JPH08201320A - Ｘ線分析装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置Info
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- JPH08201320A JPH08201320A JP7034478A JP3447895A JPH08201320A JP H08201320 A JPH08201320 A JP H08201320A JP 7034478 A JP7034478 A JP 7034478A JP 3447895 A JP3447895 A JP 3447895A JP H08201320 A JPH08201320 A JP H08201320A
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- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 8
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 3-morpholin-4-yl-1-oxa-3-azonia-2-azanidacyclopent-3-en-5-imine;hydrochloride Chemical compound Cl.[N-]1OC(=N)C=[N+]1N1CCOCC1 NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 試料から発生する測定対象の元素が窒素等の
超軽元素であっても、特性Ｘ線とそのバックグラウンド
について、検出器や分光素子を移動させることなく、正
確に測定できるＸ線分析装置を提供する。 【構成】 試料３から発生する測定対象の元素からの特
性Ｘ線１４とそのバックグラウンド１５について、それ
ぞれに対応した２枚の弯曲分光素子７，８を用いて分光
し、単一の検出器１７の前に隣接して設けた２つの受光
スリットＱ1 ，Ｑ2 にそれぞれ焦点を結ばせて、この２
つの受光スリットＱ1 ，Ｑ2 を交互に開放するＸ線分析
装置。
超軽元素であっても、特性Ｘ線とそのバックグラウンド
について、検出器や分光素子を移動させることなく、正
確に測定できるＸ線分析装置を提供する。 【構成】 試料３から発生する測定対象の元素からの特
性Ｘ線１４とそのバックグラウンド１５について、それ
ぞれに対応した２枚の弯曲分光素子７，８を用いて分光
し、単一の検出器１７の前に隣接して設けた２つの受光
スリットＱ1 ，Ｑ2 にそれぞれ焦点を結ばせて、この２
つの受光スリットＱ1 ，Ｑ2 を交互に開放するＸ線分析
装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、試料から発生する測定
対象の元素からの特性Ｘ線とそのバックグラウンドにつ
いて、正確に測定できるＸ線分析装置に関するものであ
る。
対象の元素からの特性Ｘ線とそのバックグラウンドにつ
いて、正確に測定できるＸ線分析装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】例えば、蛍光Ｘ線分析装置において、試
料に含まれる元素から発生する特性Ｘ線から、この特性
Ｘ線に近い波長のバックグラウンドの影響を取り除きた
い場合に、従来は、単一の検出器または分光素子を両者
の回折角の差に相当する角度だけ移動させて、両者の強
度を測定し、前者の強度から後者の強度を差し引いてい
る。しかし、両者の強度の測定において検出器または分
光素子を移動させるので、機械的な精度を確保するのが
困難であり、正確な測定ができない。そこで、本件出願
人は先に、特性Ｘ線とそのバックグラウンドとを、単一
の分光素子で分光し、単一の検出器の前に隣接して設け
た２つの受光スリットにそれぞれ焦点を結ばせて、この
２つの受光スリットを交互に開放することにより、検出
器や分光素子を移動させることなく、それぞれ測定しよ
うとする装置を提案した（特願平６−２９２３６１
号）。
料に含まれる元素から発生する特性Ｘ線から、この特性
Ｘ線に近い波長のバックグラウンドの影響を取り除きた
い場合に、従来は、単一の検出器または分光素子を両者
の回折角の差に相当する角度だけ移動させて、両者の強
