JPH11348172A

JPH11348172A - 光触媒フィルム及びその製造方法

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Publication number: JPH11348172A
Application number: JP10160157A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Yamada; 泰山田
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1998-06-09
Filing date: 1998-06-09
Publication date: 1999-12-21
Anticipated expiration: 2018-06-09
Also published as: JP4121620B2

Abstract

(57)【要約】【課題】光触媒層を設けたプラスチックフィルムが、
光触媒フィルムとして使用されたとき、上記プラスチッ
クフィルムが、光触媒の作用によって分解したり、劣化
したりしない透明な光触媒フィルム及びその製造方法の
提供を課題とする。【解決手段】基材フィルム１の一方の側に、厚みが１０
０〜２０００Åのケイ素酸化物又はアルミニウム酸化物
からなる蒸着層２及び酸化チタンを主成分とする光触媒
層３からなる光触媒フィルム１０であって、上記の蒸着
層２がアルミニウム及び／又はケイ素の少なくとも１種
類の無機酸化物を物理蒸着法により連続して構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光活性作用が高
く、脱臭、殺菌、汚染防止、藻類の成育を抑制する触媒
層を含む光触媒フィルムにおいて、光触媒の作用によっ
て基材フィルムが劣化したり、光触媒層が脱落したりし
ない安定した光触媒フィルムの提供を課題とするもので
ある。

【０００２】

【従来技術】紫外線のエネルギーによって、化学物質か
ら発生する臭いの除去、細菌、藻類や黴の成育を抑制し
て水処理や太陽電池の受光部ガラスの汚染防止や、建
材、家具、家電製品などの表面に於ける黴防止や、細菌
的汚染を抑制するために光触媒フィルムが使用されてき
た。そして、表面に付着する化学物質の分解や微生物の
成育の抑制を促進する光触媒にはアナターゼ型酸化チタ
ンなどが多用されている。光触媒は粉末状もしくは溶液
に懸濁させる方が触媒活性は高いが、実用的には触媒の
微粒子をバインダーで固着させた光触媒層を透明なフィ
ルム状の担体に設け、太陽電池受光部や、建材、家具、
家電製品などの表面に貼着や積層して設けて使用される
ことが多い。

【０００３】光触媒フィルムは、光触媒の微粒子を含む
光触媒層を基材フィルムとしてニトロセルロース、ポリ
ビニルブチラール、アクリル酸及び／又はメタアクリル
酸エステルの共重合体、塩化ビニル系共重合体、ポリプ
ロピレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・
アクリル酸共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共
重合体、アイオノマー、ポリアミド、ポリエステルなど
の延伸又は未延伸フィルムに光触媒層を形成して供され
ていた。また、ガラス又はセラミックなどの無機高分子
のシートや板に光触媒層を直接形成することも行われて
いた。

【０００４】しかしながら、上記物質のなかで有機物を
基材フィルムとした場合、光触媒層の触媒作用によって
基材フィルムを劣化したり、分解したりして触媒層が脱
落するなどの問題点があった。光触媒とプラスチックフ
ィルムとの十分な接着を得ることが困難であった。そし
て、接着を強固にするためには基材フィルムにテトラメ
トキシシランなどのシリカゾルを塗工し、加熱処理、ア
ルカリ処理などでゲル化を行う方法もある。しかしなが
ら、加熱処理は、塗工材を１００℃以上の高温で長時間
処理の必要があり、またアルカリ処理はアミンのように
アルカリ雰囲気下でゲル化処理を行う必要がある。した
がってフィルムにこのような特殊な処理を施すには、極
めて特殊な乾燥装置・ゲル化装置が必要である。そし
て、このようにして光触媒を施しても有機物である基材
フィルムは、光触媒の作用によって分解したりして触媒
層が脱落したりするなどの問題点は避けることができな
いものである。また、基材がセラミックなどの無機物の
場合でも、光触媒層のバインダーに有機高分子を使用す
ると、光触媒の粒子表面がバインダーで被覆されるため
に触媒としての活性が低下されるばかりでなく、バイン
ダーも触媒作用によって劣化したり、分解したりして触
媒層が基材から脱落するなどの問題点があった。

