JPH11340121A - 露光装置 - Google Patents
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- JPH11340121A JPH11340121A JP10144161A JP14416198A JPH11340121A JP H11340121 A JPH11340121 A JP H11340121A JP 10144161 A JP10144161 A JP 10144161A JP 14416198 A JP14416198 A JP 14416198A JP H11340121 A JPH11340121 A JP H11340121A
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- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
てワークを搬送し、粗アライメント、露光処理を行う露
光装置のスループットを向上させること。 【解決手段】 複数のワークを収納したカセットステー
ジCSから、ワーク搬送機構RAによりワークを取り出
し、粗アライメント部FAで粗アライメントを行い、ワ
ークステージWSに搬送してワーク露光処理を行う。ワ
ークステージWSでは、予めマスクアライメントマーク
の位置を検出・記憶しておき、ワークステージWSにワ
ークが搬入されると、上記検出・記憶したマスクアライ
メントマークと、ワークのアライメントマークとの位置
合わせを行って、露光処理を行う。その際、マスクアラ
イメントマークの検出・記憶を行っている時間に、ワー
クステージから取り出された処理済ワークを、カセット
ステージCSに収納する。これによりスループットを向
上させることができる。
Description
やプリント基板、LCDの製造等に使用される露光装置
に関し、さらに詳細には、ワーク搬送機構により、ワー
クをワークカセットから取り出して、粗アライメントを
行ったのちワークステージに搬送して露光を行い、処理
済のワークをワークカセットに自動的に搬送するように
した露光装置に関するものである。
送および露光処理工程を説明するための概略構成図であ
る。同図において、CSはカセットステージであり、複
数のワークを収納するワークカセットが載置されてい
る。また、RAはワーク搬送機構であり、ワーク搬送用
のアームを備え、ワークを真空吸着により保持し、ワー
クを露光装置の各構成部位(カセットステージCS、粗
アライメント部FA、ワークステージWS)に搬送す
る。FAは粗アライメント部であり、後述する精アライ
メント時にワークに印されたワークアライメントマーク
がアライメント用顕微鏡の視野内に入るように、上記ワ
ーク搬送機構RAのアームに対してワークの粗い位置合
せを行う。WSは、マスクに印されたマスクアライメン
トマークの検出とその位置の記憶処理を行った後に、マ
スクとワークの精アライメント及び露光処理を行うワー
クステージである。
ト部FAでの作業の内容およびワーク搬送機構RA、上
記露光装置を制御する制御システムについて説明する。 (1)ワークステージWSでの処理 ワークステージWSは、回路パターン等のマスクパター
ンが形成されたマスクを介して、露光光をワークステー
ジ上に載置されたワークに照射し、ワーク上にマスクパ
ターンを転写する場所である。マスクパターンの転写
は、ワークのあらかじめ決められた位置に行わねばなら
ない。そこで、マスクの位置とワークの位置とを正確に
検出し位置合わせしておく必要がある。露光処理や周囲
の環境温度の変化によって装置の温度が変化すると、マ
スクアライメントマークの位置がずれ、露光精度に影響
することもあり、ワークの露光処理を行う前に、まず、
マスクのアライメントマークを検出し、その位置を記憶
する(以下この処理をマスクマーク検出・記憶処理PA
と呼ぶ)ことを行う。
憶処理PAは、特開平8−233529号公報、特開平
9−115812号公報に示したように、ワークステー
ジWS上にワークがない状態で行う。この処理に必要な
時間は、約10秒である。次に、ワークに設けられたワ
ークアライメントマークを、アライメント用顕微鏡を用
いて検出し、マスク及び/またはワークを移動させ、記
