JPH11340182A5 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH11340182A5 JPH11340182A5 JP1998159893A JP15989398A JPH11340182A5 JP H11340182 A5 JPH11340182 A5 JP H11340182A5 JP 1998159893 A JP1998159893 A JP 1998159893A JP 15989398 A JP15989398 A JP 15989398A JP H11340182 A5 JPH11340182 A5 JP H11340182A5
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- JP
- Japan
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- concentrations
- methylenephosphonic acid
- isopropylenediaminebis
- nitrilotris
- dissolved
- Prior art date
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- Pending
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Description
実施例２
ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）の代りに本発明のホスホン酸系キレート剤であるイソプロピレンジアミンビス（メチレンホスホン酸）を所定の濃度（10-2％及び10-6％）に溶解した溶液を用いた以外は、実施例１と同様の方法で汚染ウェーハを処理した後、当該ウェーハ表面のFe及びCu濃度を測定した。結果を表１に併せて示す。
ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）の代りに本発明のホスホン酸系キレート剤であるイソプロピレンジアミンビス（メチレンホスホン酸）を所定の濃度（10-2％及び10-6％）に溶解した溶液を用いた以外は、実施例１と同様の方法で汚染ウェーハを処理した後、当該ウェーハ表面のFe及びCu濃度を測定した。結果を表１に併せて示す。
表１
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15989398A JPH11340182A (ja) | 1998-05-25 | 1998-05-25 | 半導体表面洗浄剤及び洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15989398A JPH11340182A (ja) | 1998-05-25 | 1998-05-25 | 半導体表面洗浄剤及び洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11340182A JPH11340182A (ja) | 1999-12-10 |
| JPH11340182A5 true JPH11340182A5 (ja) | 2005-09-22 |
Family
ID=15703486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15989398A Pending JPH11340182A (ja) | 1998-05-25 | 1998-05-25 | 半導体表面洗浄剤及び洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11340182A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4224652B2 (ja) * | 1999-03-08 | 2009-02-18 | 三菱瓦斯化学株式会社 | レジスト剥離液およびそれを用いたレジストの剥離方法 |
| JP2002113431A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-16 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄方法 |
| DE10115161A1 (de) * | 2001-03-27 | 2002-10-10 | Henkel Kgaa | Reiniger für Magnesium, Aluminium und deren Legierungen |
| JP2003077899A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-14 | Sharp Corp | 半導体基板の洗浄方法 |
| JP4039662B2 (ja) * | 2002-08-13 | 2008-01-30 | 株式会社Ｓｕｍｃｏ | 半導体基板又は素子の洗浄方法 |
| JP4912592B2 (ja) * | 2002-11-08 | 2012-04-11 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨用組成物及びその使用方法 |
| JP4637010B2 (ja) * | 2004-12-07 | 2011-02-23 | 花王株式会社 | 剥離剤組成物 |
-
1998
- 1998-05-25 JP JP15989398A patent/JPH11340182A/ja active Pending
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