JPH1151883A - 蛍光ｘ線分析装置および方法 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置および方法Info
- Publication number
- JPH1151883A JPH1151883A JP9208866A JP20886697A JPH1151883A JP H1151883 A JPH1151883 A JP H1151883A JP 9208866 A JP9208866 A JP 9208866A JP 20886697 A JP20886697 A JP 20886697A JP H1151883 A JPH1151883 A JP H1151883A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rays
- fluorescent
- sample
- spectroscopic
- predetermined position
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な構成で、高精度、高感度の測定ができ
る蛍光Ｘ線分析装置および方法を提供する。 【解決手段】 １次Ｘ線３が照射される試料１が固定さ
れる試料台２と、格子面間隔の相異なる複数の分光素子
６と、前記分光素子６を試料１に対し所定の位置に選択
的に位置させて、試料１から発生した蛍光Ｘ線５を分光
させる選択手段９と、前記所定の位置に対し固定され、
前記分光された蛍光Ｘ線７の強度分布を測定する位置分
解能検出手段８とを備える。
る蛍光Ｘ線分析装置および方法を提供する。 【解決手段】 １次Ｘ線３が照射される試料１が固定さ
れる試料台２と、格子面間隔の相異なる複数の分光素子
６と、前記分光素子６を試料１に対し所定の位置に選択
的に位置させて、試料１から発生した蛍光Ｘ線５を分光
させる選択手段９と、前記所定の位置に対し固定され、
前記分光された蛍光Ｘ線７の強度分布を測定する位置分
解能検出手段８とを備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、簡単な構成で、高
精度、高感度の測定ができる蛍光Ｘ線分析装置および方
法に関する。
精度、高感度の測定ができる蛍光Ｘ線分析装置および方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、いわゆる波長分散型蛍光Ｘ線
分析においては、図２に示すように、試料台２に試料１
を固定し、試料１にＸ線源４から１次Ｘ線３を照射し、
試料１から発生した蛍光Ｘ線５を分光素子２６で回折
し、分光素子２６で回折されたＸ線７を、比例計数管や
シンチレーションカウンタ等の検出器２８で検出する。
ここで、分光器２６へ蛍光Ｘ線５が入射する入射角θ
と、蛍光Ｘ線５の延長線３０と回折されたＸ線７のなす
分光角２θとを連動手段２９で連続的に連動させること
により、試料１から発生した蛍光Ｘ線５を種々の波長に
分光し、試料１に含まれる各元素に対応する波長の蛍光
Ｘ線７を検出することができる。この連動手段２９は、
いわゆるゴニオメータであり、分光素子２６を、その表
面の中心を通る紙面に垂直な軸Ｏを中心に回転させ、そ
の回転角の２倍だけ、検出器２８を、軸Ｏを中心に円３
１に沿って回転させる。
分析においては、図２に示すように、試料台２に試料１
を固定し、試料１にＸ線源４から１次Ｘ線３を照射し、
試料１から発生した蛍光Ｘ線５を分光素子２６で回折
し、分光素子２６で回折されたＸ線７を、比例計数管や
シンチレーションカウンタ等の検出器２８で検出する。
ここで、分光器２６へ蛍光Ｘ線５が入射する入射角θ
と、蛍光Ｘ線５の延長線３０と回折されたＸ線７のなす
分光角２θとを連動手段２９で連続的に連動させること
により、試料１から発生した蛍光Ｘ線５を種々の波長に
分光し、試料１に含まれる各元素に対応する波長の蛍光
Ｘ線７を検出することができる。この連動手段２９は、
いわゆるゴニオメータであり、分光素子２６を、その表
面の中心を通る紙面に垂直な軸Ｏを中心に回転させ、そ
の回転角の２倍だけ、検出器２８を、軸Ｏを中心に円３
１に沿って回転させる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このように、
