JPH11352288A - 有機化合物を含有する放射性廃液の処理方法 - Google Patents
有機化合物を含有する放射性廃液の処理方法Info
- Publication number
- JPH11352288A JPH11352288A JP16175798A JP16175798A JPH11352288A JP H11352288 A JPH11352288 A JP H11352288A JP 16175798 A JP16175798 A JP 16175798A JP 16175798 A JP16175798 A JP 16175798A JP H11352288 A JPH11352288 A JP H11352288A
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- liquid containing
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Abstract
(57)【要約】
【課題】有機化合物を含有する放射性廃液に紫外線を照
射して有機化合物を分解除去する方法において、廃液に
含有される有機化合物の濃度が高い場合の分解効率を向
上し、処理速度の向上を図る。 【解決手段】有機化合物を含有する放射性廃液に、オゾ
ンまたは過酸化水素を添加し、かつ紫外線を照射して有
機化合物を分解除去する処理方法において、処理後の廃
液を用いて被処理液を希釈することを特徴とする有機化
合物を含有する放射性廃液の処理方法。
射して有機化合物を分解除去する方法において、廃液に
含有される有機化合物の濃度が高い場合の分解効率を向
上し、処理速度の向上を図る。 【解決手段】有機化合物を含有する放射性廃液に、オゾ
ンまたは過酸化水素を添加し、かつ紫外線を照射して有
機化合物を分解除去する処理方法において、処理後の廃
液を用いて被処理液を希釈することを特徴とする有機化
合物を含有する放射性廃液の処理方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は有機化合物を含有す
る放射性廃液の処理方法に係り、特に有機物濃度の高い
ランドリー，シャワー廃液や除染廃液の処理方法に関す
る。
る放射性廃液の処理方法に係り、特に有機物濃度の高い
ランドリー，シャワー廃液や除染廃液の処理方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】原子力発電所等のランドリー，シャワー
施設の廃液には、残留洗剤や油，人垢成分など有機化合
物が比較的高い濃度で含有される。これらの廃液を系外
へ放出する際に、周辺水域の水質維持のためには、有機
化合物を除去することが望ましい。
施設の廃液には、残留洗剤や油，人垢成分など有機化合
物が比較的高い濃度で含有される。これらの廃液を系外
へ放出する際に、周辺水域の水質維持のためには、有機
化合物を除去することが望ましい。
【０００３】有機化合物を含有する放射性廃液から有機
化合物を除去する方法には、特開平6−43292号公報に開
示されるように粉末活性炭に吸着した後、ろ過する方
法、特開昭58−52598 号公報に開示されるように、オゾ
ンまたは過酸化水素を添加し、かつ紫外線を照射して有
機化合物を分解除去する方法がある。
化合物を除去する方法には、特開平6−43292号公報に開
示されるように粉末活性炭に吸着した後、ろ過する方
法、特開昭58−52598 号公報に開示されるように、オゾ
ンまたは過酸化水素を添加し、かつ紫外線を照射して有
機化合物を分解除去する方法がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術のう
ち、特開平6−43292号公報に開示される方法においては
使用済みの活性炭が二次廃棄物として発生するので、こ
の処理が必要になる。また、特開昭58−52598 号公報に
開示される方法では、二次廃棄物の問題はないが、廃液
に含有される有機化合物の濃度が高い場合には、有機化
合物の分解効率が低下し、処理速度を大きくできない問
題があった。
ち、特開平6−43292号公報に開示される方法においては
使用済みの活性炭が二次廃棄物として発生するので、こ
の処理が必要になる。また、特開昭58−52598 号公報に
開示される方法では、二次廃棄物の問題はないが、廃液
に含有される有機化合物の濃度が高い場合には、有機化
合物の分解効率が低下し、処理速度を大きくできない問
題があった。
【０００５】本発明の目的は、有機化合物を含有する放
射性廃液に紫外線を照射して有機化合物を分解除去する
方法において、廃液に含有される有機化合物の濃度が高
い場合の分解効率を向上し、処理速度の向上を図ること
にある。
射性廃液に紫外線を照射して有機化合物を分解除去する
方法において、廃液に含有される有機化合物の濃度が高
い場合の分解効率を向上し、処理速度の向上を図ること
にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の特徴は、有機化合物を含有する放射性廃液に、オゾ
ンまたは過酸化水素を添加し、かつ紫外線を照射して有
機化合物を分解除去する処理方法において、処理後の廃
