JPH11354561A - バンプ形成方法及びバンプ - Google Patents
バンプ形成方法及びバンプInfo
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Abstract
バンプ及びプローブカードを正確かつ高速に形成するこ
と。 【解決手段】 検査に用いる電気信号を伝達する複数の
導電体12と、複数の導電体の各々の上に形成され電気
部品と機械的に接触されるバンプ18とを有する。バン
プ18は、導電体に融着した下方部分と、バンプの先端
に近づくにつれて断面の面積が小さくなる先細の形状に
型押成形された上方部分とを有する。バンプを電気部品
に押圧する弾性体を更に有する。弾性体により電気部品
の方向へ押圧されるフレキシブルな基板54を更に有す
る。複数の導電体12のそれぞれは、基板に接着された
裏面と、バンプが設けられた表面とを有する。バンプ1
8の表面は上方部分の硬度より大きい硬度を有する高硬
度物質でメッキする。
Description
電気的接触を行うバンプ、当該バンプを導電体の上に形
成したプローブカード、及び前記バンプの形成方法に関
する。特に本発明は、導電物質を導電体に融着して形成
されたプローブカード及びバンプに関する。
には、電気部品に対して電気的接触を行うためのバンプ
形状の例が示されている。このようなバンプを形成する
為には、従来、エッチング、メッキ等の方法が用いられ
ていた。しかしながらエッチングによる方法では、生成
できるバンプの形状が著しく制限されている。またバン
プの寸法安定性が悪く、加工時間も長く、さらに製造コ
ストが高く、このため大量生産に向かない。またメッキ
によるバンプ形成方法では、外周が丸いバンプしか製造
することができない。
てバンプを形成する方法が、M&E(工業調査会)19
97年9月号に開示されている(P168−P169)。
しかしながら、本方法では半田を融着させるときにバン
プ形状が丸くなり、電気的部品に対して所望の接触を行
うことができない。
875(1997年12月17日発行、出願は1996
年8月30日に公開)は、ワイヤの先端を融解して形成
したボールを用いてバンプを生成する方法を開示してい
る。また、ワイヤの先端を融解してワイヤの先端にボー
ルを生成する工程は、日本半導体製造装置協会の半導体
製造装置用語辞典(1997年11月20日発行第4
版)に開示されている(P290)。しかしながらこの
特許公報に記載された方法は、ワイヤの先端を切断する
ために多くの工程を必要とする。また複数のバンプを形
成する場合には、各バンプの先端高さが均一にならない
という技術的課題を有する。
課題を解決することのできるバンプ、プローブカード及
び前記バンプの形成方法を提供することを目的とする。
この目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴
の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の
更なる有利な具体例を規定する。
ブカードは、電気的部品の特性の検査に用いる電気信号
を伝達する複数の導電体と、複数の導電体の各々の上に
形成されたバンプであって電気部品と機械的に接触する
バンプとを有する。バンプは、導電体に融着した下方部
分と、バンプの先端に近づくにつれて断面の面積が小さ
くなる先細形状に型押成形された上方部分とを有する。
バンプの上方部分の長さは、少なくとも20μm以上で
あることが望ましい。また先細形状としては、例えば円
錐形状とすることができる。
押圧する弾性体と、この弾性体により電気部品の方向へ
押圧されるフレキシブルな基板を更に備えても良い。複
数の導電体のそれぞれは、基板に接着された裏面とバン
プが設けられた表面とを有する。他の実施形態として
は、導電性の金属で構成した弾性体を導電体毎に独立に
設けても良い。この場合は複数の導電体のそれぞれを、
弾性体と一体に形成された金属としても良い。バンプを
複数の導電体の各々の上に形成し、バンプの高さを実質
的に同一に型押成形する。またバンプの表面を、導電性
でバンプの上方部分の硬度より大きい硬度を有する高硬
度物質でメッキする。複数の導電体の各々の上に形成さ
れたバンプが電気部品と機械的に接触する。
は、バンプを導電体の上に融着させる融着工程と、導電
体の上に融着した導電物質をバンプ成形型により所望の
形状に型押成形する成形工程とを有する。所望の形状と
しては、例えばバンプの先端に近づくにつれて断面の面
積が小さくなる円錐形状等の先細の形状とすることが出
来る。成形工程において、導電体とバンプ成形型に設け
られた窪みの周辺部分との最近接距離は窪みの深さより
小さいことが望ましい。成形したバンプの表面を前記導
電物質より大きい硬度を有するニッケル、パラジウムニ
ッケル等の高硬度物質でメッキし、更に金メッキするこ
とにより、バンプの強度及び接触電気抵抗を下げること
が出来る。
方法では、導電物質を有するワイヤの先端部分を放電加
