JPH11507555A - 容器の塗装方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 複数のペトリ皿（４４）またはその他のガラス製またはプラスチック製容器の内側底面に、容器を被覆または成層装置（１８）内を通過させることにより被覆する。この装置は開放容器を充填ステーションを順次通過させるインデックスコンベヤ（１２）を有しており、このステーションで容器に一つの側に傾斜させながら所定量の被覆材料を施すことにより、被覆材料は容器の全底面に分配される。容器は吸引ステーション（２０）に搬送され、吸引ノズル（２２）の方に容器を傾斜させながら過剰の被覆材料を吸引する。吸引工程に次いで、容器は反対方向に傾斜され被覆材料を容器内に分配する。次いで被覆材料を乾燥し、容器を積重ね、包装する。被覆材料は容器の内側底面と結合することのできる適当なキャリヤの中にカルシウムまたはその他の２価金属イオンのような金属イオンを含有している。被覆材料は容器の底面に結合し、脱水され固化した層を形成する。被覆材料は水／寒天溶液またはカルシウムを含有する適当な溶剤中のプラスチック樹脂である。

Description

【発明の詳細な説明】 容器の塗装方法及び装置発明の分野 本発明は容器を被覆するための、特にペトリ皿を栄養素生長培地のゲル化誘発 剤で被覆するための方法及び装置に関する。特に本発明は、栄養素生長培地の一 部として合体されたものとなる、容器の底の中または上にゲル誘発剤の実質的に 乾燥した安定な被覆または層を形成することに関する。発明の背景 所定量の材料で容器を満たすための多数の装置が当業界で知られている。容器 の内面を被覆するためのその他の装置も公知である。これらの装置はある種の材 料にとっては満足な結果が得られるが、すべての材料に対してよい結果が普遍的 に得られるものではない。 ペトリ皿の中にゲル化剤またはゲル誘発剤の安定な層を製造することは典型的 に時間を消費し、かつ困難なことである。正確な試験の結果はペトリ皿上のゲル 化剤の均一な殺菌層を要求している。被覆したペトリ皿の市販製品では、一貫性 のない結果や汚染の大きな危険を来す皿の手作業を要することが多い。従来の栄 養素基礎培地の一例では、塩化カルシウムと寒天の溶液のコーティングからなる ゲル化剤をペトリ皿に施し、ついで例えば、低メトキシルペクチンの液体ゲル化 栄養素層を適用する。この方法は、ペクチンの遅いかまたは不完全なゲル化を防 止するために、塩化カルシウムの完全で均一な被覆が要求される。このような試 みは一般的な適用において不満足な結果を生じることが多い。例えば、プレート の全表面がゲル化剤の所定の層及び生長培地で被覆されることが保証される必要 がある。プレートを完全に被覆することに失敗すると培地のゲル化が不完全にな り、試験データが不正確になる。 ペトリ皿を調製するその他の方法では塩化カルシウム含有寒天ゲル層を有する ペクチンゲルを使用する。この従来の方法では、あらかじめ殺菌されたペトリ皿 に、約１００ｍｇの塩化カルシウムを含有する１％寒天溶液約６ｍｌが分配され る。次いで、ペトリ皿を手で揺動し、渦巻かせて皿の底全体に層を均一に拡がら せる。次いで、皿を水平面上に置き、冷却し、ゲル化する。冷却ゲル化した皿を 清浄な室で積重ね、養生する。６〜８日間なました後、処理した皿の汚染を検査 し、包装のために貯蔵する。包装した皿は次に乾燥した冷所にさらに７〜１４日 間貯蔵し、汚染を再検査する。汚染した皿を破棄し、残りの皿を船積みのために 包装する。 上記の方法では操作の労力に加えて多くの欠点がある。例えば、この方法では 新たに層を設けた皿の蓋の上に凝集物の生成することが多く、これは貯蔵前に除 去する必要がある。皿の反復取り扱い及びプラスチック板の静止仕込みは、管理 温度および清浄殺菌室を維持する努力にも拘わらず、ゲル層の重大な成形汚染を 来す。この方法では更に２週間のなました期間のための大量の貯蔵空間が必要で あり、従って製造コストが増大する。 被覆したペトリ皿の従来の製法は、前記層を船積みの間に凍結温度にしやすい 被覆物質中に受容しがたい湿分水準を典型的にもたらし、その結果該層を破壊す ることになる。船積みおよび貯蔵中の温度変動は皿および該皿を支持するスリー ブ中に凝集物の生成を来す。皿を被覆する手作業には、該層中に漏洩または泡が 生成することなく皿の底に完全な被覆を保証するよう注意が必要である。被覆を 取り扱う間の水平面の維持の失敗、すなわち取り扱う間に皿を攪乱することは、 円滑で平らでない層を生じることになる。被覆材料の平らでない層は仕上げ製品 の品質および数量の低下をもたらす。 いくつかの生長培地およびペトリ皿調製方法が従来技術で公知である。従来の 方法および装置の例が一般的にSnyder等による米国特許第４，１７０，８６１号 、Launeyによる同第４，５６５，７８７号および第３，９２８，１３６号、Smit hなどによる同第４，９８８，３０２号、Nelsonなどによる同第５，０８９，４ １３号、Shoshanによる同第４，６５６，１３０号およびCoxによる同第４，２６ ２，０９１号に記載されている。これらの装置および方法は限定的に成功をして いるが完全に満足な結果を与えていない。従って薄い被覆層を含有する処理され たペトリ皿を有効に製造する方法および装置が当業界において絶えず要求されて いる。発明の概要 本発明は容器内に被覆材料の層を形成する方法および装置に関する。特に本発 明はペトリ皿の底に被覆材料の層を調製する方法および装置に関する。 従って、本発明の第一の目的は有効、かつ迅速にペトリ皿内に被覆材料の安定 な層を製造することである。本発明の他の目的は、複数の容器を受容し、各容器 の底面に被覆を形成するための完全に自動化された装置を作ることである。 本発明の他の目的は、ペトリ皿内でゲル生成栄養素物質を固化することのでき るゲル誘発剤の薄くて均一な被覆を提供することである。 予備殺菌されたペトリ皿のような容器は最初にその蓋から分離され、皿の殺菌 状態を維持するために殺菌室を通される。典型的な殺菌室では、殺菌性紫外光の ような殺菌剤を組み合わせて濾過空気が容器に向けられる。次に皿は所定量の被 覆材料、例えば金属イオンとゲル誘発剤を含有する基礎培地で満たされる。実施 態様において皿は、容器の底を横切って被覆材料を分配するために傾斜させられ る。容器を一方の側に傾け、過剰の被覆材料を、好ましくは吸引によって除去す る。