憶しているマスクアライメントマークとを重ね合わせる
という位置合わせ(精アライメント)を行う。その後、
露光処理を行う。この精アライメントと露光処理に必要
な時間は、普通約20秒である。
は、ワークのアライメントマークが、アライメント用顕
微鏡の視野の中に入るように、ワークを、ワークステー
ジWSの所定の位置に載置しなければならない。そのた
めには、粗アライメント部FAにおいてあらかじめワー
クステージWSの位置に対するワークの位置を、おおよ
そ位置合わせしておき、その後ワークステージWSに搬
送する必要がある。即ち、ワーク搬送機構RAが、ワー
クを粗アライメント部FAからワークステージWSに搬
送した時、マスクアライメントマークとワークアライメ
ントマークとが一致した時のワークの位置を再現するよ
うに、ワークを粗アライメント部FAにより移動する。
このことにより、およその位置合わせができる。これを
粗アライメントという。
などに突き当てる方式、ワークのエッジを光センサ等に
より非接触にて検出する方式によって、エッジの位置情
報に基づき、ワークの周縁に設けられたオリエンテーシ
ョンフラットやノッチといった形状上の特異点を検出
し、その後、ワークを所定量回転し、また、ワーク中心
を前記したような位置に移動する、ということが行われ
る。粗アライメント部FAは、例えば、図2に示すよう
に、ワークWを載置し回転させる回転ステージRS、回
転ステージRSをXY(Xは例えば同図の左右方向、Y
は同図紙面の垂直方向)方向に移動させるXYステージ
XYS、回転中のワークWのエッジ検出するエッジ検出
センサES、検出したワークのエッジの位置情報からワ
ークWの中心と特異点(オリフラまたはノッチ等)の向
きを演算する制御部C1から構成される。
ワークWが載置された回転ステージRSを回転させ、エ
ッジ検出センサESにより検出されたワークWのエッジ
位置に基づき、オリフラまたはノッチを所定の方向に向
けるとともに、XYステージXYSを移動させ、ワーク
Wの中心をワークステージWSの所定の位置に対応する
位置に移動させる。この粗アライメントは以上のような
処理のために、粗アライメントに必要な時間は約25秒
である。
テージCS、粗アライメント部FA、ワークステージW
Sの各構成部位に搬送するロボットであり、ワークを保
持するためのアームが1本のもの、あるいは、2本のも
のを使用することができる。以下、1本のアームにより
ワークを保持するワーク搬送機構、2本のアームにより
ワークを保持するワーク搬送機構について説明する。
ワーク搬送機構 図3は1本のアームによりワークを保持するワーク搬送
機構の一例を示す図である。ワーク搬送機構RAは同図
に示すように、ベースRA1上に回転可能に支持された
回転部RA2と、回転部RA2上で回転する第1のアー
ムRA3と、第1の関節部RA4で第1のアームRA3
に回転可能に取り付けられた第2のアームRA5と、第
2の関節部RA6で第2のアームRA5に回転可能に取
り付けられたワーク保持アームRA7とを備えており、
ワーク保持アームRA7に先端には、ワークを真空吸着
等により保持するワーク保持部RA8が設けられてい
る。
は、図4(a)(b)に示すように折れ曲がり、これに
より、ワーク保持アームRA7は、回転軸aを原点とし
て、同図の矢印方向に移動する。また、回転部RA2を
回転させることにより、ワーク保持アームRA7の向き
は図4(c)に示すように変わる。すなわち、ワーク搬
送機構RAのワーク保持アームRA7は、回転部RA2
の軸aを中心として回転するとともに、軸aを原点とし
て放射方向に移動し、ワーク保持部RA8で保持したワ
ークを搬送する。また、ベースRA1は回転部RA2を
上下方向に移動させる機構を備えており、これによりワ
ーク保持アームRA7は上下方向に移動する。
ワーク搬送機構 図5は2本のアームを備えたワーク搬送機構の一例を示
す図である。同図に示すワーク搬送機構RAは、ベース
RA1上に回転可能に支持された回転部RA2と、回転
部RA2上で回転する第1のアームRA3,RA3’
と、第1の関節部RA4,RA4’において第1のアー
ムRA3,RA3’に回転可能に取り付けられた第2の
アームRA5,RA5’と、第2の関節部RA6,RA
6’において第2のアームRA5,RA5’に回転可能
