JPH1143465A - アクリル酸系誘導体及び活性エネルギー線硬化型組成物 - Google Patents
アクリル酸系誘導体及び活性エネルギー線硬化型組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 活性エネルギー線硬化型組成物の硬化性成分
として用いた場合、優れた耐熱性、透明性、誘電特性を
与えるアクリル酸系誘導体を提供する。 【解決手段】 式(A−1)で示されるようなビニル基
含有アクリル酸系誘導体、それから導かれるエポキシ基
含有アクリル酸系誘導体、更にはそれらを硬化性成分と
して含有する活性エネルギー線硬化型組成物。 【化1】
として用いた場合、優れた耐熱性、透明性、誘電特性を
与えるアクリル酸系誘導体を提供する。 【解決手段】 式(A−1)で示されるようなビニル基
含有アクリル酸系誘導体、それから導かれるエポキシ基
含有アクリル酸系誘導体、更にはそれらを硬化性成分と
して含有する活性エネルギー線硬化型組成物。 【化1】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、脂環骨格を有す
る特定の各種アクリル酸系誘導体及びそれを硬化性成分
として含有する活性エネルギー線硬化型組成物に関す
る。更に詳しくは、脂環骨格を有する特定のビニル基含
有アクリル酸系誘導体、それから得られるウレタン含有
アクリル酸系誘導体、それを酸化して得られるエポキシ
基含有アクリル酸系誘導体、前記エポキシ基含有アクリ
ル酸系誘導体から得られる不飽和基含有アクリル酸系誘
導体、更にはこれら各種アクリル酸系誘導体を硬化性成
分として含有する活性エネルギー線硬化型組成物に関す
る。本発明で提供される活性エネルギー線硬化型組成物
は耐熱性、透明性、良好な誘電特性に優れ、コーティン
グ材、インキ、接着剤、シーラント等の用途に使用でき
る。
る特定の各種アクリル酸系誘導体及びそれを硬化性成分
として含有する活性エネルギー線硬化型組成物に関す
る。更に詳しくは、脂環骨格を有する特定のビニル基含
有アクリル酸系誘導体、それから得られるウレタン含有
アクリル酸系誘導体、それを酸化して得られるエポキシ
基含有アクリル酸系誘導体、前記エポキシ基含有アクリ
ル酸系誘導体から得られる不飽和基含有アクリル酸系誘
導体、更にはこれら各種アクリル酸系誘導体を硬化性成
分として含有する活性エネルギー線硬化型組成物に関す
る。本発明で提供される活性エネルギー線硬化型組成物
は耐熱性、透明性、良好な誘電特性に優れ、コーティン
グ材、インキ、接着剤、シーラント等の用途に使用でき
る。
【0002】
【従来の技術】エポキシ基を含有するアクリル酸系誘導
体は、一般にコーティング、インキ、接着剤及びシーラ
ント等の分野において有用な化合物である。特に、脂環
骨格を有するエポキシ基含有アクリル酸系誘導体は、耐
候性に優れ、屋外で使用する場合に適した特性を有す
る。これらは一般に、構造中に存在するオキシラン環の
開環反応や、アクリレートのエチレン系不飽和基の反応
等によって、所定の性能を発揮する。なお、「アクリル
酸系誘導体」とは、アクリル酸、メタクリル酸または2
−エチルプロペン酸(これらを「アクリル酸等」とい
う。)の誘導体を指し、「アクリレート等」とは、「ア
クリル酸等」のエステルを指す。
体は、一般にコーティング、インキ、接着剤及びシーラ
ント等の分野において有用な化合物である。特に、脂環
骨格を有するエポキシ基含有アクリル酸系誘導体は、耐
候性に優れ、屋外で使用する場合に適した特性を有す
る。これらは一般に、構造中に存在するオキシラン環の
開環反応や、アクリレートのエチレン系不飽和基の反応
等によって、所定の性能を発揮する。なお、「アクリル
酸系誘導体」とは、アクリル酸、メタクリル酸または2
−エチルプロペン酸(これらを「アクリル酸等」とい
う。)の誘導体を指し、「アクリレート等」とは、「ア
クリル酸等」のエステルを指す。
【0003】現在、分子中にエポキシ基を持つ(メタ)
アクリレートには、以下の化合物が知られている。例え
ば、化合物の末端にエポキシ基を持つ(メタ)アクリレ
ートしては、グリシジルメタクリレートや1−メチル−
1,2−エポキシ−エチルメタクリレート等がある。ま
た、脂環式エポキシを持つ(メタ)アクリレートは、ダ
イセル化学工業製の「サイクロマーA−200」(3,
4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート)や
「サイクロマーM−100」(3,4−エポキシシクロ
ヘキシルメチルメタクリレート)等がある。
アクリレートには、以下の化合物が知られている。例え
ば、化合物の末端にエポキシ基を持つ(メタ)アクリレ
ートしては、グリシジルメタクリレートや1−メチル−
1,2−エポキシ−エチルメタクリレート等がある。ま
た、脂環式エポキシを持つ(メタ)アクリレートは、ダ
イセル化学工業製の「サイクロマーA−200」(3,
4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート)や
「サイクロマーM−100」(3,4−エポキシシクロ
ヘキシルメチルメタクリレート)等がある。
【0004】また、米国特許第3536687号には、
α,β−不飽和酸のシクロヘキセニル−アルキル及びア
ルキルシクロヘキセニル−アルキルアルコールエステル
ならびにそれらのホモポリマー及びコポリマーが記載さ
れている。構造式を以下に示す。
α,β−不飽和酸のシクロヘキセニル−アルキル及びア
ルキルシクロヘキセニル−アルキルアルコールエステル
ならびにそれらのホモポリマー及びコポリマーが記載さ
れている。構造式を以下に示す。
【0005】
【化5】
【0006】また、「ジャーナル・オブ・アメリカン・
ケミカル・ソサエティー」第81巻、第3350ページ
(1959年)には、3,4−エポキシシクロヘキシル
メチルアクリレート及び3,4−エポキシ−6−メチル
シクロヘキシルメチルアクリレートが記載されている。
また、ドイツ国特許第1063808号(1959年8
月20日)(「ケミカル・アブストラクツ」、55:1
4983e)には、3,4−エポキシシクロヘキサンメ
タノールのメタクリレート(12個までの炭素原子を有
するアルキル基によって、特に6−位置の炭素において
メチルによって置換されてよい)が記載されている。こ
れらの化合物は、単独でまたはオレフィン系化合物とと
もに重合され、ついでエポキシ基を反応させることによ
って硬化される。
ケミカル・ソサエティー」第81巻、第3350ページ
(1959年)には、3,4−エポキシシクロヘキシル
メチルアクリレート及び3,4−エポキシ−6−メチル
シクロヘキシルメチルアクリレートが記載されている。
また、ドイツ国特許第1063808号(1959年8
月20日)(「ケミカル・アブストラクツ」、55:1
4983e)には、3,4−エポキシシクロヘキサンメ
タノールのメタクリレート(12個までの炭素原子を有
するアルキル基によって、特に6−位置の炭素において
メチルによって置換されてよい)が記載されている。こ
れらの化合物は、単独でまたはオレフィン系化合物とと
もに重合され、ついでエポキシ基を反応させることによ
って硬化される。
【0007】更に、特開平2−18410号公報には、
シロキサンメタクリレートを3,4−エポキシシクロヘ
キシルメチルメタクリレートによって硬化させた消去可
能な白色板用のコーティングの製造が記載されている。
また、特開昭57−47365号公報には、アクリル酸
または3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)
アクリレートを構造単位として含有するコポリマーが熱
硬化性粉末状コーティング組成物において有効であると
記載されている。
シロキサンメタクリレートを3,4−エポキシシクロヘ
キシルメチルメタクリレートによって硬化させた消去可
能な白色板用のコーティングの製造が記載されている。
また、特開昭57−47365号公報には、アクリル酸
または3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)
アクリレートを構造単位として含有するコポリマーが熱
硬化性粉末状コーティング組成物において有効であると
記載されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、他のモノマー
とも共重合でき、得られる硬化物において更に優れた耐
熱性、透明性、誘電特性を与える新規な化合物の開発が
望まれている。
とも共重合でき、得られる硬化物において更に優れた耐
熱性、透明性、誘電特性を与える新規な化合物の開発が
望まれている。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、各種アク
リル酸系誘導体について鋭意研究を重ねた結果、ビニル
基と脂環骨格を有する特定のビニル基含有アクリル酸系
誘導体及びそれから導かれる誘導体が上記目的に沿う化
合物であることを見い出し、本発明を完成するに至っ
た。
リル酸系誘導体について鋭意研究を重ねた結果、ビニル
基と脂環骨格を有する特定のビニル基含有アクリル酸系
誘導体及びそれから導かれる誘導体が上記目的に沿う化
合物であることを見い出し、本発明を完成するに至っ
た。
【0010】すなわち本発明は、下記式(A−1)、
(A−2)で示されるビニル基含有アクリル酸系誘導体