度を測定し、前者の強度から後者の強度を差し引いてい
る。しかし、両者の強度の測定において検出器または分
光素子を移動させるので、機械的な精度を確保するのが
困難であり、正確な測定ができない。そこで、本件出願
人は先に、特性Ｘ線とそのバックグラウンドとを、単一
の分光素子で分光し、単一の検出器の前に隣接して設け
た２つの受光スリットにそれぞれ焦点を結ばせて、この
２つの受光スリットを交互に開放することにより、検出
器や分光素子を移動させることなく、それぞれ測定しよ
うとする装置を提案した（特願平６−２９２３６１
号）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、この従来の
技術による装置では、弯曲分光素子を１つ用いただけで
あるので、測定対象元素が重元素であって特性Ｘ線とそ
のバックグラウンドとの回折角の差異が１度以内であれ
ば両方の強度測定が可能であるが、測定対象元素が窒素
等の超軽元素であって特性Ｘ線とそのバックグラウンド
との回折角の差異が１０度程度もあると、単一の分光素
子でこれら回折角を同時に満たすことはできないので、
両方の強度測定が不可能である。
技術による装置では、弯曲分光素子を１つ用いただけで
あるので、測定対象元素が重元素であって特性Ｘ線とそ
のバックグラウンドとの回折角の差異が１度以内であれ
ば両方の強度測定が可能であるが、測定対象元素が窒素
等の超軽元素であって特性Ｘ線とそのバックグラウンド
との回折角の差異が１０度程度もあると、単一の分光素
子でこれら回折角を同時に満たすことはできないので、
両方の強度測定が不可能である。
【０００４】本発明は、前記従来の問題に鑑みてなされ
たもので、試料から発生する測定対象の元素が窒素等の
超軽元素であっても、特性Ｘ線とそのバックグラウンド
について、検出器や分光素子を移動させることなく、正
確に測定できるＸ線分析装置を提供することを目的とす
る。
たもので、試料から発生する測定対象の元素が窒素等の
超軽元素であっても、特性Ｘ線とそのバックグラウンド
について、検出器や分光素子を移動させることなく、正
確に測定できるＸ線分析装置を提供することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項１のＸ線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ
線源と、１次Ｘ線が照射された試料から発生する２次Ｘ
線を通過させる発散スリットを有する発散スリット部材
と、前記発散スリット部材を通過した発散２次Ｘ線の通
路に互いに並列に配置された２枚の弯曲分光素子と、前
記２枚の弯曲分光素子でそれぞれ回折された測定対象の
元素からの特性Ｘ線とそのバックグラウンドを通過させ
る受光スリット装置と、前記受光スリット装置を通過し
た前記特性Ｘ線とそのバックグラウンドが入射される単
一の検出器とを備えており、前記受光スリット装置は、
前記特性Ｘ線とそのバックグラウンドの一方と他方をそ
れぞれ通過させる受光スリットを２つ開口した受光スリ
ット部材と、前記２つの受光スリットのいずれかを選択
的に開放して、前記特性Ｘ線とそのバックグラウンドと
のいずれかを前記検出器に入射させる選択開放手段とを
備えている。
に、請求項１のＸ線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ
線源と、１次Ｘ線が照射された試料から発生する２次Ｘ
線を通過させる発散スリットを有する発散スリット部材
と、前記発散スリット部材を通過した発散２次Ｘ線の通
路に互いに並列に配置された２枚の弯曲分光素子と、前
記２枚の弯曲分光素子でそれぞれ回折された測定対象の
元素からの特性Ｘ線とそのバックグラウンドを通過させ
る受光スリット装置と、前記受光スリット装置を通過し
た前記特性Ｘ線とそのバックグラウンドが入射される単
一の検出器とを備えており、前記受光スリット装置は、
前記特性Ｘ線とそのバックグラウンドの一方と他方をそ
れぞれ通過させる受光スリットを２つ開口した受光スリ
ット部材と、前記２つの受光スリットのいずれかを選択
的に開放して、前記特性Ｘ線とそのバックグラウンドと
のいずれかを前記検出器に入射させる選択開放手段とを
備えている。
【０００６】
【作用および効果】請求項１のＸ線分析装置では、試料
から発生する測定対象の元素からの特性Ｘ線とそのバッ