に取り付けられたワーク保持アームRA7,RA7’と
を備えており、上下に配置されたワーク保持アームRA
7,RA7’の先端には、ワークを真空吸着等により保
持するワーク保持部RA8,RA8’が設けられてい
る。なお、第2のアームRA5,RA5’には、アーム
相互の干渉を避けるため逃げ部材RA9,RA9’が設
けられており、逃げ部材RA9,RA9’はワーク保持
アームRA7,RA7’に固定されており、逃げ部材R
A9,RA9’を介してワーク保持アームRA7,RA
7’が、第2のアームRA5,RA5’に回転可能に取
り付けられている。
ームRA7,RA7’のそれぞれの動作は、前記図3、
図4で説明したものと同じであり、ワーク保持アームR
A7,RA7’は、回転部RA2の軸bを原点として、
それぞれ独立して同一方向(同図の矢印方向)に移動す
る。そして、回転部RA2が回転することにより、ワー
ク保持アームRA7,RA7’の向きが変わる。すなわ
ち、ワーク保持アームRA7およびRA7’は常に上下
に重なったまま回転し、軸bを原点としてそれぞれ独立
して放射方向に移動する。なお、上記したワーク搬送機
構の詳細については、例えば、特開平8−274140
号公報を参照されたい。
示す図である。図6において、MCは主制御部、C1は
前記した粗アライメント部FAを制御する粗アライメン
ト制御部、C2はワークステージWSを制御するワーク
ステージ制御部、C3は前記したワーク搬送機構RAを
制御するワーク搬送機構制御部、C4はカセットステー
ジCSを制御するカセットステージ制御部である。粗ア
ライメント制御部C1は、前記したように、粗アライメ
ント動作を制御し、ワークステージ制御部C2は、前記
したマスクマークの検出・記憶処理PA、ワークの精ア
ライメント動作、および、露光処理の制御を行う。
ークの搬出、回収時、カセットステージを制御し、ワー
ク搬送機構制御部C4は前記図3、図5に示したワーク
搬送機構RAによるワークの搬送を制御する。主制御部
MCは、上記粗アライメント制御部C1、ワークステー
ジ制御部C2、カセットステージ制御部C3、ワーク搬
送機構制御部C4に指令を与えて、ワークの搬送手順を
制御するとともに、各構成部位(カセットステージC
S、粗アライメント部FA、ワークステージWS)にお
いて、露光処理、粗アライメント、ワークの搬入、回収
作業を行わせる。
の動作について説明する。 (1)従来例1 図10は、上記図3に示したワーク搬送機構RAを用い
た従来の露光装置において、カセットステージCS、粗
アライメント部FA、ワークステージWSの間をワーク
がどのように移送され、処理されているかを示す図であ
り、横軸は時間であり、縦軸はワークが存在する場所を
示している。また、各線はワークが流れていく道筋を表
し、四角の表示は各処理が行われていることを示す。次
に、前記図1および図10により、ワークの搬送および
露光処理工程を説明する。なお、以下の丸数字は図1に
示された丸数字に対応している。また、図10中のn−
1,n,n+1はそれぞれn−1枚目、n枚目、n+1
枚目のワークを表している。
のワークを、ワーク搬送機構RAのワーク保持アーム
(以下、単にアームという)で保持して、粗アライメン
ト部FAから取りだす(図10のa、図1の)。ワー
クステージWSではマスクアライメントマーク(以下、
マスクマークという)の検出・記憶処理PAが完了し、
マスクマークの位置が記憶されている。 (2) ワークを保持したアームを粗アライメント部FA方
向からワークステージWS方向へ方向転換し、アームを
伸ばして、n−1枚目のワークをワークステージWSに
載置する(図1の)。ワークステージWSでは、アラ
イメント機構により、上記マスクマーク検出・記憶処理
PAにより記憶されたマスクマークとn枚目のワークに
印されたワークアライメントマーク(以下、ワークマー
クという)との位置合わせ(精アライメント)を行い、
ワークの露光処理を行う(図10のb)。その間、ワー
ク搬送機構RAは、n枚目のワークをカセットステージ
CSのワークカセットから取り出し(図1の)、粗ア
ライメント部FAへ搬送し(図10のc、図1の)、
粗アライメント部FAで、上記n枚目のワークの粗アラ
イメントを行う(図10のd)。
クを、ワークステージWSから取りだし(図1の)、
