JPH1154653A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPH1154653A JPH1154653A JP21291597A JP21291597A JPH1154653A JP H1154653 A JPH1154653 A JP H1154653A JP 21291597 A JP21291597 A JP 21291597A JP 21291597 A JP21291597 A JP 21291597A JP H1154653 A JPH1154653 A JP H1154653A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor element
- sheet
- main surface
- adhesive member
- semiconductor device
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/012—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】TAB用テープ部材を用いたCSP型半導体装
置の外部端子となるはんだバンプあるいは導電性リード
の破壊,接着部材と封止部材の界面はく離、および半導
体素子の割れを防止し、信頼性の高い半導体装置を提供
する。 【解決手段】半導体素子の電極部分を封止する封止部材
の弾性係数を、TAB用テープ部材を接着する接着部材
の弾性係数と同等かそれ以下とする。
置の外部端子となるはんだバンプあるいは導電性リード
の破壊,接着部材と封止部材の界面はく離、および半導
体素子の割れを防止し、信頼性の高い半導体装置を提供
する。 【解決手段】半導体素子の電極部分を封止する封止部材
の弾性係数を、TAB用テープ部材を接着する接着部材
の弾性係数と同等かそれ以下とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子の電極
と外部端子を電気的に接続する導電部材を備えたシート
状部材を用いた半導体装置であって、外部端子を半導体
素子の主表面の面内に設け、かつパッケージの外形寸法
が半導体素子の外形寸法に極めて近い小型の半導体装置
に関する。
と外部端子を電気的に接続する導電部材を備えたシート
状部材を用いた半導体装置であって、外部端子を半導体
素子の主表面の面内に設け、かつパッケージの外形寸法
が半導体素子の外形寸法に極めて近い小型の半導体装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の高密度実装化に対応するた
め、多ピン化および外部端子ピッチの縮小化が容易な絶
縁性のテープまたはフィルムからなる基材に導電性リー
ドを形成したシート状部材を使用して、半導体素子の電
極と実装基板に接続するための外部端子との電気的接続
を行うTAB(テープ・オートメイティド・ボンディン
グ)技術を応用した半導体装置が開発されている。これ
らの例が特開平8−31866号公報,特開平8−88243号公
報,特開平8−88245号公報、および特開平8−31869号公
報に開示されている。
め、多ピン化および外部端子ピッチの縮小化が容易な絶
縁性のテープまたはフィルムからなる基材に導電性リー
ドを形成したシート状部材を使用して、半導体素子の電
極と実装基板に接続するための外部端子との電気的接続
を行うTAB(テープ・オートメイティド・ボンディン
グ)技術を応用した半導体装置が開発されている。これ
らの例が特開平8−31866号公報,特開平8−88243号公
報,特開平8−88245号公報、および特開平8−31869号公
報に開示されている。
【0003】これら従来技術による半導体装置は、電極
が形成された半導体素子と、フィルム基材に導電性のリ
ードが形成されたシート状部材と、少なくとも半導体素
子の主表面とフィルム基材から露出した導電性リードを
覆う封止部材と、外部端子とからなる。半導体素子の電
極は半導体素子表面の周辺部に配置されており、シート
状部材は半導体素子の電極より外方にあって導電性リー
ドの一端が電極と接続されている。導電性リードの他方
の一端には球状はんだからなる外部端子が設けられてい
る。外部端子は半導体素子の主表面の面外に設けられて
いるため、半導体装置のパッケージサイズは半導体素子
のサイズより大きくなっている。
が形成された半導体素子と、フィルム基材に導電性のリ
ードが形成されたシート状部材と、少なくとも半導体素
子の主表面とフィルム基材から露出した導電性リードを