を提供するものである。また、下記式(B−1)、(B
−2)で示されるエポキシ基含有アクリル酸系誘導体を
提供するものである。また、分子中に2個以上のイソシ
アネート基を有するポリイソシアネート化合物、分子中
に2個以上の水酸基を有するポリオール化合物及び前記
式(A−1)または(A−2)で表されるビニル基含有
アクリル酸系誘導体とを反応させて得られるウレタン含
有アクリル酸系誘導体、前記エポキシ基含有アクリル酸
系誘導体と分子中に1個以上のカルボキシル基を有する
不飽和化合物とを反応させて得られる不飽和基含有アク
リル酸系誘導体、さらにこれらの各種アクリル酸系誘導
体を硬化性成分として含有する活性エネルギー線硬化型
組成物を提供するものである。以下、本発明を詳細に説
明する。
(A−2)で示されるビニル基含有アクリル酸系誘導体
を提供するものである。また、下記式(B−1)、(B
−2)で示されるエポキシ基含有アクリル酸系誘導体を
提供するものである。また、分子中に2個以上のイソシ
アネート基を有するポリイソシアネート化合物、分子中
に2個以上の水酸基を有するポリオール化合物及び前記
式(A−1)または(A−2)で表されるビニル基含有
アクリル酸系誘導体とを反応させて得られるウレタン含
有アクリル酸系誘導体、前記エポキシ基含有アクリル酸
系誘導体と分子中に1個以上のカルボキシル基を有する
不飽和化合物とを反応させて得られる不飽和基含有アク
リル酸系誘導体、さらにこれらの各種アクリル酸系誘導
体を硬化性成分として含有する活性エネルギー線硬化型
組成物を提供するものである。以下、本発明を詳細に説
明する。
【0011】
【化6】
【0012】
【化7】
【0013】
【化8】
【0014】
【化9】
【0015】
【発明の実施の形態】 (ビニル基含有アクリル酸系誘導体)本発明のビニル基
含有アクリル酸系誘導体(以下、単に「ビニル基含有ア
クリル酸系誘導体(A)」という)とは、上記式(A−
1)または(A−2)で表される。式中、R1、R2、R
5、R7〜R10、R12〜R14の炭素数1〜8のアルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基が例示できる。R1、R2、R5、R7〜
R10、R12〜R14としては、水素原子またはメチル基が
好ましい。本発明のビニル基含有アクリル酸系誘導体
(A)として、好ましい化合物は、アクリル酸もしくは
メタクリル酸とビニルシクロヘキセンモノエポキシドの
付加物や、アクリル酸もしくはメタクリル酸とリモネン
モノエポキシドの付加物である。
含有アクリル酸系誘導体(以下、単に「ビニル基含有ア
クリル酸系誘導体(A)」という)とは、上記式(A−
1)または(A−2)で表される。式中、R1、R2、R
5、R7〜R10、R12〜R14の炭素数1〜8のアルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基が例示できる。R1、R2、R5、R7〜
R10、R12〜R14としては、水素原子またはメチル基が
好ましい。本発明のビニル基含有アクリル酸系誘導体
(A)として、好ましい化合物は、アクリル酸もしくは
メタクリル酸とビニルシクロヘキセンモノエポキシドの
付加物や、アクリル酸もしくはメタクリル酸とリモネン
モノエポキシドの付加物である。
【0016】(ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)
の製造)ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)は、下
記式で表されるエポキシ基含有脂環式化合物(以下、単
に「エポキシ基含有脂環式化合物(C)」という。)と
アクリル酸等とを、エポキシ基の開環付加反応により結
合させて製造することができる。
の製造)ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)は、下
記式で表されるエポキシ基含有脂環式化合物(以下、単
に「エポキシ基含有脂環式化合物(C)」という。)と
アクリル酸等とを、エポキシ基の開環付加反応により結
合させて製造することができる。
【0017】
【化10】
【0018】本発明のビニル基含有アクリル酸系誘導体
(A)の製造に使用するエポキシ基含有脂環式化合物
(C)としては、下記化合物が例示できる。なお、市販
の化合物としては、ダイセル化学工業製「セロキサイド
2000」(ビニルシクロヘキセンモノエポキシド、分
子量124:下記(C−2)に相当)、エルフアトケム
製「リモネンモノオキシド」(リモネンモノエポキシ
ド、分子量152、下記(C−3)に相当)等が例示で
きる。
(A)の製造に使用するエポキシ基含有脂環式化合物
(C)としては、下記化合物が例示できる。なお、市販
の化合物としては、ダイセル化学工業製「セロキサイド
2000」(ビニルシクロヘキセンモノエポキシド、分
子量124:下記(C−2)に相当)、エルフアトケム
製「リモネンモノオキシド」(リモネンモノエポキシ
ド、分子量152、下記(C−3)に相当)等が例示で
きる。
【0019】
【化11】
【0020】本発明のビニル基含有アクリル酸系誘導体
(A)について、式(C−2)の化合物とアクリル酸と
を用いた場合の合成スキームを以下に示す。
(A)について、式(C−2)の化合物とアクリル酸と
を用いた場合の合成スキームを以下に示す。
【0021】
【化12】
【0022】エポキシ基含有脂環式化合物(C)とアク
リル酸等との付加反応の方法は、溶媒の存在下または非
存在下、反応温度60〜140℃、特には70〜120
℃で反応させることが好ましい。反応時に使用する溶媒
は特に制限はないが、ヘキサン、シクロヘキサン、トル
エン、ベンゼン、酢酸エチル、四塩化炭素、クロロホル
ム等を用いることができ、更に、グリコールエーテルや
グリコールアセテート類等も使用できる。
リル酸等との付加反応の方法は、溶媒の存在下または非
存在下、反応温度60〜140℃、特には70〜120
℃で反応させることが好ましい。反応時に使用する溶媒
は特に制限はないが、ヘキサン、シクロヘキサン、トル
エン、ベンゼン、酢酸エチル、四塩化炭素、クロロホル
ム等を用いることができ、更に、グリコールエーテルや
グリコールアセテート類等も使用できる。
【0023】反応時には触媒を使用することができる。
触媒として、トリフェニルホスフィン等のリン系化合
物、ジアザビシクロウンデセンやテトラエチルアンモニ
ウム等の4級アミン化合物、2−メチル−イミダゾール
や2−メチル−4−エチル−イミダゾール等のイミダゾ
ール系化合物を使用することができる。更に、ホウ酸エ
ステル、ルイス酸、有機金属化合物、有機酸金属塩等も
用いることができる。これら触媒の使用量は、アクリル
酸等とエポキシ基含有脂環式化合物(C)との合計重量
に対し0.03〜5重量%、特には0.05〜3重量%
であることが好ましい。
触媒として、トリフェニルホスフィン等のリン系化合
物、ジアザビシクロウンデセンやテトラエチルアンモニ
ウム等の4級アミン化合物、2−メチル−イミダゾール
や2−メチル−4−エチル−イミダゾール等のイミダゾ
ール系化合物を使用することができる。更に、ホウ酸エ
ステル、ルイス酸、有機金属化合物、有機酸金属塩等も
用いることができる。これら触媒の使用量は、アクリル
酸等とエポキシ基含有脂環式化合物(C)との合計重量
に対し0.03〜5重量%、特には0.05〜3重量%
であることが好ましい。
【0024】反応には、アクリロイル基等の重合を防止
するため、メトキノン(p−メトキシフェノール)、ハ
イドロキノン、フェノチアジン等の一般に使用される重
合禁止剤を使用することができる。重合禁止剤の使用量
は、アクリル酸等とエポキシ基含有脂環式化合物(C)
との合計重量に対し0.03〜5重量%、特には0.0
5〜3重量%であることが好ましい。上記反応によっ
て、ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)が製造でき
る。
するため、メトキノン(p−メトキシフェノール)、ハ
イドロキノン、フェノチアジン等の一般に使用される重
合禁止剤を使用することができる。重合禁止剤の使用量
は、アクリル酸等とエポキシ基含有脂環式化合物(C)
との合計重量に対し0.03〜5重量%、特には0.0
5〜3重量%であることが好ましい。上記反応によっ
て、ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)が製造でき
る。
【0025】(エポキシ基含有アクリル酸系誘導体)本
発明のエポキシ基含有アクリル酸系誘導体(以下、単に
「エポキシ基含有アクリル酸系誘導体(B)」とい
う。)は、上記式(B−1)または(B−2)で表され
る。式中、R1〜R10の炭素数1〜8のアルキル基とし
ては、ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)で例示し
たものが挙げられる。R1〜R10としては、水素原子、
メチル基が好ましい。本発明のエポキシ基含有アクリル
酸系誘導体(B)として、好ましい化合物は、アクリル
酸もしくはメタクリル酸とビニルシクロヘキセンモノエ
ポキシドの付加物をエポキシ化したものや、アクリル酸
もしくはメタクリル酸とリモネンモノエポキシドの付加
物をエポキシ化したものである。
発明のエポキシ基含有アクリル酸系誘導体(以下、単に