【０００５】基材が無機物の場合は、触媒を有機物を全
く存在しない状態でスパッタリングで形成したり、アル
キルチタネートを塗工・焼成して形成したり、チタニア
ゾルのスプレー・焼成したりして、光触媒層を無機物に
形成している。しかしながら、基材上での光触媒粒子の
生成は、結晶化及び基材との接着を確実にするために、
場合によっては２００℃を超える高温度の焼成が必要で
あり、大面積の光触媒フィルムを形成できないばかりで
なく、製造コストが高いという問題点があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
を解決するために、有機物である透明なプラスチックフ
ィルムに、光触媒層を形成して、光触媒フィルムとして
供されても基材フィルムが光触媒の作用によって分解し
たり、劣化したりしない透明な光触媒フィルムの提供を
課題とするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の課題を達成するた
めに本発明は、図１に示すとおり基材フィルム１の一方
の面に、厚みが１００〜２０００Åのケイ素酸化物又は
アルミニウム酸化物からなる蒸着層２、及び酸化チタン
を主成分とする光触媒層３とからなる光触媒フィルム１
０であって、上記蒸着層２がアルミニウム及び／又はケ
イ素の中の少なくとも１種類の酸化物を連続して含む光
触媒フィルムである。また、ＳｉＯ_xのｘが１．５乃至
２．０であり、若しくはＡｌＯ_xのｘが１．０乃至１．
５である光触媒フィルム１０である。

【０００８】そして、上記の蒸着層２が、アルミニウム
及び／又は、ケイ素の少なくとも１種類の酸化物を連続
して含む層を物理蒸着法で形成する光触媒フィルム１０
の製造方法である。また、図２に示すように上記の蒸着
層２に更にチタニウム、アルミニウム、ケイ素、水素又
は酸素の少なくとも２種以上の元素からなる無機プライ
マー層４、及び酸化チタンを主成分とする光触媒層３を
塗工形成する光触媒フィルム１０の製造方法である。

【０００９】

【発明の実施形態】本発明の光触媒フィルムを構成する
基材フィルムは、透明なプラスチックフィルムで、かつ
物理蒸着法を施せるとともに耐久性に優れた材料から選
択する。例えば、酢酸セルロース、ニトロセルロース
（セルロイド）、ポリビニルブチラール、アクリル酸及
び／又はメタアクリル酸エステルの共重合体、塩化ビニ
ル系共重合体、ポリプロピレン、エチレン・酢酸ビニル
共重合体、エチレン・アクリル酸共重合体、エチレン・
アクリル酸エステル共重合体、アイオノマー、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリエステル、エチレン・酢酸ビニル
共重合体ケン化物などの延伸あるいは未延伸フィルムで
ある。基材フィルムの厚みは、材質や製造方法にもよる
が、１０〜２００μｍ好ましくは１５〜５０μｍであ
る。

【００１０】本発明の蒸着層は、透明性をもつととも
に、光触媒が基材フィルムに影響を与えないように相互
の接触を阻害するものである。そして、蒸着層の厚みが
３０００Å以上では、透明性が欠けるばかりでなく可撓
性をも損なうことになる。したがって、蒸着層の厚みは
１００〜２０００Åである。

【００１１】蒸着層が、基材フィルムと十分な接着をも
つために、図３に示すように、基材フィルム１にプライ
マー層５を設け、更に蒸着層２及び光触媒層３を形成す
ることが好ましい。プライマー層は、耐候性をもつ材料
を基材フィルムに０．５〜５ｇ／ｍ²塗工し均一な塗膜
を設けるものである。使用される材料は、基材フィルム
の種類にもよるが、塩化ビニル・酢酸ビニル系共重合
体、線状ポリエステル、ポリエーテルやこれらをポリイ
ソシアネートで硬化したもの、ウレタン、エポキシ樹
脂、特に無水マレイン酸による酸硬化物やポリイソシア
ネートによる硬化物が適用できる。また、プライマー層
に光安定剤を加えることもできる。