覆う封止部材と、外部端子とからなる。半導体素子の電
極は半導体素子表面の周辺部に配置されており、シート
状部材は半導体素子の電極より外方にあって導電性リー
ドの一端が電極と接続されている。導電性リードの他方
の一端には球状はんだからなる外部端子が設けられてい
る。外部端子は半導体素子の主表面の面外に設けられて
いるため、半導体装置のパッケージサイズは半導体素子
のサイズより大きくなっている。
【0004】一方、半導体装置を搭載する機器の小型化
を図るため、半導体装置のパッケージサイズを半導体素
子のサイズに近づけようとする傾向が顕著になってい
る。これらのパッケージは一般にCSP(チップサイズ
パッケージまたはチップスケールパッケージの略称)と
呼ばれている。上記したフィルム基材に導電性リードを
形成したシート状部材を用いるTAB技術を応用したC
SPの例として、特表平6−504408号公報,特開平7−29
7236号公報、および特開平8−8296 号公報がある。
を図るため、半導体装置のパッケージサイズを半導体素
子のサイズに近づけようとする傾向が顕著になってい
る。これらのパッケージは一般にCSP(チップサイズ
パッケージまたはチップスケールパッケージの略称)と
呼ばれている。上記したフィルム基材に導電性リードを
形成したシート状部材を用いるTAB技術を応用したC
SPの例として、特表平6−504408号公報,特開平7−29
7236号公報、および特開平8−8296 号公報がある。
【0005】これら従来技術による半導体装置では、フ
ィルム基材に導電性のリードが形成されたシート状部材
が半導体素子表面に接着部材によって接着され、外部端
子が半導体素子の主表面の面内に設けられており、パッ
ケージサイズがほぼ半導体素子のサイズと等しくなって
いる。
ィルム基材に導電性のリードが形成されたシート状部材
が半導体素子表面に接着部材によって接着され、外部端
子が半導体素子の主表面の面内に設けられており、パッ
ケージサイズがほぼ半導体素子のサイズと等しくなって
いる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記外部端子が半導体
素子主表面内に配置されるCSPの従来技術では、外部
端子にはんだなどの金属バンプが用いられ、プリント回
路基板に接続される。このような構造のCSPで問題と
なるのは、はんだバンプの接続信頼性である。半導体素
子(シリコン(Si))の線膨張係数は3×10-6/℃
程度であり、最も一般的に使用されるガラスエポキシ樹
脂系のプリント回路基板(FR−4など)の線膨張係数
は約17×10-6/℃である。このように両者の線膨張
係数が大きく異なるような場合、半導体装置に温度変化
が加えられるとはんだバンプにひずみが生じ、これが繰
り返されることによってはんだバンプが熱疲労破壊する
ことがある。
素子主表面内に配置されるCSPの従来技術では、外部
端子にはんだなどの金属バンプが用いられ、プリント回
路基板に接続される。このような構造のCSPで問題と
なるのは、はんだバンプの接続信頼性である。半導体素
子(シリコン(Si))の線膨張係数は3×10-6/℃
程度であり、最も一般的に使用されるガラスエポキシ樹
脂系のプリント回路基板(FR−4など)の線膨張係数
は約17×10-6/℃である。このように両者の線膨張
係数が大きく異なるような場合、半導体装置に温度変化
が加えられるとはんだバンプにひずみが生じ、これが繰
り返されることによってはんだバンプが熱疲労破壊する
ことがある。
【0007】はんだバンプの熱疲労破壊に対して最も考
慮され、信頼性が高いと考えられる従来の半導体装置
は、特表平6−504408 号公報に記載された半導体装置で
ある。この半導体装置では、半導体素子の主表面に柔軟
材(例えばエラストマ樹脂:常温でゴム状弾性を有する
高分子物質)からなる接着部材を介してシート状部材を
接着している。また、封止部材にも同程度の材料を使用
している。このため、半導体素子とプリント回路基板の
線膨張係数差が柔軟なエラストマ樹脂である接着部材に
よって吸収され、その結果はんだバンプに加わる熱ひず
みが小さくなる。
慮され、信頼性が高いと考えられる従来の半導体装置
は、特表平6−504408 号公報に記載された半導体装置で
ある。この半導体装置では、半導体素子の主表面に柔軟
材(例えばエラストマ樹脂:常温でゴム状弾性を有する
高分子物質)からなる接着部材を介してシート状部材を
接着している。また、封止部材にも同程度の材料を使用
している。このため、半導体素子とプリント回路基板の
線膨張係数差が柔軟なエラストマ樹脂である接着部材に