分光素子２６と検出器２８を連動させるために、装置の
構成が複雑になり、また装置の機械的な精度ひいては測
定の精度がいまひとつ向上できない。さらに、回動する
分光素子２６や検出器２８が他の部分に干渉しないよう
にするために、試料１と分光素子２６、分光素子２６と
検出器２８を十分に接近させられないので、検出器２８
に入射する蛍光Ｘ線７が発散、減衰し、その強度ひいて
は測定の感度がいまひとつ向上できない。一方、いわゆ
るエネルギー分散型の蛍光Ｘ線分析では、このような連
動手段は不要であるが、用いられるＳＳＤ等の検出器の
特性から、得られる信号のＳ／Ｎ比がいまひとつ十分で
ない。
分光素子２６と検出器２８を連動させるために、装置の
構成が複雑になり、また装置の機械的な精度ひいては測
定の精度がいまひとつ向上できない。さらに、回動する
分光素子２６や検出器２８が他の部分に干渉しないよう
にするために、試料１と分光素子２６、分光素子２６と
検出器２８を十分に接近させられないので、検出器２８
に入射する蛍光Ｘ線７が発散、減衰し、その強度ひいて
は測定の感度がいまひとつ向上できない。一方、いわゆ
るエネルギー分散型の蛍光Ｘ線分析では、このような連
動手段は不要であるが、用いられるＳＳＤ等の検出器の
特性から、得られる信号のＳ／Ｎ比がいまひとつ十分で
ない。
【０００４】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、簡単な構成で、高精度、高感度の測定ができる
蛍光Ｘ線分析装置および方法を提供することを目的とす
る。
もので、簡単な構成で、高精度、高感度の測定ができる
蛍光Ｘ線分析装置および方法を提供することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項１の蛍光Ｘ線分析装置では、１次Ｘ線を照射
される試料が固定される試料台と、格子面間隔の相異な
る複数の分光素子と、前記分光素子を試料に対し所定の
位置に選択的に位置させて、試料から発生した蛍光Ｘ線
を分光させる選択手段と、前記所定の位置に対し固定さ
れ、前記分光された蛍光Ｘ線の強度分布を測定する位置
分解能検出手段とを備える。
に、請求項１の蛍光Ｘ線分析装置では、１次Ｘ線を照射
される試料が固定される試料台と、格子面間隔の相異な
る複数の分光素子と、前記分光素子を試料に対し所定の
位置に選択的に位置させて、試料から発生した蛍光Ｘ線
を分光させる選択手段と、前記所定の位置に対し固定さ
れ、前記分光された蛍光Ｘ線の強度分布を測定する位置
分解能検出手段とを備える。
【０００６】請求項１の装置によれば、分光素子を試料
に対し所定の位置に選択的に位置させるのみで、試料に
対し分光素子と検出手段を連動させないので、簡単な構
成で、高精度の測定ができる。また、試料と分光素子、
分光素子と検出手段を十分に接近させることができるの
で、検出手段に入射する蛍光Ｘ線の発散、減衰が抑制さ
れ、十分な強度で高感度の測定ができる。
に対し所定の位置に選択的に位置させるのみで、試料に
対し分光素子と検出手段を連動させないので、簡単な構
成で、高精度の測定ができる。また、試料と分光素子、
分光素子と検出手段を十分に接近させることができるの
で、検出手段に入射する蛍光Ｘ線の発散、減衰が抑制さ
れ、十分な強度で高感度の測定ができる。
【０００７】請求項２の蛍光Ｘ線分析方法では、試料に
１次Ｘ線を照射し、格子面間隔の相異なる複数の分光素
子を試料に対し所定の位置に選択的に位置させて、試料
から発生した蛍光Ｘ線を分光し、前記所定の位置に対し
固定された位置分解能を有する検出手段により、前記分
光された蛍光Ｘ線の強度分布を測定する。請求項２の方
法によれば、請求項１の装置と同様の作用効果が得られ
る。
１次Ｘ線を照射し、格子面間隔の相異なる複数の分光素
子を試料に対し所定の位置に選択的に位置させて、試料
から発生した蛍光Ｘ線を分光し、前記所定の位置に対し
固定された位置分解能を有する検出手段により、前記分
光された蛍光Ｘ線の強度分布を測定する。請求項２の方
法によれば、請求項１の装置と同様の作用効果が得られ
る。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態である蛍
光Ｘ線分析装置を、試料の微小部位の分析に用いられる