工により融解し、融解した先端部分を導電体に当接させ
る。先端部分が導電体に当接した状態でワイヤを所定の
時間停止させ、ワイヤを導電体から引き離すことにより
先端部分を切断する。導電物質を含むボール状物質を導
電体の上に吸引搬送し、リフローにより融解してから凝
固させてもよい。
特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群の
サブコンビネーションも又発明となりうる。
本発明を説明するが、以下の実施形態はクレームにかか
る発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明
されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に
必須であるとは限らない。
ブカードの断面図である。フレキシブル基板型プローブ
カードは、プリント基板52、プリント基板52の中央
の開口部を片面側から覆う状態で装着されたフレキシブ
ル基板54、プリント基板52の中央部の開口内でフレ
キシブル基板54を押圧する弾性体50、及びフレキシ
ブル基板54上の弾性体50の反対側に設けられたバン
プ25を有する。弾性体50がフレキシブル基板54を
押圧することにより、バンプ25が電気部品に対して電
気的に接触し、電気部品の電気的特性を検査することが
できる。
面図である。フレキシブル基板54は、電気的特性の検
査に用いる電気信号をバンプ25へ伝達し、又はバンプ
25から受け取る複数の導電体12を有する。誘電物質
を含むワイヤ等を融解して導電体12の上に融着する事
により、バンプ25を各導電体12の先端部に1つづつ
形成する。
先端部分を放電加工により融解する融解工程を示す。キ
ャピラリ(ボンディングマシン)16の先からワイヤ1
3が少し出るようにして、ワイヤ13をキャピラリ16
で掴む。ワイヤ13は、金、アルミニウム又は銅材等の
導電物質を有しており、ワイヤ13と電気トーチ14と
の間に放電により電子スパークを生じさせてワイヤ13
の先端を融解する。図3Bに示すように、融解したワイ
ヤが表面張力により丸まり、ワイヤ13の先端にボール
10が形成される。ボール10が形成されると、電気ト
ーチ14はボール10から引き離される。
10を導電体12に当接させる当接工程を示す。キャピ
ラリ16が下降してボール10が導電体12に接触す
る。ボール10が変形して形成されたバンプ基材18
を、キャピラリ16の内側の凹部で支えつつ導電体12
に融着させる。バンプ基材18を冷却して凝固させるた
めに、バンプ基材18が導電体12に押しつけられた状
態で、ワイヤ13を所定の時間停止させる。
れたバンプ基材18を切断する切断工程を示す。ワイヤ
13をフレキシブル基板54の上に設けられた導電体1
2から引き離す方向へ移動させることにより、バンプ基
材18を導電体12に残してワイヤ13から切断する。
本図では、導電体12から引き離す方向の一例として、
キャピラリ16で掴んだワイヤ13を導電体12の垂直
上方に移動させるている。
ンプ基材18を、窪み21を有するバンプ成形型20に
より型押成形する様子を示す。窪み21の内周面が、バ
ンプ基材18を押圧してバンプ基材18を整形する。ま
たバンプ成形型20は、窪み21が導電体12に近接し
すぎることを防ぐために、窪み21の深さより浅い凹部
22を窪み21の周辺部分に有する。なおバンプ成形型
20は、変形を防止するためにSK材又はそれと同等以
上の硬度を持つ素材で製造することが望ましい。
プ基材18の余剰部分が凹部22内にはみ出す。バンプ
のはみ出し部分が凹部22より更に外側にはみ出すと、
隣接するバンプや導電体12に接触するおそれがある。
これを防ぐためには、導電体12と窪み21の周辺部分
との最近接距離はある程度大きいことが望ましい。そこ
で導電体12と窪み21の周辺部分との最近接距離が窪
み21の深さの1/2より大きなるように、即ちバンプ
基材18の高さの1/3より大きくなるように凹部22
の深さを定める。更に好ましくは、導電体12と窪み2
1の周辺部分との最近接距離がバンプ基材18の高さの
40パーセント以上となるように凹部22の深さを定め
る。本実施形態では、バンプ基材18の高さを40ミク
ロンメートルとし、導電体12と窪み21の周辺部分と
の最近接距離を20ミクロンメートル(μm)、即ちバ
ンプ基材の高さの1/2とした。バンプ成形型20がバ
ンプ基材18を成形するために、バンプ成形型20を数
10ミリ秒程度バンプ基材18に押し付けて停止する。
を示す。整形されたバンプ基材18は、導電体12に融
着した下方部分27と、バンプ25の先端に近づくにつ
れて断面の面積が小さくなる先細の形状、例えば円錐形
状に成形された上方部分29とを有する。硬度を高める
ために、成形されたバンプ基材18の表面にバンプ基材
18より大きい硬度を有する高硬度物質15でメッキす
る。高硬度物質15としては、例えばニッケル又はパラ
ジウムニッケルを用いることができる。電気的部品に対
