JPH1140647A - 半導体基板の検知機構 - Google Patents

半導体基板の検知機構

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Publication number
JPH1140647A
JPH1140647A JP19229497A JP19229497A JPH1140647A JP H1140647 A JPH1140647 A JP H1140647A JP 19229497 A JP19229497 A JP 19229497A JP 19229497 A JP19229497 A JP 19229497A JP H1140647 A JPH1140647 A JP H1140647A
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JP
Japan
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substrate
light
semiconductor substrate
mount table
reflected
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Pending
Application number
JP19229497A
Other languages
English (en)
Inventor
Genichi Kanazawa
元一 金沢
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Kokusai Denki Electric Inc
Original Assignee
Kokusai Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kokusai Electric Co Ltd filed Critical Kokusai Electric Co Ltd
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  • Control Of Conveyors (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 搬送装置上の基板の姿勢、または、基板の有
無を確認・検知するに好適な基板検知機構。 【解決手段】 投光素子17に対して異なる位置に2つ
の受光素子18a、18bを有することにより、受光素
子18aは、載置した基板1の姿勢について基板上面の
反射角の相違を判別して検知し、受光素子18bは、基
板1なしの場合に、載置台12の有底穴15からの反射
による受光を検知する

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、また
は、平面状のガラス基板(以下基板と略称する)のプラ
ズマCVD、プラズマエッチングなどの処理工程におけ
る搬送装置において、この搬送装置上の基板の姿勢、ま
たは、基板の有無を確認・検知する検知機構に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】図2は、従来の基板検知機構を示す平断
面図(a)、及び、F矢視による側断面図(b)であ
る。図2(a)において、例えば、ロボットアーム3、
4と、載置台2からなる搬送機構により、処理室A側か
ら処理室B側へ基板1を移送する動作毎に、投光素子7
と受光素子8を有する光センサを用いて、光の反射作用
による基板1の傾きなどの姿勢、または、基板1の有無
を検知することにより、基板1の移送に伴うトラブルを
除去すべく処理設備の信頼性を確認している。基板1の
有無については、ロボットアーム4上に穴5を設けてS
/N比を高めることにより、信号検知精度の向上を図っ
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】図2(a)において、
基板1を処理室A側から処理室B側へ移送する際、位置
決めピン6上に基板1の一端が乗り上げて、図2(b)
に示すように、基板1の面が1’のように傾くと、投光
素子7からの光は、基板1に対する反射角が変化するこ
とにより、受光素子8の検知範囲から外れて検知するこ
とができず、このため、基板1が存在しない、すなわ
ち、基板1が装着されていないと判断されると、前記処
理設備は稼動停止に至るおそれがある。つまり、基板1
の姿勢が正規でない場合と基板1がない場合との区別が
不可能となる問題点があった。通常は、上記の程度に基
板1が傾いているだけの場合は、そのままで搬送が可能
であるにも拘らず、上記従来技術においては、処理設備
を停止させることになり稼働率の大幅な低下を招く。本
発明の目的は、従来技術の問題点、すなわち、基板1な
しの場合と、載置台2上で基板1が傾いている場合との
区別を可能とすることにより、処理設備停止の事態をな
くし、稼働率の向上を図るに好適な基板検知機構を提供
することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、1つの投
光素子に対して異なる位置に2つの受光素子を有する光
センサ(図示せず)により、一方の受光素子は、載置し
た基板の姿勢について基板上面の反射角の相違を判別し
て検知し、他方の受光素子は、基板なしの場合に、載置
台の有底穴からの反射による受光を検知する構成によっ
て達成される。すなわち、載置台上の正規位置に載置さ
れた基板姿勢の検知には、投光素子からの半導体基板に
よる反射光は、第1の受光素子により検知するが、載置
台上の所定位置から外れて静置している基板姿勢の傾斜
は検知することはできない。基板なしの場合には、載置
台に設けた有底穴からの反射光は、第2の受光素子によ
り受光検知するよう構成することによって達成される。
本発明は載置された半導体基板のみならず、載置台上に
載置した各種の平面状ガラス基板の姿勢、または、有無
を確認・検知する検知機構に有効である。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。図1は、本発明の検知機構を示す要部断
面図である。図1において、17は、投光素子、18
a、18bは第1、第2の受光素子である。ロボットア
ーム4と係合した載置台12表面に有底穴15が設けら
れている。基板1が載置台12上の正規位置に位置決め
して載置されているとき、投光素子17からの基板1に
よる反射光は第1の受光素子18aによって検知される
が、基板1なしの場合は、載置台12の有底穴15の底
面から反射し、第2の受光素子18bによって検知され
る。
【0006】基板1の一端が、正規の位置に位置決めさ
れずに、位置決めピン16上に乗り上げて、基板1の面
が1’のように傾くと、投光素子17からの光は、基板
1に対する反射角が変化することにより、第1の受光素
子18aの検知範囲から外れて検知することができな
い。しかし、図1に示すような位置決めピン16上に乗
り上げた程度の基板1の傾きならば、そのままで搬送が
可能であり、工程処理に特段の支障や不具合をもたらす
ことはなく、処理設備を停止させる必要性は生じない。
しかし、第2の受光素子18bが有底穴15底面からの
反射光を検知すれば、基板1が装着されていないと判定
されるので、状況により装置を停止させるなどの処置が
必要になる。
【0007】
【発明の効果】本発明の基板の検知機構は、簡易な構造
の改善により、従来は不可能であった基板が載置台上に
存在しない場合と、基板が正規の姿勢よりも傾いた場合
との区別が可能となる。これにより、異常時の処置がよ
り適確となり、処理設備の稼働率を向上させることがで
き、処理設備の搬送の信頼性低下を早期に検知し、事故
発生を未然に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の検知機構を示す要部断面図である。
【図2】従来の基板検知機構を示す平断面図(a)、及
び、F矢視による側断面図(b)である。
【符号の説明】
1…基板 2…載置台 3、4…ロボットアーム 5…穴 6…位置決めピン 7…投光素子 8…受光素子 12…載置台 15…有底穴 16…位置決めピン 17…投光素子 18a…第1の受光素子 18b…第2の受光素