n−1枚目のワークを保持したアームをワークステージ
WS方向からカセットステージCS方向へ方向転換す
る。アームを伸ばして、n−1枚目のワークをカセット
ステージCSのワークカセットヘ移し収納する(図10
のe、図1の)。ワークが無くなったワークステージ
WSでは、前記したように、マスクマーク検出・記憶処
理PAが行われる(図10のf)。 (4) 粗アライメントの終了したn枚目のワークを、アー
ムで保持して、粗アライメント部FAから取りだす(図
10のg、図1の)。以下、同様に、n+1,n+
2,…,枚目のワークの搬送・粗アライメント、露光処
理を行う。なお、ワーク搬送機構RAのアームによる、
各部位(カセットステージCS、粗アライメント部F
A、ワークステージWS)へのワークの受け渡し時に
は、必要に応じて、両者を垂直方向に相対移動して高さ
合わせを行う。
メント部FA、ワークステージWSにおいて、各作業に
要する時間は、図10に示すように下記の通りである。 ・ワークステージWSでの処理時間(精アライメント+
露光):20s ・粗アライメント時間;25s ・マスクマーク検出・記憶時間:10s また、n枚目のワークの処理開始からn+1枚目のワー
クの処理開始までの時間(タクト)は51sである。
間内に処理できるワーク数量(スループット)を少しで
も多くすることが要請されている。スループットを多く
する手段としては、以下の2つが考えられる。 露光装置において、その中における各部位(WS,
FA,CS)での、ワーク1枚あたりの処理時間を短く
する。 露光装置において、各部位間でワークの取り出し、
搬送、載置に要する時間を短くする。すなわち、スルー
プットを良くするためには、装置内でのワークの搬送を
効率良く行うために、前記図3に示したアームが1本の
ロボットを用いてワーク搬送機構RAを構成することに
換えて、図5に示した2本のアームを備えたワーク搬送
機構RAを用いることが考えられる。
7’を備えたワーク搬送機構を用いると、各処理部で処
理済ワークと処理前ワークとの交換を連続して行うこと
ができるために、スループットの向上を図ることができ
る。すなわち、カセットステージCS、ワークステージ
WS、粗アライメント部FAにおいて、それぞれの処理
終了後に一方のアームによりワークを搬出し、続いて、
もう一方のアームにより処理前ワークの搬入を行うよう
に搬送する。図5に示すワーク搬送機構を用いて前記図
1で説明したワークの搬送および露光処理を行う場合の
従来の手順を図11により説明する。なお、図11中の
n−1,n,n+1はそれぞれn−1枚目、n枚目、n
+1枚目のワークを表している。なお、以下の説明で
は、ワーク保持アームRA7をアーム1、ワーク保持ア
ームRA7’をアーム2として説明する。
部FAにおいて粗アライメントし(図11のa)、ま
た、n−2枚目のワークをワークステージWSにおいて
露光処理する(図11のb)。その間に、ワーク搬送機
構RAのアーム1がワークカセットからn枚目のワーク
を取り出し、ワーク搬送機構RAを粗アライメント部F
Aの方向に回転させる(図11のc)。 (2) n−1枚目のワークの租アライメントが終了する
と、ワーク搬送機構RAのアーム2が、粗アライメント
部FAからn−1枚目のワークを取り出す(図11の
d)。続いてアーム1がn枚目のワークを粗アライメン
ト部FAに搬入する(図11のe)。
われる(図11のf)。ワーク搬送機構RAが、ワーク
ステージWSの方向に回転し、アーム1が、ワークステ
ージWSから処理の終わったn−2枚目のワークを取り
出す(図11のg)。ワークが無くなったワークステー
ジWSでは、マスクマークの検出・記憶処理PAが行わ
れる(図11のh)。ワークステージWSにおけるマス
クマークの検出・記憶処理PAが終了するのを待って、
アーム2が、n−1枚目のワークをワークステージWS
に搬入し(図11のi)、n−1枚目のワークの露光処
理を行う(図11のj)。 (4) ワーク搬送機構RAはカセットステージCSの方向
に回転し、アーム1がワークカセットに露光済のn−2
枚目のワークを収納する(図11のk)。続いて、ワー
ク搬送機構RAのアーム1は、n+1枚目のワークをワ
ークカセットから取り出す。以下、上記動作を繰り返
す。