過剰の材料を除去した後、容器を反対側に傾斜させて残りの被覆材料を均一 に分配する。次にこの被覆した皿を冷却してゲル化被覆を形成させ、被覆材料を 脱水するために容器に加熱空気を与える脱水または乾燥室に通す。実施態様にお いては、被覆材料はゲル誘発剤を含有するゲル形成材料であり、乾燥空気は被覆 材料から湿分を除去するために加熱される。 本発明方法によれば、通常の被覆よりも薄い均一な薄い被覆が製造される。こ うして得た被覆は乾燥していて安定であり、長い期間船積みし貯蔵することがで きて、有害な凝集物または亀裂の生成がなく、凍結の危険または汚染の増大がな い。 本発明において使用する装置は被覆された容器の連続製造をすることのできる 充分に自動化された装置であることが好ましい。実施態様において、この装置は 複数の容器および組み合わせた蓋を受容する。蓋は容器から分離され、いくつか の加工ステーションを通して順次インデックスされ、次いで再組立される。容器 はまず、殺菌ステーションを通り、次いで充填ステーションに向けられる。少な くとも１個、好ましくは２個の吸引ステーションで過剰の材料は容器から除去さ れ、次に傾斜ステーションで傾けられて残りの被覆材料を均一に分配する。ゲル 化ステーションは被覆された容器に冷たい空気を供給し、次いで第２の殺菌・乾 燥室で加熱空気により被覆を乾燥する。被覆が所望の乾燥度に達したときに、蓋 が容器の上に自動的に置かれる。 本発明の上記およびその他の目的は、装置を通って容器を搬送するための搬送 手段；所定量の被覆材料で容器を満たすための充填手段；一部の被覆材料を容器 から吸引するための第１吸引手段；および該被覆材料を脱水して容器内に被覆材 料の実質的に均一な被覆を形成するための脱水手段からなる、容器内に被覆材料 の層を形成するための装置を提供することによって基本的に達成される。 本発明の上記目的は、容器に搬送装置の充填ステーションで所定量の被覆材料 を充填する工程；過剰の被覆材料を容器から除去して被覆材料の被覆を形成する 工程；および容器内の被覆材料の被覆を脱水して均一で安定な被覆を形成する工 程からなる容器の内側底面に被覆材料の被覆を製造する方法によっても達成され る。被覆材料の薄い層は、被覆材料の表面張力および凝集性により全面にわたっ て付着する。 本発明の上記およびその他の目的、利点および特徴は、添付図面と関連して本 発明の好ましい実施例を述べた以下の詳細な説明から明らかとなるであろう。図面の簡単な説明 本発明の記述の一部をなす図面において、図１は本発明の好ましい実施例によ る装置の側立面図であり、 図２は積重ね解除装置、殺菌室、充填ステーション、吸引ステーション、乾燥 ・脱水室および再積重ね装置を示す図１の装置の上部平面図であり、 図３は図２の３−３線に沿う積重ね解除装置の一部断面図であり、 図４は図３の４−４線に沿って見た積重ね解除装置の上部平面図であり、 図５は分配ノズルおよび圧搾空気式傾斜装置を示す充填ステーションの一部断 面図であり、 図６は吸引ノズルおよび圧搾空気式傾斜装置を示す吸引ステーションの一部断 面図であり、 図７は傾斜装置の一部断面図であり、 図８は平行搬送機、押し板および積重ね装置を示す再積重ね装置の一部上部平 面図であり、および 図９は持ち上げ積重ね装置を示す再積重ね装置の一部側立面図である。発明の詳細な説明 本発明はプラスチック製またはガラス製容器の内側底面に材料の均一な被覆ま たは層を作るための方法および装置に関する。これらの方法および装置は、容器 内にゲル化可能な凝集性または接着性材料の均一な被覆または層を形成するのに 特に適している。本発明の好ましい形態はプラスチック製またはガラス製ペトリ 皿の中のゲル化した培地の薄い被覆または層を形成することである。 この方法および装置は種々の容器の中に被覆材料の薄い層を製造するのに適し ている。本発明の好ましい実施態様において、被覆される容器は微生物を繁殖さ せ、微生物飼育を定量化するために典型的に使用される標準ペトリ皿である。被 覆材料は生物試料の生長を維持することのできる固体の飼育培地である。好まし い実施態様において、被覆材料はペトリ皿の底面で冷却したときにゲル層を形成 することのできる材料であり、ゲル誘発剤を含有している。ある実施態様におい て、ゲル層は、ペクチン含有栄養素培地を容器内に入れたときにゲルを形成する のに充分な量のカルシウムイオンを含有する。 本発明の方法および装置は、均一に分散した金属カチオン、例えばカルシウム カチオンを含有するゲル化した材料の均一な層を形成するのに特に適している。 例えば、低メトキシルペクチンゲル形成材料を含有する栄養素含有材料を被覆し たペトリ皿の中に注入する。均一に分散したカチオンは均一なゲル化した栄養基 礎層を生成する。 好ましい実施態様において、被覆材料はゲル誘発剤として塩化カルシウムを含 有するゲル形成溶液であり、例えば全体として参照される米国特許第４，２８２ ，３１７号に記載されている組成物のようなものである。その中に論議されてい るように、塩化カルシウムのようなカルシウムイオン源を含有している材料の被 覆をまず適用することによって固体培地を作る。その後、必須的生長維持栄養素 を含有するペクチン溶液を第１層の上に注ぎ、塩化カルシウムイオンは ペクチ ン と反応してゲル層を生成する。 適している被覆水溶液は約２％（脱イオン水または蒸留水１００ｍｌ当たり２ ｇ）の寒天および塩化カルシウムを含有する。当業界において周知のようにペク チンの充分なゲル化を生じさせるために、その他の多価金属カチオン含有化合物 も使用できる。代表的には、カルシウム化合物としては例えば塩化カルシウム、 硝酸カルシウムおよびリン酸カルシウムがある。好ましい実施態様において、カ ルシウム化合物は反応してペクチンをゲル化するカルシウムイオン源を供給する ことのできる水溶性のものである。塩化カルシウムまたはその他の多価金属カチ オン供給化合物の濃度は、金属性ゲル誘発イオンを含有する層上に注いだときに 、栄養素ペクチン組成物の固化を生じるのに適した金属カチオン濃度を供給する ように決定される。 ２％寒天および金属カチオン供給物質の溶液は適当な方法により調整され、例 えば寒天および金属塩を加熱水中に約１５ポンド圧および約１２１℃のオートク レーブで溶解することによって調製される。次いで殺菌寒天混合物をペトリ皿に 分配して後に詳述するようにペトリ皿の底を覆う。 本発明の実施態様において被覆材料は水／寒天混合物１００ｍｌ当たり少なく とも約７ｇの塩化カルシウムを含有する。