場合を例にとり、図面にしたがって説明する。まず、こ
の装置の構成について説明する。図１の平面図に示すよ
うに、この装置は、まず、１次Ｘ線３が照射される試料
１が固定される試料台２を備えている。ここで、１次Ｘ
線３を発生するＸ線源は、例えば直径５μｍのコリメー
タを有するＳＲ光源（放射光光源）であり、１次Ｘ線３
は、きわめて細いが従来よりも強度の大きいＸ線であ
る。
光Ｘ線分析装置を、試料の微小部位の分析に用いられる
場合を例にとり、図面にしたがって説明する。まず、こ
の装置の構成について説明する。図１の平面図に示すよ
うに、この装置は、まず、１次Ｘ線３が照射される試料
１が固定される試料台２を備えている。ここで、１次Ｘ
線３を発生するＸ線源は、例えば直径５μｍのコリメー
タを有するＳＲ光源（放射光光源）であり、１次Ｘ線３
は、きわめて細いが従来よりも強度の大きいＸ線であ
る。
【０００９】また、この装置は、格子面間隔の相異なる
複数の分光素子６Ａ，６Ｂ…と、前記分光素子６Ａ，６
Ｂ…を試料１に対し所定の位置に選択的に位置させて、
試料１から発生した蛍光Ｘ線５を分光させる選択手段９
とを備えている。ここで、複数の分光素子６Ａ，６Ｂ…
は、分光（回折）すべき蛍光Ｘ線７の波長によって、そ
れぞれの格子面間隔、いわゆるｄ値が異なっている。例
えば、長波長側からいえば、塩素の蛍光Ｘ線からカルシ
ウムの蛍光Ｘ線に対しては、ＡＤＰ（NH4H2PO4）の分光
結晶が用いられ、カリウムの蛍光Ｘ線からバナジウムの
蛍光Ｘ線に対しては、二酸化珪素の分光結晶が用いら
れ、カルシウムの蛍光Ｘ線からクロムの蛍光Ｘ線に対し
ては、インジウムアンチモンの分光結晶が用いられ、チ
タンの蛍光Ｘ線からテルルの蛍光Ｘ線に対しては、珪素
の分光結晶の種々の格子面が用いられる。その他に、所
望のｄ値を有する多層の累積膜からなる人工格子を用い
ることもできる。
複数の分光素子６Ａ，６Ｂ…と、前記分光素子６Ａ，６
Ｂ…を試料１に対し所定の位置に選択的に位置させて、
試料１から発生した蛍光Ｘ線５を分光させる選択手段９
とを備えている。ここで、複数の分光素子６Ａ，６Ｂ…
は、分光（回折）すべき蛍光Ｘ線７の波長によって、そ
れぞれの格子面間隔、いわゆるｄ値が異なっている。例
えば、長波長側からいえば、塩素の蛍光Ｘ線からカルシ
ウムの蛍光Ｘ線に対しては、ＡＤＰ（NH4H2PO4）の分光
結晶が用いられ、カリウムの蛍光Ｘ線からバナジウムの
蛍光Ｘ線に対しては、二酸化珪素の分光結晶が用いら
れ、カルシウムの蛍光Ｘ線からクロムの蛍光Ｘ線に対し
ては、インジウムアンチモンの分光結晶が用いられ、チ
タンの蛍光Ｘ線からテルルの蛍光Ｘ線に対しては、珪素
の分光結晶の種々の格子面が用いられる。その他に、所
望のｄ値を有する多層の累積膜からなる人工格子を用い
ることもできる。
【００１０】選択手段９は、複数の分光素子６Ａ，６Ｂ
…が各側面に固定された多角柱である回転台９ａと、そ
の回転台９ａを中心軸１０まわりに回転させるモータ９
ｂとを有する。なお、分光素子６Ａ，６Ｂ…を選択的に
位置させる試料１に対しての所定の位置とは、試料１へ
の１次Ｘ線３の入射点Ｐから分光素子６の表面の中心Ｑ
までの距離が所定の距離であり、ＰからＱに到る蛍光Ｘ
線５の分光素子６への入射角θQ が所定の角度であるよ
うな位置をいい、図１では、分光素子６Ａがその位置に
あり、試料１から発生した蛍光Ｘ線５が入射され、それ
を分光する。
…が各側面に固定された多角柱である回転台９ａと、そ
の回転台９ａを中心軸１０まわりに回転させるモータ９
ｂとを有する。なお、分光素子６Ａ，６Ｂ…を選択的に
位置させる試料１に対しての所定の位置とは、試料１へ
の１次Ｘ線３の入射点Ｐから分光素子６の表面の中心Ｑ
までの距離が所定の距離であり、ＰからＱに到る蛍光Ｘ
線５の分光素子６への入射角θQ が所定の角度であるよ
うな位置をいい、図１では、分光素子６Ａがその位置に
あり、試料１から発生した蛍光Ｘ線５が入射され、それ
を分光する。
【００１１】さらに、この装置は、前記所定の位置に対
し固定され、前記選択手段９により選択された分光素子
６Ａにより分光された蛍光Ｘ線７の強度分布を測定する
位置分解能検出手段８を備えている。ここで、位置分解
能検出手段８としては、いわゆるＰＳＰＣ（ポジション
センシティブプロポーショナルカウンタ）、ＣＣＤ、Ｐ