する電気的接触性を高めるために、高硬度物質15によ
るメッキの表面に更に金メッキ23を施す。これによ
り、メッキを施した上方部分29の長さを少なくとも2
0μm以上とする。
凹部22の他の形態を示す。バンプ成形型20に支持体
24を設けることにより、窪み21の周辺部と導電体1
2との間に所定の距離を確保する。この支持体24は、
窪み21毎に設けても複数の窪み21に対して1つ設け
ても良い。支持体24により、窪み21の周囲に凹部2
2が確保され、窪み21をはみ出したバンプ基材18が
隣接するバンプ基材18又は導電体12と接触すること
を防ぐことができる。
4上に格子状に成形する場合の型押し工程を示す。まず
フレキシブル基板54上に導電体12を格子状に設け、
それぞれの導電体12の上にバンプ基材18を融着させ
る。次に、窪み21を格子状に設けたバンプ成形型20
を、バンプ基材18に押し付けることにより、バンプ基
材18を所望の形状に整形する。
れた格子状のバンプ25を示す。バンプ成形型20に設
けられた窪み21により、円錐形状のバンプ25が成形
される。本実施形態によれば、格子状に配置されたバン
プ基材18を単一のバンプ成形型20により一度に型押
しするので、バンプの高さを均一にすることができる。
プ基材18を成形した。本実施形態では、導電物質を含
むボール状の物質を予め製造し、これを導電体12の上
に融着させることによりバンプ基材18を成形する。図
9A及び9Bは、導電物質を含むボール状物質30を格
納した容器34、及び吸着器具32の斜視図である。ボ
ール状物質30は、銅(Cu)、金(Au)等の塑性加
工することのできる導電材料で製造する。このボール状
物質30を吸着器具32により吸引し、台56の上に吸
引搬送する。台56には、位置決め用の案内棒48が設
けられており、案内棒48に対応する案内穴を有するフ
レキシブル基板54が、案内棒48により位置決めされ
て台56の上に設置される。吸着器具32にも同様に案
内穴46が設けられており、案内穴46に案内棒48が
挿入されることにより、台56に対して吸着器具32が
位置決めされる。
吸着器具32を横方向から見た断面図である。吸着器具
32の下面には吸着穴31が設けられており、吸着器具
32が矢印方向に向かって下降すると各吸着穴31にボ
ール状物質30が1つづつ吸引される。図10Bは、ボ
ール状物質30を吸着器具32の吸着穴31に吸着させ
た状態を示す。吸着穴31は、導電体12上のバンプの
形成位置に対応する位置に予め設けられている。
32の吸着穴31に吸着させてフレキシブル基板54に
対向する位置へ搬送する工程を示す。位置決め用の案内
穴46の位置を案内棒48に合わせる。フレキシブル基
板54の上面には導電体12が設けられている。ボール
状物質30を導電体12に融着したときに良好な電気伝
導度及び機械的強度が得られるように、導電体12の上
面には半田ペースト又はフラックス等の導電接着剤36
を予め散布しておく。
2の上に設置する工程を示す。ボール状物質30を導電
体12の上に設置した後、ボール状物質30をリフロー
により融解し、凝固させて導電体12の上面に融着させ
る。融着したバンプ基材を実施形態1と同様にバンプ成
形型20で型押して先細のバンプを成形する。型押工程
は実施形態1と同様なので説明を省略する。
30を一度に導電体12の上に配置することができるの
で、形成するバンプの数が多い場合に、実施形態1より
も早くバンプを形成することができる。
施形態1から2では、導電体12はフレキシブル基板5
4の上に設けられていたが、本実施形態では導電体12
がプリント基板52の上に直接取り付けられている。本
導電体12は実施形態1又は2の導電体12より厚く、
曲げに対するバネ係数が大きい。このため導電体12自
体の弾性により、バンプ25を電気部品に押し付けるこ
とができる。実施形態1又は2における導電体12を本
実施形態のように直接プリント基板52に取り付けた場
合でも、実施形態1又は2と同様の方法により導電体1
2上にバンプ25を形成することができる。
よれば電気的部品に対して電気的接触を行うためのバン
プ及びプローブカードを正確かつ高速に形成することが
できる。以上、本発明を実施の形態を用いて説明した
が、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲
には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改
良を加えることができることが当業者に明らかである。
その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範
囲に含まれることが、添付のクレームの記載から明らか
である。
たプローブカードの縦断面図である。
る。
加工により融解する融解工程を示す。
体12に当接させる当接工程と、ワイヤ13を導電体1
2から引き離すことによりバンプ基材18を導電体12
に残して切断する切断工程を示す。
を、バンプ成形型20により型押成形する状態を示す。