被覆材料は塩化カルシウム、寒天およ び水からなるのが好ましい。別の実施態様においてゲル化成分は例えばゼラチン 、シリカゲル、カラギーンガムまたはその他のガムである。その他の物資も多価 金属供給化合物の担体として使用することができる。ある実施態様において被覆 材料は、有効量のカルシウムイオンを含有している適当な溶剤または溶剤混合物 中に溶解または分散したプラスチック樹脂であり、従ってこの混合物は容器と結 合する。プラスチック製容器を使用するときに、被覆材料のプラスチック樹脂は 容器の底壁と接着するために容器と相容性のあるように選択される。被覆材料は プラスチック樹脂およびペクチン含有溶液をゲル化するのに充分な量の金属イオ ンを利用することができる濃度の金属イオンを含有する。その他の実施態様にお いて、追加的に樹脂または担体を使用してペクチン物質のゲル化に使用できるカ ルシウムイオンを供給することができる。担体は生きた細胞に対して不活性また は無毒性であり、操作中に加水分解してはならない。一般に被覆材料は生長栄養 素を含有していない。しかしながら、本発明の実施態様において、当業界におい て公知のように生物学的生長を維持するために、被覆材料は種々の栄養素を含有 することができる。 カルシウムカチオン層上に注がれる液体生長培地は低メトキシルペクチンおよ び種々の他の成分を含有することができる。一般に培地は、ペクチンを破壊する かまたは邪魔をする成分はさけるべきであるという点を除いて、当業界において 微生物細胞および／または組織に対して公知の非常に多くの生長培地に対応する 。典型的に飼育培地は、グルコースまたはその他の糖類のような炭素源、窒素源 およびトリプトン、ペプトン、牛肉エキス、イーストエキスなどのような天然生 成物の形のその他の微小栄養素または合成物質を含むその他のいくつかの成分を 含有する。生長培地の実際の組成は試験される特定の培地に大きく存在する。炭 素源は通常、溶液１１当たり約２〜約１０ｇの量で含有される。窒素源は溶液１ １当たり約２〜約１０ｇの量で含有される。 この方法および装置は、室温でゲル化することのできる材料を用いて、容器の 内側底面上に薄い被覆を施すのに特に適している。被覆材料は液体になるまで加 熱し、溶液として容器の底に適用し、冷却し、ゲル化するのが好ましい。 本発明の好ましい形態において、被覆材料は塩化カルシウムのような金属塩お および非栄養素ゲル形成物質の水溶液である。非栄養素ゲル形成物質は室温で固 化することのできる低メトキシルペクチンが好ましい。金属塩は低メトキシルペ クチン含有培地のような栄養素基礎培地をゲル化することのできるゲル化剤であ る。本発明の方法および装置は、金属イオン供給源および非栄養素ゲル形成物質 の安定な層を形成するのに特に適用される。次いで栄養素基礎培地はゲル化剤の 層の上に注がれ栄養素基礎培地を固化する。 図面を参照すると、本発明の方法では複数のペトリ皿を同時に連続的に取り扱 うために適用される装置１０が使用される。装置１０はマイクロプロセッサー制 御器１１によって完全に自動化され種々の処理ステーションを通じてペトリ皿を 順次インデックスする。この装置は複数のペトリ皿を受領し、蓋を自動的に分離 し、内側の皿底を被覆し、蓋を皿の上に再び置くことができる。図１〜９に示し たように、この装置は本質的に搬送装置１２、積重ね解除ユニット１４、第１殺 菌室１６、分配ステーション１８、吸引ユニット２０、脱水・乾燥殺菌室２２お よび再積重ねユニット２３からなる。操作において装置１０は積重ねられた状態 で積重ね解除ユニット１４内に複数のペトリ皿４４を受容する。ペトリ皿４４は 組み合わせられた蓋４６と一緒に積重ね解除ユニット１４の中に置かれる。積重 ね解除ユニット１４は積重ねの底部で皿４４から蓋４６を分離し、皿４４および 蓋４６を平行インデックスコンベヤ２４、２６の上にそれぞれ置く。皿４４およ び蓋４６は段階的に装置１０を通って、種々のステーションに達する。最初に皿 ４４および蓋４６は殺菌室１６を通過し、殺菌室は皿４４および蓋４６を殺菌空 気および殺菌性紫外光に曝す。 皿４４は次に分配ステーション１８に搬送され、そこで皿４４は停止され、分 配ノズルは所定量の被覆材料を計量して皿４４に与える。本発明の実施態様にお いて、ノズルは皿の最初の側に沿って被覆材料を分配し、その間に圧搾空気式プ ランジャーが皿の最初の側を徐々に傾斜位置まで持ち上げ、材料が皿の底を横切 って流れるようにする。圧搾空気式プランジャーは引っ込められ、皿は水平位置 に戻されて吸引ユニット２０に進む。 吸引ユニット２０内で皿４４は最初の側に向けて傾けられ、分配ノズルによっ て分配された被覆材料をプールする。第１吸引ステーション内の吸引ノズルはプ ールされた材料の中に降ろされ過剰の材料を除去する。好ましい実施態様におい て皿は第２吸引ステーションにインデックスされ、第２吸引ノズルが皿の中に降 ろされ、残りのプールされた材料が除去され、その間に皿は傾斜位置に保たれる 。 過剰の被覆材料を除去した後、皿は傾斜ステーションに進められ、そこで皿は 反対方向に傾けられて、吸引工程で除去されなかった残りのプールされた材料が 最初の側から流れ去り皿の底の上で均一に拡がるようにする。次いで、皿は水平 位置に戻され、冷却ファン１４９の下を通り、乾燥室２２に進められる。 脱水室２２は更に温風を送って過剰の湿分を除去する。好ましい実施態様にお いて乾燥空気の温度は被覆材料の再溶融温度以下である。脱水室２２は更に皿お よび蓋を紫外光に曝して皿および被覆材料を殺菌条件に保つ。皿はゲル誘発イオ ンを用いた固体層を含む実質的に脱水した条件で脱水室２２を出る。 皿４４および蓋４６は次いで、再積重ねユニットに進み、そこで蓋はそれぞれ の皿の上に置かれる。次いで、皿および蓋は積重ねステーションの中に上向きに 押され、そこで被覆された皿が取り出され、包装される。 図２に示したように、装置１０は、案内端でスプロケット２８、３０を通り解 放端で駆動スプロケット３２、３４を通る平行チェーンの形の第１および第２平 行インデックスコンベヤ２４、２６を含んでいる。スプロケット２８、３０は共 通の回転軸３６に取り付けられている。駆動スプロケット３２、３４は、適当な 伝導装置またはギヤ連結装置によって駆動モータ４０に連結された共通の駆動軸 ３８に取り付けられている。駆動モータ４０は後に詳細に述べられるようにそれ それのステーションを通ってインデックスするかまたは段階的にチェーン２４、 ２６を進めるためにマイクロプロセッサーによって操作されるステップモータが 好ましい。