ＤＡ（フォトダイオードアレイ）、ＩＰ（イメージング
プレート）等を用いることができる。なお、位置分解能
検出手段８が前記所定の位置に対し固定されるとは、ど
の分光素子６Ａ，６Ｂ…が選択されるかに無関係に、前
記所定の位置に対し、選択された分光素子６Ａが分光す
る一定範囲の蛍光Ｘ線７が入射される位置に固定されて
おり、選択された分光素子６Ａに対して回動等しないこ
とを意味する。
し固定され、前記選択手段９により選択された分光素子
６Ａにより分光された蛍光Ｘ線７の強度分布を測定する
位置分解能検出手段８を備えている。ここで、位置分解
能検出手段８としては、いわゆるＰＳＰＣ（ポジション
センシティブプロポーショナルカウンタ）、ＣＣＤ、Ｐ
ＤＡ（フォトダイオードアレイ）、ＩＰ（イメージング
プレート）等を用いることができる。なお、位置分解能
検出手段８が前記所定の位置に対し固定されるとは、ど
の分光素子６Ａ，６Ｂ…が選択されるかに無関係に、前
記所定の位置に対し、選択された分光素子６Ａが分光す
る一定範囲の蛍光Ｘ線７が入射される位置に固定されて
おり、選択された分光素子６Ａに対して回動等しないこ
とを意味する。
【００１２】次に、この実施形態の装置の動作につい
て、説明する。まず、試料１に１次Ｘ線３を照射する。
ここで、分析しようとする蛍光Ｘ線７において、波長の
長い方、すなわち軽元素側から測定するとすると、選択
手段９により、対応する分光素子６Ａを試料１に対し所
定の位置（図１における位置）に位置させる。これによ
り、試料１から発生した蛍光Ｘ線５が分光され、所望の
波長の蛍光Ｘ線７が位置分解能検出手段８に向かう。こ
のとき、分光素子６Ａのｄ値と、蛍光Ｘ線５の入射角
（蛍光Ｘ線７の反射角）θと、蛍光Ｘ線７の波長λと
は、次式（１）のブラッグの条件を満たす。
て、説明する。まず、試料１に１次Ｘ線３を照射する。
ここで、分析しようとする蛍光Ｘ線７において、波長の
長い方、すなわち軽元素側から測定するとすると、選択
手段９により、対応する分光素子６Ａを試料１に対し所
定の位置（図１における位置）に位置させる。これによ
り、試料１から発生した蛍光Ｘ線５が分光され、所望の
波長の蛍光Ｘ線７が位置分解能検出手段８に向かう。こ
のとき、分光素子６Ａのｄ値と、蛍光Ｘ線５の入射角
（蛍光Ｘ線７の反射角）θと、蛍光Ｘ線７の波長λと
は、次式（１）のブラッグの条件を満たす。
【００１３】 ２ｄ sinθ＝ｎλ （ｎは回折次数で正整数） …（１）
【００１４】蛍光Ｘ線５の入射角θは、分光素子６Ａへ
の入射位置により異なり、図１に示すように例えばθ1
からθ2 の範囲にあり（θ1 ＞θ2 ）、それぞれの入射
角θについて式（１）が成立して、かつ、ｄ値は各分光
素子６Ａ，６Ｂ…においては一定であるから、分光素子
６Ａにより得られる蛍光Ｘ線７の波長λも、対応するλ
1 からλ2 の範囲にある（λ1 ＞λ2 ）。ここで、本実
施形態の装置では、反射角がθ1 からθ2 の範囲で広が
る蛍光Ｘ線７が同時に入射され、それが並ぶ方向（広が
る方向）の強度分布を測定できるＰＳＰＣ等の位置分解
能検出手段８を用いる。また、分布方向においてどの位
置にどのような波長の蛍光Ｘ線７が入射するかは、式
（１）から既知とできる。したがって、位置分解能検出
手段８が前記所定の位置に対して固定されていても、選
択手段９により選択された分光素子６Ａにより分光され
た蛍光Ｘ線７について、各波長λ1 〜λ2 における強度
を測定することができる。
の入射位置により異なり、図１に示すように例えばθ1
からθ2 の範囲にあり（θ1 ＞θ2 ）、それぞれの入射
角θについて式（１）が成立して、かつ、ｄ値は各分光
素子６Ａ，６Ｂ…においては一定であるから、分光素子
６Ａにより得られる蛍光Ｘ線７の波長λも、対応するλ
1 からλ2 の範囲にある（λ1 ＞λ2 ）。ここで、本実
施形態の装置では、反射角がθ1 からθ2 の範囲で広が
る蛍光Ｘ線７が同時に入射され、それが並ぶ方向（広が
る方向）の強度分布を測定できるＰＳＰＣ等の位置分解
能検出手段８を用いる。また、分布方向においてどの位
置にどのような波長の蛍光Ｘ線７が入射するかは、式
（１）から既知とできる。したがって、位置分解能検出
手段８が前記所定の位置に対して固定されていても、選
択手段９により選択された分光素子６Ａにより分光され