型押成形及びメッキにより形成されたバンプ25を示
す。
ンプ基材18を示す。
工程を示す。
たバンプ25を示す。
32により吸引搬送する工程を示す。
た断面図である。
Claims (25)
- 【請求項1】 電気部品に対して電気的接触を行うため
のバンプを導電体の上に形成するバンプ形成方法におい
て、 前記バンプと実質的に同じ材料を有する導電物質を前記
導電体の上に融着させる融着工程と、 前記導電体の上に融着した前記導電物質を、所定の形状
の窪みを有するバンプ成形型により所望の形状に型押成
形する成形工程とを備えたことを特徴とするバンプ形成
方法。 - 【請求項2】 前記所望の形状は、前記バンプの先端に
近づくにつれて断面の面積が小さくなる先細の形状であ
ることを特徴とする請求項1に記載のバンプ形成方法。 - 【請求項3】 前記先細の形状は、円錐形状であること
を特徴とする請求項2に記載のバンプ形成方法。 - 【請求項4】 前記成形工程において、前記導電体と前
記バンプ成形型に設けられた前記窪みの周辺部分との最
近接距離が前記窪みの深さの1/2より大きいことを特
徴とする請求項1に記載のバンプ形成方法。 - 【請求項5】 前記成形工程に於いて使用する前記バン
プ成形型は、前記導電物質の残余の拡幅を抑制する、前
記窪みの深さより浅い凹部を前記窪みの周辺部分に有す
ることを特徴とする請求項1に記載のバンプ形成方法。 - 【請求項6】 前記成形工程において成形された前記バ
ンプの表面に前記導電物質より大きい硬度を有する高硬
度物質でメッキするメッキ工程を更に備えたことを特徴
とする請求項1に記載のバンプ形成方法。 - 【請求項7】 前記高硬度物質が、ニッケル及びパラジ
ウムニッケルのいずれかであることを特徴とする請求項
6に記載のバンプ形成方法。 - 【請求項8】 前記メッキ工程によりメッキされた前記
バンプの表面に、更に金メッキしたことを特徴とする請
求項6に記載のバンプ形成方法。 - 【請求項9】 前記融着工程は、 前記導電物質を有するワイヤの先端部分を放電加工によ
り融解する融解工程と、 前記融解工程により融解した前記先端部分を前記導電体
に当接させる当接工程と、 前記先端部分が前記導電体に当接した状態で前記ワイヤ
を所定の時間停止させ前記先端部分を前記導電体に融着
させる停止工程と、 前記ワイヤを前記導電体から引き離すことにより前記先
端部分を前記導電体部に残して切断する切断工程とを有
することを特徴とする請求項1に記載のバンプ形成方
法。 - 【請求項10】 前記融着工程は、 前記導電物質を含むボール状物質を、前記導電体の上に
吸引搬送する搬送工程と、 前記搬送工程により搬送された前記ボール状物質をリフ
ローにより融解する融解工程と、 前記融解工程により融解した前記ボール状物質を冷やし
て凝固させる工程とを有することを特徴とする請求項1
に記載のバンプ形成方法。 - 【請求項11】 電気部品に対して電気的接触を行うた
めに導電体上に形成されたバンプであって、 前記導電体に融着した下方部分と、 前記バンプの先端に近づくにつれて断面の面積が小さく
なる先細の形状に形押成形された上方部分とを備えたこ
とを特徴とするバンプ。 - 【請求項12】 前記先細の形状が円錐形状であること
を特徴とする請求項11に記載のバンプ。 - 【請求項13】 前記形押成形されている前記上方部分
の長さが、少なくとも20μm以上であることを特徴と
する請求項11に記載のバンプ。 - 【請求項14】 表面が、前記上方部分の硬度より大き
い硬度を有する高硬度物質でメッキされていることを特
徴とする請求項11に記載のバンプ。 - 【請求項15】 前記高硬度物質が、ニッケル及びパラ
ジウムニッケルのいずれかであることを特徴とする請求
項14に記載のバンプ。 - 【請求項16】 前記高硬度物質によるメッキの表面
に、更に金メッキされたことを特徴とする請求項14に
記載のバンプ。 - 【請求項17】 電気部品に対して電気的に接触し、前
記電気部品の電気的特性を検査するために用いるプロー
ブカードであって、 前記検査に用いる電気信号を伝達する複数の導電体と、 前記複数の導電体の各々の上に形成されたバンプであっ
て、前記電気部品と機械的に接触されるバンプとを備
え、当該バンプは、 前記導電体に融着した下方部分と、 前記バンプの先端に近づくにつれて断面の面積が小さく
なる先細の形状に形押成形された上方部分とを有するこ
とを特徴とするプローブカード。 - 【請求項18】 前記バンプを前記電気部品に押圧する
弾性体を更に備えることを特徴とする請求項17に記載
のプローブカード。 - 【請求項19】 前記弾性体により前記電気部品の方向
へ押圧されるフレキシブルな基板を更に備え、前記複数
の導電体のそれぞれが、前記基板に接着された裏面と、
前記バンプが設けられた表面とを有することを特徴とす
る請求項18に記載のプローブカード。 - 【請求項20】 前記弾性体は、導電性の金属でありか
つ前記複数の導電体毎に独立に設けられていることを特