スプロケット２８、３０、３２、３４はチェーン２４、２６を同様に 回転進行させるためにシャフト３６、３８に固定される。図示のように案内スプ ロケット２８、３０は同一寸法であり、駆動スプロケット３２、３４は同一寸法 であるので、チェーンコンベヤ２４、２６はスプロケットの各回転ごとに同一速 度で同一距離を動く。チェーンコンベヤ２４、２６は装置１０の全長に伸びてい る水平搬送面２５、２７に沿ってそれぞれ進行する。 コンベヤチェーン２４、２６は、搬送領域を区分しペトリ皿４４および蓋４６ に作用するためにそれぞれ搬送面２５、２７から上方に伸びる空間的に離れた複 数の押し棒２９、３１を含んでいる。コンベヤチェーン２４に連結している押し 棒２９は搬送面２５に沿って搬送されるペトリ皿の上端に略等しい距離で上方に 伸びている。コンベヤチェーン２６はコンベヤチェーン２４の搬送面２５に平行 に搬送面２７に沿って伸びている。図３に示したようにコンベヤチェーン２６の 搬送面２７はコンベヤチェーン２４の搬送面２５から持ち上がっているので、ペ トリ皿および蓋の搬送面は平行ではあるが異なる面内にある。コンベヤチェーン ２６の押し棒３１はコンベヤチェーン２４の押し棒２９よりも長く、搬送面２７ に向かって蓋４６を搬送するのに充分な距離で上方に伸びている。 図３および図４に示した積重ね解放装置１４は複数のペトリ皿４４およびこれ に組み合わせた蓋４６を受容するための積重ねラック４２を含んでいる。好まし い実施態様の積重ねラック４２は皿の垂直積重ねを維持するために空間的に離れ た４個の垂直積重ねロッド４８を含んでいる。図３に示したロッド４８は、皿４ ４および蓋４６が垂直に通れるような寸法の開口５２を有する上板５０から上方 に伸びている。下方の側板５４は上板５０の下方に平行に配置されている。滑り 板５４にも開口５６がある。好ましい実施態様において開口５６はわずかに楕円 形であって、蓋４６が滑り板５４に残っている間に皿４４が通過できるような寸 法である。水平コンベヤ滑り面５８および平行側方ガイドレール６０と共動する 第１チェーンコンベヤ２４は側面５４の下方に位置している。図３に示すように 側板５４は両チェーンコンベヤ２４、２６の上に伸び、チェーンコンベヤ２６の 搬送面の一部を形成する。 スライドアーム６２は滑り板５４上を滑動するためには配置されている。スラ イドアーム６２は圧搾空気式ピストン６８から軸方向に伸びるピストン棒６６に 結合した連結アーム６４を含んでいる。図３に示したようにピストン６８はコン ベヤ装置１２のフレーム７０の底に取り付けられている。別の実施態様において ピストン６８は独立した支持体によって取り付けられていてもよい。 垂直往復運動のために取り付けられたピストン棒７４を有する第２の圧搾空気 式ピストン棒７２もフレーム７０に取り付けられる。往復する四角板７６はピス トン棒７４の末端に結合されている。図３に示したように上方に伸びる４本の棒 ７８板７６の４つの隅に取り付けられている。この棒７８のうちの２本はチェー ンコンベヤ２４の反対側に位置し、一方２本の棒はチェーンコンベヤ２４の反対 側に位置している。板７６はピストン棒７４に対して垂直に取り付けられ、一方 棒７８は板７６に垂直になっている。 図４に示したようにスライドアーム６２は案内端６５を区切るために前方に伸 びる狭い舌状部６３を含んでいる。舌状部６３は棒７８の広がりよりも小さい幅 を有しているので棒７８はスライドアーム６２の邪魔をしない。このようにして 棒７８は図３の想像線で示しように、スライドアーム６２およびピストン棒６６ が引き込み位置にあるときに、スライドアーム６２を通り過ぎて上方に伸びるこ とができる。 圧搾空気式ピストン６８および７２は連結されていて中央マイクロプロセッサ ー１１によって作動され、ピストン６８、７２を制御された方法でチェーンコン ベヤ２４の段階的前進運動と共動して作動させる。操作において複数のペトリ皿 およびそれに組み合わせた蓋は積重ねラック４２の中で積重ねられる。ピストン ７２は棒７４の上方に伸び、従って棒７８は想像線で示したように上方位置でペ トリ皿４４をスライドアーム６２の面から僅かに離れた距離で持ち上げる。ピス トン６８はマイクロプロセッサーによって作動されてピストン棒６６で作用し、 スライドアーム６２は図３に示した位置に引き出される。ピストン７２が引込み 、皿４４を側板５４内の開口５６を通ってチェーンコンベヤ２４の側板面５８上 に徐々に降ろす。組み合わされているペトリ皿４４の蓋４６は蓋４６上に休止す るフレーム４２の中の複数のペトリ皿および蓋とともに側板５４上に留められる 。次いでピストン６８がマイクロプロセッサーにより作動してピストン棒６６を 引込ませ、これにより図３の想像線に示されるようにスライドアーム６２は滑り 板５４を越えてチェーンコンベヤ２１の第２滑り面８０に蓋４６を押す。蓋４６ が積重ねラック４２内の複数のペトリ皿および蓋の下方から押し上げられると、 複数のペトリ皿はスライドアーム６２の面上に落下する。次いで、チェーン２４ 、２５は増加量だけ前進するので次の搬送領域が積重ね解放装置の下に配置され る。ピストン７２が作動されることにより棒７８が積重ね内の次のペトリ皿をス ライドアーム６２の面から持ち上げる。スライドアーム６２が図３に示す位置に 移動する前に、棒がペトリ皿の積重ねをスライドアーム６２から持ち上げて、皿 が積重ねの中で落下するかまたは絡まるのを防ぎ、板を水平にして開口を通って 降下させることが望ましい。ピストン６８が次に作動してスライドアーム６２を 積重ねラック４２から図３の位置に引き出す。ピストン６８、７２およびチェー ン２４、２６の作動サイクルが再び行われる。 図１および図２を参照すると、チェーンコンベヤ２４、２６が段階的に増加し て前進し、同時にペトリ皿４４およびこれに組み合わせられた蓋４６を積重ね解 放装置１４から殺菌室１６を通って段階的に搬送する。こうして蓋４６は図２に 示したように前進運動全体を通してペトリ皿４４に平行である。殺菌室１６は入 口３２を有する密閉室であり、入口ではチェーンコンベヤ２４、２６およびペト リ皿４４と蓋４６が上流端で入ってくる。出口８４が下流端にあり、そこからチ ェーン２４、２６およびペトリ皿４４と蓋４６がでてくる。 殺菌室１６は、ハウジング８８内に観察窓を含むことができる。室内に正圧を 与えるために室に殺菌空気の一定流を供給するのにファン９０が含まれる。