た蛍光Ｘ線７について、各波長λ1 〜λ2 における強度
を測定することができる。
【００１５】分光素子６Ａを用いた測定が終了すれば、
より波長の短い重元素側の蛍光Ｘ線７に対応する分光素
子６Ｂを、選択手段９により、所定の位置（図１におけ
る分光素子６Ａの位置）に位置させる。この分光素子６
Ｂのｄ値は、分光素子６Ａのｄ値よりもやや小さく設定
され、これにより測定できる蛍光Ｘ線７の波長の範囲λ
3 〜λ4 は、少なくとも分光素子６Ａにより測定できる
蛍光Ｘ線７の波長の範囲λ1 〜λ2 と連続し（λ3 ≧λ
2 ）、かつ、より短波長λ4 まで延びている（λ4 ＜λ
2 ）。
より波長の短い重元素側の蛍光Ｘ線７に対応する分光素
子６Ｂを、選択手段９により、所定の位置（図１におけ
る分光素子６Ａの位置）に位置させる。この分光素子６
Ｂのｄ値は、分光素子６Ａのｄ値よりもやや小さく設定
され、これにより測定できる蛍光Ｘ線７の波長の範囲λ
3 〜λ4 は、少なくとも分光素子６Ａにより測定できる
蛍光Ｘ線７の波長の範囲λ1 〜λ2 と連続し（λ3 ≧λ
2 ）、かつ、より短波長λ4 まで延びている（λ4 ＜λ
2 ）。
【００１６】このように、次々に、より波長の短い重元
素側の蛍光Ｘ線７に対応する分光素子６Ｂ…を、選択手
段９により所定の位置に位置させて、分光された蛍光Ｘ
線７の強度分布を測定することにより、試料１に対し分
光素子６と検出手段８を連動させなくても、広い波長の
範囲で蛍光Ｘ線分析ができる。なお、測定の順序は、以
上に説明したような順序に限るものではなく、例えば、
波長の短い重元素側から行ってもよい。また、分光素子
６Ａ，６Ｂ…の選択は、操作者が、直接選択手段９のモ
ータ９ｂを動作させて行ってもよいが、コンピュータ等
の制御手段を介して、自動的、連続的に行うこともでき
る。
素側の蛍光Ｘ線７に対応する分光素子６Ｂ…を、選択手
段９により所定の位置に位置させて、分光された蛍光Ｘ
線７の強度分布を測定することにより、試料１に対し分
光素子６と検出手段８を連動させなくても、広い波長の
範囲で蛍光Ｘ線分析ができる。なお、測定の順序は、以
上に説明したような順序に限るものではなく、例えば、
波長の短い重元素側から行ってもよい。また、分光素子
６Ａ，６Ｂ…の選択は、操作者が、直接選択手段９のモ
ータ９ｂを動作させて行ってもよいが、コンピュータ等
の制御手段を介して、自動的、連続的に行うこともでき
る。
【００１７】本実施形態の装置によれば、分光素子６
Ａ，６Ｂ…を試料１に対し所定の位置に選択的に位置さ
せるのみで、試料１に対し分光素子６と検出手段８を連
動させないので、簡単な構成で、高精度の測定ができ
る。また、試料１と分光素子６Ａ、分光素子６Ａと検出
手段８を十分に接近させることができるので、検出手段
８に入射する蛍光Ｘ線７の発散、減衰が抑制され、十分
な強度で高感度の測定ができる。特に、例えば直径５μ
ｍのコリメータで絞られたＳＲ光のようなきわめて細い
１次Ｘ線３を用いて、試料１の微小部位について分析を
行うような場合には、高い精度と感度が要求されるの
で、これらの効果が大きく、従来に比して１桁以上Ｓ／
Ｎ比が向上した。
Ａ，６Ｂ…を試料１に対し所定の位置に選択的に位置さ
せるのみで、試料１に対し分光素子６と検出手段８を連
動させないので、簡単な構成で、高精度の測定ができ
る。また、試料１と分光素子６Ａ、分光素子６Ａと検出
手段８を十分に接近させることができるので、検出手段
８に入射する蛍光Ｘ線７の発散、減衰が抑制され、十分
な強度で高感度の測定ができる。特に、例えば直径５μ
ｍのコリメータで絞られたＳＲ光のようなきわめて細い
１次Ｘ線３を用いて、試料１の微小部位について分析を
行うような場合には、高い精度と感度が要求されるの
で、これらの効果が大きく、従来に比して１桁以上Ｓ／
Ｎ比が向上した。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本願発明によれ
ば、蛍光Ｘ線分析において、簡単な構成で、高精度、高
感度の測定ができる。
ば、蛍光Ｘ線分析において、簡単な構成で、高精度、高
感度の測定ができる。
【図１】本発明の一実施形態である蛍光Ｘ線分析装置を
示す平面図である。
示す平面図である。
【図２】従来の波長分散型蛍光Ｘ線分析装置を示す正面
図である。
図である。
