JPH1139632A - 被膜付磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 均一な凹凸を有すると同時に耐擦傷性などの
耐久性に優れている被膜が基板上に形成された被膜付磁
気記録媒体を提供する。 【解決手段】 ディスク基板と、その上に形成された磁
性層とを含み、前記ディスク基板と前記磁性層との間ま
たは前記磁性層上に、下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立して水素
原子、炭素原子数１〜８のアルキル基またはアリール基
である。）で表される繰り返し単位を有するポリシラザ
ンと、無定形シリカ微粒子とを含む被膜形成用塗布液か
ら形成された凹凸付被膜を有することを特徴とする被膜
付磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、凹凸付被膜が基材上に積
層されている磁気記録媒体に関し、さらに詳しくは、均
一な凹凸を有すると同時に耐久性に優れている被膜が基
材上に積層された磁気ディスク、光磁気ディスクなどの
被膜付磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【発明の技術的背景】従来より、ガラス、プラスチッ
ク、金属などの基板の表面に耐久性、耐擦傷性などを付
与するような凹凸付き被膜を形成できる被膜形成用塗布
液が開発されている。たとえば、特開平２−３４６８号
公報には、アルコキシシランからなる有機ケイ素化合物
の部分縮合物とシリカ微粒子とを含むコーティング組成
物が記載されている。

【０００３】また、磁気ディスクなどの磁気記録媒体を
製造する際にも、無機酸化物微粒子を含むコロイド溶液
とテトラヒドロキシシランとの混合溶液からなる被膜形
成用塗布液が用いられている（特開昭６１−２２９２２
７号公報、特開昭６４−３３７２４号公報、特開平２−
１３７１２０号公報参照）。

【０００４】このような被膜形成用塗布液を用いて形成
された磁気ディスク、光磁気ディスクなどの被膜付き磁
気記録媒体は、表面に微細な凹凸を有しているため、表
面が平滑な磁気記録媒体と比較して記録装置または再生
装置内で磁気ヘッドとの間に生じる摩擦が小さく、また
磁気ヘッドの基板からの浮上量を表すフライングハイト
も低くすることが可能であり、高い磁気密度で記録・再
生ができる。

【０００５】しかしながら、上記のような従来の被膜形
成用塗布液から得られた被膜付き基材は、被膜中に含ま
れている無機酸化物微粒子の分布が不均一であり、しか
もこの無機酸化物微粒子同士が凝集している。このた
め、この被膜付き基材の表面には不均一な凹凸が形成さ
れているという問題点がある。すなわち、凸部（粒状突
起）同士の間隔および凸部の高さが一様でないという問
題点がある。

【０００６】また、被膜付磁気記録媒体表面に形成され
た凹凸が不均一であると、記録装置または再生装置内
で、磁気ヘッドが磁気記録媒体表面上を摺動する際に生
じる静摩擦係数および磁気ディスクの表面粗さが増大す
る傾向がある。特に最近では、磁気記録媒体の高記録密
度化が要求されているため、磁気ヘッドの基板からの浮
上量を益々低くする傾向があり、最近では0.1μm以下に
設定されている。このため、より一層、均一な凹凸が表
面に形成された被膜付き磁気記録媒体が求められてい
る。

【０００７】このような状況下で、本発明者らは、均一
な凹凸を有すると同時に耐久性に優れている被膜が基板
上に形成できるような被膜形成用塗布液およびこのよう
な被膜付き基板を用いて高密度記録が可能な磁気記録媒
体を提供するため、鋭意研究を行った結果、特定のポリ
シラザンと、無定形のシリカ微粒子とを含む塗布液を基
板上に塗布し、凹凸付被膜を形成すると、 a)基板との密着性、耐久性に優れた被膜が形成される b)被膜中に無定形シリカ微粒子が均一に分散し、しかも
この被膜の表面にはほとんど凝集粒子の痕跡が観察され
ない c)被膜表面の凹凸が均一である d)高密度記録が可能であるなど 優れた磁気記録媒体が得られることを見いだし、本発明
を完成するに至った。