紫外 光源９４を殺菌室１６の内部に溢れさせて殺菌処理を行う。紫外光源はペトリ皿 およびその蓋に殺菌作用を与えるのに充分な強度を有する標準紫外光源であって もよい。殺菌室５６の長さはチェーンコンベヤの操作速度に対して、充分な殺菌 作用が与えられるように選択される。その他の実施態様において、紫外光の強度 または量はチェーンコンベヤ２４、２６の前進速度に関連して調節することがで きる。別の実施態様において、例えばガンマ輻射処理または殺菌ガス処理のよう なその他の殺菌装置を使用してもよい。 外気がHEPAフィルターを通って引き込まれ、室１６内に殺菌空気として導入さ れ、室１６内を正圧に維持する。室１６内の正圧は皿の入口８２を通って外に向 けられる空気流を生成し、バクテリアや胞子のような汚染体を持ち込み得る外気 が分配ステーション１８に侵入するのを防止する。 図１に示したようにチェーンコンベヤ２４、２６およびペトリ皿４４と蓋４６ は殺菌室を出て、次に分配ステーション１８に進行する。分配ステーション１８ は支持支柱１０２に連結された分配ノズル１００を含む。本発明の実施態様にお いて、分配ノズル１００はペトリ皿４４の上方に少し距離を置いて固定された場 所にある。任意の圧搾空気式シリンダー１０４はマイクロプロセッサー１に連結 され、そしてマイクロプロセッサーにより操作され、ノズル１００を進行するペ トリ皿に向って下方に降下し、充填サイクルの終りにノズル１００を上昇させる 。 ノズル１００にはポンプ１１６および密閉した貯蔵器１１４から伸びる可撓性 供給管１１０によって流体物質１１２が供給される。貯蔵器１１４は任意の適当 なフラスコまたは流体物質を殺菌状態に貯蔵することのできるその他の容器であ ってもよい。典型的に容器１１４には内容物の汚染を防止するのに適した閉鎖部 材が設けられる。流行物質がゲル形成物質である実施態様においては、該物質を 流動可能条件に維持するために加熱板１１８が設けられる。好ましい実施態様に おいてポンプ１１６は、その他のポンプ装置を使用することもできるが、標準蠕 動ポンプである。 ポンプ１１６はマイクロプロセッサー１１に連結され、分配される物質の量お よび分配サイクルのタイミングを制御する。図５に示したようにチェーンコンベ ヤ２４の下方に第２の圧搾空気式シリンダー１０６およびプランジャー１０８が 位置している。 操作においてペトリ皿４４は分配ステーション１８に向かって進み、分配ノズ ル１００の下方で停止する。図１に示したように、分配ステーション１８および 吸引ステーション２０は透明プラスチックのような囲い２１の中に閉じられ、充 填の間に皿４４が汚染される危険を減らしている。ノズル１００はペトリ皿４４ の上方に僅かに離れて位置するのが好ましい。次にポンプ１１６を作動して所定 量の流体物質をペトリ皿４４の中に導入する。 図５に示した本発明の実施態様において、分配ノズル１００は側壁に沿いペト り皿の一端に向って配置されている。分配ノズル１００がペトリ皿４４に流体物 質を導入するときに、圧搾空気式シリンダー１０６が作動し、プランジャー１０ ８がペトリ皿の一端を上方に持ち上げる。図５に示したように圧搾空気式シリン ダー１０６は分配ノズル１００の下方に位置するので、プランジャー１０８は分 配ノズル１００が流体物質を導入する場所からペトリ皿４４を傾斜させる。ペト リ皿４４が傾いたとき、流体物質はペトリ皿の底を横切って流れ、底面が完全に 被覆されることになる。過剰の流体物質は分配ノズル１００の反対側でプール１ １９を作る。所望量の流体物質がペトリ皿４４に導入されたときに、圧搾空気式 シリンダー１０６が再び作動し、プランジャー１０８が引込んでペトリ皿４４を 最初の水平位置に降下させるので、流体物質は皿の底面を横切って拡がる。チェ ーンコンベヤ２４、２６は再び作動して、充填したペトリ皿を吸引ユニット２０ に前進させ、新しいペトリ皿を充填する位置に持ってくる。別の実施態様におい て、流体物質は皿４４を傾斜させることなく皿４４の中に分配される。 ポンプ１１６は所定量の流体物質を分配するためにマイクロプロセッサーによ り制御される。ペトリ皿４４に分配される流体物質の量は皿の底面を完全に被覆 するのに必要な最小量である。好ましい実施態様において、皿の底を被覆するの に必要な過剰量の流体物質が分配される。流体物質の分配はポンプサイクルの速 度および期間を決定するマイクロプロセッサーによって制御される。一般にポン プ速度および操作時間サイクルは選定量の流体物質を分配するために調整される 。別の実施態様においてノズル１００は一定圧力下で供給される供給ラインを持 ちソレノイド作動される分配弁を含む。この実施態様において分配弁は流体物質 を分配するために選択された時間サイクルに対するマイクロプロセッサーによっ て作動される。 一度ペトリ皿４４が充填され圧搾空気式シリンダー１０６が引き込まれると、 ペトリ皿は第１吸引ステーション１０２に向って進む。第１吸引ノズル１２２が 降下して流体物質と接触し、ペトリ皿４４から過剰の流体物質を吸引し、流体物 質を貯蔵器１１４に戻す。コンベヤ装置１０の水平滑り面２５は持ち上げカム面 １２４を含んでいる。チェーンコンベヤ２４の前進運動により、ペトリ皿４４の 底面の一端が作用し、カム１２４の傾斜した面１２３の上に上がり、図６に示し たようにペトリ皿の一端を傾斜させる。好ましい実施態様においてカム１２４は 分配ステーション１８での傾斜方向から反対方向にペトリ皿を傾ける。こうして ペトリ皿内の流体物質は最初の供給場所に向って流れ戻り、ペトリ皿４４の底を 横切って完全に被覆されることを保証する。過剰の流体物質は、カム１２４の反 対側でプール１２６の中に集められる。ペトリ皿４４が図６に示したように傾斜 した位置にある間に、吸引ノズル１２２はプール１２６の中に降下して過剰のプ ールした流体物質を除去する。 吸引ノズル１２２は、ノズル１２２を上昇降下してペトリ皿４４およびその中 の流体物質と接触させる圧搾空気式シリンダー１２８によって操作される。圧搾 空気式シリンダー１２８の作動は各ペトリ皿４４の前進運動を伴う吸引操作と共 動するためにマイクロコンピューターによって制御される。標準蠕動ポンプのよ うな適当なポンプ１３０はノズル１２２に連絡してペトリ皿から流体物質を吸引 し、戻しライン１３２を通り供給容器１１４に流体物質を返却する。ポンプ１３ ０もマイクロコンピューター１１に連結され、ペトリ皿４４の前進と共に吸引に 同調する。 