「エポキシ基含有アクリル酸系誘導体(B)」とい
う。)は、上記式(B−1)または(B−2)で表され
る。式中、R1〜R10の炭素数1〜8のアルキル基とし
ては、ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)で例示し
たものが挙げられる。R1〜R10としては、水素原子、
メチル基が好ましい。本発明のエポキシ基含有アクリル
酸系誘導体(B)として、好ましい化合物は、アクリル
酸もしくはメタクリル酸とビニルシクロヘキセンモノエ
ポキシドの付加物をエポキシ化したものや、アクリル酸
もしくはメタクリル酸とリモネンモノエポキシドの付加
物をエポキシ化したものである。
【0026】(エポキシ基含有アクリル酸系誘導体
(B)の製造)本発明のエポキシ基含有アクリル酸系誘
導体(B)は、ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)
のシクロヘキシル基またはビシクロヘキシル基等の脂環
骨格に結合するビニル基または1−メチルビニル基の二
重結合をエポキシ化剤により選択的にエポキシ化し、ア
クリル酸系の二重結合を持った1,2−エポキシエチル
基または1−メチル−1,2−エポキシエチル基を製造
することができる。例えば、過酢酸やハイドロパーオキ
サイド類を用いてエポキシ化すると、不飽和アシル基を
ほぼ100%残存させたまま、ビニル基または1−メチ
ルビニル基をエポキシ化することができる。
(B)の製造)本発明のエポキシ基含有アクリル酸系誘
導体(B)は、ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)
のシクロヘキシル基またはビシクロヘキシル基等の脂環
骨格に結合するビニル基または1−メチルビニル基の二
重結合をエポキシ化剤により選択的にエポキシ化し、ア
クリル酸系の二重結合を持った1,2−エポキシエチル
基または1−メチル−1,2−エポキシエチル基を製造
することができる。例えば、過酢酸やハイドロパーオキ
サイド類を用いてエポキシ化すると、不飽和アシル基を
ほぼ100%残存させたまま、ビニル基または1−メチ
ルビニル基をエポキシ化することができる。
【0027】使用できるエポキシ化剤としては、上記の
ように過酸類やハイドロパーオキサイド類を用いること
ができる。過酸類としては、過ギ酸、過酢酸、過安息香
酸、トリフルオロ過酢酸等の有機酸が例示でき、またハ
イドロパーオキサイド類としては、過酸化水素、ターシ
ャリブチルハイドロパーオキサイド、クメンパーオキサ
イド等が例示できる。このうち特に過酢酸を使用するこ
とが好ましい。過酢酸は、工業的に安価に入手可能で、
かつ安定度も高いからである。エポキシ化剤の量は、使
用する個々のエポキシ化剤、所望されるエポキシ化度、
使用する個々の被エポキシ化合物等の違いに応じて、適
宜選択することができる。
ように過酸類やハイドロパーオキサイド類を用いること
ができる。過酸類としては、過ギ酸、過酢酸、過安息香
酸、トリフルオロ過酢酸等の有機酸が例示でき、またハ
イドロパーオキサイド類としては、過酸化水素、ターシ
ャリブチルハイドロパーオキサイド、クメンパーオキサ
イド等が例示できる。このうち特に過酢酸を使用するこ
とが好ましい。過酢酸は、工業的に安価に入手可能で、
かつ安定度も高いからである。エポキシ化剤の量は、使
用する個々のエポキシ化剤、所望されるエポキシ化度、
使用する個々の被エポキシ化合物等の違いに応じて、適
宜選択することができる。
【0028】エポキシ化の際には必要に応じて触媒を用
いることができる。例えばエポキシ化剤として、過酸を
使用した場合は、炭酸ソーダ等のアルカリや硫酸、有機
酸等の酸を触媒として用いることができる。また、ハイ
ドロパーオキサイドを使用した場合は、タングステン酸
と苛性ソーダの混合物を使用することができる。具体的
には有機酸と過酸化水素とを、モリブデンヘキサカルボ
ニルとターシャリブチルハイドロパーオキサイドとを併
用して触媒効果を得ることができる。
いることができる。例えばエポキシ化剤として、過酸を
使用した場合は、炭酸ソーダ等のアルカリや硫酸、有機
酸等の酸を触媒として用いることができる。また、ハイ
ドロパーオキサイドを使用した場合は、タングステン酸
と苛性ソーダの混合物を使用することができる。具体的
には有機酸と過酸化水素とを、モリブデンヘキサカルボ
ニルとターシャリブチルハイドロパーオキサイドとを併
用して触媒効果を得ることができる。
【0029】ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)に
対するエポキシ化剤の仕込みモル比は、シクロヘキシル
基に結合するビニル基または1−メチルビニル基1モル
に対して等モルかそれ以上加えることが好ましい。ただ
し、経済性及び次に述べる副反応の問題から2倍モルを
越えることは通常不利であり、エポキシ化剤として過酢
酸を使用した場合は、1〜1.5倍モルを使用すること
が好ましい。
対するエポキシ化剤の仕込みモル比は、シクロヘキシル
基に結合するビニル基または1−メチルビニル基1モル
に対して等モルかそれ以上加えることが好ましい。ただ
し、経済性及び次に述べる副反応の問題から2倍モルを
越えることは通常不利であり、エポキシ化剤として過酢
酸を使用した場合は、1〜1.5倍モルを使用すること
が好ましい。
【0030】エポキシ化反応は、不活性溶媒を使用する
ことができる。不活性溶媒としては、原料粘度の低下、
エポキシ化剤の希釈による安定化等の目的で使用するこ
とができ、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、ベン
ゼン、酢酸エチル、四塩化炭素、クロロホルム等が例示
できる。より具体的には、エポキシ化剤として過酢酸を
使用した場合には、芳香族化合物、エーテル類、エステ
ル類等を用いることが好ましい。
ことができる。不活性溶媒としては、原料粘度の低下、
エポキシ化剤の希釈による安定化等の目的で使用するこ
とができ、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、ベン
ゼン、酢酸エチル、四塩化炭素、クロロホルム等が例示
できる。より具体的には、エポキシ化剤として過酢酸を
使用した場合には、芳香族化合物、エーテル類、エステ
ル類等を用いることが好ましい。
【0031】エポキシ化反応の温度は、エポキシ化剤と
して過酢酸を使用した場合は、0〜70℃であることが
好ましい。0℃以下では反応が遅く、70℃では過酢酸
の分解が起きる場合があるからである。また、ハイドロ
パーオキサイドの1例であるターシャルブチルハイドロ
パーオキサイド/モリブデン二酸化物ジアセチルアセト
ナート系化合物を使用した場合は、同じ理由で20℃〜
150℃が好ましい。なお、反応中に特別な操作は必要
なく、例えば混合物を2〜8時間撹拌すればよい。これ
により、エポキシ基含有アクリル酸系誘導体(B)を製
造することができる。
して過酢酸を使用した場合は、0〜70℃であることが
好ましい。0℃以下では反応が遅く、70℃では過酢酸
の分解が起きる場合があるからである。また、ハイドロ
パーオキサイドの1例であるターシャルブチルハイドロ
パーオキサイド/モリブデン二酸化物ジアセチルアセト
ナート系化合物を使用した場合は、同じ理由で20℃〜
150℃が好ましい。なお、反応中に特別な操作は必要
なく、例えば混合物を2〜8時間撹拌すればよい。これ
により、エポキシ基含有アクリル酸系誘導体(B)を製
造することができる。
【0032】エポキシ基含有アクリル酸系誘導体(B)
は、反応液中から、例えば貧溶媒で沈殿させる方法、エ
ポキシ化物を熱水中に撹拌の下で投入し溶媒を蒸留除去
する方法、直接脱溶媒法等で単離することができる。な
お、前記式(C−2)の化合物から得られたビニル基含
有アクリル酸系誘導体(A)からエポキシ基含有アクリ
ル酸系誘導体(B)を合成する場合のスキームを記載す
る。
は、反応液中から、例えば貧溶媒で沈殿させる方法、エ
ポキシ化物を熱水中に撹拌の下で投入し溶媒を蒸留除去
する方法、直接脱溶媒法等で単離することができる。な
お、前記式(C−2)の化合物から得られたビニル基含
有アクリル酸系誘導体(A)からエポキシ基含有アクリ
ル酸系誘導体(B)を合成する場合のスキームを記載す
る。
【0033】
【化13】
【0034】(ウレタン含有アクリル酸系誘導体)本発
明で提供されるウレタン含有アクリル酸系誘導体は、分
子中に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシ
アネート化合物、分子中に2個以上の水酸基を有するポ
リオール化合物及び前記ビニル基含有アクリル酸系誘導
体(A)とを反応させて得られる。
明で提供されるウレタン含有アクリル酸系誘導体は、分
子中に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシ
アネート化合物、分子中に2個以上の水酸基を有するポ
リオール化合物及び前記ビニル基含有アクリル酸系誘導
体(A)とを反応させて得られる。
【0035】前記ポリイソシアネート化合物としては、
2,4−または2,6−トリレンジイソシアネート、m
−またはp−キシリレンジイソシアネート、水添キシリ
レンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4‘−
ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、1,4−テトラメチレン
ジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートなどが
用いられる。
2,4−または2,6−トリレンジイソシアネート、m
−またはp−キシリレンジイソシアネート、水添キシリ
レンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4‘−
ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、1,4−テトラメチレン
ジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートなどが
用いられる。
【0036】前記ポリオール化合物としては、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペン
タジオール、ヘキサジオール、ネオペンチルグリコー
ル、ポリエーテル系ポリオール、ポリエステル系ポリオ
ール、ポリカーボネート系ポリオール、アクリル系ポリ
オール、ポリブタジエン系ポリオール、ポリオレフィン
系ポリオールなどが用いられる。
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペン
タジオール、ヘキサジオール、ネオペンチルグリコー
ル、ポリエーテル系ポリオール、ポリエステル系ポリオ
ール、ポリカーボネート系ポリオール、アクリル系ポリ
オール、ポリブタジエン系ポリオール、ポリオレフィン
系ポリオールなどが用いられる。
【0037】ウレタン含有アクリル酸系誘導体の具体的
製造方法としては、ポリイソシアネートとポリオールを
温度50〜95℃程度で反応させ、その後にビニル基含
有アクリル酸系誘導体(A)を加えて、温度50〜80
℃程度で反応させる方法が用いられる。反応に際して、
適時反応促進剤を存在させることが出来る。具体的に
は、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジエチルヘキ
ソエート、ジブチル錫サルフアイド、ジブチル錫ジプト
キサイドなどを使用することができる。これら触媒の濃
度は、50〜5,000ppmであることが好ましく、
特には、250〜1,000ppmの範囲であることが
好ましい。
製造方法としては、ポリイソシアネートとポリオールを
温度50〜95℃程度で反応させ、その後にビニル基含
有アクリル酸系誘導体(A)を加えて、温度50〜80
℃程度で反応させる方法が用いられる。反応に際して、
適時反応促進剤を存在させることが出来る。具体的に
は、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジエチルヘキ
ソエート、ジブチル錫サルフアイド、ジブチル錫ジプト
キサイドなどを使用することができる。これら触媒の濃
度は、50〜5,000ppmであることが好ましく、
特には、250〜1,000ppmの範囲であることが
好ましい。
【0038】(不飽和基含有アクリル酸系誘導体)本発
明で提供される不飽和基含有アクリル酸系誘導体は、前
記エポキシ基含有アクリル酸系誘導体(B)と分子中に
1個以上のカルボキシル基を有する不飽和化合物とを反
応させて得られる。
明で提供される不飽和基含有アクリル酸系誘導体は、前
記エポキシ基含有アクリル酸系誘導体(B)と分子中に
1個以上のカルボキシル基を有する不飽和化合物とを反
応させて得られる。
【0039】前記分子中に1個以上のカルボキシル基を
有する不飽和化合物としては、アクリル酸、メタクリル
酸等のアクリル酸等などが用いられる。不飽和基含有ア
クリル酸系誘導体の具体的製造方法としては、エポキシ
基含有アクリレートと反応促進剤を仕込み、温度90〜
120℃まで昇温させて、カルボキシル基を有する不飽
和化合物を滴下し、反応させる。反応時の溶媒、触媒な
どは、ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)の製造で
述べたことがそのまま適用できる。
有する不飽和化合物としては、アクリル酸、メタクリル
酸等のアクリル酸等などが用いられる。不飽和基含有ア
クリル酸系誘導体の具体的製造方法としては、エポキシ
基含有アクリレートと反応促進剤を仕込み、温度90〜
120℃まで昇温させて、カルボキシル基を有する不飽
和化合物を滴下し、反応させる。反応時の溶媒、触媒な
どは、ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)の製造で
述べたことがそのまま適用できる。
【0040】(活性エネルギー線硬化型組成物)前記の
ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)、エポキシ基含
有アクリル酸系誘導体(B)、ウレタン含有アクリル酸
系誘導体または不飽和基含有アクリル酸系誘導体の各ア
クリル酸系誘導体は、硬化性成分としてそれ単独で、ま
たは他の反応性化合物と共に活性エネルギー線硬化型組
成物を構成し、コーティング、インキ、接着剤、シーラ
ント、成形又は成形品、又はこれらを用いた他の用途の
ための中間体を生成することができる。
ビニル基含有アクリル酸系誘導体(A)、エポキシ基含
有アクリル酸系誘導体(B)、ウレタン含有アクリル酸
系誘導体または不飽和基含有アクリル酸系誘導体の各ア
クリル酸系誘導体は、硬化性成分としてそれ単独で、ま
たは他の反応性化合物と共に活性エネルギー線硬化型組
成物を構成し、コーティング、インキ、接着剤、シーラ
ント、成形又は成形品、又はこれらを用いた他の用途の
ための中間体を生成することができる。
【0041】前記他の反応性化合物としては、イソボル
ニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)ア
クリレート、オクチル(メタ)アクリレート等のアルキ
ルあるいはシクロアルキル(メタ)アクリレート;2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレート;エチレングリコールのモノま
たはジ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコ
ールの(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコー
ルのモノまたはジ(メタ)アクリレート、トリプロピレ
ングリコールのモノまたはジ(メタ)アクリレート等の
グリコールのモノまたはジ(メタ)アクリレート;3,
4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレー
ト、グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基含
有(メタ)アクリレート;グリセリンジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールのトリまたはテトラ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート等のポリオールまたはそのアルキレンオキサイ
ドの(メタ)アクリレート等が例示できる。
ニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)ア
クリレート、オクチル(メタ)アクリレート等のアルキ
ルあるいはシクロアルキル(メタ)アクリレート;2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレート;エチレングリコールのモノま
たはジ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコ
ールの(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコー
ルのモノまたはジ(メタ)アクリレート、トリプロピレ
ングリコールのモノまたはジ(メタ)アクリレート等の
グリコールのモノまたはジ(メタ)アクリレート;3,
4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレー
ト、グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基含
有(メタ)アクリレート;グリセリンジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールのトリまたはテトラ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート等のポリオールまたはそのアルキレンオキサイ
ドの(メタ)アクリレート等が例示できる。
【0042】また本発明の活性エネルギー線硬化型組成
物には、その外、種々の添加剤を配合することが出来
る。添加剤の例としては、フィラー、染顔料、可塑剤、
ワックス類、シリコン、分散剤、湿潤剤、乳化剤、安定
剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤な
どが挙げられる。
物には、その外、種々の添加剤を配合することが出来
る。添加剤の例としては、フィラー、染顔料、可塑剤、
ワックス類、シリコン、分散剤、湿潤剤、乳化剤、安定
剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤な
どが挙げられる。
【0043】本発明の活性エネルギー線硬化型組成物の
硬化に使用される活性エネルギー線としては、紫外線ま
たは電子線を挙げることができる。紫外線照射を行なう
ときの光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カー
ボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプなど
が用いられる。照射時間は、光源の種類、光源と塗布面
との距離、その他の条件によっても異なるが、長くとも
数十秒であり、通常は数秒である。紫外線照射後は、必
要に応じ加熱を行なって硬化の完全を図ることもでき
る。電子線照射の場合は、50〜1000KeVの範囲
のエネルギーを持つ電子線を用い、2〜5Mradの照
射量とする。
硬化に使用される活性エネルギー線としては、紫外線ま
たは電子線を挙げることができる。紫外線照射を行なう
ときの光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カー
ボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプなど
が用いられる。照射時間は、光源の種類、光源と塗布面
との距離、その他の条件によっても異なるが、長くとも
数十秒であり、通常は数秒である。紫外線照射後は、必
要に応じ加熱を行なって硬化の完全を図ることもでき
る。電子線照射の場合は、50〜1000KeVの範囲
のエネルギーを持つ電子線を用い、2〜5Mradの照
射量とする。
【0044】電子線照射により硬化させる時は、光重合
開始剤は用いないのが通常であるが、紫外線照射により
硬化させる時は、光重合開始剤を配合する。光重合開始
剤としては、1ーヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインイソプルピルエーテ
ル、ベンゾインn−ブチルエーテル、ベンゾインフェニ
ルエーテル、アントラキノン、ベンゾフェノン、ベンゾ
イン安息香酸メチル、ベンジルジメチルケタール、1,
1−ジクロロアセトフェノン、パラ−t−ブチルジクロ
ロアセトフェノン、2ークロロチオキサントン、2ーメ
チルチオキサントン、2,2−ジエトキシアセトフェノ
ン、2,2−ジメトキシ−2ーフェニルアセトフェノ
ン、2ーヒドロキシー2ーメチルー1ーフェニルプロパ
ンー1ーオン、1ー(4ーイソプロピルフェニル)ー2
ーヒドロキシー2ーメチルプロパンー1ーオン、2ーメ
チルー1ー[4ー(メチルチオ)フェニル]ー2ーモル
ホリノプロパンー1などが用いられ、その配合量は組成
物全体に対して1〜10重量部であることが好ましい。
開始剤は用いないのが通常であるが、紫外線照射により
硬化させる時は、光重合開始剤を配合する。光重合開始
剤としては、1ーヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインイソプルピルエーテ
ル、ベンゾインn−ブチルエーテル、ベンゾインフェニ
ルエーテル、アントラキノン、ベンゾフェノン、ベンゾ
イン安息香酸メチル、ベンジルジメチルケタール、1,
1−ジクロロアセトフェノン、パラ−t−ブチルジクロ
ロアセトフェノン、2ークロロチオキサントン、2ーメ
チルチオキサントン、2,2−ジエトキシアセトフェノ
ン、2,2−ジメトキシ−2ーフェニルアセトフェノ
ン、2ーヒドロキシー2ーメチルー1ーフェニルプロパ
ンー1ーオン、1ー(4ーイソプロピルフェニル)ー2
ーヒドロキシー2ーメチルプロパンー1ーオン、2ーメ
チルー1ー[4ー(メチルチオ)フェニル]ー2ーモル
ホリノプロパンー1などが用いられ、その配合量は組成
物全体に対して1〜10重量部であることが好ましい。
【0045】本発明の活性エネルギー線硬化型組成物を
用いることができる最終用途の例としては、家具コーテ
ィング、装飾コーティング、自動車下塗り、シーラー、
仕上げ塗り、飲料缶及びその他の缶コーティング、文字
情報又は画像情報のインキ、電子部品用のシーラント、
印刷版又は印刷回路版を開発するのに適したフォトレジ
スト、注型印刷ロール、不飽和ポリエステル及びスチレ
ンを主体としガラス繊維、炭素繊維、グラファイト又は
他の繊維によって強化された成形品への配合物又はシー
ト形成配合物によって作られた成形品、溶媒、難燃剤な
どがある。
用いることができる最終用途の例としては、家具コーテ
ィング、装飾コーティング、自動車下塗り、シーラー、
仕上げ塗り、飲料缶及びその他の缶コーティング、文字
情報又は画像情報のインキ、電子部品用のシーラント、
印刷版又は印刷回路版を開発するのに適したフォトレジ
スト、注型印刷ロール、不飽和ポリエステル及びスチレ
ンを主体としガラス繊維、炭素繊維、グラファイト又は
他の繊維によって強化された成形品への配合物又はシー
ト形成配合物によって作られた成形品、溶媒、難燃剤な
どがある。
【0046】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。例中
の「部」及び「%」は、それぞれ「重量部」及び「重量
%」を表わす。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。例中
の「部」及び「%」は、それぞれ「重量部」及び「重量
%」を表わす。
【0047】(実施例1)1リットルのジャケット付フ
ラスコにビニルシクロヘキセンモノエポキシド(ダイセ
ル化学工業製「セロキサイド2000」)144g、ト
リフェニルホスフィン1.36g、メトキノン1.36
g、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル275gを仕込んだ。液中に空気を吹き込みながら、
反応系内の温度を80℃にし、メタクリル酸100gを
約1時間かけて滴下した。滴下終了後、系内の温度を1
00℃とし更に反応させた。系内のオキシラン酸素濃度
が0.1%になった時点で反応を終了させた。この反応
液を70℃/10mmHgで脱低沸を行い、脂環骨格を
持つ不飽和アクリレート(A)を275g得た。不飽和
アクリレート(A)の1H−NMRの測定で、δ4.8
〜5.0ppm付近にビニル基のピークが確認され、δ
2.9〜3.1ppm付近にエポキシ基に由来するピー
クが消失していることから、不飽和アクリレート(A)
の生成を確認した。この反応物100gと酢酸エチル5
0gを仕込み、窒素ガスを吹き込みながら、反応系内の
温度を50℃になるように約1時間かけて過酢酸溶液1
47.2g(過酢酸濃度;29.5%)を滴下した。過
酢酸溶液の滴下終了後、50℃で4時間熟成し反応を終
了した。さらに50℃で反応粗液を水洗し、70℃/1
0mmHgで脱低沸を行い、脂環骨格を持ったエポキシ
アクリレート(B)94.7gを得た。得られた製品の
性状は、オキシラン酸素濃度6.87%、粘度15cP
/25℃であり、1H−NMRからδ4.5〜5ppm
付近の二重結合に由来するピークが消失し、δ2.9〜
3.3ppm付近にエポキシ基に由来するプロトンのピ
ークの生成が確認された。
ラスコにビニルシクロヘキセンモノエポキシド(ダイセ
ル化学工業製「セロキサイド2000」)144g、ト
リフェニルホスフィン1.36g、メトキノン1.36
g、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル275gを仕込んだ。液中に空気を吹き込みながら、
反応系内の温度を80℃にし、メタクリル酸100gを
約1時間かけて滴下した。滴下終了後、系内の温度を1
00℃とし更に反応させた。系内のオキシラン酸素濃度
が0.1%になった時点で反応を終了させた。この反応
液を70℃/10mmHgで脱低沸を行い、脂環骨格を
持つ不飽和アクリレート(A)を275g得た。不飽和
アクリレート(A)の1H−NMRの測定で、δ4.8
〜5.0ppm付近にビニル基のピークが確認され、δ
2.9〜3.1ppm付近にエポキシ基に由来するピー
クが消失していることから、不飽和アクリレート(A)
の生成を確認した。この反応物100gと酢酸エチル5
0gを仕込み、窒素ガスを吹き込みながら、反応系内の
温度を50℃になるように約1時間かけて過酢酸溶液1
47.2g(過酢酸濃度;29.5%)を滴下した。過
酢酸溶液の滴下終了後、50℃で4時間熟成し反応を終
了した。さらに50℃で反応粗液を水洗し、70℃/1
0mmHgで脱低沸を行い、脂環骨格を持ったエポキシ
アクリレート(B)94.7gを得た。得られた製品の
性状は、オキシラン酸素濃度6.87%、粘度15cP
/25℃であり、1H−NMRからδ4.5〜5ppm
付近の二重結合に由来するピークが消失し、δ2.9〜
3.3ppm付近にエポキシ基に由来するプロトンのピ
ークの生成が確認された。
【0048】(実施例2)1リットルのジャケット付フ
ラスコにリモネンモノエポキシド(エルフアトケム製
「リモネンモノオキシド」)144g、ジアザビシクロ
ウンデセンオクチル酸塩1.25g、メトキノン1.2
5g、溶媒としてトルエンを250g仕込んだ。液中に
空気を吹き込みながら、反応系内の温度を80℃にして
からメタクリル酸(分子量86)108gを約1時間か
けて滴下した。滴下終了後、系内の温度を100℃と
し、更に反応させた。系内のオキシラン酸素濃度が0.