【０００８】

【発明の目的】本発明は、上記従来技術の問題点を解決
するためになされたものであって、均一な凹凸を有する
と同時に耐擦傷性などの耐久性に優れている被膜が基板
上に形成された被膜付磁気記録媒体を提供することを目
的としている。

【０００９】

【発明の概要】本発明に係る被膜付磁気記録媒体は、デ
ィスク基板と、その上に形成された磁性層とを含み、前
記ディスク基板と前記磁性層との間または前記磁性層上
に、下記一般式（１）

【００１０】

【化２】

【００１１】（式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ
独立して水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基また
はアリール基を示す。）で表される繰り返し単位を有す
るポリシラザンと、無定形シリカ微粒子とを含む被膜形
成用塗布液から形成された凹凸付被膜を有することを特
徴としている。

【００１２】また、該被膜において、無定形シリカ微粒
子の粒径が５〜４５nmであり、被膜表面の凹凸が３〜３
０nmであり、かつ被膜中の無定形シリカ微粒子密度が0.
1〜1000個／μm²であることを特徴としている。

【００１３】

【発明の具体的説明】以下、本発明に係る被膜付磁気記
録媒体について具体的に説明する。本発明に係る被膜付
磁気記録媒体は、ディスク基板と、その上に形成された
磁性層とを含み、前記ディスク基板と前記磁性層との間
または前記磁性層上に、上記のような一般式（１）で表
される繰り返し単位を有するポリシラザンと、無定形シ
リカ微粒子とを含む被膜形成用塗布液から形成された凹
凸付被膜を有している。

【００１４】［ポリシラザン］本発明で使用されるポリ
シラザンは、下記一般式（１）で表される繰り返し単位
を有する。

【００１５】

【化３】

【００１６】式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、それ
ぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基
またはアリール基である。炭素原子数１〜８のアルキル
基としては、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙
げられ、アリール基としては、フェニル基などが挙げら
れる。

【００１７】本発明で用いられるポリシラザンとして
は、上記式（１）でＲ¹、Ｒ²およびＲ ³がすべて水素原
子であり、１分子中にケイ素原子が５５〜６５重量％、
窒素原子が２０〜３０重量％、水素原子が１０〜１５重
量％であるような量で存在している無機ポリシラザンが
特に好ましい。このような無機ポリシラザンは、例えば
特公昭63-16325号およびUSP-4397828号に開示された方
法によって製造することができる。

【００１８】上記式（１）で表される繰り返し単位を有
するポリシラザンは、直鎖状であっても、環状であって
もよく、直鎖状のポリシラザンと環状のポリシラザンと
が混合して含まれているものであってもよい。

【００１９】このようなポリシラザンの重量平均分子量
は、500〜10000、好ましくは1000〜4000の範囲にあるこ
とが望ましい。重量平均分子量が500未満である場合に
は、塗布液から被膜を形成する際の乾燥工程で低分子量
の化合物が揮発し、その後の加熱工程で被膜が大きく収
縮するようになり、緻密な被膜が得られないことがあ
る。また、分子量が10000を越えると、塗布液の流動性
が低下し、無定形シリカ微粒子を均一に分散することが
できないこともある。

【００２０】［無定形シリカ微粒子］本発明で用いられ
る無定形シリカ微粒子は、化学式：ＳiＯ₂・ｎＨ₂Ｏで
表され、通常、複数のケイ素原子がそれぞれ酸素原子を
介して立体的に結合している重合体であり、しかも該重
合体中のケイ素原子のそれぞれを中心として、ケイ素原
子に隣接する４個の酸素原子がそれぞれ四面体の頂点に
位置するようなＳiＯ₄四面体構造が形成され、該重合体
の末端にシラノール基を有している。