液を用いて被処理液を希釈することにある。
明の特徴は、有機化合物を含有する放射性廃液に、オゾ
ンまたは過酸化水素を添加し、かつ紫外線を照射して有
機化合物を分解除去する処理方法において、処理後の廃
液を用いて被処理液を希釈することにある。
【０００７】本発明で言う有機化合物を含有する放射性
廃液には、原子力発電所等のランドリー，シャワー施設
の廃液や、除染廃液のように有機化合物を比較的高濃度
に含む廃液が該当する。
廃液には、原子力発電所等のランドリー，シャワー施設
の廃液や、除染廃液のように有機化合物を比較的高濃度
に含む廃液が該当する。
【０００８】有機化合物を含有する廃液を紫外線を照射
して分解処理する際、有機物の初期濃度が高いと紫外線
透過度の低下、中間生成物（有機化合物のラジカル）の
再結合確率の増大等の要因で、有機物分解速度が著しく
低下する。発明者らは紫外線処理する被処理廃液の初期
有機物濃度を希釈により低くすることで、分解速度を著
しく向上できることを実験により見出した。この効果
は、希釈による被処理廃液の増容分を見込んでも、処理
速度を向上することができ、本発明に至った。
して分解処理する際、有機物の初期濃度が高いと紫外線
透過度の低下、中間生成物（有機化合物のラジカル）の
再結合確率の増大等の要因で、有機物分解速度が著しく
低下する。発明者らは紫外線処理する被処理廃液の初期
有機物濃度を希釈により低くすることで、分解速度を著
しく向上できることを実験により見出した。この効果
は、希釈による被処理廃液の増容分を見込んでも、処理
速度を向上することができ、本発明に至った。
【０００９】また、被処理廃液を希釈する際に処理後の
廃液を使用することで、最終的な廃液量は増容しないと
いう効果が得られる。
廃液を使用することで、最終的な廃液量は増容しないと
いう効果が得られる。
【００１０】
【発明の実施の形態】実施例１ 陰イオン系界面活性剤を全有機炭素濃度（ＴＯＣ）で１
００ppm 含有する廃液を１０リッター容器に入れ、過酸
化水素を５００ppm になるように添加し、水銀ランプを
用いて紫外線照射処理を実施した。図１にその時の廃液
のＴＯＣの変化を示す（Ａ）。初期濃度が１００ppm の
場合には、紫外線照射量が５０ｋＷＨ／ｍ3 以下の領域
では、ＴＯＣの減少はほとんど見られず、その後急激に
減少していく傾向が見られた。
００ppm 含有する廃液を１０リッター容器に入れ、過酸
化水素を５００ppm になるように添加し、水銀ランプを
用いて紫外線照射処理を実施した。図１にその時の廃液
のＴＯＣの変化を示す（Ａ）。初期濃度が１００ppm の
場合には、紫外線照射量が５０ｋＷＨ／ｍ3 以下の領域
では、ＴＯＣの減少はほとんど見られず、その後急激に
減少していく傾向が見られた。
【００１１】一方、被処理廃液を５０ppm に希釈した場
合（Ｂ)，(Ａ）でみられるような低照射量領域での分解
の停滞は見られず、直線的にＴＯＣが減少することがわ
かった。ＴＯＣが１／１０以下に減少する迄の紫外線照
射量を比較すると、初期濃度が１００ppm の場合が１０
０ｋＷＨ／ｍ3 、初期濃度が５０ppm の場合が３０ｋＷ
Ｈ／ｍ3 となり、紫外線照射量を３／１０に削減できる
ことがわかった。
合（Ｂ)，(Ａ）でみられるような低照射量領域での分解
の停滞は見られず、直線的にＴＯＣが減少することがわ
かった。ＴＯＣが１／１０以下に減少する迄の紫外線照
射量を比較すると、初期濃度が１００ppm の場合が１０
０ｋＷＨ／ｍ3 、初期濃度が５０ppm の場合が３０ｋＷ
Ｈ／ｍ3 となり、紫外線照射量を３／１０に削減できる
ことがわかった。
【００１２】従って、廃液を２倍に希釈して廃液量が２
倍になったが、全体として処理速度を１.５ 倍に向上で
きた。
倍になったが、全体として処理速度を１.５ 倍に向上で
きた。
【００１３】実施例２ 本発明を実施するのに適した形態を、図２を用いて説明
する。収集タンク１に貯蔵された廃液はサンプルタンク
２へ所定の量サンプリングされ、過酸化水素貯蔵タンク
３から過酸化水素を定量供給する。その後、紫外線照射
槽４へ移送し水銀ランプ５で所定時間紫外線を照射し、
処理後、処理液タンク６へ排出する。過酸化水素の替り
に、オゾン発生器７を用いて紫外線照射槽４へオゾンを
曝気しても良い。過酸化水素添加とオゾン曝気を併用す
ることもできる。処理液タンク６からサンプルタンク２
へ処理後の廃液を戻す循環系８を設けて、被処理廃液を
処理液で希釈できるようになっている。また、サンプル
タンク２と紫外線照射槽４に循環系９を設けて廃液を循
環させて紫外線を照射する方が、分解効率が良い。本発
明を実施するには、次の２つの方法がある。
する。収集タンク１に貯蔵された廃液はサンプルタンク
２へ所定の量サンプリングされ、過酸化水素貯蔵タンク
３から過酸化水素を定量供給する。その後、紫外線照射
槽４へ移送し水銀ランプ５で所定時間紫外線を照射し、
処理後、処理液タンク６へ排出する。過酸化水素の替り
に、オゾン発生器７を用いて紫外線照射槽４へオゾンを
曝気しても良い。過酸化水素添加とオゾン曝気を併用す
ることもできる。処理液タンク６からサンプルタンク２
へ処理後の廃液を戻す循環系８を設けて、被処理廃液を
処理液で希釈できるようになっている。また、サンプル
タンク２と紫外線照射槽４に循環系９を設けて廃液を循