クグラウンドについて、それぞれに対応した２枚の弯曲
分光素子を用いて分光し、単一の検出器の前に隣接して
設けた２つの受光スリットにそれぞれ焦点を結ばせて、
この２つの受光スリットを交互に開放するので、測定対
象の元素が窒素等の超軽元素であっても、検出器や分光
素子を移動させることなく、正確に測定できる。
から発生する測定対象の元素からの特性Ｘ線とそのバッ
クグラウンドについて、それぞれに対応した２枚の弯曲
分光素子を用いて分光し、単一の検出器の前に隣接して
設けた２つの受光スリットにそれぞれ焦点を結ばせて、
この２つの受光スリットを交互に開放するので、測定対
象の元素が窒素等の超軽元素であっても、検出器や分光
素子を移動させることなく、正確に測定できる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面にしたがって説
明する。図１において、実施例のＸ線分析装置は、ま
ず、１次Ｘ線２を発生するＸ線源１と、試料台１９に取
り付けられ１次Ｘ線２を照射された試料３から発生する
２次Ｘ線５，６を通過させる発散スリットＰ1 ，Ｐ2 を
有する発散スリット部材４とを備えている。また、この
発散スリットＰ1 ，Ｐ2 を通過した２条の２次Ｘ線５，
６の通路にＸ線分光器２０を備えている。このＸ線分光
器２０は、発散スリットＰ1 ，Ｐ2 を通過した２条の２
次Ｘ線５，６のそれぞれの通路に互いに格子面１１，１
２が平行になるように配置され、２次Ｘ線５，６がそれ
ぞれ入射角度θ1 ，θ2 で入射されて、測定対象の元素
からの特性Ｘ線１４とそのバックグラウンド１５とをそ
れぞれ回折する人工格子からなる弯曲した第１および第
２分光素子７，８を備えている。
明する。図１において、実施例のＸ線分析装置は、ま
ず、１次Ｘ線２を発生するＸ線源１と、試料台１９に取
り付けられ１次Ｘ線２を照射された試料３から発生する
２次Ｘ線５，６を通過させる発散スリットＰ1 ，Ｐ2 を
有する発散スリット部材４とを備えている。また、この
発散スリットＰ1 ，Ｐ2 を通過した２条の２次Ｘ線５，
６の通路にＸ線分光器２０を備えている。このＸ線分光
器２０は、発散スリットＰ1 ，Ｐ2 を通過した２条の２
次Ｘ線５，６のそれぞれの通路に互いに格子面１１，１
２が平行になるように配置され、２次Ｘ線５，６がそれ
ぞれ入射角度θ1 ，θ2 で入射されて、測定対象の元素
からの特性Ｘ線１４とそのバックグラウンド１５とをそ
れぞれ回折する人工格子からなる弯曲した第１および第
２分光素子７，８を備えている。
【０００８】さらに、このＸ線分析装置は、弯曲分光素
子７，８で回折された特性Ｘ線１４とそのバックグラウ
ンド１５を通過させる受光スリット装置１６と、その受
光スリット装置１６を通過した特性Ｘ線１４とそのバッ
クグラウンド１５が入射される単一の検出器１７とを備
えている。ここで、受光スリット装置１６は、特性Ｘ線
１４とそのバックグラウンド１５の一方と他方をそれぞ
れ通過させる受光スリットＱ1 ，Ｑ2 を２つ開口した受
光スリット部材９と、２つの受光スリットＱ1，Ｑ2 の
いずれかを選択的に開放して、特性Ｘ線１４とそのバッ
クグラウンド１５とのいずれかを検出器１７に入射させ
る移動スリットＱ3 を開口した移動スリット部材１０と
を備えている。
子７，８で回折された特性Ｘ線１４とそのバックグラウ
ンド１５を通過させる受光スリット装置１６と、その受
光スリット装置１６を通過した特性Ｘ線１４とそのバッ
クグラウンド１５が入射される単一の検出器１７とを備
えている。ここで、受光スリット装置１６は、特性Ｘ線
１４とそのバックグラウンド１５の一方と他方をそれぞ
れ通過させる受光スリットＱ1 ，Ｑ2 を２つ開口した受
光スリット部材９と、２つの受光スリットＱ1，Ｑ2 の
いずれかを選択的に開放して、特性Ｘ線１４とそのバッ
クグラウンド１５とのいずれかを検出器１７に入射させ
る移動スリットＱ3 を開口した移動スリット部材１０と
を備えている。
【０００９】なお、前記入射角度θ2 は入射角度θ1 よ
りも大きいものとし、第１分光素子７の格子面間隔ｄ1
と第２分光素子８の格子面間隔ｄ2 とは、以下のような
関係がある。まず、ブラッグの条件から、分光しようと
する特性Ｘ線１４とそのバックグラウンド１５の波長を