【００２１】このような無定形シリカ微粒子の平均粒径
は、５nm以上、５０nm以下、好ましくは４５nm以下であ
ることが好ましい。平均粒径が５０nmを越えるシリカ粒
子を用いた塗布液から被膜を形成すると、均一に分散し
た粒子による凹凸の間隔が大きくなり、磁気ヘッドの最
低浮上量を低くすることが難しくなる。

【００２２】また、本発明で使用される無定形シリカ微
粒子は、コロイド状態で水または有機溶媒に分散してい
るシリカゾルとして用いることが望ましい。このような
シリカゾルとしては、水分量が１重量％以下である有機
溶媒分散シリカゾルが望ましく、水分量が多いシリカゾ
ルを用いて塗布液を調製すると、ポリシラザンが加水分
解を起こすことがある。

【００２３】［被膜形成用塗布液］本発明で使用される
被膜形成用塗布液は、上記ポリシラザンと上記無定形シ
リカ微粒子とが、有機溶媒中に分散している。

【００２４】このような有機溶媒としては、水に対する
溶解度が０.５重量％以下であるような有機溶媒が望ま
しい。具体的には、シクロヘキサン、トルエン、キシレ
ン、メシチレンなどの炭化水素、エチルブチルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンなどのエーテル類が挙げられる。これらの有機溶媒は
単独または２種以上を混合して用いられる。このような
有機溶媒を用いると、塗布液が吸湿して塗布液中のポリ
シラザンが加水分解を起こすのが防止され、これにより
ポットライフの長い塗布液が得られる。

【００２５】塗布液中の固形分濃度（ポリシラザンと上
記無定形シリカ微粒子の合計量）は、１〜３０重量％、
好ましくは５〜２０重量％であることが望ましい。ま
た、塗布液中の、ポリシラザンと無定形シリカ微粒子の
配合比は、ポリシラザン１重量部に対して、無定形シリ
カ微粒子が０.５〜１００重量部であることが好まし
い。無定形シリカ微粒子の配合量が０.５重量部より少
なくなると、被膜にした際に無定形シリカ微粒子が被膜
中に埋もれてしまい、凹凸が形成されない。また、無定
形シリカ微粒子の配合量が１００重量部より多いと表面
処理が十分にできずシリカ微粒子の分散状態が不安定と
なって、凝集が起こる。

【００２６】このような被膜形成用塗布液は、次のよう
にして調製される。 (1) 上記ポリシラザンと無定形シリカとを溶媒中で混
合する。このとき使用される溶媒としては、水と相溶す
るものであれば特に制限はなく、たとえば、エタノール
などのアルコール類、アセトン、メチルイソブチルケト
ンなどのケトン類などが挙げられる。これらの溶媒は単
独または２種以上を混合して用いてもよい。

【００２７】上記のようにポリシラザンとシロキサン結
合を有する無定形シリカ微粒子とを有機溶媒中で混合す
ると、ポリシラザンと無定形シリカ微粒子の少なくとも
一部が常温で反応する。

【００２８】(2) 次に、上記ポリシラザンと無定形シ
リカ微粒子との反応物を含む液から減圧蒸留などの方法
で、溶媒を水と相溶しない上記のような有機溶媒に置換
する。このような被膜形成用塗布液を用いて被膜を形成
すると、従来のアルコキシシランと無機酸化物微粒子と
を含む被膜形成用塗布液から形成された被膜と比較し
て、微粒子の凝集のない均一な凹凸を有し、緻密で耐久
性に優れている被膜を得ることができる。

【００２９】被膜付磁気記録媒体 次に、本発明に係る被膜付磁気記録媒体について説明す
る。本発明に係る被膜付磁気記録媒体は、ディスク基板
と、その上に形成された磁性層とを含み、ディスク基板
と磁性層との間または磁性層上に、前記のような被膜形
成用塗布液を用いて形成された凹凸付被膜を有してい
る。