う主制御部MC(前記図2参照)の処理手順を示すフロ
ーチャートであり、同図により、従来例2について主制
御部MCの処理を説明する。なお、同図は、既に、粗ア
ライメント部FA、ワークステージWSにワークが搬入
され、粗アライメント、露光処理が行われている状態か
ら始まる場合を示している。図12のステップS1にお
いて、未処理ワークがあるかを調べ、未処理ワークがな
い場合には処理を終了する。未処理ワークがある場合に
は、ステップS2において、主制御部MCは、ワーク搬
送機構制御部C4、カセットステージ制御部C3に対し
て、アーム1による未処理ワーク(n枚目)の取り出し
を指示する。これにより、ワーク搬送機構RAはカセッ
トステージCS方向に方向転換し、アーム1によりカセ
ットステージCSのワークカセットからワークを取り出
す。ステップS3において、主制御部MCは、粗アライ
メント制御部C1からn−1枚目のワークの粗アライメ
ント完了信号が上がってくるのを待つ。
4において、主制御部MCは、ワーク搬送機構制御部C
4に対して、アーム2による粗アライメント済のワーク
(n−1枚目)の取り出しを指示する。これにより、ワ
ーク搬送機構RAはアーム2により粗アライメント部F
Aからワークを取り出す。ステップS5において、主制
御部MCは、ワーク搬送機構制御部C4に対して、アー
ム1が保持する未処理ワーク(n枚目)の粗アライメン
ト部FAへの搬入を指示する。これにより、ワーク搬送
機構RAはアーム2により粗アライメント部FAに未処
理ワークを搬入する。ステップS6において、主制御部
MCは、粗アライメント制御部C1に対して、未処理ワ
ーク(n枚目)の粗アライメントを指示する。これによ
り、粗アライメント部FAは前記したように未処理ワー
クの粗アライメントを行う。
ワークステージ制御部C2からn−2枚目のワークの露
光完了信号が上がってくるのを待つ。露光が完了する
と、ステップS8において、主制御部MCは、ワーク搬
送機構制御部C4に対して、アーム1による露光済ワー
ク(n−2枚目)の取り出しを指示する。これにより、
ワーク搬送機構RAはアーム1により露光済ワークを取
り出す。
MCは、ワークステージ制御部C2に対して、マスクマ
ークの検出・記憶処理PAの開始を指示し、ステップS
10において、マスクマークの検出・記憶処理終了信号
が上がってくるのを待つ。マスクマークの検出・記憶処
理PAが終了すると、ステップS11において、主制御
部MCは、ワーク搬送機構制御部C4に対して、アーム
2が保持する粗アライメント済のワーク(n−1枚目)
のワークステージWSへの搬入を指示する。これにより
ワーク搬送機構RAは、アーム2が保持する粗アライメ
ント済ワーク(n−1枚目)をワークステージWSに搬
入する。
は、ワークステージ制御部C2に対し、ワーク(n−1
枚目)の露光開始を指示する。これにより、ワークステ
ージ制御部C2は、前記したようにワークの精アライメ
ント、露光処理を行う。ステップS13において、主制
御部MCはワーク搬送機構制御部C4、カセットステー
ジ制御部C3に対して、アーム1が保持する露光済ワー
ク(n−1枚目)のカセットステージCSへの回収を指
示する。これにより、アーム1が保持している露光済ワ
ークはカセットステージCSのワークカセットに収納さ
れる。ついで、ステップS14において、nに1を加え
てステップS2に戻り、上記処理を繰り返す。
メント部FA、ワークステージWSにおける各処理時間
は、図11に示すように前記図10の場合と同じである
が、2本のアームを持つワーク搬送機構RAを用いる場
合には、n枚目のワークが処理開始されてからn+1枚
目のワークが処理開始されるまでの時間、いわゆるタク
ト、は前記図10の場合より15秒短縮され46秒であ
る。
アームを持つワーク搬送機構RAを用いることにより、
1本のアームを持つワーク搬送機構RAを用いる場合に
較べ、効率の良いワークの搬送ができスループットを改
善することができた。しかしながら、上記した従来技術
は、2本のアームを持つワーク搬送機構RAの能力を十
分に活用したものとはいえず、さらなるスループットの
改善が要望されている。本発明は、上記した事情を考慮
してなされたものであって、その目的とするところは、
2本のアームを持つワーク搬送機構の能力を十分に活用