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体処理工程における搬送装置上の半導
    体基板の姿勢、または、基板の有無を検知・確認する検
    知機構において、 前記半導体基板を所定位置に位置決めして載置する載置
    台と、 前記位置決めされた半導体基板下部の載置台に反射平面
    を有する有底穴と、 前記所定位置に載置された半導体基板上面に投光する投
    光素子と、 前記所定位置に載置された半導体基板上面による前記投
    光素子からの反射光は受光し、前記所定位置から外れて
    静置している半導体基板上面による反射光は受光しない
    ように設けた第1の受光素子と、 前記半導体基板が載置されてないときの前記有底穴から
    の反射光を受光する第2の受光素子とを有することを特
    徴とする半導体基板の検知機構。
JP19229497A 1997-07-17 1997-07-17 半導体基板の検知機構 Pending JPH1140647A (ja)

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JP19229497A JPH1140647A (ja) 1997-07-17 1997-07-17 半導体基板の検知機構

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JP19229497A JPH1140647A (ja) 1997-07-17 1997-07-17 半導体基板の検知機構

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JPH1140647A true JPH1140647A (ja) 1999-02-12

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ID=16288891

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JP19229497A Pending JPH1140647A (ja) 1997-07-17 1997-07-17 半導体基板の検知機構

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009255255A (ja) * 2008-04-18 2009-11-05 Kawasaki Heavy Ind Ltd ロボットハンド装置
JP2010060473A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Japan Steel Works Ltd:The 物体検出装置および物体位置ずれ検出装置
US12322629B2 (en) 2020-09-10 2025-06-03 Tokyo Electron Limited Transfer apparatus and transfer method

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JP2009255255A (ja) * 2008-04-18 2009-11-05 Kawasaki Heavy Ind Ltd ロボットハンド装置
JP2010060473A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Japan Steel Works Ltd:The 物体検出装置および物体位置ずれ検出装置
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