【００１２】蒸着層は、光触媒の活性が基材フィルムに
及ぶことを阻止するバリア作用をもち、かつ透明な蒸着
層が好ましい。バリア作用を奏する蒸着層は１００Å以
上が必要であり、２００Åに達しないときは、バリア作
用の効果を奏することができず、結果として基材フィル
ムが触媒の作用で劣化することになる。透明な蒸着層を
構成する材料は、金属酸化物が好ましく、ＡｌＯ_x、Ｓ
ｉＯ_x、酸化インジウム、酸化マグネシウムなどがあ
り、好ましくは物理蒸着法によって形成されたＡｌ
Ｏ_x、ＳｉＯ_xの厚みが１００〜２０００Åのものであ
る。そして、蒸着層と光触媒層との接着を強固にする目
的で、必要に応じてコロナ放電処理や、プラズマ処理を
施すことが好ましい。

【００１３】ＳｉＯ_xのｘは、１．４以下の場合や、
２．１以上になると、蒸着層と光触媒層との接着が低下
する。したがって、ｘは、１．５〜２．０のものが好ま
しく使用できる。また、ＡｌＯ_xのｘは、０．９以下の
場合や、１．６以上になると蒸着層と光触媒層との接着
が低下する。したがって、ｘは、１．０〜１．５のもの
が好ましく使用できる。

【００１４】単なる金属酸化物の蒸着層は、通常、基材
フィルムとの接着や、光触媒層との接着が十分でないこ
とが多い。したがって、前述のように基材フィルムと蒸
着層との接着強化にはプライマー層を設けて形成するこ
ともある。しかしながら、蒸着層の面に設け、光触媒層
と直接接触する通常の有機化合物からなるプライマー層
は、短期的には活性化された光触媒によって分解されそ
のプライマー層としての作用を喪失し、光触媒層が剥離
することになる。したがって、本発明の無機プライマー
層は、光触媒の作用によって分解されない骨格に炭素を
含まない化合物から選択されるものである。例えば、有
機チタン化合物で代表されるアルキルチタネート（テト
ライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、
テトラステアリルチタネート）やチタンアシレート、チ
タンキレートなどの加水分解生成物がある。好ましく
は、加水分解速度が極めて早いテトライソプロピルチタ
ネート、テトラブチルチタネートである。その他、無機
ポリシラザン（ペルヒドロポリシラザン）などの無機ポ
リマーも使用することができる。

【００１５】上記の他に、無機プライマー層や後述の光
触媒層の構成要素としては次のものがある。メチルトリ
クロルシラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメ
トキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ
イソロプロポキシシラン、メチルトリｔ−ブトキシシラ
ン；エチルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシ
ラン、エチルトリイソロプロポキシシラン、エチルトリ
ｔ−ブトキシシラン；ｎ−プロピルトリクロルシラン、
ｎ−プロピルトリブロムシラン、ｎ−プロピルトリメト
キシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−プ
ロピルトリイソプロポキシシラン、ｎ−プロピルトリｔ
−ブトキシシラン；ｎ−ヘキシルトリクロルシラン、ｎ
−ヘキシルトリブロムシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキ
シシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキ
シルトリイソポキシシラン、ｎ−ヘキシルトリｔ−ブト
キシシラン；ｎ−デシルトリクロルシラン、ｎ−デシル
トリブロムシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ
−デシルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリイソポキ
シシラン、ｎ−デシルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−オ
クタデシルトリクロルシラン、ｎ−オクタデシルトリブ
ロムシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ
−オクタデシルトリエトキシシラン、ｎ−オクタデシル
トリイソポキシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ−ブト
キシシラン；フェニルトリクロルシラン、フェニルトリ
ブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、フェニルトリイソポキシシラン、
フェニルｔ−ブトキシシラン；テトラクロルシラン、テ
トラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエト
キシシラン；ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロ
ムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン；ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジ
ブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン；フェニルメチルジクロルシラン、
フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン；トリク
ロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメト
キシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイ
ソプロポキシヒドロシラン、トリｔ−ブトキシヒドロシ
ラン；ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリｔ
−ブトキシシラン；トリフルオロプロピルトリクロルシ
ラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフ
ルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリｔ−ブ
トキシシラン；γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリイソプロポエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリｔ−ブトキシシラ
ン；γ−メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリｔ−ブトキ
シシラン；γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプ
ロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリｔ−ブトキシ
シラン；γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリｔ−ブトキシシラン；β−（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキ
シシランなどがある。そして上記の部分加水分解物、及
びそれらの混合物を使用することができる。