徴とする請求項18に記載のプローブカード。 - 【請求項21】 前記複数の導電体のそれぞれは、当該
導電体に対応して設けられた前記弾性体と一体に形成さ
れた金属であることを特徴とする請求項20に記載のプ
ローブカード。 - 【請求項22】 前記先細の形状が、円錐形状であるこ
とを特徴とする請求項17に記載のプローブカード。 - 【請求項23】 前記複数の導電体の各々の上に形成さ
れたバンプの高さが、実質的に同一に型押成形されてい
ることを特徴とする請求項17に記載のプローブカー
ド。 - 【請求項24】 前記バンプの前記上方部分の長さが、
少なくとも20μm以上であることを特徴とする請求項
17に記載のプローブカード。 - 【請求項25】 前記バンプの表面が前記上方部分の硬
度より大きい硬度を有する高硬度物質でメッキされてい
ることを特徴とする請求項17に記載のプローブカー
ド。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001281268A (ja) * | 2000-01-24 | 2001-10-10 | Tokyo Electron Ltd | プローブの製造方法並びにプローブの取付方法及びプローブの取付装置 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7138583B2 (en) * | 2002-05-08 | 2006-11-21 | Sandisk Corporation | Method and apparatus for maintaining a separation between contacts |
| US20070075436A1 (en) * | 2003-10-06 | 2007-04-05 | Nec Corporation | Electronic device and manufacturing method of the same |
| JPWO2007029422A1 (ja) * | 2005-09-07 | 2009-03-12 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の検査装置及び電源供給ユニット |
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| US9435855B2 (en) | 2013-11-19 | 2016-09-06 | Teradyne, Inc. | Interconnect for transmitting signals between a device and a tester |
| US9594114B2 (en) | 2014-06-26 | 2017-03-14 | Teradyne, Inc. | Structure for transmitting signals in an application space between a device under test and test electronics |
| US20170023617A1 (en) * | 2015-06-10 | 2017-01-26 | Translarity, Inc. | Shaping of contact structures for semiconductor test, and associated systems and methods |
| US9977052B2 (en) | 2016-10-04 | 2018-05-22 | Teradyne, Inc. | Test fixture |
| US10677815B2 (en) | 2018-06-08 | 2020-06-09 | Teradyne, Inc. | Test system having distributed resources |
| KR200494161Y1 (ko) | 2019-07-25 | 2021-08-18 | (주)미륭이엔씨 | 샤워기 및 주방수전의 필터 오염 확인구조 |
| US11363746B2 (en) | 2019-09-06 | 2022-06-14 | Teradyne, Inc. | EMI shielding for a signal trace |
| US11862901B2 (en) | 2020-12-15 | 2024-01-02 | Teradyne, Inc. | Interposer |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63188948A (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-04 | Mitsubishi Electric Corp | ボンデイング用バンプの形成方法 |
| JPH05235103A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ic実装方法 |