1%になった時点で反応を終了した。この反応液をイオ
ン交換水490gで洗浄したあと70℃/10mmHg
で脱低沸を行い、脂環骨格を持った不飽和アクリレート
(C)251gを得た。1H−NMRからδ4.5〜
5.0ppm付近にビニル基のピークが確認され、δ
2.9〜3.1ppm付近にエポキシ基に由来するピー
クが消失していることから(C)の生成の確認を行っ
た。この反応物100gと酢酸エチル50gを仕込み、
窒素ガスを吹き込みながら、反応系内の温度を50℃に
なるように約1時間かけて過酢酸溶液116.2g(過
酢酸濃度;29.5%)を滴下した。過酢酸溶液の滴下
終了後、50℃で4時間熟成し、反応を終了した。さら
に50℃で反応粗液を水洗し、70℃/10mmHgで
脱低沸を行い、脂環骨格を持ったエポキシアクリレート
(D)96.6gを得た。得られた製品の性状は、オキ
シラン酸素濃度5.53%、粘度18cP/25℃であ
り、1H−NMRからδ4.5〜5ppm付近の二重結
合に由来するピークが消失し、δ2.9〜3.3ppm
付近にエポキシ基に由来するプロトンのピークの生成が
確認された。
ラスコにリモネンモノエポキシド(エルフアトケム製
「リモネンモノオキシド」)144g、ジアザビシクロ
ウンデセンオクチル酸塩1.25g、メトキノン1.2
5g、溶媒としてトルエンを250g仕込んだ。液中に
空気を吹き込みながら、反応系内の温度を80℃にして
からメタクリル酸(分子量86)108gを約1時間か
けて滴下した。滴下終了後、系内の温度を100℃と
し、更に反応させた。系内のオキシラン酸素濃度が0.
1%になった時点で反応を終了した。この反応液をイオ
ン交換水490gで洗浄したあと70℃/10mmHg
で脱低沸を行い、脂環骨格を持った不飽和アクリレート
(C)251gを得た。1H−NMRからδ4.5〜
5.0ppm付近にビニル基のピークが確認され、δ
2.9〜3.1ppm付近にエポキシ基に由来するピー
クが消失していることから(C)の生成の確認を行っ
た。この反応物100gと酢酸エチル50gを仕込み、
窒素ガスを吹き込みながら、反応系内の温度を50℃に
なるように約1時間かけて過酢酸溶液116.2g(過
酢酸濃度;29.5%)を滴下した。過酢酸溶液の滴下
終了後、50℃で4時間熟成し、反応を終了した。さら
に50℃で反応粗液を水洗し、70℃/10mmHgで
脱低沸を行い、脂環骨格を持ったエポキシアクリレート
(D)96.6gを得た。得られた製品の性状は、オキ
シラン酸素濃度5.53%、粘度18cP/25℃であ
り、1H−NMRからδ4.5〜5ppm付近の二重結
合に由来するピークが消失し、δ2.9〜3.3ppm
付近にエポキシ基に由来するプロトンのピークの生成が
確認された。
【0049】(参考例1)0.5リットルのジャケット
付きフラスコに5−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−エン(品名:VBH,サンアプロ社製)100
gと酢酸エチル50gを仕込み、窒素ガスを吹き込みな
がら、反応系内の温度を50℃になるように約1時間か
けて過酢酸の酢酸エチル溶液(以下、過酢酸溶液と略
す)257.2g(過酢酸濃度;29.5%)を滴下し
た。過酢酸溶液の滴下終了後、50℃で4時間熟成し反
応を終了した。さらに50℃で反応粗液を水洗し、70
℃/10mmHgで脱低沸を行い、エポキシ化VBHを
99.7gを得た。得られた製品の性状は、オキシラン
酸素濃度11.4%、粘度2cP/25℃であり、1H
−NMRからδ4.5〜5ppm付近の内部二重結合に
由来するピークが消失し、δ2.9〜3.1ppm付近
にエポキシ基に由来するプロトンのピークの生成が確認
された。
付きフラスコに5−ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−エン(品名:VBH,サンアプロ社製)100
gと酢酸エチル50gを仕込み、窒素ガスを吹き込みな
がら、反応系内の温度を50℃になるように約1時間か
けて過酢酸の酢酸エチル溶液(以下、過酢酸溶液と略
す)257.2g(過酢酸濃度;29.5%)を滴下し
た。過酢酸溶液の滴下終了後、50℃で4時間熟成し反
応を終了した。さらに50℃で反応粗液を水洗し、70
℃/10mmHgで脱低沸を行い、エポキシ化VBHを
99.7gを得た。得られた製品の性状は、オキシラン
酸素濃度11.4%、粘度2cP/25℃であり、1H
−NMRからδ4.5〜5ppm付近の内部二重結合に
由来するピークが消失し、δ2.9〜3.1ppm付近
にエポキシ基に由来するプロトンのピークの生成が確認
された。
【0050】(実施例3)1リットルのジャケット付フ
ラスコに参考例1で合成したエポキシ化VBH136
g、トリフェニルホスフィン1.25g、メトキノン
1.25g、溶媒としてトルエンを250g仕込んだ。
液中に空気を吹き込みながら、反応系内の温度を80℃
にしてからアクリル酸114gを約1時間かけて滴下し
た。滴下終了後、系内の温度を100℃とし、さらに反
応させた。系内のオキシラン酸素濃度が0.1%になっ
た時点で反応を終了とした。この反応液を70℃/10
mmHgで脱低沸を行い、脂環骨格を持った不飽和アク
リレート(E)を251g得た。1H−NMRよりδ
4.8〜5.0ppmにビニル基のピークが確認され、
δ2.9〜3.1ppm付近にエポキシ基に由来するピ
ークが消失していることから不飽和アクリレート(E)
の生成を確認した。この反応物100gと酢酸エチル5
0gを仕込み、窒素ガスを吹き込みながら、反応系内の
温度を50℃になるように約1時間かけて過酢酸溶液1
23.7g(過酢酸濃度;29.5%)を滴下した。過
酢酸溶液の滴下終了後、50℃で4時間熟成し、反応を
終了した。さらに50℃で粗液を水洗し、70℃/10
mmHgで脱低沸を行い、脂環骨格を持ったエポキシア
クリレート(F)96.0gを得た。得られた製品の性
状は、オキシラン酸素濃度5.77%、粘度16cP/
25℃であり、1H−NMRからδ4.5〜5ppm付
近の二重結合に由来するピークが消失し、δ2.9〜
3.3ppm付近にエポキシ基に由来するプロトンのピ
ークの生成が確認された。
ラスコに参考例1で合成したエポキシ化VBH136
g、トリフェニルホスフィン1.25g、メトキノン
1.25g、溶媒としてトルエンを250g仕込んだ。
液中に空気を吹き込みながら、反応系内の温度を80℃
にしてからアクリル酸114gを約1時間かけて滴下し
た。滴下終了後、系内の温度を100℃とし、さらに反
応させた。系内のオキシラン酸素濃度が0.1%になっ
た時点で反応を終了とした。この反応液を70℃/10
mmHgで脱低沸を行い、脂環骨格を持った不飽和アク
リレート(E)を251g得た。1H−NMRよりδ
4.8〜5.0ppmにビニル基のピークが確認され、
δ2.9〜3.1ppm付近にエポキシ基に由来するピ
ークが消失していることから不飽和アクリレート(E)
の生成を確認した。この反応物100gと酢酸エチル5
0gを仕込み、窒素ガスを吹き込みながら、反応系内の
温度を50℃になるように約1時間かけて過酢酸溶液1
23.7g(過酢酸濃度;29.5%)を滴下した。過
酢酸溶液の滴下終了後、50℃で4時間熟成し、反応を
終了した。さらに50℃で粗液を水洗し、70℃/10
mmHgで脱低沸を行い、脂環骨格を持ったエポキシア
クリレート(F)96.0gを得た。得られた製品の性
状は、オキシラン酸素濃度5.77%、粘度16cP/
25℃であり、1H−NMRからδ4.5〜5ppm付
近の二重結合に由来するピークが消失し、δ2.9〜
3.3ppm付近にエポキシ基に由来するプロトンのピ
ークの生成が確認された。
【0051】(実施例4)油浴中の四つ口付きフラスコ
にポリオール成分としてポリカプロラクトン(ダイセル