環させて紫外線を照射する方が、分解効率が良い。本発
明を実施するには、次の２つの方法がある。
【００１４】（１）収集タンク１からサンプルタンク２
へ被処理廃液を一定量、処理液タンク６からサンプルタ
ンク２へ処理後の廃液を一定量供給して、被処理廃液を
希釈した後、紫外線照射で処理する。
へ被処理廃液を一定量、処理液タンク６からサンプルタ
ンク２へ処理後の廃液を一定量供給して、被処理廃液を
希釈した後、紫外線照射で処理する。
【００１５】（２）サンプルタンク２と紫外線照射槽４
に循環系９を設けて廃液を循環させて紫外線を照射し、
所定時間の処理を行った後、系内の処理液の一部を処理
液タンク６へ移し、同量の被処理廃液を収集タンク１か
らサンプルタンク２へ供給し、被処理廃液を希釈する。
に循環系９を設けて廃液を循環させて紫外線を照射し、
所定時間の処理を行った後、系内の処理液の一部を処理
液タンク６へ移し、同量の被処理廃液を収集タンク１か
らサンプルタンク２へ供給し、被処理廃液を希釈する。
【００１６】いずれの方法によっても、紫外線による有
機物の分解速度が向上し、処理速度も向上するととも
に、処理後の液を希釈に使用するため、廃液量は増加し
ないという効果が得られる。
機物の分解速度が向上し、処理速度も向上するととも
に、処理後の液を希釈に使用するため、廃液量は増加し
ないという効果が得られる。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば、有機化合物を含有する
放射性廃液に紫外線を照射して有機化合物を分解除去す
る際に、廃液に含有される有機化合物の濃度が高い場合
においても、処理速度が向上できる。
放射性廃液に紫外線を照射して有機化合物を分解除去す
る際に、廃液に含有される有機化合物の濃度が高い場合
においても、処理速度が向上できる。
【図１】本発明の有機物分解速度を示す特性図。
【図２】本発明の放射性廃液の処理装置を示す構成図。
１…収集タンク、２…サンプルタンク、３…過酸化水素
貯蔵タンク、４…紫外線照射槽、５…水銀ランプ、６…
処理液タンク、７…オゾン発生器、８，９…循環系。
貯蔵タンク、４…紫外線照射槽、５…水銀ランプ、６…
処理液タンク、７…オゾン発生器、８，９…循環系。
Claims (1)
- 【請求項１】有機化合物を含有する放射性廃液に、オゾ
ンまたは過酸化水素を添加し、かつ紫外線を照射して有
機化合物を分解除去する処理方法において、処理後の廃
液を用いて被処理液を希釈することを特徴とする有機化
合物を含有する放射性廃液の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16175798A JPH11352288A (ja) | 1998-06-10 | 1998-06-10 | 有機化合物を含有する放射性廃液の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16175798A JPH11352288A (ja) | 1998-06-10 | 1998-06-10 | 有機化合物を含有する放射性廃液の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11352288A true JPH11352288A (ja) | 1999-12-24 |
Family
ID=15741325
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16175798A Pending JPH11352288A (ja) | 1998-06-10 | 1998-06-10 | 有機化合物を含有する放射性廃液の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11352288A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002250793A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Teikoku Sen I Co Ltd | 除染設備 |
| JP2003103109A (ja) * | 2001-05-29 | 2003-04-08 | Commiss Energ Atom | 液体媒質中の官能基を有する有機化合物を選択的に除去する方法および装置 |
-
1998
- 1998-06-10 JP JP16175798A patent/JPH11352288A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002250793A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Teikoku Sen I Co Ltd | 除染設備 |
| JP2003103109A (ja) * | 2001-05-29 | 2003-04-08 | Commiss Energ Atom | 液体媒質中の官能基を有する有機化合物を選択的に除去する方法および装置 |
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