よって吸収され、その結果はんだバンプに加わる熱ひず
みが小さくなる。
【0008】ところが、上記従来構造の半導体装置で
は、シート状部材に形成されている導電性リードにエラ
ストマ樹脂の変形が加わるため、リード自体あるいはリ
ードと半導体素子の電極との接合部にひずみが生じ、こ
れが繰り返されることによってリードあるいはリード接
合部が疲労破壊する問題がある。すなわち上記従来技術
ではリード部分の疲労破壊に対して考慮されておらず、
はんだバンプの信頼性が十分であってもリード部分が疲
労破壊し、結局は半導体装置の信頼性を著しく低下させ
る可能性が大きい。
は、シート状部材に形成されている導電性リードにエラ
ストマ樹脂の変形が加わるため、リード自体あるいはリ
ードと半導体素子の電極との接合部にひずみが生じ、こ
れが繰り返されることによってリードあるいはリード接
合部が疲労破壊する問題がある。すなわち上記従来技術
ではリード部分の疲労破壊に対して考慮されておらず、
はんだバンプの信頼性が十分であってもリード部分が疲
労破壊し、結局は半導体装置の信頼性を著しく低下させ
る可能性が大きい。
【0009】特開平8−8296 号公報に記載されている半
導体装置では、半導体素子の主表面の電極部分を除くほ
ぼ全面が封止樹脂により封止されている。通常封止部材
にはエポキシ系樹脂を主成分とする液状樹脂(ポッティ
ング樹脂)が使用されており、この樹脂の縦弾性係数は
7000MPa〜10000MPa程度である。この半
導体装置では外部端子の周囲が弾性係数の大きな封止樹
脂で覆われているため、封止樹脂が半導体素子とプリン
ト回路基板の線膨張係数差を吸収することができず、外
部端子に大きな熱ひずみが発生し、熱疲労破壊が起こる
問題がある。
導体装置では、半導体素子の主表面の電極部分を除くほ
ぼ全面が封止樹脂により封止されている。通常封止部材
にはエポキシ系樹脂を主成分とする液状樹脂(ポッティ
ング樹脂)が使用されており、この樹脂の縦弾性係数は
7000MPa〜10000MPa程度である。この半
導体装置では外部端子の周囲が弾性係数の大きな封止樹
脂で覆われているため、封止樹脂が半導体素子とプリン
ト回路基板の線膨張係数差を吸収することができず、外
部端子に大きな熱ひずみが発生し、熱疲労破壊が起こる
問題がある。
【0010】また、特開平7−297236 号公報に記載され
ている半導体装置では、半導体素子の電極が半導体素子
表面の周辺部に設けられている。本従来技術では、電極
部分の封止については開示されていないが、通常封止部
材には上記したように縦弾性係数の大きな材料が用いら
れる。また、はんだバンプの熱疲労寿命を向上するため
に、シート状部材を半導体素子表面に接着する接着部材
には特表平6−504408号公報のようにエラストマ樹脂を
使用することが考えられる。一般にエラストマ樹脂は縦
弾性係数が小さい反面、線膨張係数が大きくなってい
る。このような構成の半導体装置が温度変化を受ける場
合、その冷却過程において、線膨張係数の大きなエラス
トマ樹脂を使用している接着部材の収縮量が大きくなる
が、半導体素子の周辺部に配置されている封止部材は縦
弾性係数がエラストマ樹脂より大きいことから、エラス
トマ樹脂の変形に追従することができない。その結果、
接着部材と封止部材の界面に大きなひずみが発生し、両
者の界面にはく離を引き起こすようになる。界面はく離
の発生は、導電性リードの腐食,半導体素子表面への水
分浸入による電極の腐食、あるいはシート状部材から突
出した導電性リードの断線といった問題を引き起こす可
能性を大きくする。
ている半導体装置では、半導体素子の電極が半導体素子
表面の周辺部に設けられている。本従来技術では、電極
部分の封止については開示されていないが、通常封止部
材には上記したように縦弾性係数の大きな材料が用いら
れる。また、はんだバンプの熱疲労寿命を向上するため
に、シート状部材を半導体素子表面に接着する接着部材
には特表平6−504408号公報のようにエラストマ樹脂を
使用することが考えられる。一般にエラストマ樹脂は縦
弾性係数が小さい反面、線膨張係数が大きくなってい
る。このような構成の半導体装置が温度変化を受ける場
合、その冷却過程において、線膨張係数の大きなエラス
トマ樹脂を使用している接着部材の収縮量が大きくなる
が、半導体素子の周辺部に配置されている封止部材は縦
弾性係数がエラストマ樹脂より大きいことから、エラス
トマ樹脂の変形に追従することができない。その結果、
接着部材と封止部材の界面に大きなひずみが発生し、両
者の界面にはく離を引き起こすようになる。界面はく離