【００１６】光触媒としての活性をもつ化合物は、Ｔｉ
Ｏ₂、ＺｎＯ、ＳｒＴｉＯ₃、ＣｄＳ、ＣａＰ、Ｉｎ
Ｐ、ＧａＡｓ、ＢａＴｉＯ₃、Ｋ₂ＴｉＯ₃、Ｋ₂Ｎｂ
Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₃、ＷＯ₃、ＳｎＯ₂、Ｂ
ｉ₂Ｏ₃、ＮｉＯ、Ｃｕ₂０、ＳｉＣ、ＳｉＯ₂、Ｍｏ
Ｓ₂、ＩｎＰｂ、ＲｕＯ₂、ＣｅＯ₂などや、これらに
Ｐｔ、Ｒｈ、ＲｕＯ₂、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ
などの金属及び／又はこれらの金属酸化物とを混合した
組成物を使用できる。光触媒層の塗工液に含まれる光触
媒粉末、若しくはゾルに含まれる粒子の含有量は多いほ
ど触媒としての活性が高くなるが、蒸着層との接着や塗
工適性（粉末が多いと塗工液がダイラタンテシテイを示
す）が低下するばかりでなく、光触媒層が脆くなった
り、蒸着層との層間の接着強度が低下し脱落したりする
ことがある。したがって、光触媒の密度、粒形状にもよ
るが０．１〜３０重量％が好ましい。

【００１７】光触媒層の塗工液にバインダーは、アクリ
ル・シリコーン樹脂、エポキシ・シリコーン樹脂などの
耐光性に優れた材料から選択する。光触媒層の塗工は、
その粘度や、乾燥・硬化条件によっても異なるが、材料
に応じて通常の方法で設けることができる。例えば、グ
ラビア版を用いたグラビアコート、ゴムあるいはスチー
ルロールによるロールコート、エアナイフコート、スプ
レーコート、スピンコート、ディップコートなどから適
宜に選択できる。光触媒層の触媒粒子の径が、４０ｎｍ
以下のものであり、硬化後の比表面積が５０ｍ²／ｇ以
上の金属酸化物及び／又は水酸化物のゾルを用いた光触
媒層の全光線透過率は７０％以上となる。また波長が５
５０ｎｍの全光線透過率が７０％以上の透明な基材フィ
ルムを用いた場合、透過した可視光線を証明として利用
できる。

【００１８】以下、実施例に基づいて本発明を更に詳細
に説明する。（実験例１〜５）基材フィルム１として、厚み２０μ
ｍのポリエチレンテレフタレートの二軸延伸フィルムの
片面にアルミニウムを蒸着源に用いて、電子線加熱方式
による真空蒸着法により、表１に示す厚みの蒸着層２を
形成した。その直後、グロー放電プラズマ発生装置を用
いて、プラズマ出力１５００Ｗとし、混合ガスの比率Ｏ
₂：Ａｒ＝１９：１、圧力を６×１０^-5Ｔｏｏｒ、処理
速度４２０ｍ／ｍｉｎで、酸素／アルゴン混合ガスプラ
ズマ処理を施した。上記の蒸着層２に酸化チタン微粒子
（結晶粒子径２７ｎｍ）２０重量部、シリカゾル（１５
０℃乾燥後の比表面積１８０ｍ²／ｇ）２０重量部とテ
トラエトキシシランを６０重量部とからなる光触媒塗工
液をグラビアコートで１ｇ／ｍ²塗工し光触媒層３を設
けた実験例１〜５の光触媒フィルム１０を構成した。