【００３０】凹凸付被膜は、ディッピング、スピナー、
スプレー、ロールコーター、フレキソ印刷などの方法
で、前記被膜形成用塗布液をディスク基板と磁性層との
間または磁性層上に塗布した後、常温〜２００℃で乾燥
し、さらに、２００℃以上、好ましくは３００℃以上に
加熱して硬化するで形成することができる。

【００３１】また、必要に応じて、塗布した凹凸付被膜
に、紫外線、酸素プラズマなどの電磁波を照射したり、
あるいは得られた被膜付き基材をアンモニア雰囲気中に
晒してもよい。このような処理によって、得られた被膜
の硬化が促進され、低温で被膜硬度を高めることが可能
となる。

【００３２】本発明では、凹凸付被膜表面の凹凸は、３
〜３０nmであることが好ましい。被膜表面の凹凸が３nm
より小さいと磁気ヘッドとの摩擦係数が大きくなり、ま
た、被膜表面の凹凸が３０nmより大きくなるとシリカ微
粒子の密着性が悪くなることがある。

【００３３】また、凹凸付被膜中のシリカ微粒子の粒子
密度は、0.1〜1000個/μm²(被膜)が好ましい。粒子密度
が0.1個/μm²(被膜)より少ないと微粒子の間隔が大きく
すぎて磁気ヘッドの最低浮上量を低くすることができ
ず、基板との摩擦係数が大きくなる。粒子密度が1000個
/μm²(被膜)より多いと微粒子の凝集が発生し、微粒子
の密着性が悪くなる。

【００３４】ディスク基板としては、カーボン、強化ガ
ラス、結晶化ガラス、アルミニウム、チタン、セラミッ
クス、樹脂およびこれらの複合材料からなる基板が挙げ
られる。

【００３５】磁性層としては、ＣoＣr、ＣoＮi、ＣoＣr
Ｘ（ＸはＴa,Ｐt,Ａu,Ｔi,Ｖ,Ｎi,Ｗ,Ｌa,Ｃe,Ｐr,Ｎd,
Ｐm,Ｓm,Ｅu,Ｌi,Ｓi,Ｂ,Ｃa,Ａs,Ｙ,Ｚr,Ｎb,Ｍo,Ｒh,
Ｒu,Ａg,Ｓbなどから選ばれる１種または２種以上の金
属を表す）などの磁性合金からなる層が挙げられる。こ
のような磁性層は、通常、PVD(物理的気相成長)法によ
り形成される。

【００３６】また、本発明に係る被膜付磁気記録媒体に
は、Ａl,Ｓi,Ｔi,Ｃr,Ｚr,Ｎb,Ｍo,Ｔa,Ｗなどの金属の
酸化物,窒化物,炭化物,カーボン,ボロンナイトライドな
どからなる保護膜、潤滑層などが積層されていてもよ
い。

【００３７】

【発明の効果】本発明に係る磁気記録媒体によれば、シ
リカ微粒子の凝集がなく基材表面上に凹凸が均一に分布
していると同時に密着性、耐久性に優れた被膜が積層さ
れた磁気記録媒体を得ることができる。この被膜上に形
成された凹凸によって、磁気ヘッドが摺動する際の静摩
擦係数を小さくすることができ、また、磁気ヘッドの最
低浮上量を低くすることができる。

【００３８】

【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

【００３９】

【製造例】ポリシラザン(A)の合成 特公昭63-16325号公報記載の製造方法に準じて、以下の
ような製造方法でポリシラザン(A)を合成した。

【００４０】温度が０℃の恒温槽内に設置した反応器内
にピリジン６００mlを入れ、撹拌しながらジクロロシラ
ン２８.３ｇを添加して錯体（ピリジンアダクツ）を形
成した。次に、このピリジンアダクツを含む液中にアン
モニアを２時間吹き込み、沈殿を生じさせた。この沈殿
を濾過して除去したのち、濾液を８０℃で１０時間加熱
し、さらに減圧して濾液からピリジンを除去して、反応
器内に樹脂状のポリシラザンを得た。このポリシラザン
をメチルイソブチルケトンに溶解して、濃度１０重量％
のポリシラザン(A)を得た。