の発生は、導電性リードの腐食,半導体素子表面への水
分浸入による電極の腐食、あるいはシート状部材から突
出した導電性リードの断線といった問題を引き起こす可
能性を大きくする。
【0011】また、TAB技術を応用したCSP型半導
体装置では、半導体装置の主表面にシート状部材やシー
ト状部材を接着する接着部材、および封止部材が設けら
れた構成となっている。半導体素子の線膨張係数に比べ
て、シート状部材,接着部材および封止部材の線膨張係
数が大きいことから、このような構成の半導体装置で
は、温度変化によって線膨張係数差に起因する反りが発
生するようになる。特表平6−504408 号公報に記載され
た半導体装置のように接着部材および封止部材に低弾性
係数の材料を使用している場合は、接着部材自体の変形
により線膨張係数差を吸収するため反りの発生を抑制す
ることができる。しかし、半導体素子の周辺部が弾性係
数の大きな封止部材で覆われていると、線膨張係数差を
十分に吸収することができず反りの発生を抑制すること
ができない。そのため、半導体素子の主表面の端部に大
きな応力が発生するようになり、この部分から半導体素
子の割れが発生する問題が生じる。
体装置では、半導体装置の主表面にシート状部材やシー
ト状部材を接着する接着部材、および封止部材が設けら
れた構成となっている。半導体素子の線膨張係数に比べ
て、シート状部材,接着部材および封止部材の線膨張係
数が大きいことから、このような構成の半導体装置で
は、温度変化によって線膨張係数差に起因する反りが発
生するようになる。特表平6−504408 号公報に記載され
た半導体装置のように接着部材および封止部材に低弾性
係数の材料を使用している場合は、接着部材自体の変形
により線膨張係数差を吸収するため反りの発生を抑制す
ることができる。しかし、半導体素子の周辺部が弾性係
数の大きな封止部材で覆われていると、線膨張係数差を
十分に吸収することができず反りの発生を抑制すること
ができない。そのため、半導体素子の主表面の端部に大
きな応力が発生するようになり、この部分から半導体素
子の割れが発生する問題が生じる。
【0012】以上述べたように、従来のTAB技術を応
用したCSP型半導体装置では、外部端子であるはんだ
バンプあるいは導電性リードの疲労破壊の発生,接着部
材と封止部材界面のはく離、または半導体素子の割れの
いずれかの問題が発生し、全体として十分な信頼性を得
ることができなかった。
用したCSP型半導体装置では、外部端子であるはんだ
バンプあるいは導電性リードの疲労破壊の発生,接着部
材と封止部材界面のはく離、または半導体素子の割れの
いずれかの問題が発生し、全体として十分な信頼性を得
ることができなかった。
【0013】本発明の目的は、従来のCSP型半導体装
置の問題を克服し、信頼性の高いCSP型半導体装置を
提供することにある。
置の問題を克服し、信頼性の高いCSP型半導体装置を
提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記目的を
達成するため、以下の手段を採用する。
達成するため、以下の手段を採用する。
【0015】(1)本願の発明の特徴は、回路が形成さ
れた方形の主表面を有し、該主表面外周部の少なくとも
1辺に電極が形成された半導体素子と、外部端子と、前
記電極と外部端子を電気的に接続する導電部材を備えた
シート状部材と、シート状部材を半導体素子主表面に接
着するための接着部材と、前記半導体素子主表面の外周
部分であって、該半導体素子の主表面と前記接着部材側
面および前記シート状部材の側面とを封止する前記接着
部材の弾性係数と同等もしくはそれ以下の弾性係数であ
る柔軟材からなる封止部材と、によって半導体装置を構
成したことである。
れた方形の主表面を有し、該主表面外周部の少なくとも
1辺に電極が形成された半導体素子と、外部端子と、前
記電極と外部端子を電気的に接続する導電部材を備えた
シート状部材と、シート状部材を半導体素子主表面に接
着するための接着部材と、前記半導体素子主表面の外周
部分であって、該半導体素子の主表面と前記接着部材側
面および前記シート状部材の側面とを封止する前記接着
部材の弾性係数と同等もしくはそれ以下の弾性係数であ
る柔軟材からなる封止部材と、によって半導体装置を構
成したことである。
【0016】また、回路が形成された方形の主表面を有
し、該主表面外周部の少なくとも1辺に電極が形成され
た半導体素子と、外部端子と、前記電極と外部端子を電
気的に接続する導電部材を備えたシート状部材と、前記
シート状部材を半導体素子主表面に接着し、前記半導体