本発明の好ましい実施態様において、第１吸引ステーション１２０の下流に第 ２吸引ステーション１３４が設けられる。カム面１２４は第１および第２吸引ス テーション１２０，１３４の長さにわたり伸びているのが好ましく、従ってペト リ皿４４は図６に示したと同様に傾斜した位置でチェーンコンベヤにより前進す る。圧搾空気式シリンダー１２８’および戻りライン１３２’に連絡している第 ２吸引ノズル１２２’が、第１吸引ステーション１２０と同様な配置で設けられ る。吸引ノズル１２２’もポンプ１３０’に連絡している。ポンプ１３０および 圧搾空気式シリンダー１２８’は同様にマイクロプロセッサーに連絡していて、 ペトリ皿４４の前進と共に流体物質の吸引と共動する。ペトリ皿４４は傾斜した 位置で第２吸引ステーション１３４に向って進むので、第１吸引ステーションで 除去されなかった過剰の流体物質はペトリ皿の下部にプールされて残る。第２吸 引ノズル１２２’は降下してペトリ皿４４内に残っている流体物質と接触し、ポ ンプ１３０’が作動してペトリ皿４４から流体物質を吸引して供給器１１４に送 る。 図示のように、カム１２４の下流端にはチェーンコンベヤ２４がペトリ皿４４ を前進させるときにペトリ皿４４をコンベヤ面２５上の水平位置に徐々に降下さ せる傾斜面１２５を有している。その直後にペトリ皿４４は傾斜ステーション１ ３６に向って進む。ペトリ皿４４はコンベヤ２４の水平滑り面２５上にある傾斜 １３７を有する第２カム面１３８に作用する。カム面１３８は図７に示したよう にペトリ皿４４を傾けるために一端に沿ってペトリ皿４４の底に作用する位置に 置かれる。好ましい実施態様において、カム１３８は吸引の間に傾斜方向と反対 の方向にペトリ皿を傾ける。こうしてペトリ皿の中に残っている流体物質は皿の 底を横切って流れ戻り、流体物質の薄い均一な層ができる。ペトリ皿４４は選択 した時間の間、傾斜位置に維持され、底が流体物質で均一に被覆されることを保 証する。カム１３８は下流端に傾斜面１３９を含み、ペトリ皿４４をコンベヤ面 ２５上の水平位置に戻す。別にカム１３８によって与えられる傾斜は傾斜ステー ションで圧搾空気式リフトによって作ることができる。 加熱した乾燥室２２に入る前に、冷たい殺菌空気流は被覆されたペトリ皿４４ 上に向けられ、ゲル化可能な物質が存在するときに流体物質をゲル化する。図２ に示したように冷風が送風機１４９から下方に向けられる。 ペトリ皿４４およびこれと共動する蓋４６は次に脱水室２２を通って前進する 。図１に示したように脱水室は入口開口１４２および出口開口１４４を有する密 閉したハウジング１４０である。ハウジング１４０は、ハウジング１４０を通っ てペトリ皿に熱風を送るためのファンまたは送風機を有する加熱装置１４６を含 む。ハウジング内を無塵殺菌環境に保つために適当なフィルターシステムを設け ることができる。紫外光源１４８がハウジング内に設けられる。紫外光源１４８ がハウジング内に置かれて、乾燥工程の間のペトリ皿の汚染を防止するために殺 菌性紫外線が放射される。このハウジングはペトリ皿が実質的に脱水した状態で ハウ ジングを出るのに充分な長さを有している。 図１に示した実施態様において殺菌室１６によって導入される殺菌空気は分配 および吸引ステーション１８、２０の囲い２１を通って清掃方向に向う。空気は 脱水室２２の入口開口１４２を通って流れ続け、場合により脱水室２２の出口１ ４４を通って出る。 吸引後にペトリ皿内に残っている流体物質の量は吸引の量、流体物質の速度、 流体物質中のゲル化可能物質の量、流体物質のゲル化温度、流体の温度、および 生成するゲルの量によって決定される。一般に吸引後に約０．５〜２．０ｍｌ、 好ましくは約１．５ｍｌの流体物質がペトリ皿内に残っている。実施態様におい て流体物質は１〜２％寒天、低メトキシルペクチン、またはゲランガムからなる 温水溶液として分配される。別法では流体物質は適当な溶剤または担体中のプラ スチック樹脂である。この溶剤はペトリ皿の冷たい面に接触すると直ちに固化を 始める。 ペトリ皿中の流体物質が脱水された後、ペトリ皿は乾燥室を出て、再積重ね装 置１５０に向って進む。図８および図９を参照すると、再積重ね装置１５０はチ ェーンコンベヤ２６およびスライドレールに平行な上板１５２を含んでいるので 蓋４６は上板１５２上を滑動する。上側滑り板１５２は、ペトリ皿４４を上側板 １５２の下で滑らせるのに充分な距離で第１チェーンコンベヤ２４の上方に位置 している。下側滑り板１５４は、第１チェーンコンベヤ２４と同一の面内に位置 し、ペトリ皿４４をチェーンコンベヤ２４から受け取る。上側滑り板１５２は下 側滑り板１５４の上方に開口１５６を有している。開口１５６は落下しないがペ トリ皿を通過させるのに充分な大きさの開口１５６の上方で上側滑り板１５２上 に蓋４６が位置されるような寸法である。 押し板１５８が上側滑り板１５２に隣接して置かれる。押し板１５８はマイク ロプロセッサー１１によって作動される圧搾空気式シリンダー１６２の棒１６０ に結合されている。圧搾空気式シリンダー１６２が作動してロッド１６０および 押し板１５８をシリンダ１６２から離して蓋４６に作用させる。押し板１５８は 、蓋４６がペトリ皿４４の直上で開口１５６の上で実質的に心合わせされるまで 、上側板１５２を横切って蓋４６を押す。押し板１５８は次いで図８に示した開 始 位置を引き込む。 持ち上げ装置１６６が下側滑り板１５４およびペトリ皿４４の下方に設けられ る。再積重ねラック１６８が持ち上げ装置１６６の直上に設けられる。持ち上げ 装置１６６は垂直往復運動のために取付板１７４および共動ピストン棒１７２と 連結した圧搾空気式シリンダー１７０を含む。実質的に方形の水平板１７６はピ ストン棒１７２の末端に連結され、下側滑り板１５４に平行に設けられる。４本 の棒１７８が板１７６の上面に連結し、板１７６に垂直に上方に伸びている。好 ましい実施態様において棒１７８は板１７６の隅に配置され、実施的に均一に空 間的に離れていてペトリ皿４４を支持する。 ピストン棒１７２および板１７６は図２に示したように通常は引き込んだ位置 にある。シリンダー１７０がマイクロプロセッサー１１によって作動してピスト ン棒１７２および板１７６に上方に向けて作用するので、棒１７８は下側板１５ ４内の開口を通って後に詳しく説明するようにペトリ皿の底に作用する。 再積重ねラック１６８は図９に示したように開口１５６の対向端で上側滑り板 １５２から上方に伸びる２つの支持部材１８０を含む。