それぞれλ1 ，λ2 とすると、 ２ｄ1 × sinθ1 ＝λ1 …（１） ２ｄ2 × sinθ2 ＝λ2 …（２） ここで、λ2 は、λ1 と回折角にして１度から１０度程
度の差異があり、λ1 より既知である。また、発散スリ
ットＰ1 ，Ｐ2 を通過した２条の２次Ｘ線５，６のなす
角度をφとし、その２次Ｘ線５，６の分光素子７，８へ
のそれぞれの入射点、すなわち分光素子７，８それぞれ
の下面中央の点Ａ，Ｂを通る格子面１１，１２に対する
法線１３を考えると、幾何学的な関係から、 θ1 ＝θ2 −φ …（３）
りも大きいものとし、第１分光素子７の格子面間隔ｄ1
と第２分光素子８の格子面間隔ｄ2 とは、以下のような
関係がある。まず、ブラッグの条件から、分光しようと
する特性Ｘ線１４とそのバックグラウンド１５の波長を
それぞれλ1 ，λ2 とすると、 ２ｄ1 × sinθ1 ＝λ1 …（１） ２ｄ2 × sinθ2 ＝λ2 …（２） ここで、λ2 は、λ1 と回折角にして１度から１０度程
度の差異があり、λ1 より既知である。また、発散スリ
ットＰ1 ，Ｐ2 を通過した２条の２次Ｘ線５，６のなす
角度をφとし、その２次Ｘ線５，６の分光素子７，８へ
のそれぞれの入射点、すなわち分光素子７，８それぞれ
の下面中央の点Ａ，Ｂを通る格子面１１，１２に対する
法線１３を考えると、幾何学的な関係から、 θ1 ＝θ2 −φ …（３）
【００１０】以上の関係から、以下のように、第１分光
素子７における格子面間隔ｄ1 および入射角度θ1 なら
びに第２分光素子８における格子面間隔ｄ2 および入射
角度θ2 を適切に設定できる。仮にある格子面間隔ｄ1
の第１分光素子７を採用したとすると、第１分光素子７
における入射角度θ1 は、分光しようとする特性Ｘ線１
４の波長λ1 から、（１）式を変形した次の（４）式で
決定される。 θ1 ＝ sin-1（λ1 ／２ｄ1 ） …（４） 第１分光素子７における入射角度θ1 が決定されると、
第２分光素子８における入射角度θ2 は、発散スリット
Ｐ1 ，Ｐ2 を通過した２条の２次Ｘ線５，６のなす角度
φを決めれば、（３）式を変形した次の（５）式で決定
される。 θ2 ＝θ1 ＋φ …（５）
素子７における格子面間隔ｄ1 および入射角度θ1 なら
びに第２分光素子８における格子面間隔ｄ2 および入射
角度θ2 を適切に設定できる。仮にある格子面間隔ｄ1
の第１分光素子７を採用したとすると、第１分光素子７
における入射角度θ1 は、分光しようとする特性Ｘ線１
４の波長λ1 から、（１）式を変形した次の（４）式で
決定される。 θ1 ＝ sin-1（λ1 ／２ｄ1 ） …（４） 第１分光素子７における入射角度θ1 が決定されると、
第２分光素子８における入射角度θ2 は、発散スリット
Ｐ1 ，Ｐ2 を通過した２条の２次Ｘ線５，６のなす角度
φを決めれば、（３）式を変形した次の（５）式で決定
される。 θ2 ＝θ1 ＋φ …（５）
【００１１】第２分光素子８における入射角度θ2 が決
定されると、第２分光素子８の格子面間隔ｄ2 は、
（２）式を変形した次の（６）式で決定される。 ｄ2 ＝λ2 ／２ sinθ2 …（６） ここで、第１分光素子７の格子面間隔ｄ1 と第２分光素
子８の格子面間隔ｄ2 は、式（１）から（６）を満たす
ものであれば、必ずしも異なるとは限らず、同一とする
こともできる。
定されると、第２分光素子８の格子面間隔ｄ2 は、
（２）式を変形した次の（６）式で決定される。 ｄ2 ＝λ2 ／２ sinθ2 …（６） ここで、第１分光素子７の格子面間隔ｄ1 と第２分光素
子８の格子面間隔ｄ2 は、式（１）から（６）を満たす
ものであれば、必ずしも異なるとは限らず、同一とする
こともできる。
【００１２】なお、本実施例では、湾曲した分光素子
７，８を用いるので、例えば、発散スリットＰ1 を通過
した一方の２次Ｘ線５は、第１分光素子７の下面への入
射点に係わらず、下面中央の点Ａでなくても同様に入射
角度θ1 をもって回折する。すなわち、図１において
は、簡単のため、発散スリットＰ1 を通過した一方の２
次Ｘ線５については、第１分光素子７の下面中央の点Ａ
に入射する２次Ｘ線５を代表例として図示したが、実際
には発散スリットＰ1 から第１分光素子７の下面全体へ
広がる２次Ｘ線である。
７，８を用いるので、例えば、発散スリットＰ1 を通過
した一方の２次Ｘ線５は、第１分光素子７の下面への入