【００４１】ポリシラザン(B)の合成 塩化メチレン３００mlを入れた１リットルの四つ口フラ
スコを−５℃に冷却した。次いでこの四つ口フラスコ内
にメチルジクロロシラン３４.２ｇを加え、撹拌しなが
らさらにアンモニアを２時間吹き込んで液中に沈殿を生
じさせた。この沈殿を濾過して除去した後、濾液を減圧
し、濾液から塩化メチレンを除去して樹脂状のポリシラ
ザンを得た。

【００４２】このポリシラザンをメチルイソブチルケト
ンに溶解して、濃度１０重量％のポリシラザン(B)を得
た。上記のポリシラザン(A),(B)の元素分析結果および
重量平均分子量を表１に示す。なおこれらの重量平均分
子量は、ゲルクロマトグラフ法で測定したポリスチレン
換算値である。

【００４３】

【表１】

【００４４】無定形シリカ微粒子分散シリカゾル(C)の
調製 市販のオルガノシリカゾル（触媒化成工業（株）製、商
品名「オスカル」；平均粒径１７nm、濃度１０重量％、
溶媒エタノール）７０ｇにポリシラザン(A)（濃度１０
重量％、溶媒メチルイソブチルケトン）３０ｇを添加
し、５０℃で５時間シリカ微粒子との反応を行った。次
いで液中の溶媒をメチルイソブチルケトンで置換して固
形分濃度２重量％の無定形シリカ微粒子分散シリカゾル
(C)を調製した。

【００４５】無定形シリカ微粒子分散シリカゾル(D)の
調製 市販のオルガノシリカゾル（触媒化成工業（株）製、商
品名「オスカル」；平均粒径４５nm、濃度１０重量％、
溶媒エタノール）７０ｇにポリシラザン(B)（濃度１０
重量％、溶媒メチルイソブチルケトン）３０ｇを添加
し、５０℃で２時間反応させた。次いで溶媒をメチルイ
ソブチルケトンで置換して濃度２重量％の無定形シリカ
微粒子分散シリカゾル(D)を調製した。

【００４６】

【実施例１】ポリシラザン(A)と無定形シリカ微粒子分
散シリカゾル(C)とを固形分量比が(ポリシラザン/無定
形シリカ微粒子分散シリカゾル=1/9)となるように混合
し、塗布液を調製した。

【００４７】ガラス製の磁気ディスク基板をスピナーに
セットし、前記塗布液３mlを滴下して2000rpmで５秒
間スピナー塗布した。塗布後、塗膜を１５０℃で３分間
乾燥し、高圧水銀灯を5000mJ/cm²照射したのち、３００
℃で３０分間加熱し、凹凸付被膜が基板上に形成された
基材を得た。

【００４８】得られた被膜付き基材上に、さらに磁性
層、潤滑層を積層し磁気記録媒体を作製した。凹凸付被
膜の表面の凹凸は、触針式の表面粗さ計サーフコム（東
京精密社製）で調べ、被膜中のシリカ微粒子の粒子密度
はＳＥＭ写真解析で調べた。また、CSS(contact-start-
stop)耐久テストにより、初期およびCSS５万回後の摩擦
係数の変化を測定した。また、glide-heightテストで磁
気ヘッドの最低浮上量の評価を行った。 [CSS耐久テスト]Ａl₂Ｏ₃-ＴiＣ材スライダからなる薄膜
ヘッドを用い、ヘッド荷重３ｇ、ヘッド浮上量２.０μ
ｍの条件で、４５００rpm−５秒回転−５秒停止のサイ
クルを５万サイクル繰り返し、静摩擦係数の変化を測定
した。 [glide-heightテスト]Ａl₂Ｏ₃-ＴiＣ材スライダからな
る薄膜ヘッドを用い、ヘッド荷重３ｇ、４５００rpmで
５秒間回転させ、ハードディスク表面のキズの発生の有
無で、ヘッドの最低浮上量を測定した。