各支持部材１８０の上端 にフィンガー１８２がピボットピン１８４によりピボット連結されている。フィ ンガー停止部材１８６も支持部材１８０の頂部に連結されていてフィンガー１８ ２のピボット運動を制限する。図９に示したようにフィンガー１８２は、フィン ガー停止部材１８６に作用する引っ張り端１８８と開口１５６に向かって内側に 伸びる案内端１９０を有して通常水平休止位置にある。フィンガー１８２は図９ に示した水平位置から想像線で示した位置に上方に向けて回転することができる 。複数の支持棒１９２が上側滑り板から上方に伸びてペトリ皿の積重ねを受け取 る。図８に示したように、４本の棒１９２が一般に設けられていて、上側滑り板 １５２の中の開口の周りに空間を隔ててあり、ペトリ皿４４の積重ねをすること ができる。 操作においてペトリ皿４４およびこれに組み合わせられた蓋４６はそれぞれ平 行チェーンコンベヤによって、下側滑り板１５４および上側滑り板１５２に向か って進む。次に、シリンダー１６２が作動し、押し板１５８が上側滑り板１５２ を横切り、開口の１５６の上で蓋４６を押す。押し棒１５８は次いで最初の位置 に引込む。次いでシリンダー１７０が作動し、持ち上げ棒１７８が上方に移動し てペトリ皿４４の底に作用する。持ち上げ棒１７８は上向運動を続け、開口１５ ６を通ってペトリ皿４４を上方に持ち上げて蓋４６に送り、再積重ね位置に置く 。持ち上げ棒１７８は、さらに上方に移して、フィンガー１８２を過ぎてペトリ 皿４４および蓋を持ち上げる。フィンガー１８２は上方に回転してペトリ皿４４ および蓋４４６を通過させ、次にフィンガーは最初の水平位置に戻る。持ち上げ 棒１７８は次いで引込むのでペトリ皿および蓋はフィンガー１８２によって再積 重ねラック１６８の中に保持される。棒１９２の間に積重ねられるペトリ皿４４ および蓋４６と共にこのサイクルが繰り返される。 以上のことからわかるように、この方法および装置は、皿を取り扱う必要がな く、ペトリ皿またはその他の容器を被覆材料で被覆するための有効な手段を提供 するものである。蓋は皿から分離され、殺菌環境に満たされる。充填され乾燥し た容器は蓋で閉じられ、再積重ねラック内で積重ねられ、そこで取り出され、所 望のように包装される。上に説明した実施例において、この装置はペトリ皿およ び蓋を搬送するための一対の平行なチェーンコンベヤを有する単独積重ね解放ユ ニットを含んでいる。この装置はひとつのマイクロプロセッサー制御動力源によ って操作することのできる一つ以上の積重ね解放ユニット、コンベヤシステムお よび再積重ねユニットを含むことができる。 図１に示した制御ユニットは、実際には任意の便利な配置をとることができる が乾燥室の頂部に位置している。制御ユニットは装置を制御し、監視するのに必 要なマイクロプロセッサーを含むことが好ましい。コンベヤチェーンの速度およ びコンベヤチェーンの段階前進は積重ね解放工程、充填工程、吸引工程および再 積重ね行程と共動しているので、容器は、種々の分配、吸引および乾燥サイクル が完了したときに、各ステーションに正しくインデックスされ、次のステーショ ンに進められる。 本発明を説明するために種々の有利な実施態様を選択したが、請求の範囲に定 義した本発明の範囲から逸脱することなく種々の変化および変形をすることが可 能なことを当業者は理解すべきである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，Ｓ Ｚ，ＵＧ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，Ｂ Ｒ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ， ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，Ｌ Ｕ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ， ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，Ｖ Ｎ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 容器の中に流体被覆材料の層を形成する装置であって、該装置を通って容 器を搬送するための搬送手段； 該容器の底を覆う量の流体被覆材料で、該容器を満たすための分配手段； 一部の被覆材料を該容器から吸引し、該流体被覆材料の均一な被覆を形成する ための第１吸引手段；および 被覆材料を脱水して該容器内に実質的に脱水された被覆材料の均一な被覆を形 成するための脱水手段を含む装置。 ２． 該容器を該被覆材料で満たしながら同時に傾斜させ、過剰な該被覆材料を 該容器の第１の側に沿ってプールするための第１傾斜手段を、さらに含む請求の 範囲第１項に記載の装置。 ３． 該第１傾斜手段が該容器の底隅に作用して底隅を上方に持ち上げるための 圧搾空気作動されるプランジャーである請求の範囲第２項に記載の装置。 ４． 該分配手段が該容器の第２の側に隣接する該容器を充填するために、該容 器の上方に配置された分配ノズルである請求の範囲第２項に記載の装置。 ５． 該容器を傾斜し該容器の第２の側に沿って該被覆材料をプールするために 、該第１傾斜手段の下流に更に第２傾斜手段を含み、第１傾斜手段は前記第２の 側に沿って該プールした被覆材料を吸引するために配置される請求の範囲第２項 に記載の装置。 ６． 該第２の傾斜手段が、該容器の前進運動と共に該容器の底面に作用し、底 面の側端を持ち上げるために該搬送手段と共動するカム面である請求の範囲第５ 項に記載の装置。 ７． 該第２の傾斜手段が該容器を傾斜させて該被覆材料を第１の側に反対の第 ２の側にプールする請求の範囲第５項に記載の装置。 ８． 該プールされた被覆材料を該容器から除去するために、更に第２吸引手段 を含み、該第２吸引手段は該第１吸引手段の下流に配置される請求の範囲第７項 に記載の装置。 ９． 該第２傾斜手段が該被覆材料を該容器の該第２の側にプールするために該 容器を傾斜するための該第２吸引手段と共動するカム面であり、該第２吸引手段 が該プールされた材料を除去するために、該第２の側の上方に配置される請求の 範囲第８項に記載の装置。 １０． 該被覆材料を吸引した後、該容器を第１の側に向けて傾斜させるために 、該第１吸引手段の下流に配置された第３傾斜手段を更に有する請求の範囲第５ 項に記載の装置。 １１． 