射点に係わらず、下面中央の点Ａでなくても同様に入射
角度θ1 をもって回折する。すなわち、図１において
は、簡単のため、発散スリットＰ1 を通過した一方の２
次Ｘ線５については、第１分光素子７の下面中央の点Ａ
に入射する２次Ｘ線５を代表例として図示したが、実際
には発散スリットＰ1 から第１分光素子７の下面全体へ
広がる２次Ｘ線である。
【００１３】回折された特性Ｘ線１４についても、第１
分光素子７の下面中央の点Ａから受光スリットＱ1 に入
射する特性Ｘ線１４を代表例として図示したが、実際に
は、第１分光素子７の下面全体から、受光スリットＱ1
に集束する特性Ｘ線である。この状況は、第２分光素子
８に入射する他方の２次Ｘ線６および回折されたバック
グラウンド１５についても同様である。
分光素子７の下面中央の点Ａから受光スリットＱ1 に入
射する特性Ｘ線１４を代表例として図示したが、実際に
は、第１分光素子７の下面全体から、受光スリットＱ1
に集束する特性Ｘ線である。この状況は、第２分光素子
８に入射する他方の２次Ｘ線６および回折されたバック
グラウンド１５についても同様である。
【００１４】次に、第１実施例の作用について説明す
る。今、この装置を用いて試料３に含まれるある元素の
特性Ｘ線の強度Ｉを測定するものとする。Ｘ線源１から
発生した１次Ｘ線２が試料３に照射され、試料３から発
生した２次Ｘ線５は発散スリットＰ1 を通って発散角が
制御された状態で発散し、分光素子７に入射されて、所
望の特性Ｘ線１４に分光され、受光スリットＱ1 で焦点
を結び、移動スリットＱ3 を通過して、検出器１７へ入
射され、その強度Ｉm が測定される。この測定強度Ｉm
には、実際には求めようとする特性Ｘ線の真の強度Ｉの
他に、バックグラウンド強度Ｉb が含まれている。
る。今、この装置を用いて試料３に含まれるある元素の
特性Ｘ線の強度Ｉを測定するものとする。Ｘ線源１から
発生した１次Ｘ線２が試料３に照射され、試料３から発
生した２次Ｘ線５は発散スリットＰ1 を通って発散角が
制御された状態で発散し、分光素子７に入射されて、所
望の特性Ｘ線１４に分光され、受光スリットＱ1 で焦点
を結び、移動スリットＱ3 を通過して、検出器１７へ入
射され、その強度Ｉm が測定される。この測定強度Ｉm
には、実際には求めようとする特性Ｘ線の真の強度Ｉの
他に、バックグラウンド強度Ｉb が含まれている。
【００１５】一方、特性Ｘ線１４と回折角にして１度か
ら１０度程度波長の異なるバックグラウンドの２次Ｘ線
１５が、特性Ｘ線１４と同様に、試料３から発生し、発
散スリットＰ2 を通って発散角が制御された状態で発散
し、分光素子８で分光され、受光スリットＱ2 で焦点を
結んでいるが、移動スリット部材１０によって検出器１
７への入射を遮断されている。ここで、移動スリットＱ
3 が受光スリットＱ2の背後にくるよう移動スリット部
材１０を移動させると、バックグラウンド１５が検出器
１７へ入射されてその強度Ｉb が測定され、特性Ｘ線１
４は遮断される。前記特性Ｘ線１４の測定強度Ｉm か
ら、このバックグラウンド強度Ｉb を差し引くことによ
り、特性Ｘ線の真の強度Ｉが求められる。ここで、検出
器１７を単一としたのは、２つにしてそれぞれで特性Ｘ
線１４の測定強度Ｉm とバックグラウンド強度Ｉb とを
測定すると、検出器の検出特性の差によって正確な特性
Ｘ線の真の強度Ｉが求められないからである。
ら１０度程度波長の異なるバックグラウンドの２次Ｘ線
１５が、特性Ｘ線１４と同様に、試料３から発生し、発
散スリットＰ2 を通って発散角が制御された状態で発散
し、分光素子８で分光され、受光スリットＱ2 で焦点を
結んでいるが、移動スリット部材１０によって検出器１
７への入射を遮断されている。ここで、移動スリットＱ
3 が受光スリットＱ2の背後にくるよう移動スリット部
材１０を移動させると、バックグラウンド１５が検出器
１７へ入射されてその強度Ｉb が測定され、特性Ｘ線１
４は遮断される。前記特性Ｘ線１４の測定強度Ｉm か
ら、このバックグラウンド強度Ｉb を差し引くことによ
り、特性Ｘ線の真の強度Ｉが求められる。ここで、検出
器１７を単一としたのは、２つにしてそれぞれで特性Ｘ
線１４の測定強度Ｉm とバックグラウンド強度Ｉb とを
測定すると、検出器の検出特性の差によって正確な特性
Ｘ線の真の強度Ｉが求められないからである。