【００１９】

【表１】

【００２０】（実験例６〜１０）基材フィルム１とし
て、厚み２０μｍのポリエチレンテレフタレートの二軸
延伸フィルムの片面にＳｉＯ_xを蒸着源に用いて、電子
線加熱方式による真空蒸着法により、表２に示す厚みの
蒸着層２を形成した。その直後、グロー放電プラズマ発
生装置を用いて、プラズマ出力１５００Ｗとし、混合ガ
スの比率Ｏ₂：Ａｒ＝１９：１、圧力を６×１０^-5Ｔｏ
ｏｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで、酸素／アルゴン混
合ガスプラズマ処理を施した。上記の蒸着層２に酸化チ
タン微粒子（結晶粒子径２７ｎｍ）２０重量部、シリカ
ゾル（１５０℃乾燥後の比表面積１８０ｍ²／ｇ）２０
重量部とテトラエトキシシランを６０重量部とからなる
光触媒塗工液をグラビアコートで１ｇ／ｍ²塗工し光触
媒層３を設け実験例６〜１０の光触媒フィルム１０を
構成した。

【００２１】

【表２】

【００２２】（実験例１１〜１２）実験例３及び８で
作成した蒸着層２の面にイソプピルチタネートのトルオ
ール溶液を塗工し加湿下で乾燥・加水分解して図２に示
す無機プライマー層３を設けた。更に上記の無機プライ
マー層３に上記の実験例で用いた光触媒塗工液をグラビ
アコートで１ｇ／ｍ²塗工し光触媒層３を設け実験例１
１〜１２の光触媒フィルム１０を構成した。

【００２３】（実験例１３〜１４）実験例３及び８で
作成した蒸着層２の面にポリシラザンのキシレン溶液を
塗工し加湿下で乾燥加水分解して、図２に示す無機プラ
イマー層３を設けた。更に上記の無機プライマー層３に
上記の実験例で用いた光触媒塗工液をグラビアコートで
１ｇ／ｍ²塗工し光触媒層３を設け実験例１３〜１４の
光触媒フィルム１０を構成した。

【００２４】（比較例１）上記のポリエチレンテレフ
タレートフィルムを用いて、蒸着層を設けないで、フィ
ルムに直接上記実験例で使用した光触媒塗工液を実験例
と同様に塗工し光触媒層３を設け実験例比較例１の光触
媒フィルム１０を構成した。

【００２５】（比較例２）上記のポリエチレンテレフ
タレートフィルムを用いて、実験例１１で用いたイソプ
ピルチタネートのトルオール溶液を塗工し加湿下で乾燥
・加水分解して無機プライマー層を設けた。更に上記の
無機プライマー層に上記の実験例と同様に光触媒層を設
け比較例２の光触媒フィルムを構成した。

