかを調べ、未処理ワークWがな
い場合には処理を終了する。未処理ワークがある場合に
は、前記と同様、ステップS2において、主制御部MC
は、ワーク搬送機構制御部C4、カセットステージ制御
部C3に対して、アーム1による未処理ワーク(n枚
目)の取り出しを指示し、ステップS3において、粗ア
ライメント制御部C1からn−1枚目のワークの粗アラ
イメント完了信号が上がってくるのを待つ。
FIGS. 8 and 9 are flow charts showing the processing procedure of the main control unit MC (see FIG. 6) for controlling the entire exposure apparatus. explain. 12 and 13, similarly to the case of FIGS. 12 and 13, a case where the work is already carried into the rough alignment unit FA and the work stage WS, and the process starts from a state where the rough alignment and the exposure process are being performed. . Also,
The processing of the portion surrounded by the dotted line in FIG. 9 is different from the processing of the conventional example 2. The processing shown in FIG. 8 is the same as that in FIG. 12, and will be described briefly below. In step S1 in FIG. 8, it is checked whether there is any unprocessed work. If there is no unprocessed work W, the process ends. If there is an unprocessed work, the main control unit MC
Instructs the work transfer mechanism control unit C4 and the cassette stage control unit C3 to take out the unprocessed work (the n-th work) by the arm 1, and in step S3, from the rough alignment control unit C1 to the (n-1) th work. Wait for the rough alignment completion signal of the workpiece to come up.

【0035】粗アライメントが完了すると、ステップS
4において、主制御部MCは、ワーク搬送機構制御部C
4に対して、アーム2による粗アライメント済のワーク
(n−1枚目)の取り出しを指示し、ステップS5にお
いて、アーム1が保持する未処理ワーク(n枚目)の粗
アライメント部FAへの搬入を指示する。ステップS6
において、主制御部MCは、粗アライメント制御部C1
に対して、未処理ワーク(n枚目)の粗アライメントを
指示し、ステップS7において、ワークステージ制御部
C2からn−2枚目のワークの露光完了信号が上がって
くるのを待つ。露光が完了すると、ステップS8におい
て、主制御部MCは、ワーク搬送機構制御部C4に対し
て、アーム1による露光済ワーク(n−2枚目)の取り
出しを指示する。
When the rough alignment is completed, step S
4, the main control unit MC includes a work transfer mechanism control unit C
Instruct S4 to take out the coarsely aligned work (n-1st work) by the arm 2, and in step S5, transfer the unprocessed work (nth work) held by the arm 1 to the rough alignment unit FA. Instruct import. Step S6
, The main control unit MC includes a coarse alignment control unit C1.
, A rough alignment of the unprocessed work (n-th work) is instructed, and in step S7, the work stage control unit C2 waits for an exposure completion signal of the (n-2) -th work to rise. When the exposure is completed, in step S8, the main control unit MC instructs the work transfer mechanism control unit C4 to take out the exposed work (the (n-2) th work) by the arm 1.

【0036】図9のステップS9において、主制御部M
Cは、ワークステージ制御部C2に対して、マスクマー
クの検出・記憶処理PAの開始を指示する。その間に、
ステップS10において、主制御部MCはワーク搬送機
構制御部C4、カセットステージ制御部C3に対して、
アーム1が保持する露光済ワーク(n−1枚目)のカセ
ットステージCSへの回収を指示する。これにより、ア
ーム1が保持している露光済ワークはカセットステージ
CSのワークカセットに収納される。ついで、ステップ
S11において、マスクマークの検出・記憶処理終了信
号が上がってくるのを待つ。
In step S9 of FIG. 9, the main control unit M
C instructs the work stage control unit C2 to start the mask mark detection / storage processing PA. During,
In step S10, the main control unit MC sends a command to the work transfer mechanism control unit C4 and the cassette stage control unit C3.
The collection of the exposed work (the (n-1) th work) held by the arm 1 to the cassette stage CS is instructed. As a result, the exposed work held by the arm 1 is stored in the work cassette of the cassette stage CS. Next, in step S11, the process waits for the detection signal of the mask mark detection / storage completion signal to rise.