化学工業製「Placcel 210」)500g及び
反応促進剤としてジブチル錫ジラウレート0.47gを
仕込み、反応器内を70℃まで昇温後、イソホロンジイ
ソシアネート(IPDI)222gを滴下した。系内の
NCO濃度が理論値となったことを確認後、実施例1で
得た脂環骨格を有する不飽和アクリレート(A)208
gを添加した。その後、系内のNCO濃度が0.2%以
下となるまで70℃で熟成を行い、脂環骨格を有するウ
レタンメタクリレート(G)を得た。
にポリオール成分としてポリカプロラクトン(ダイセル
化学工業製「Placcel 210」)500g及び
反応促進剤としてジブチル錫ジラウレート0.47gを
仕込み、反応器内を70℃まで昇温後、イソホロンジイ
ソシアネート(IPDI)222gを滴下した。系内の
NCO濃度が理論値となったことを確認後、実施例1で
得た脂環骨格を有する不飽和アクリレート(A)208
gを添加した。その後、系内のNCO濃度が0.2%以
下となるまで70℃で熟成を行い、脂環骨格を有するウ
レタンメタクリレート(G)を得た。
【0052】(実施例5)実施例4中の脂環骨格を有す
る不飽和アクリレート(A)に代えて実施例2で得た脂
環骨格を有する不飽和アクリレート(C)221gを使
用した以外、同様の方法によりウレタンメタクリレート
(H)を得た。
る不飽和アクリレート(A)に代えて実施例2で得た脂
環骨格を有する不飽和アクリレート(C)221gを使
用した以外、同様の方法によりウレタンメタクリレート
(H)を得た。
【0053】(実施例6)実施例4中の脂環骨格を有す
る不飽和アクリレート(A)に代えて実施例3で得た脂
環骨格を有する不飽和アクリレート(E)209gを使
用した以外、同様の方法によりウレタンアクリレート
(I)を得た。
る不飽和アクリレート(A)に代えて実施例3で得た脂
環骨格を有する不飽和アクリレート(E)209gを使
用した以外、同様の方法によりウレタンアクリレート
(I)を得た。
【0054】(比較例1)実施例4中の脂環骨格を有す
る不飽和アクリレート(A)に代えてヒドロキシエチル
メタリレート(HEMA)130gを使用した以外、同
様の方法によりウレタンメタクリレート(J)を得た。
る不飽和アクリレート(A)に代えてヒドロキシエチル
メタリレート(HEMA)130gを使用した以外、同
様の方法によりウレタンメタクリレート(J)を得た。
【0055】(実施例7)油浴中の四つ口付きフラスコ
に実施例1で得た脂環骨格を有するエポキシアクリレー
ト(B)224gと反応促進剤であるトリエチルアミン
3gを仕込み、反応器内を110℃まで昇温後、メタク
リル酸86gを滴下した。その後、系内のオキシラン酸
素濃度が0.2%以下となるまで熟成し、脂環骨格を有
するメタクリレート(K)を得た。
に実施例1で得た脂環骨格を有するエポキシアクリレー
ト(B)224gと反応促進剤であるトリエチルアミン
3gを仕込み、反応器内を110℃まで昇温後、メタク
リル酸86gを滴下した。その後、系内のオキシラン酸
素濃度が0.2%以下となるまで熟成し、脂環骨格を有
するメタクリレート(K)を得た。
【0056】(実施例8)実施例7中の脂環骨格を有す
るエポキシアクリレート(B)に代えて実施例2で得た
脂環骨格を有するエポキシアクリレート(D)237g
を使用した以外、同様の方法によりメタクリレート
(L)を得た。
るエポキシアクリレート(B)に代えて実施例2で得た
脂環骨格を有するエポキシアクリレート(D)237g
を使用した以外、同様の方法によりメタクリレート
(L)を得た。
【0057】(実施例9)実施例7中の脂環骨格を有す
るエポキシアクリレート(B)に代えて実施例3で得た
脂環骨格を有するエポキシアクリレート(F)225g
を使用した以外、同様の方法によりメタクリレート
(M)を得た。
るエポキシアクリレート(B)に代えて実施例3で得た
脂環骨格を有するエポキシアクリレート(F)225g
を使用した以外、同様の方法によりメタクリレート
(M)を得た。
【0058】(比較例2)実施例7中の脂環骨格を有す
るエポキシアクリレート(B)に代えてグリシジルメタ
アクリレート(GMA)128gを使用した以外、同様
の方法によりメタクリレート(N)を得た。
るエポキシアクリレート(B)に代えてグリシジルメタ
アクリレート(GMA)128gを使用した以外、同様
の方法によりメタクリレート(N)を得た。
【0059】(実施例10,比較例3)実施例として得
られたウレタン(メタ)アクリレート(G)〜(I)、
メタクリレート(K)〜(M)に対して、表−1〜表−
2に示す組成の各種モノマー類、光開始剤を添加し、U
V硬化性樹脂組成物を調製し、その物性を測定した。結
果を表−1〜表−2に示す。なお、表中のイルガキュア
ー184はチバガイギー(株)製重合開始剤(ベンゾフ
ェノン/1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
=1/1の混合物)である。同様に比較例3としてウレ
タンメタクリレート(J)、メタクリレート(N)に対
しても物性を測定した。結果を表−3に示す。
られたウレタン(メタ)アクリレート(G)〜(I)、
メタクリレート(K)〜(M)に対して、表−1〜表−
2に示す組成の各種モノマー類、光開始剤を添加し、U
V硬化性樹脂組成物を調製し、その物性を測定した。結
果を表−1〜表−2に示す。なお、表中のイルガキュア
ー184はチバガイギー(株)製重合開始剤(ベンゾフ
ェノン/1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
=1/1の混合物)である。同様に比較例3としてウレ
タンメタクリレート(J)、メタクリレート(N)に対
しても物性を測定した。結果を表−3に示す。
【0060】
【表1】
【0061】
【表2】
【0062】
【表3】
【0063】(実施例12,比較例4)実施例1〜4で
得られた化合物のうち、脂環骨格を有する不飽和アクリ
レート(A)、(C)、(E)と表−4に示す組成の各
種オリゴマー・モノマー類、光開始剤を添加し、UV硬
化性樹脂組成物を調製し、その物性を測定した。結果を
表−4に示す。同様に、比較例4としてエチルカルビト
ールアクリレートを用いた結果を示す。
得られた化合物のうち、脂環骨格を有する不飽和アクリ
レート(A)、(C)、(E)と表−4に示す組成の各
種オリゴマー・モノマー類、光開始剤を添加し、UV硬
化性樹脂組成物を調製し、その物性を測定した。結果を
表−4に示す。同様に、比較例4としてエチルカルビト
ールアクリレートを用いた結果を示す。
【0064】
【表4】
【0065】(実施例13,比較例5)実施例1〜4で
得られた化合物のうち、脂環骨格を有するエポキシアク
リレート(B)、(D)、(F)と表−5に示す組成の
各種オリゴマー・モノマー類、光開始剤を添加し、UV
硬化性樹脂組成物を調製し、その物性を測定した。結果
を表−5に示す。同様に、比較例5としてエチルカルビ
トールアクリレートを用いた結果を示す。
得られた化合物のうち、脂環骨格を有するエポキシアク
リレート(B)、(D)、(F)と表−5に示す組成の
各種オリゴマー・モノマー類、光開始剤を添加し、UV
硬化性樹脂組成物を調製し、その物性を測定した。結果
を表−5に示す。同様に、比較例5としてエチルカルビ
トールアクリレートを用いた結果を示す。
【0066】
【表5】
【0067】(評価方法) UV硬化性:各組成物をポリカーボネート板の上に、
25μの厚さになるよう塗工後、以下の条件で、UVを
照射し、表面のタックの有無で判定した。 ランプ:高圧水銀ランプ(80W/cm) コンベアー速度:20m/min. ランプと塗膜との距離:10cm 耐摩耗性:の条件で作製した塗膜を以下の条件にて
テーバー摩耗試験を行い、重量の減少量を測定した。 摩耗輪:CS−10 荷重:500g 鉛筆硬度:ガラス板上にの条件で作製した塗膜の鉛
筆硬度を測定した。 屈折率:ガラス板上での条件で作製した塗膜の20
℃における屈折率をアッペ式屈折率計にて測定した。 耐候性:の条件で作製した塗膜をサンシャインウエ
ザオメーターにて2000時間養生し、そのΔYIとΔ
Hを測定した。
25μの厚さになるよう塗工後、以下の条件で、UVを
照射し、表面のタックの有無で判定した。 ランプ:高圧水銀ランプ(80W/cm) コンベアー速度:20m/min. ランプと塗膜との距離:10cm 耐摩耗性:の条件で作製した塗膜を以下の条件にて
テーバー摩耗試験を行い、重量の減少量を測定した。 摩耗輪:CS−10 荷重:500g 鉛筆硬度:ガラス板上にの条件で作製した塗膜の鉛
筆硬度を測定した。 屈折率:ガラス板上での条件で作製した塗膜の20
℃における屈折率をアッペ式屈折率計にて測定した。 耐候性:の条件で作製した塗膜をサンシャインウエ
ザオメーターにて2000時間養生し、そのΔYIとΔ
Hを測定した。
【0068】
【発明の効果】本発明によれば、新規なビニル基含有ア
クリル酸系誘導体、エポキシ基含有アクリル酸系誘導体
及びそれから得られる各種アクリル酸系誘導体が提供さ
れる。これらのアクリル酸系誘導体は、活性エネルギー
線硬化型組成物を構成し、単重合、または他のモノマー
と共重合して、耐熱性、透明性、良好な誘電特性に優れ
るコーティング剤、インキ、接着剤、シーラント等の用
途に有用に使用することができる。
クリル酸系誘導体、エポキシ基含有アクリル酸系誘導体
及びそれから得られる各種アクリル酸系誘導体が提供さ
れる。これらのアクリル酸系誘導体は、活性エネルギー
線硬化型組成物を構成し、単重合、または他のモノマー
と共重合して、耐熱性、透明性、良好な誘電特性に優れ
るコーティング剤、インキ、接着剤、シーラント等の用
途に有用に使用することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09D 175/16 C09D 175/16 C09K 3/10 C09K 3/10 E // C09J 175/16 C09J 175/16
Claims (7)
- 【請求項1】 式(A−1)で示されるビニル基含有ア
クリル酸系誘導体。 【化1】 - 【請求項2】 式(A−2)で示されるビニル基含有ア
クリル酸系誘導体。 【化2】 - 【請求項3】 式(B−1)で示されるエポキシ基含有
アクリル酸系誘導体。 【化3】 - 【請求項4】 式(B−2)で示されるエポキシ基含有
アクリル酸系誘導体。 【化4】 - 【請求項5】 分子中に2個以上のイソシアネート基を
有するポリイソシアネート化合物、分子中に2個以上の
水酸基を有するポリオール化合物及び請求項1または2
記載のビニル基含有アクリル酸系誘導体とを反応させて
得られるウレタン含有アクリル酸系誘導体。 - 【請求項6】 請求項3または4記載のエポキシ基含有
アクリル酸系誘導体と分子中に1個以上のカルボキシル
基を有する不飽和化合物とを反応させて得られる不飽和
基含有アクリル酸系誘導体。 - 【請求項7】 請求項1〜6のいずれかに記載のアクリ
ル酸系誘導体を硬化性成分として含有する活性エネルギ
ー線硬化型組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9260908A JPH1143465A (ja) | 1997-05-26 | 1997-09-09 | アクリル酸系誘導体及び活性エネルギー線硬化型組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15160297 | 1997-05-26 | ||
| JP9-151602 | 1997-05-26 | ||
| JP9260908A JPH1143465A (ja) | 1997-05-26 | 1997-09-09 | アクリル酸系誘導体及び活性エネルギー線硬化型組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1143465A true JPH1143465A (ja) | 1999-02-16 |
Family
ID=26480797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9260908A Pending JPH1143465A (ja) | 1997-05-26 | 1997-09-09 | アクリル酸系誘導体及び活性エネルギー線硬化型組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1143465A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003026765A (ja) * | 2001-07-19 | 2003-01-29 | Sanei Kagaku Kk | 熱硬化性樹脂組成物、並びに平滑板の製造方法及びその平滑板 |
| JP2003105061A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-09 | Sanei Kagaku Kk | 光・熱硬化性樹脂組成物、並びに穴詰プリント配線(基)板の製造方法及び穴詰プリント配線(基)板 |
| JP2015209464A (ja) * | 2014-04-25 | 2015-11-24 | 日本化薬株式会社 | (メタ)アクリレート化合物及び樹脂組成物 |
| WO2019114154A1 (zh) * | 2017-12-14 | 2019-06-20 | 无锡阿科力科技股份有限公司 | 用于涂料的丙烯酸酯类化合物、制备方法和包含其的涂料及用途 |
| JP2021088689A (ja) * | 2019-12-06 | 2021-06-10 | 信越化学工業株式会社 | シロキサン化合物及びその製造方法 |
-
1997
- 1997-09-09 JP JP9260908A patent/JPH1143465A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003026765A (ja) * | 2001-07-19 | 2003-01-29 | Sanei Kagaku Kk | 熱硬化性樹脂組成物、並びに平滑板の製造方法及びその平滑板 |
| JP2003105061A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-09 | Sanei Kagaku Kk | 光・熱硬化性樹脂組成物、並びに穴詰プリント配線(基)板の製造方法及び穴詰プリント配線(基)板 |
| JP2015209464A (ja) * | 2014-04-25 | 2015-11-24 | 日本化薬株式会社 | (メタ)アクリレート化合物及び樹脂組成物 |
| WO2019114154A1 (zh) * | 2017-12-14 | 2019-06-20 | 无锡阿科力科技股份有限公司 | 用于涂料的丙烯酸酯类化合物、制备方法和包含其的涂料及用途 |
| CN109956867A (zh) * | 2017-12-14 | 2019-07-02 | 无锡阿科力科技股份有限公司 | 用于涂料的丙烯酸酯类化合物、制备方法和包含其的涂料及用途 |
| JP2021088689A (ja) * | 2019-12-06 | 2021-06-10 | 信越化学工業株式会社 | シロキサン化合物及びその製造方法 |
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