【００４９】結果を表２に示す。

【００５０】

【実施例２】ポリシラザン(A)と無定形シリカ微粒子分
散シリカゾル(C)とを固形分量比が(ポリシラザン/無定
形シリカ微粒子分散シリカゾル=5/95)となるように混合
して、塗布液を調製した。

【００５１】ガラス製の磁気ディスク基板をスピナーに
セットし、前記塗布液３mlを滴下して1000rpmで５秒
間スピナー塗布した。塗布後、塗膜を１５０℃で３分間
乾燥し、高圧水銀灯を5000mJ/cm²照射したのち、３００
℃で３０分間加熱し、凹凸付被膜が基板上に形成された
基材を得た。

【００５２】得られた被膜付基材上に、得られた被膜付
き基材上に、さらに磁性層、潤滑層を積層し磁気記録媒
体を作成し、実施例１と同様に評価した。結果を表２に
示す。

【００５３】

【実施例３】ポリシラザン(A)と無定形シリカ微粒子分
散シリカゾル(C)とを固形分量比が(ポリシラザン/無定
形シリカ微粒子分散シリカゾル=3/7)となるように混合
して、塗布液を調製した。

【００５４】ガラス製の磁気ディスク基板をスピナーに
セットし、前記塗布液３mlを滴下して4000rpmで５秒
間スピナー塗布した。塗布後、塗膜を１５０℃で３分間
乾燥し、高圧水銀灯を5000mJ/cm²照射したのち、３００
℃で３０分間加熱し、凹凸付被膜が基板上に形成された
基材を得た。

【００５５】得られた被膜付基材上に、得られた被膜付
き基材上に、さらに磁性層、潤滑層を積層し磁気記録媒
体を作成し、実施例１と同様に評価した。結果を表２に
示す。

【００５６】

【実施例４】ポリシラザン(B)と無定形シリカ微粒子分
散シリカゾル(C)とを固形分量比が(ポリシラザン/無定
形シリカ微粒子分散シリカゾル=1/9)となるように混合
して、塗布液を調製した。

【００５７】ガラス製の磁気ディスク基板をスピナーに
セットし、前記塗布液３mlを滴下して2000rpmで５秒
間スピナー塗布した。塗布後、塗膜を１５０℃で３分間
乾燥し、高圧水銀灯を5000mJ/cm²照射したのち、３００
℃で３０分間加熱し、凹凸付被膜が基板上に形成された
基材を得た。

【００５８】得られた被膜付基材上に、得られた被膜付
き基材上に、さらに磁性層、潤滑層を積層し磁気記録媒
体を作成し、実施例１と同様に評価した。結果を表２に
示す。

【００５９】

【実施例５】ポリシラザン(B)と無定形シリカ微粒子分
散シリカゾル(D)とを固形分量比が(ポリシラザン/無定
形シリカ微粒子分散シリカゾル=1/9)となるように混合
して、塗布液を調製した。

【００６０】ガラス製の磁気ディスク基板をスピナーに
セットし、前記塗布液３mlを滴下して2000rpmで５秒
間スピナー塗布した。塗布後、塗膜を１５０℃で３分間
乾燥し、高圧水銀灯を5000mJ/cm²照射したのち、３００
℃で３０分間加熱し、凹凸付被膜が基板上に形成された
基材を得た。

【００６１】得られた被膜付基材上に、得られた被膜付
き基材上に、さらに磁性層、潤滑層を積層し磁気記録媒
体を作成し、実施例１と同様に評価した。結果を表２に
示す。