【0037】マスクマークの検出・記憶処理PAが終了
すると、ステップS12において、主制御部MCは、ワ
ーク搬送機構制御部C4に対して、アーム2が保持する
粗アライメント済のワーク(n−1枚目)のワークステ
ージWSへの搬入を指示する。これによりワーク搬送機
構RAは、アーム2が保持する粗アライメント済ワーク
(n−1枚目)をワークステージWSに搬入する。ステ
ップS13において、主制御部MCは、ワークステージ
制御部C2に対し、ワーク(n−1枚目)の露光開始を
指示する。これにより、ワークステージ制御部C2は、
前記したようにワークの精アライメント、露光処理を行
う。ついで、ステップS14において、nに1を加えて
ステップS2に戻り、上記処理を繰り返す。
When the mask mark detection / storage processing PA is completed, in step S12, the main control unit MC sends the coarsely aligned work (n-1 sheets) held by the arm 2 to the work transfer mechanism control unit C4. Eye) is instructed to be carried into the work stage WS. Thereby, the work transport mechanism RA carries in the work stage WS the coarsely aligned work (n-1st work) held by the arm 2. In step S13, the main control unit MC instructs the work stage control unit C2 to start exposure of the work (n-1) th work. As a result, the work stage control unit C2
Fine alignment and exposure processing of the work are performed as described above. Next, in step S14, 1 is added to n, and the process returns to step S2 to repeat the above processing.

【0038】以上のように、本実施例は、ワークカセッ
トにワークを載置収納する作業を、ワークステージWS
がマスクアライメントマークの検出それの記憶処理PA
を行っている間の待ち時間に行うようにしたものであ
る。これによって、図7に示したようにワークカセット
にワークを載置収納する時間である5秒が短縮され、タ
クトは41秒となり、図11の場合に比べて、スループ
ットが向上した。
As described above, in the present embodiment, the work of placing and storing the work in the work cassette is performed by the work stage WS.
Is the detection of the mask alignment mark and its storage processing PA
During the waiting time. As a result, as shown in FIG. 7, the time for loading and storing the work in the work cassette is reduced to 5 seconds, and the tact time is reduced to 41 seconds, thereby improving the throughput as compared with the case of FIG.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、ワークステージから処理済ワークを取り出した後、
マスクのアライメントマークの検出・記憶処理が終了し
て、次の処理前ワークの搬入が可能となるまでの待ち時
間の間に、処理済ワークをカセットステージに載置され
たワークカセットに収納しているので、ワークカセット
にワークを載置収納する時間を短縮することができ、ス
ループットを改善することができる。
As described above, in the present invention, after the processed work is taken out from the work stage,
After the processing for detecting and storing the alignment mark of the mask is completed, the processed work is stored in the work cassette placed on the cassette stage during the waiting time until the next work before processing can be carried in. Therefore, the time for placing and storing the work in the work cassette can be reduced, and the throughput can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明が対象とする露光装置の概略構成を示す
図である。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an exposure apparatus to which the present invention is applied.

【図2】粗アライメント部の構成の一例を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a configuration of a rough alignment unit.

【図3】1本のアームによりワークを保持するワーク搬
送機構の一例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a work transfer mechanism that holds a work by one arm.

【図4】図3のワーク搬送機構の動作を説明する図であ
る。
FIG. 4 is a view for explaining the operation of the work transfer mechanism of FIG. 3;

【図5】2本のアームによりワークを保持するワーク搬
送機構の一例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a work transport mechanism that holds a work by two arms.

【図6】図1に示した露光装置を制御するためのシステ
ムの構成を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a system for controlling the exposure apparatus shown in FIG.

【図7】本発明の実施例の搬送・粗アライメント・露光
処理の工程を示す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a process of transport, coarse alignment, and exposure processing according to the embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施例において主制御部MCの処理手
順を示すフローチャート(その1)である。
FIG. 8 is a flowchart (part 1) showing a processing procedure of a main control unit MC in the embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施例における主制御部MCの処理手
順を示すフローチャート(その2)である。
FIG. 9 is a flowchart (part 2) illustrating a processing procedure of the main control unit MC in the embodiment of the present invention.