【００１６】以上のように、本実施例のＸ線分析装置で
は、試料３から発生する測定対象の元素からの特性Ｘ線
１４とそのバックグラウンド１５について、それぞれに
対応した２枚の弯曲分光素子７，８を用いて分光し、単
一の検出器１７の前に隣接して設けた２つの受光スリッ
トＱ1 ，Ｑ2 にそれぞれ焦点を結ばせて、この２つの受
光スリットＱ1 ，Ｑ2 を交互に開放するので、測定対象
の元素が窒素等の超軽元素であっても、検出器１７や分
光素子７，８を移動させることなく、正確に測定でき
る。
は、試料３から発生する測定対象の元素からの特性Ｘ線
１４とそのバックグラウンド１５について、それぞれに
対応した２枚の弯曲分光素子７，８を用いて分光し、単
一の検出器１７の前に隣接して設けた２つの受光スリッ
トＱ1 ，Ｑ2 にそれぞれ焦点を結ばせて、この２つの受
光スリットＱ1 ，Ｑ2 を交互に開放するので、測定対象
の元素が窒素等の超軽元素であっても、検出器１７や分
光素子７，８を移動させることなく、正確に測定でき
る。
【００１７】なお、本実施例では、図１において、格子
面１１，１２は平行で、より小さい入射角度θ1 で２次
Ｘ線５が入射される第１分光素子７で特性Ｘ線１４を回
折させ、より大きい入射角度θ2 で２次Ｘ線６が入射さ
れる第２分光素子８でバックグラウンド１５を回折させ
たが、その逆でもよく、格子面１１，１２が平行である
必要もない。また、例えば、第１分光素子７の下面中央
の点Ａから出た特性Ｘ線１４が、上側の受光スリットＱ
2 に入射し、第２分光素子８の下面中央の点Ｂから出た
バックグラウンド１５が、下側の受光スリットＱ1 に入
射するように配置することもできる。さらに、発散スリ
ットＰ1 ，Ｐ2 を１つだけとすることもできる。１次Ｘ
線２の試料３への入射点は、実際には１点Ｏのみでな
く、試料３の表面に分布しており、異なった入射点から
発生した２次Ｘ線を発散スリット部材４に設けた単一の
発散スリットを通過させることにより、本実施例と同様
に、２条の２次Ｘ線５，６をそれぞれ分光素子７，８へ
入射させることができるからである。
面１１，１２は平行で、より小さい入射角度θ1 で２次
Ｘ線５が入射される第１分光素子７で特性Ｘ線１４を回
折させ、より大きい入射角度θ2 で２次Ｘ線６が入射さ
れる第２分光素子８でバックグラウンド１５を回折させ
たが、その逆でもよく、格子面１１，１２が平行である
必要もない。また、例えば、第１分光素子７の下面中央
の点Ａから出た特性Ｘ線１４が、上側の受光スリットＱ
2 に入射し、第２分光素子８の下面中央の点Ｂから出た
バックグラウンド１５が、下側の受光スリットＱ1 に入
射するように配置することもできる。さらに、発散スリ
ットＰ1 ，Ｐ2 を１つだけとすることもできる。１次Ｘ
線２の試料３への入射点は、実際には１点Ｏのみでな
く、試料３の表面に分布しており、異なった入射点から
発生した２次Ｘ線を発散スリット部材４に設けた単一の
発散スリットを通過させることにより、本実施例と同様
に、２条の２次Ｘ線５，６をそれぞれ分光素子７，８へ
入射させることができるからである。
【図１】本発明の一実施例を示す側面図である。
１…Ｘ線源、２…１次Ｘ線、３…試料、４…発散スリッ
ト部材、５，６…試料から発生する２次Ｘ線、７，８…
分光素子、９…受光スリット部材、１０…選択開放手
段、１４…特性Ｘ線、１５…バックグラウンド、１６…
受光スリット装置、１７…検出器、Ｐ1 ，Ｐ2 …発散ス
リット、Ｑ1 ，Ｑ2 …受光スリット。
ト部材、５，６…試料から発生する２次Ｘ線、７，８…
分光素子、９…受光スリット部材、１０…選択開放手
段、１４…特性Ｘ線、１５…バックグラウンド、１６…
受光スリット装置、１７…検出器、Ｐ1 ，Ｐ2 …発散ス
リット、Ｑ1 ，Ｑ2 …受光スリット。
Claims (1)
- 【請求項１】 １次Ｘ線を発生するＸ線源と、 １次Ｘ線が照射された試料から発生する２次Ｘ線を通過
させる発散スリットを有する発散スリット部材と、 前記発散スリット部材を通過した発散２次Ｘ線の通路に
互いに並列に配置された２枚の弯曲分光素子と、 前記２枚の弯曲分光素子でそれぞれ回折された測定対象
の元素からの特性Ｘ線とそのバックグラウンドを通過さ
せる受光スリット装置と、 前記受光スリット装置を通過した前記特性Ｘ線とそのバ
ックグラウンドが入射される単一の検出器とを備え、 前記受光スリット装置は、前記特性Ｘ線とそのバックグ