１…試料、２…試料台、３…１次Ｘ線、５…試料から発
生した蛍光Ｘ線、６…分光素子、７…分光された蛍光Ｘ
線、８…位置分解能検出手段、９…選択手段。
生した蛍光Ｘ線、６…分光素子、７…分光された蛍光Ｘ
線、８…位置分解能検出手段、９…選択手段。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 庄司 孝 大阪府高槻市赤大路町14番８号 理学電機 工業株式会社内 (72)発明者 山田 栄司 大阪府高槻市赤大路町14番８号 理学電機 工業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 １次Ｘ線が照射される試料が固定される
試料台と、 格子面間隔の相異なる複数の分光素子と、 前記分光素子を試料に対し所定の位置に選択的に位置さ
せて、試料から発生した蛍光Ｘ線を分光させる選択手段
と、 前記所定の位置に対し固定され、前記分光された蛍光Ｘ
線の強度分布を測定する位置分解能検出手段とを備えた
蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項２】 試料に１次Ｘ線を照射し、 格子面間隔の相異なる複数の分光素子を試料に対し所定
の位置に選択的に位置させて、試料から発生した蛍光Ｘ
線を分光し、 前記所定の位置に対し固定された位置分解能を有する検
出手段により、前記分光された蛍光Ｘ線の強度分布を測
定する蛍光Ｘ線分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9208866A JPH1151883A (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 蛍光ｘ線分析装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9208866A JPH1151883A (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 蛍光ｘ線分析装置および方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1151883A true JPH1151883A (ja) | 1999-02-26 |
Family
ID=16563426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9208866A Pending JPH1151883A (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 蛍光ｘ線分析装置および方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1151883A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2772752A4 (en) * | 2011-10-28 | 2015-09-02 | Hamamatsu Photonics Kk | DETECTOR DEVICE FOR X-RAY SPECTROMETRY |
| CN105758467A (zh) * | 2014-12-16 | 2016-07-13 | 天津西创科技有限公司 | 流量累计检测箱 |
| EP2647983A3 (en) * | 2012-04-06 | 2017-01-04 | Japan Atomic Energy Agency | Spectroscopic apparatus |
| CN111595878A (zh) * | 2020-05-13 | 2020-08-28 | 雅视特科技（杭州）有限公司 | 一种基于流水线的元素成分自动检测装置及其检测方法 |
| CN112313505A (zh) * | 2018-04-20 | 2021-02-02 | 奥图泰(芬兰)公司 | X射线荧光分析仪和用于执行x射线荧光分析的方法 |
-
1997
- 1997-08-04 JP JP9208866A patent/JPH1151883A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2772752A4 (en) * | 2011-10-28 | 2015-09-02 | Hamamatsu Photonics Kk | DETECTOR DEVICE FOR X-RAY SPECTROMETRY |