【図10】従来における搬送・粗アライメント・露光処
理の工程(従来例1)を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing steps of conventional transport, coarse alignment, and exposure processing (conventional example 1).

【図11】従来における搬送・粗アライメント・露光処
理の工程(従来例2)を示す図である。
FIG. 11 is a view showing a conventional transport / rough alignment / exposure process (conventional example 2).

【図12】従来例2における主制御部MCの処理手順を
示すフローチャート(その1)である。
FIG. 12 is a flowchart (part 1) illustrating a processing procedure of a main control unit MC according to Conventional Example 2.

【図13】従来例2における主制御部MCの処理手順を
示すフローチャート(その2)である。
FIG. 13 is a flowchart (part 2) illustrating a processing procedure of the main control unit MC in the conventional example 2.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

WS ワークステージ CS カセットステージ FA 粗アライメント部 RA ワーク搬送機構 MC 主制御部 C1 粗アライメント制御部 C2 ワークステージ制御部 C3 カセットステージ制御部 C4 ワーク搬送機構制御部 WS Work stage CS Cassette stage FA Coarse alignment unit RA Work transfer mechanism MC Main control unit C1 Coarse alignment control unit C2 Work stage control unit C3 Cassette stage control unit C4 Work transfer mechanism control unit

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のワークを収めたワークカセットを
載置する、カセットステージと、 ワークのエッジを検出し、その検出信号を記憶・演算す
ることにより、ワーク周縁に設けられた形状の特異点の
方向と、ワークの中心とを求め、上記特異点の方向を所
定の方向に向け、ワークの中心をワークステージの所定
の位置に対応する位置に移動させる、粗アライメント部
と、 マスクアライメントマークの検出と記憶処理を行った後
に、ワークの精アライメント及び露光処理を行うワーク
ステージとの3つの処理部と、 回転体の中心部の支軸を原点として、同一の放射方向に
伸縮する第1と第2のアームを備え、各アームの先端に
保持したワークを搬送するようにしたワーク搬送機構
と、上記3つの処理部とワーク搬送機構を制御する制御
部とを備え、 上記制御部が、上記3つの処理部とワーク搬送機構を制
御して、上記カセットステージに載置されたワークカセ
ットからワークを取り出して、上記粗アライメント部
へ、また、該粗アライメント部から上記ワークステージ
へ、さらに該ワークステージから上記カセットステージ
に設置されたワークカセットヘワークを搬送し、上記ワ
ークの粗アライメントおよび露光を行う露光装置におい
て、 上記制御部は、上記ワーク搬送装置の一方のアームが上
記ワークステージから処理済ワークを取り出し、他方の
アームが上記ワークステージに次の処理前ワークを搬入
するまでの時間に、一方のアームによって上記ワークス
テージから取り出された処理済ワークを、上記カセット
ステージに載置されたワークカセットに載置収納するよ
うに制御することを特徴とする露光装置。
1. A cassette stage on which a workpiece cassette containing a plurality of workpieces is placed, and an edge of the workpiece are detected, and a detection signal is stored and calculated, whereby a singular point of a shape provided on the peripheral edge of the workpiece is detected. And a center of the work, a direction of the singular point is oriented in a predetermined direction, and a center of the work is moved to a position corresponding to a predetermined position of the work stage. After performing detection and storage processing, there are three processing units, a work stage for performing fine alignment and exposure processing of the work, and a first processing unit that expands and contracts in the same radial direction with the origin at a support shaft at the center of the rotating body. A work transfer mechanism having a second arm for transferring the work held at the tip of each arm; and a control unit for controlling the three processing units and the work transfer mechanism. The control unit controls the three processing units and the work transfer mechanism to take out a work from the work cassette mounted on the cassette stage, and to and from the coarse alignment unit. To the work stage, further in the exposure apparatus for transporting the work from the work stage to the work cassette installed in the cassette stage, to perform coarse alignment and exposure of the work, the control unit, one of the work transfer device The arm takes out the processed work from the work stage and the other arm takes the processed work taken out of the work stage by one arm until the other work carries the next unprocessed work into the work stage. It is controlled so that it can be placed and stored in the work cassette placed on the cassette stage. Exposure apparatus characterized by.
JP14416198A 1998-05-26 1998-05-26 Exposure equipment Expired - Fee Related JP3449220B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14416198A JP3449220B2 (en) 1998-05-26 1998-05-26 Exposure equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14416198A JP3449220B2 (en) 1998-05-26 1998-05-26 Exposure equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11340121A true JPH11340121A (en) 1999-12-10
JP3449220B2 JP3449220B2 (en) 2003-09-22