することができ、スループットをさらに向上させること
ができる露光装置を提供することである。
るため、本発明は、前記図5に示した2本のアームを備
えたワーク搬送機構を用いた前記図1に示した露光装置
において、一方のアームがワークステージから処理済ワ
ークを取り出してから、他方のアームがワークステージ
に処理前ワークを搬入するまでの時間(すなわち、マス
クのアライメントマークの検出・記憶処理PAを行って
いる時間)に、一方のアームによってワークステージか
ら取り出された処理済ワークを、カセットステージに載
置されたワークカセットに載置収納するようにしたもの
である。これによって、アームの時間を有効に利用して
時間的効率を上げ、スループットを改善することができ
た。
のワークの搬送および露光処理について説明する。本実
施例は、前記図5に示した2本のアームによりワークを
保持するワーク搬送機構RAを用いて、前記図1に示し
た露光装置を図6の制御装置により制御する場合を示し
ている。なお、図7中のn−1,n,n+1はそれぞれ
n−1枚目、n枚目、n+1枚目のワークを表してい
る。なお、以下の説明では、ワーク保持アームRA7を
アーム1、ワーク保持アームRA7’をアーム2として
説明する。
WSにおいて露光処理している間(図7のa)に、ワー
ク搬送機構RAのアーム1がワークカセットからn−1
枚目のワークを取り出し、粗アライメント部FAに搬入
し(図7のb)、粗アライメント部FAでn−1枚目の
ワークの粗アライメントを行う(図7のc)。なお、粗
アライメントが終了したn−2枚目のワークは、ワーク
搬送機構RAのアーム2が保持している。 粗アライメント部FAへのn−1枚目のワークの搬入
後、ワーク搬送機構RAはワークステージWSの方向に
回転する。 (2) ワークステージWSでの露光が終了すると、アーム
1がワークステージWSから露光済のn−3枚目のワー
クを取り出す。ワークが無くなったワークステージWS
では、前記したマスクマークの検出・記憶処理PAを行
う(図7のe)。また、この間の時間を利用して、ワー
ク搬送機構RAのアーム1はカセットステージCSの方
向に回転し、アーム1はワークステージWSから取り出
した処理済のn−3枚目のワークを、カセットステージ
CSのワークカセットに収納する(図7のd)。
ステージWS方向に回転し、ワークステージWSに、ア
ーム2が保持している露光処理前のn−2枚目のワーク
を載置し(図7のf)、n−2枚目のワークの露光処理
を行う(図7のg)。 (4) 再びワーク搬送機構RAはカセットステージCSの
方向に回転し、アーム1はワークカセットからn枚目の
ワークを取り出す(図7のh)。 (5) 続いてワーク搬送機構RAは粗アライメント部FA
の方向に回転し、アーム2により、粗アライメントが終
了したn−1枚目のワークを取り出し(図7のi)、ま
た、アーム1が保持していたn枚目のワークを粗アライ
メント部FAへ搬入する(図7のj)。 (6) 粗アライメント部FAへのn枚目のワークの搬入
後、ワーク搬送機構RAはワークステージWSの方向に
回転する。 (7) 以下、上記(2) 〜(6) を繰り返す。
制御部MC(前記図6参照)の処理手順を示すフローチ
ャートであり、同図により、本実施例の主制御部MCの
処理を説明する。なお、同図は、図12、図13の場合
と同様、既に、粗アライメント部FA、ワークステージ
WSにワークが搬入され、粗アライメント、露光処理が
行われている状態から始まる場合を示している。また、
図9の点線で囲んだ部分の処理が前記従来例2の処理と
異なっている。図8に示した処理は前記図12と同じで
あり、以下簡単に説明する。図8のステップS1におい
て、未処理ワークがあるかを調べ、未処理ワークWがな
い場合には処理を終了する。未処理ワークがある場合に
は、前記と同様、ステップS2において、主制御部MC
は、ワーク搬送機構制御部C4、カセットステージ制御
部C3に対して、アーム1による未処理ワーク(n枚
目)の取り出しを指示し、ステップS3において、粗ア
ライメント制御部C1からn−1枚目のワークの粗アラ
イメント完了信号が上がってくるのを待つ。
4において、主制御部MCは、ワーク搬送機構制御部C
4に対して、アーム2による粗アライメント済のワーク
(n−1枚目)の取り出しを指示し、ステップS5にお