| EP2647983A3 (en) * | 2012-04-06 | 2017-01-04 | Japan Atomic Energy Agency | Spectroscopic apparatus |
| CN105758467A (zh) * | 2014-12-16 | 2016-07-13 | 天津西创科技有限公司 | 流量累计检测箱 |
| CN112313505A (zh) * | 2018-04-20 | 2021-02-02 | 奥图泰(芬兰)公司 | X射线荧光分析仪和用于执行x射线荧光分析的方法 |
| CN111595878A (zh) * | 2020-05-13 | 2020-08-28 | 雅视特科技（杭州）有限公司 | 一种基于流水线的元素成分自动检测装置及其检测方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2004086018A1 (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| WO2005005969A1 (ja) | エネルギー分散型エックス線回折・分光装置 | |
| JP3511826B2 (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| JP3968350B2 (ja) | Ｘ線回折装置及び方法 | |
| JPH1151883A (ja) | 蛍光ｘ線分析装置および方法 | |
| US6285736B1 (en) | Method for X-ray micro-diffraction measurement and X-ray micro-diffraction apparatus | |
| JP2922758B2 (ja) | Ｘ線分光器 | |
| JP2685726B2 (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JP2000206061A (ja) | 蛍光ｘ線測定装置 | |
| JP3593412B2 (ja) | Ｘ線分析装置および蛍光ｘ線分析用アタッチメント | |
| JP2921597B2 (ja) | 全反射スペクトル測定装置 | |
| JPH08201320A (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JP2002333409A (ja) | Ｘ線応力測定装置 | |
| JP3968452B2 (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JPH1114566A (ja) | Ｘ線回折測定及び蛍光ｘ線測定のためのｘ線装置 | |
| JP6862710B2 (ja) | Ｘ線回折装置 | |
| JP2000009666A (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JP3590681B2 (ja) | Ｘ線吸収微細構造分析方法およびその装置 | |
| JPH07260598A (ja) | Ｘ線応力測定装置およびｘ線応力測定方法 | |
| EP4624911A1 (en) | A tool for analysing the chemical composition and structure of nanolayers | |
| JP7632646B2 (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JP3673849B2 (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析装置 | |
| JP3476333B2 (ja) | Ｘ線分析方法 | |
| JP3116805B2 (ja) | Ｘ線回折装置 | |
| JPH0455743A (ja) | エックス線検査装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20031201 |