該脱水手段が熱風を該流体被覆材料の上に向けるための加熱室を含んで いる請求の範囲第１項に記載の装置。 １２． 該被覆材料がゲル誘発剤を含有し、該分配手段が該被覆材料を流動状態 に保つための加熱手段を含む請求の範囲第１１項に記載の装置。 １３． 該脱水手段が加熱要素および送風機を含む請求の範囲第１２項に記載の 装置。 １４． 殺菌空気を該容器に向けるために該分配手段の上流に更に殺菌手段を含 む請求の範囲第１項に記載の装置。 １５． 該殺菌手段が紫外光源を有する室を含む請求の範囲第１４項に記載の装 置。 １６． 該搬送手段が互いに連結されて操作される第１および第２の平行コンベ ヤ、および該コンベヤを所定の段階的増加で前進させるためのモーター手段を含 む請求の範囲第１項に記載の装置。 １７． 複数の該容器および該容器のための複数の蓋を受領するために更に積重 ね解放装置を含み、該積重ね解放装置が該蓋を該容器から分離し、該容器を第１ コンベヤにそして該蓋を該第２コンベヤに配置するための手段を含む請求の範囲 第１６項に記載の装置。 １８． 積重ね解放装置が該容器およびその上に組み合わされた蓋の積重ねを受 領するための手段； 該蓋を支持しながら該容器を該開口を通過させて該第１コンベヤに送る寸法の開 口を有する水平板； および該蓋を該水平板から該第２コンベヤにスライドさせるためのスライド手段 を含む請求の範囲第１７項に記載の装置。 １９． 該積重ね解放装置が、該容器を水平板内の該開口を通って第１コンベヤ に降下させるために、該容器を受領するのに上方位置から下方位置に移動可能な 垂直に配置された圧搾空気式プランジャーを更に含む請求の範囲第１８項に記載 の装置。 ２０． 該搬送手段の下流端に配置された再積重ね装置を更に含み、この再積重 ね装置は該容器を通過させ、該蓋を支持する寸法の開口を備えた水平板を有し、 該蓋を該開口の周りの該水平板上にスライドさせるための滑り板、および該容器 を第１コンベヤから該水平板内の開口を通って上方に持上げて該蓋と合わせるた めの持上げ手段、および該蓋および該容器を該再積重ね装置の中に保持するため の保持手段を含む請求の範囲第１６項に記載の装置。 ２１． 該容器にコンベヤ装置の上流端で分配ステーション内で所定量の被覆材 料を充填し； 該被覆材料の一部を該容器から除去し、底面の内側に該材料の被覆を形成し； 該容器内の該物資の該被覆を脱水する工程を含む容器の内側底面の被覆を形成す る方法。 ２２． 該容器がペトリ皿であり、該被覆材料がゲル誘発剤を含有している請求 の範囲第２１項に記載の方法。 ２３． 該容器の第１の側で該容器を充填し、同時に該容器を該容器の第２の側 に向かって傾斜させることを含む請求の範囲第２１項に記載の方法。 ２４． 該被覆材料の一部を除去しながら、該充填工程に続いて該容器を第１の 側に向けて傾斜させて、該被覆材料を該第１の側でプールすることを更に含む請 求の範囲第２１項に記載の方法。 ２５． 該除去工程が該容器から該被覆材料を吸引することを含む請求の範囲第 ２１項に記載の方法。 ２６． 第１の除去工程に続いて該容器を該第１の側に傾斜させ、プールされた 被覆材料を第２の除去工程で該容器から除去することを更に含む請求の範囲第２ ４項に記載の方法。 ２７． 第１の除去工程に続いて該容器を第２の側に傾斜させ、残った被覆材料 を内側底面に均一に分配することを更に含む請求の範囲第２４項に記載の方法。 ２８． ゲル誘発剤を含有する溶液を該容器内に分配することを更に含む請求の 範囲第２１項に記載の方法。 ２９． 該容器を殺菌室を通過させ、該容器を紫外光に曝すことを更に含む請求 の範囲第２１項に記載の方法。 ３０． 該脱水工程が該容器を加熱空気流に曝すことを含む請求の範囲第２１項 に記載の方法。 ３１． 該乾燥工程が該容器を紫外光に曝して、殺菌状態を維持することを更に 含む請求の範囲第３０項に記載の方法。 ３２． 該殺菌工程が更に該被覆材料を供給物貯蔵器から該容器に分配すること を含み、該除去工程が除去された被覆材料を該容器から該供給物貯蔵所に戻すこ とを含む請求の範囲第２１項に記載の方法。 ３３． 該容器が補助蓋を含み、該方法が更に該容器の充填に先立ち該蓋を該容 器から分離し、 該脱水工程に続いて蓋を該容器の上に置くことを含む請求の範囲第２１項に記 載の方法。 ３４． 該容器を第１コンベヤ上に置き、該蓋を該第１コンベヤに平行な第２コ ンベヤ上に置き、 該充填ステーションを通って該容器を搬送することを含む請求の範囲第３３項 に記載の方法。 ３５． ペトリ皿内に被覆材料の実質的に均一な層を適用するための装置であっ て、該被覆材料がゲル誘発剤を含むのもにおいて、ペトリ皿に所定量の該被覆材 料を充填するための充填手段； 被覆材料をペトリ皿の一つの側にプールするため、ペトリ皿を傾斜させるための 第１傾斜手段； プールされた該被覆材料の一部をペトリ皿から吸引し、該被覆物質の均一な被覆 を形成するための吸引手段；および 該ペトリ皿内に残っている該被覆材料を脱水するための脱水手段を含む装置。 ３６． 該ペトリ皿を充填する間に該充填手段と同時にペトリ皿を傾斜させるた めの傾斜手段を更に含み、該充填手段はペトリ皿の傾斜方向と反対のペトリ皿の 側壁に隣接して、被覆材料を分配する請求の範囲第３５項に記載の装置。 ３７． 該吸引手段が該被覆材料を除去した後、ペトリ皿を傾斜させて該被覆材 料を均一に分配するための傾斜手段を更に含む請求の範囲第３５項に記載の装置 。 ３８． ペトリ皿と組み合わせられた蓋を有するペトリ皿の内側底面に実質的に 均一な被覆を形成する方法であって、ペトリ皿を該蓋から分離し、ゲル誘発剤を 含有する所定量の溶液を分配し（ここで該分配工程はペトリ皿を被覆するのに必 要な量より過剰で分配するものとする）； この過剰な溶液を該ペトリ皿から吸引し、ペトリ皿内に溶液の実質的に均一な被 覆を形成し；この被覆を脱水し；そして 該被覆したペトリ皿の上に該蓋を置く工程を含む方法。 ３９． 該溶液がゲル誘発剤として金属カチオンを含有するペクチン含有溶液で あり、更に、ペクチン含有溶液をペトリ皿に注ぎ、このペクチン含有溶液をゲル 化することを含む請求の範囲第３８項に記載の方法。 ４０． ペトリ皿を傾斜して過剰の溶液を第１の側にプールし、このプールした 溶液をペトリ皿から吸引することを含む請求の範囲第３８項に記載の方法。 ４１． ペトリ皿を該第１の側に反対の第２の側に向けて傾斜して、ペトリ皿内 に残っている溶液を均一に再分配することを更に含む請求の範囲第４０項に記載 の方法。