【００６２】

【実施例６】ポリシラザン(A)と無定形シリカ微粒子分
散シリカゾル(C)とを固形分量比で(ポリシラザン/無定
形シリカ微粒子分散シリカゾル=1/9)となるように混合
して、塗布液を調製した。

【００６３】ガラス製の磁気ディスク基板をスピナーに
セットし、前記塗布液３mlを滴下して2000rpmで５秒
間スピナー塗布した。塗布後、塗膜を１５０℃で３分間
乾燥し、０.１Torrの真空チャンバー内で酸素プラズマ
を１０分間照射後、２５０℃で３０分間加熱し、凹凸付
被膜が基板上に形成された基材を得た。

【００６４】得られた被膜付基材上に、得られた被膜付
き基材上に、さらに磁性層、潤滑層を積層し磁気記録媒
体を作成し、実施例１と同様に評価した。結果を表２に
示す。

【００６５】

【実施例７】ポリシラザン(A)と無定形シリカ微粒子分
散シリカゾル(C)とを固形分量比で(ポリシラザン/無定
形シリカ微粒子分散シリカゾル=1/9)となるように混合
して、塗布液を調製した。

【００６６】ガラス製の磁気ディスク基板をスピナーに
セットし、前記塗布液３mlを滴下して2000rpmで５秒
間スピナー塗布した。塗布後、塗膜を１００℃で３分間
乾燥し、高圧水銀灯を5000mJ/cm²照射後、5000ppmのＮ
Ｈ₃雰囲気中で１０時間放置した。放置後、１００℃で
１０分間加熱し、凹凸付被膜が基板上に形成された基材
を得た。

【００６７】得られた被膜付基材上に、得られた被膜付
き基材上に、さらに磁性層、潤滑層を積層し磁気記録媒
体を作成し、実施例１と同様に評価した。結果を表２に
示す。

【００６８】

【比較例】テトラエトキシシラン７ｇに、濃度０.５重
量％の塩酸を５ｇ加えて３０分間撹拌した後、エタノー
ル８８ｇを加えて希釈し、固形分濃度２重量％の部分加
水分解物を得た。この部分加水分解物に市販のオルガノ
シリカゾル（触媒化成工業（株）製、商品名「オスカ
ル」；平均粒径１７nm、濃度２重量％、溶媒エタノー
ル）を固形分量比が(部分加水分解物/シリカゾル=1/9)
となるように混合して、塗布液を調製した。

【００６９】ガラス製の磁気ディスク基板をスピナーに
セットし、前記塗布液３mlを滴下して1000rpmで５秒
間スピナー塗布した。塗布後、塗膜を１５０℃で３分間
乾燥し、高圧水銀灯を5000mJ/cm²照射後、３００℃で３
０分間加熱し、凹凸付被膜が基板上に形成された基材を
得た。

【００７０】得られた被膜付基材上に、得られた被膜付
き基材上に、さらに磁性層、潤滑層を積層し磁気記録媒
体を作成し、実施例１と同様に評価した。結果を表２に
示す。

【００７１】

【表２】

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ディスク基板と、その上に形成された磁
   性層とを含み、前記ディスク基板と前記磁性層との間ま
   たは前記磁性層上に、 下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立して水素
   原子、炭素原子数１〜８のアルキル基またはアリール基
   である。）で表される繰り返し単位を有するポリシラザ
   ンと、無定形シリカ微粒子とを含む被膜形成用塗布液か
   ら形成された凹凸付被膜を有することを特徴とする被膜
   付磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記無定形シリカ微粒子の粒径が５〜４
   ５nmであり、凹凸付被膜表面の凹凸が３〜３０nmであ
   り、かつ被膜中の粒子密度が0.1〜1000個／μm ²である
   ことを特徴とする請求項１に記載の被膜付磁気記録媒
   体。