ラウンドの一方と他方をそれぞれ通過させる受光スリッ
トを２つ開口した受光スリット部材と、前記２つの受光
スリットのいずれかを選択的に開放して、前記特性Ｘ線
とそのバックグラウンドとのいずれかを前記検出器に入
射させる選択開放手段とを備えたＸ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03447895A JP3411705B2 (ja) | 1995-01-30 | 1995-01-30 | Ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03447895A JP3411705B2 (ja) | 1995-01-30 | 1995-01-30 | Ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08201320A true JPH08201320A (ja) | 1996-08-09 |
| JP3411705B2 JP3411705B2 (ja) | 2003-06-03 |
Family
ID=12415366
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03447895A Expired - Fee Related JP3411705B2 (ja) | 1995-01-30 | 1995-01-30 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3411705B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19820861A1 (de) * | 1998-05-09 | 1999-11-25 | Bruker Axs Analytical X Ray Sy | Simultanes Röntgenfluoreszenz-Spektrometer |
| JP2003014894A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Rigaku Corp | Ｘ線分光方法及びｘ線分光装置 |
| WO2004086018A1 (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-07 | Rigaku Industrial Corporation | 蛍光ｘ線分析装置 |
| JP2010117369A (ja) * | 2010-02-21 | 2010-05-27 | Rigaku Corp | Ｘ線分光方法及びｘ線分光装置 |
| JP2013137273A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Techno X Co Ltd | 蛍光ｘ線分光装置及び蛍光ｘ線分析装置 |
-
1995
- 1995-01-30 JP JP03447895A patent/JP3411705B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| JPWO2004086018A1 (ja) * | 2003-03-27 | 2006-06-29 | 理学電機工業株式会社 | 蛍光ｘ線分析装置 |
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| JP2013137273A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Techno X Co Ltd | 蛍光ｘ線分光装置及び蛍光ｘ線分析装置 |
| US9448191B2 (en) | 2011-12-28 | 2016-09-20 | Techno-X Co., Ltd. | X-ray fluorescence spectrometer and X-ray fluorescence analyzer |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3411705B2 (ja) | 2003-06-03 |
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