【００２６】上記の実験例及び比較例で作成した光触媒
フィルムを次の方法で評価・比較を行った。その評価の
結果を３に示す。・全光線透過率基材フィルムを基準とし、各光触媒フィルムを、５５０
ｎｍも全光線透過率を自記分光光度計を用いて測定し
た。・耐候試験光触媒フィルムの触媒層側に、サンシャインカーボンア
ークウェザーメーターを用いて、５００時間の照射後の
基材フィルムの劣化程度（抗張力及び延び）を照射前の
ものと比較する。また、光触媒層の密着強度の変化をＪ
ＩＳＫ５４００に準拠し、塗膜面に縦横各１１本の切
り込みを入れ、縦横各１０列の碁盤目を形成し、その面
にセロハン粘着テープ〔セロテープＬＤ１８ニチバ
ン（株）製商品名〕を貼着した後、１８０°方向の剥
離テストを行い、その剥離数（ｎ／１００）のｎを計数
する。・抗菌性試験（参考）１００ｍｍ×１００ｍｍに断裁した試料を１２５℃１０
分間に相当する滅菌処理をした光触媒フィルムの光触媒
層の面に大腸菌を１０５個／ｍｌの溶液を０．２ｍｌ滴
下する。そして、３０℃に保ち、インキュベーターに設
けた螢光灯（１５Ｗ×２本）を５時間照射する。所定の
照射後に試料を取り出し、滅菌生理食塩水を浸した滅菌
ガーゼで菌液を拭き取り、ガーゼを１０ｍｌの滅菌生理
食塩水に入れ攪拌した。この上澄み液を寒天培地に植え
つけ、３６℃２４時間培養後通常のコロニー数を計数し
た。

【００２７】

【表３】

【００２８】本発明の基材フィルムに透明な金属酸化物
の蒸着層を設けて形成した光触媒フィルムは、蒸着層が
もつバリア作用によって、活性のある光触媒と接するこ
とがない。したがって、上記の試験にも十分に耐える耐
久性に優れた効果を奏する光触媒フィルムの基材フィル
ムである。不特定多数の人が接する器具などで、透明な
光触媒フィルムを要求される窓ガラスや、計器盤、家電
製品、医療設備、ＯＡ機器、各種包装材料、表面の汚染
を嫌う園芸用フィルムなどに使用される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光触媒フィルムの基本的構成を示す断
面概略図である。

【図２】本発明の光触媒フィルムの他の構成を示す断面
概略図である。

【図３】本発明の光触媒フィルムの他の構成を示す断面
概略図である。

【符号の説明】

１基材フィルム２蒸着層３光触媒層４無機プライマー層５プライマー層１０光触媒フィルム

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材フィルムの一方の面に、厚みが１０
０〜２０００Åのケイ素酸化物又はアルミニウム酸化物
からなる蒸着層、及び酸化チタンを主成分とする光触媒
層とからなる光触媒フィルムであって、上記蒸着層がア
ルミニウム及び／又はケイ素の中の少なくとも１種類の
酸化物を連続して含むことを特徴とする光触媒フィル
ム。
【請求項２】請求項１に記載のケイ素酸化物（ＳｉＯ
_x）のｘが１．５乃至２であることを特徴とする光触媒
フィルム。
【請求項３】請求項１に記載のアルミニウム（ＡｌＯ
_x）のｘが１．０乃至１．５であることを特徴とする光
触媒フィルム。
【請求項４】請求項１、２、及び３に記載の蒸着層
に、更にチタニウム、アルミニウム、ケイ素、炭素、水
素又は酸素の少なくとも２種以上の元素からなるプライ
マー層、及び酸化チタンを主成分とする光触媒層とから
なることを特徴とする光触媒フィルム。
【請求項５】基材フィルムの一方の面に、厚みが１０
０〜２０００Åのケイ素酸化物又はアルミニウム酸化物
からなる蒸着層、及び酸化チタンを主成分とする光触媒
層とからなる光触媒フィルムであって、上記蒸着層が、
アルミニウム及び／又は、ケイ素の少なくとも１種類の
酸化物を連続して含む層を物理蒸着法で形成することを
特徴とする光触媒フィルムの製造方法。
【請求項６】請求項５に記載の蒸着層に更にチタニウ
ム、アルミニウム、ケイ素、炭素、水素又は酸素の少な
くとも２種以上の元素からなる無機プライマー層、及び
酸化チタンを主成分とする光触媒層を塗工形成すること
を特徴とする光触媒フィルムの製造方法。