いて、アーム1が保持する未処理ワーク(n枚目)の粗
アライメント部FAへの搬入を指示する。ステップS6
において、主制御部MCは、粗アライメント制御部C1
に対して、未処理ワーク(n枚目)の粗アライメントを
指示し、ステップS7において、ワークステージ制御部
C2からn−2枚目のワークの露光完了信号が上がって
くるのを待つ。露光が完了すると、ステップS8におい
て、主制御部MCは、ワーク搬送機構制御部C4に対し
て、アーム1による露光済ワーク(n−2枚目)の取り
出しを指示する。
Cは、ワークステージ制御部C2に対して、マスクマー
クの検出・記憶処理PAの開始を指示する。その間に、
ステップS10において、主制御部MCはワーク搬送機
構制御部C4、カセットステージ制御部C3に対して、
アーム1が保持する露光済ワーク(n−1枚目)のカセ
ットステージCSへの回収を指示する。これにより、ア
ーム1が保持している露光済ワークはカセットステージ
CSのワークカセットに収納される。ついで、ステップ
S11において、マスクマークの検出・記憶処理終了信
号が上がってくるのを待つ。
すると、ステップS12において、主制御部MCは、ワ
ーク搬送機構制御部C4に対して、アーム2が保持する
粗アライメント済のワーク(n−1枚目)のワークステ
ージWSへの搬入を指示する。これによりワーク搬送機
構RAは、アーム2が保持する粗アライメント済ワーク
(n−1枚目)をワークステージWSに搬入する。ステ
ップS13において、主制御部MCは、ワークステージ
制御部C2に対し、ワーク(n−1枚目)の露光開始を
指示する。これにより、ワークステージ制御部C2は、
前記したようにワークの精アライメント、露光処理を行
う。ついで、ステップS14において、nに1を加えて
ステップS2に戻り、上記処理を繰り返す。
トにワークを載置収納する作業を、ワークステージWS
がマスクアライメントマークの検出それの記憶処理PA
を行っている間の待ち時間に行うようにしたものであ
る。これによって、図7に示したようにワークカセット
にワークを載置収納する時間である5秒が短縮され、タ
クトは41秒となり、図11の場合に比べて、スループ
ットが向上した。
は、ワークステージから処理済ワークを取り出した後、
マスクのアライメントマークの検出・記憶処理が終了し
て、次の処理前ワークの搬入が可能となるまでの待ち時
間の間に、処理済ワークをカセットステージに載置され
たワークカセットに収納しているので、ワークカセット
にワークを載置収納する時間を短縮することができ、ス
ループットを改善することができる。
図である。
る。
送機構の一例を示す図である。
る。
送機構の一例を示す図である。
ムの構成を示す図である。
処理の工程を示す図である。
順を示すフローチャート(その1)である。
順を示すフローチャート(その2)である。
理の工程(従来例1)を示す図である。
理の工程(従来例2)を示す図である。
示すフローチャート(その1)である。
示すフローチャート(その2)である。
Claims (1)
- 【請求項1】 複数のワークを収めたワークカセットを
載置する、カセットステージと、 ワークのエッジを検出し、その検出信号を記憶・演算す
ることにより、ワーク周縁に設けられた形状の特異点の
方向と、ワークの中心とを求め、上記特異点の方向を所
定の方向に向け、ワークの中心をワークステージの所定
の位置に対応する位置に移動させる、粗アライメント部
と、 マスクアライメントマークの検出と記憶処理を行った後
に、ワークの精アライメント及び露光処理を行うワーク
ステージとの3つの処理部と、 回転体の中心部の支軸を原点として、同一の放射方向に
伸縮する第1と第2のアームを備え、各アームの先端に
保持したワークを搬送するようにしたワーク搬送機構
と、上記3つの処理部とワーク搬送機構を制御する制御
部とを備え、 上記制御部が、上記3つの処理部とワーク搬送機構を制
御して、上記カセットステージに載置されたワークカセ
ットからワークを取り出して、上記粗アライメント部
へ、また、該粗アライメント部から上記ワークステージ
へ、さらに該ワークステージから上記カセットステージ
に設置されたワークカセットヘワークを搬送し、上記ワ
ークの粗アライメントおよび露光を行う露光装置におい
て、 上記制御部は、上記ワーク搬送装置の一方のアームが上
記ワークステージから処理済ワークを取り出し、他方の
アームが上記ワークステージに次の処理前ワークを搬入
するまでの時間に、一方のアームによって上記ワークス
テージから取り出された処理済ワークを、上記カセット
ステージに載置されたワークカセットに載置収納するよ
うに制御することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14416198A JP3449220B2 (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14416198A JP3449220B2 (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11340121A true JPH11340121A (ja) | 1999-12-10 |
| JP3449220B2 JP3449220B2 (ja) | 2003-09-22 |
Family
ID=15355627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14416198A Expired - Fee Related JP3449220B2 (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3449220B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006013493A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-01-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| KR100842496B1 (ko) | 2006-12-26 | 2008-07-01 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 노광 공정에서의 오버레이 매칭 방법 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07176589A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-07-14 | Tokyo Electron Ltd | 製造装置および製造方法 |
| JPH09246352A (ja) * | 1996-03-04 | 1997-09-19 | Nikon Corp | 基板搬送方法 |
| JPH10247674A (ja) * | 1997-03-04 | 1998-09-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2003115525A (ja) * | 2002-07-30 | 2003-04-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
-
1998
- 1998-05-26 JP JP14416198A patent/JP3449220B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07176589A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-07-14 | Tokyo Electron Ltd | 製造装置および製造方法 |
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| KR100842496B1 (ko) | 2006-12-26 | 2008-07-01 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 노광 공정에서의 오버레이 매칭 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3449220B2 (ja) | 2003-09-22 |
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