| JPH0982718A (ja) * | 1995-07-11 | 1997-03-28 | Nippon Steel Corp | 微細金属バンプの製造方法および製造装置 |
| JPH09281144A (ja) * | 1996-04-15 | 1997-10-31 | Nec Corp | プローブカードとその製造方法 |
| JPH10135218A (ja) * | 1996-10-29 | 1998-05-22 | Taiyo Yuden Co Ltd | バンプ及びバンプ形成方法 |
| JPH10142259A (ja) * | 1996-11-14 | 1998-05-29 | Mitsubishi Materials Corp | コンタクトプローブの製造方法並びにそれを用いたコンタクトプローブおよびそれを備えたプローブ装置 |
| JPH10150042A (ja) * | 1996-11-19 | 1998-06-02 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法及び実装方法 |
| JP2002509604A (ja) * | 1996-05-17 | 2002-03-26 | フォームファクター,インコーポレイテッド | マイクロエレクトロニクス相互接続要素のための接触チップ構造及びその製造方法 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4597617A (en) * | 1984-03-19 | 1986-07-01 | Tektronix, Inc. | Pressure interconnect package for integrated circuits |
| US4906920A (en) * | 1988-10-11 | 1990-03-06 | Hewlett-Packard Company | Self-leveling membrane probe |
| US5070297A (en) * | 1990-06-04 | 1991-12-03 | Texas Instruments Incorporated | Full wafer integrated circuit testing device |
| US5090118A (en) * | 1990-07-31 | 1992-02-25 | Texas Instruments Incorporated | High performance test head and method of making |
| US5088190A (en) * | 1990-08-30 | 1992-02-18 | Texas Instruments Incorporated | Method of forming an apparatus for burn in testing of integrated circuit chip |
| US5180977A (en) * | 1991-12-02 | 1993-01-19 | Hoya Corporation Usa | Membrane probe contact bump compliancy system |
| US5989936A (en) * | 1994-07-07 | 1999-11-23 | Tessera, Inc. | Microelectronic assembly fabrication with terminal formation from a conductive layer |
| US5500604A (en) * | 1994-07-15 | 1996-03-19 | Hughes Aircraft Company | Radial tensioning lamination fixture for membrane test probe |
| WO1996007924A1 (en) * | 1994-09-09 | 1996-03-14 | Micromodule Systems | Membrane probing of circuits |
| US5558270A (en) | 1995-01-06 | 1996-09-24 | Kulicke And Soffa Investments, Inc | Fine pitch capillary/wedge bonding tool |
| JP3123483B2 (ja) * | 1997-10-28 | 2001-01-09 | 日本電気株式会社 | プローブカード及びプローブカード形成方法 |
| US5984164A (en) * | 1997-10-31 | 1999-11-16 | Micron Technology, Inc. | Method of using an electrically conductive elevation shaping tool |