Family

ID=15355627

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14416198A Expired - Fee Related JP3449220B2 (en) 1998-05-26 1998-05-26 Exposure equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3449220B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006013493A (en) * 2004-06-21 2006-01-12 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR100842496B1 (en) 2006-12-26 2008-07-01 동부일렉트로닉스 주식회사 Overlay Matching Method in Semiconductor Exposure Process

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07176589A (en) * 1993-12-13 1995-07-14 Tokyo Electron Ltd Manufacturing apparatus and manufacturing method
JPH09246352A (en) * 1996-03-04 1997-09-19 Nikon Corp Substrate transfer method
JPH10247674A (en) * 1997-03-04 1998-09-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing equipment
JP2003115525A (en) * 2002-07-30 2003-04-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing equipment

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07176589A (en) * 1993-12-13 1995-07-14 Tokyo Electron Ltd Manufacturing apparatus and manufacturing method
JPH09246352A (en) * 1996-03-04 1997-09-19 Nikon Corp Substrate transfer method
JPH10247674A (en) * 1997-03-04 1998-09-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing equipment
JP2003115525A (en) * 2002-07-30 2003-04-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing equipment

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006013493A (en) * 2004-06-21 2006-01-12 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR100842496B1 (en) 2006-12-26 2008-07-01 동부일렉트로닉스 주식회사 Overlay Matching Method in Semiconductor Exposure Process

Also Published As

Publication number Publication date
JP3449220B2 (en) 2003-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107771024B (en) Apparatus and method for transferring electronic devices
US5677758A (en) Lithography System using dual substrate stages
JP5189370B2 (en) Substrate exchange apparatus, substrate processing apparatus, and substrate inspection apparatus
KR102560788B1 (en) Peripheral exposure apparatus, peripheral exposure method, program, computer storage medium
JP4158514B2 (en) Double-sided projection exposure system
JP2023177092A (en) Robot control device and robot control system
JPH0541981B2 (en)
JP2000347425A (en) Exposure equipment for positioning by moving the mask
JP4289961B2 (en) Positioning device
JP3276477B2 (en) Substrate processing equipment
JP2003243479A (en) Stopper position adjustment mechanism for transport means
WO2025236942A1 (en) Substrate processing device, and method
JP2517669B2 (en) Exposure equipment
JP3449220B2 (en) Exposure equipment
JPH053153A (en) Unnecessary resist exposure device on wafer
JPH11145248A (en) Substrate transfer device and exposure device
JP5884273B2 (en) Exposure unit and substrate pre-alignment method
JP4113822B2 (en) Edge exposure apparatus, edge exposure method, and substrate processing apparatus including the same
JP2006066636A (en) Conveying apparatus and method, and exposure apparatus
CN120656964A (en) Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium
WO2025236941A1 (en) Substrate processing apparatus and method
JPS62102537A (en) Substrate processor
JPH1064978A (en) Alignment device
JPH11233408A (en) Substrate stage and exposure apparatus using the same
JPH0826413A (en) Transport mechanism and transport method for plate-shaped body

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080711

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090711

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100711

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120711

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130711

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130711

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140711

Year of fee payment: 11

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees