JPH1146033A - ガスレーザ発振装置 - Google Patents
ガスレーザ発振装置Info
- Publication number
- JPH1146033A JPH1146033A JP9201589A JP20158997A JPH1146033A JP H1146033 A JPH1146033 A JP H1146033A JP 9201589 A JP9201589 A JP 9201589A JP 20158997 A JP20158997 A JP 20158997A JP H1146033 A JPH1146033 A JP H1146033A
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- processing
- laser beam
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガスレーザ発振装置で加工を行う場合におい
て、加工開始直後より安定したレーザビームが得られる
ようにする。 【解決手段】 レーザ加工を行っていない状態(A)にお
いても常にレーザ加工(B)を行っているときと同じ条件
の電気入力を印加し、レーザガス光学部品および電極表
面状態を加工中と同じ条件にする。
て、加工開始直後より安定したレーザビームが得られる
ようにする。 【解決手段】 レーザ加工を行っていない状態(A)にお
いても常にレーザ加工(B)を行っているときと同じ条件
の電気入力を印加し、レーザガス光学部品および電極表
面状態を加工中と同じ条件にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はパルス状のレーザビ
ームの変動率を低減し安定したレーザビームを発生する
ことができるガスレーザ発振装置に関するものである。
ームの変動率を低減し安定したレーザビームを発生する
ことができるガスレーザ発振装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図１は本発明が実施の対象とするガスレ
ーザ発振装置の構成を示すブロック図である。
ーザ発振装置の構成を示すブロック図である。
【０００３】図１において、１は気体レーザ媒質、２は
直流高電圧電源、３a，３bは直流高電圧電源２に接続さ
れた放電電極、４は光増幅しレーザビーム11を取り出す
部分透過型反射鏡、５は光増幅するための全反射鏡、６
はレーザ管、７は直流高電圧電源２を制御する制御装
置、８はアブソーバ、９はアブソーバ８の駆動装置、10
は駆動装置９の制御装置である。
直流高電圧電源、３a，３bは直流高電圧電源２に接続さ
れた放電電極、４は光増幅しレーザビーム11を取り出す
部分透過型反射鏡、５は光増幅するための全反射鏡、６
はレーザ管、７は直流高電圧電源２を制御する制御装
置、８はアブソーバ、９はアブソーバ８の駆動装置、10
は駆動装置９の制御装置である。
【０００４】まず、図１に示す制御装置７により制御さ
れる直流高電圧電源２は、この高圧電源に接続された放
電電極３a，３bに高電圧を印加することで、放電電極３
a，３bから放電される。これによりレーザ管６に満たさ
れた気体レーザ媒質１は、放電エネルギを得て励起さ
れ、その励起された気体レーザ媒質１は部分透過型反射
鏡４と全反射鏡５により形成された光共振器で共振状態
となり、部分透過型反射鏡４よりレーザビーム11が出力
される。そして加工を行っていない待機中にはアブソー
バ８は部分透過型反射鏡４の前方に位置しレーザビーム
が外部に漏れないようになっている。また加工を行って
いない待機中は任意の出力の放電を行っている。
れる直流高電圧電源２は、この高圧電源に接続された放
電電極３a，３bに高電圧を印加することで、放電電極３
a，３bから放電される。これによりレーザ管６に満たさ
れた気体レーザ媒質１は、放電エネルギを得て励起さ
れ、その励起された気体レーザ媒質１は部分透過型反射
鏡４と全反射鏡５により形成された光共振器で共振状態
となり、部分透過型反射鏡４よりレーザビーム11が出力
される。そして加工を行っていない待機中にはアブソー
バ８は部分透過型反射鏡４の前方に位置しレーザビーム
が外部に漏れないようになっている。また加工を行って
いない待機中は任意の出力の放電を行っている。
【０００５】図６(A)および(B)に従来の制御装置10に入
力される加工開始指令12とレーザビーム11の外部放出状
態を示す。加工待機中(A)はアブソーバ８が閉状態でレ
ーザビーム11は外部に放出されないが、加工開始時(B)
はアブソーバ８が開状態となりレーザ光11は外部へ放出
される。このレーザビームが図示せざるプリント基板の
穴明けなどの加工に用いられる。
力される加工開始指令12とレーザビーム11の外部放出状
態を示す。加工待機中(A)はアブソーバ８が閉状態でレ
ーザビーム11は外部に放出されないが、加工開始時(B)
はアブソーバ８が開状態となりレーザ光11は外部へ放出
される。このレーザビームが図示せざるプリント基板の
穴明けなどの加工に用いられる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の制御装置10による制御では、加工待機中の放電状態
と、実際の加工時の放電状態が異なるため、両者のレー
ザガスの解離状態が異なり加工開始時からレーザガスの
解離が安定するのに時間がかかり、レーザ出力の変動が
大きく加工が不安定であるという問題点を有していた。
また、部分透過型反射鏡および全反射鏡の熱影響による
安定および電極の表面状態の安定に時間がかかるため、
レーザ出力の変動が大きくなり加工が不安定になるとい
う問題点を有していた。
来の制御装置10による制御では、加工待機中の放電状態
と、実際の加工時の放電状態が異なるため、両者のレー
ザガスの解離状態が異なり加工開始時からレーザガスの
解離が安定するのに時間がかかり、レーザ出力の変動が
大きく加工が不安定であるという問題点を有していた。
また、部分透過型反射鏡および全反射鏡の熱影響による
安定および電極の表面状態の安定に時間がかかるため、
レーザ出力の変動が大きくなり加工が不安定になるとい
う問題点を有していた。
【０００７】本発明は上記従来の問題点を解決すること
を目的とする。
を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のガスレーザ発振装置は、レーザビームを受け
止めるアブソーバと、前記アブソーバを駆動する駆動装
置と、前記駆動装置の制御を行う制御装置を備え、レー
ザ加工を行っていない待機中においても、加工時と同等
の条件の高電圧を印加しレーザビームを発生させ、その
レーザビームを外部へ放出しないようにアブソーバで吸
収する制御を行う制御装置を有する。
に本発明のガスレーザ発振装置は、レーザビームを受け
止めるアブソーバと、前記アブソーバを駆動する駆動装
置と、前記駆動装置の制御を行う制御装置を備え、レー
ザ加工を行っていない待機中においても、加工時と同等
の条件の高電圧を印加しレーザビームを発生させ、その
レーザビームを外部へ放出しないようにアブソーバで吸
収する制御を行う制御装置を有する。
【０００９】上記構成により、本発明のガスレーザ発振
装置は、パルス状のレーザビームの変動率を低減し安定
したレーザビームを発生する作用を有する。
装置は、パルス状のレーザビームの変動率を低減し安定
したレーザビームを発生する作用を有する。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図１
から図５を用いて説明する。
から図５を用いて説明する。
【００１１】（実施の形態）図１は前述したように本発
明が実施の対象とするガスレーザ発振装置の構成を示す
ブロック図であり、従来例と比較し異なっている部分
は、図２のガスレーザ発振装置の加工動作を示すように
加工待機中(A)の放電状態を、加工開始時(B)の条件と同
等になっていることである。
明が実施の対象とするガスレーザ発振装置の構成を示す
ブロック図であり、従来例と比較し異なっている部分
は、図２のガスレーザ発振装置の加工動作を示すように
加工待機中(A)の放電状態を、加工開始時(B)の条件と同
等になっていることである。
【００１２】つまり、アブソーバ８の動作は、従来と同
様に加工待機中(A)は閉状態であり、加工開始時(B)は開
状態である。そして、制御装置10に入力される加工開始
指令12により、加工待機中(A)も加工開始時(B)も同等の
高電圧が印加されていて、レーザビーム11は加工待機中
(A)は外部へ放出されないが、加工開始時(B)は外部へ放
出される。
様に加工待機中(A)は閉状態であり、加工開始時(B)は開
状態である。そして、制御装置10に入力される加工開始
指令12により、加工待機中(A)も加工開始時(B)も同等の
高電圧が印加されていて、レーザビーム11は加工待機中
(A)は外部へ放出されないが、加工開始時(B)は外部へ放
出される。
【００１３】また、図３，図４，図５に各条件における
レーザ出力の変動率を表している。図３は指令出力(横
軸)とレーザピーク出力(縦軸)の変動率(％)を表してい
る。これにより、加工待機中(図２(A))に加工時(図２
(B))の指令出力で高電圧を印加するとレーザピーク出力
の変動率が低減されることがわかる。
レーザ出力の変動率を表している。図３は指令出力(横
軸)とレーザピーク出力(縦軸)の変動率(％)を表してい
る。これにより、加工待機中(図２(A))に加工時(図２
(B))の指令出力で高電圧を印加するとレーザピーク出力
の変動率が低減されることがわかる。
【００１４】図４はパルスＯＮ時間(横軸)とレーザピー
ク出力(縦軸)の変動率(％)を表している。これより加工
待機中(図２(A))に加工時(図２(B))のパルスＯＮ時間で
高電圧を印加するとレーザピーク出力の変動率が低減さ
れることがわかる。
ク出力(縦軸)の変動率(％)を表している。これより加工
待機中(図２(A))に加工時(図２(B))のパルスＯＮ時間で
高電圧を印加するとレーザピーク出力の変動率が低減さ
れることがわかる。
【００１５】図５はパルス周波数(横軸)とレーザピーク
出力(縦軸)の変動率(％)を表している。これにより加工
待機中に加工時のパルス周波数で高電圧を印加するとレ
ーザピーク出力の変動率が低減されることがわかる。
出力(縦軸)の変動率(％)を表している。これにより加工
待機中に加工時のパルス周波数で高電圧を印加するとレ
ーザピーク出力の変動率が低減されることがわかる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、前記レー
ザビームを受け止めるアブソーバと、このアブソーバを
駆動する駆動装置と、この駆動装置で制御を行う制御装
置を備え、レーザ加工を行っていない待機中において
も、加工時と同等の条件の高電圧を印加しパルス状のレ
ーザビームを発生しそのレーザビームを外部へ放出しな
いようにアブソーバで吸収する制御を行うことによりレ
ーザ出力変動率を低減し、より安定した加工を行うこと
ができる優れたガスレーザ発振装置を実現できるもので
ある。
ザビームを受け止めるアブソーバと、このアブソーバを
駆動する駆動装置と、この駆動装置で制御を行う制御装
置を備え、レーザ加工を行っていない待機中において
も、加工時と同等の条件の高電圧を印加しパルス状のレ
ーザビームを発生しそのレーザビームを外部へ放出しな
いようにアブソーバで吸収する制御を行うことによりレ
ーザ出力変動率を低減し、より安定した加工を行うこと
ができる優れたガスレーザ発振装置を実現できるもので
ある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が実施の対象とするガスレーザ発振装置
の構成を示すブロック図である。
の構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施の形態におけるガスレーザ発振装
置の加工動作を示す図である。
置の加工動作を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態における指令出力とレーザ
ピーク出力の変動率の相関を示す図である。
ピーク出力の変動率の相関を示す図である。
【図４】本発明の実施の形態におけるパルスＯＮ時間と
レーザピーク出力の変動率の相関を示す図である。
レーザピーク出力の変動率の相関を示す図である。
【図５】本発明の実施の形態におけるパルス周波数とレ
ーザピーク出力の変動率の相関を示す図である。
ーザピーク出力の変動率の相関を示す図である。
【図６】従来のガスレーザ発振装置の加工動作を示す図
である。
である。
８…アブソーバ、 ９…駆動装置、 ７，10…制御装
置。
置。
Claims (1)
- 【請求項１】 レーザガスを満たした放電管の両端に設
けた電極間にパルス状の高電圧を印加し、前記放電管内
に放電を発生させ、前記放電管の両端に全反射鏡および
部分反射鏡をそれぞれ配置し、光増幅することにより前
記放電管の軸方向にレーザビームを発生するガスレーザ
発振装置であって、前記レーザビームを受け止めるアブ
ソーバと、前記アブソーバを駆動する駆動装置と、前記
駆動装置の制御を行う制御装置を備え、レーザ加工を行
っていない待機中においても、加工時と同等の条件の高
電圧を印加しレーザビームを発生させ、そのレーザビー
ムを外部へ放出しないようにアブソーバで吸収する制御
を行う制御装置を有することを特徴とするガスレーザ発
振装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9201589A JPH1146033A (ja) | 1997-07-28 | 1997-07-28 | ガスレーザ発振装置 |
| TW088221876U TW440089U (en) | 1997-07-28 | 1998-07-28 | Gas laser oscillator |
| US09/123,357 US6337869B1 (en) | 1997-07-28 | 1998-07-28 | Gas laser oscillator |
| US09/691,251 US6327295B1 (en) | 1997-07-28 | 2000-10-19 | Gas laser oscillator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9201589A JPH1146033A (ja) | 1997-07-28 | 1997-07-28 | ガスレーザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1146033A true JPH1146033A (ja) | 1999-02-16 |
Family
ID=16443569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9201589A Pending JPH1146033A (ja) | 1997-07-28 | 1997-07-28 | ガスレーザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1146033A (ja) |
-
1997
- 1997-07-28 JP JP9201589A patent/JPH1146033A/ja active Pending
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