| US6332270B2 (en) * | 1998-11-23 | 2001-12-25 | International Business Machines Corporation | Method of making high density integral test probe |
| US6137297A (en) * | 1999-01-06 | 2000-10-24 | Vertest Systemsn Corp. | Electronic test probe interface assembly and method of manufacture |
| US6330744B1 (en) * | 1999-07-12 | 2001-12-18 | Pjc Technologies, Inc. | Customized electrical test probe head using uniform probe assemblies |
| US6476625B1 (en) * | 2000-04-25 | 2002-11-05 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method for determining coplanarity of electrical contact of BGA type packages prior to electrical characterization |
| US6399474B1 (en) * | 2000-06-28 | 2002-06-04 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for precoining BGA type packages prior to electrical characterization |
| US6462575B1 (en) * | 2000-08-28 | 2002-10-08 | Micron Technology, Inc. | Method and system for wafer level testing and burning-in semiconductor components |
| US6860741B2 (en) * | 2002-07-30 | 2005-03-01 | Avx Corporation | Apparatus and methods for retaining and placing electrical components |
-
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Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63188948A (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-04 | Mitsubishi Electric Corp | ボンデイング用バンプの形成方法 |
| JPH05235103A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ic実装方法 |
| JPH0982718A (ja) * | 1995-07-11 | 1997-03-28 | Nippon Steel Corp | 微細金属バンプの製造方法および製造装置 |
| JPH09281144A (ja) * | 1996-04-15 | 1997-10-31 | Nec Corp | プローブカードとその製造方法 |
| JP2002509604A (ja) * | 1996-05-17 | 2002-03-26 | フォームファクター,インコーポレイテッド | マイクロエレクトロニクス相互接続要素のための接触チップ構造及びその製造方法 |
| JPH10135218A (ja) * | 1996-10-29 | 1998-05-22 | Taiyo Yuden Co Ltd | バンプ及びバンプ形成方法 |
| JPH10142259A (ja) * | 1996-11-14 | 1998-05-29 | Mitsubishi Materials Corp | コンタクトプローブの製造方法並びにそれを用いたコンタクトプローブおよびそれを備えたプローブ装置 |
| JPH10150042A (ja) * | 1996-11-19 | 1998-06-02 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法及び実装方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001281268A (ja) * | 2000-01-24 | 2001-10-10 | Tokyo Electron Ltd | プローブの製造方法並びにプローブの取付方法及びプローブの取付装置 |
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