素子主表面の外周端から離れて形成された接着部材と、
前記半導体素子主表面の外周部分と前記接着部材側面お
よび前記シート状部材の側面とを封止する前記接着部材
の弾性係数と同等もしくはそれ以下の弾性係数である柔
軟材からなる封止部材と、によって半導体装置を構成し
たことである。
し、該主表面外周部の少なくとも1辺に電極が形成され
た半導体素子と、外部端子と、前記電極と外部端子を電
気的に接続する導電部材を備えたシート状部材と、前記
シート状部材を半導体素子主表面に接着し、前記半導体
素子主表面の外周端から離れて形成された接着部材と、
前記半導体素子主表面の外周部分と前記接着部材側面お
よび前記シート状部材の側面とを封止する前記接着部材
の弾性係数と同等もしくはそれ以下の弾性係数である柔
軟材からなる封止部材と、によって半導体装置を構成し
たことである。
【0017】本発明では、半導体素子の主表面と前記接
着部材側面および前記シート状部材側面とを覆う封止部
材に接着部材と同等もしくはそれより小さな弾性係数で
ある柔軟材を用いることによって、熱変化による接着部
材の変形に封止部材が追従することができ、接着部材と
封止部材の界面はく離の発生を防止することができる。
また、接着部材および封止部材の熱収縮を封止部材自体
の変形で吸収することができる。
着部材側面および前記シート状部材側面とを覆う封止部
材に接着部材と同等もしくはそれより小さな弾性係数で
ある柔軟材を用いることによって、熱変化による接着部
材の変形に封止部材が追従することができ、接着部材と
封止部材の界面はく離の発生を防止することができる。
また、接着部材および封止部材の熱収縮を封止部材自体
の変形で吸収することができる。
【0018】本発明に用いる接着部材の室温における縦
弾性係数は70MPa以上,4000MPa以下にするのが
望ましい。これによって、外部端子となるはんだバンプ
およびシート状部材に形成される導電性リードの信頼性
を確保することができる。
弾性係数は70MPa以上,4000MPa以下にするのが
望ましい。これによって、外部端子となるはんだバンプ
およびシート状部材に形成される導電性リードの信頼性
を確保することができる。
【0019】上記したように接着部材にエラストマ樹脂
のような低弾性係数の材料を使用すると、シート状部材
に形成されている導電性リードに発生するひずみが大き
くなり、疲労破壊する可能性が増大する。図13は半導
体装置に温度変化が加わった場合に導電性リードに発生
するひずみを接着部材の室温における縦弾性係数を変え
てシミュレーションで求め、導電性リード材料の疲労強
度データから寿命を算出した結果である。シミュレーシ
ョンした半導体装置の半導体素子のサイズは6.6×9.
0×0.28mm ,接着部材の厚さ150μmである。導
電性リード材料には銅(Cu)を用いている。縦弾性係
数が最も小さい材料(シリコーン樹脂)を接着部材に使用
した半導体装置パッケージの温度サイクル試験(125
℃と−55℃の繰り返し)では、500回から1500
回の間で導電性リードの断線が発生した。上記温度サイ
クル試験では最低1000回の寿命が確保できれば実機
において信頼性上の問題が発生しない。しかしながら強
度のばらつき等を考慮する必要があるため、平均して2
000回の寿命を有することが必要であり、図13の結
果から接着部材の縦弾性係数を70MPa以上にするこ
とにより達成できることがわかる。
のような低弾性係数の材料を使用すると、シート状部材
に形成されている導電性リードに発生するひずみが大き
くなり、疲労破壊する可能性が増大する。図13は半導
体装置に温度変化が加わった場合に導電性リードに発生
するひずみを接着部材の室温における縦弾性係数を変え
てシミュレーションで求め、導電性リード材料の疲労強
度データから寿命を算出した結果である。シミュレーシ
ョンした半導体装置の半導体素子のサイズは6.6×9.
0×0.28mm ,接着部材の厚さ150μmである。導
電性リード材料には銅(Cu)を用いている。縦弾性係
数が最も小さい材料(シリコーン樹脂)を接着部材に使用
した半導体装置パッケージの温度サイクル試験(125
℃と−55℃の繰り返し)では、500回から1500
回の間で導電性リードの断線が発生した。上記温度サイ
クル試験では最低1000回の寿命が確保できれば実機
において信頼性上の問題が発生しない。しかしながら強
度のばらつき等を考慮する必要があるため、平均して2
000回の寿命を有することが必要であり、図13の結
果から接着部材の縦弾性係数を70MPa以上にするこ
とにより達成できることがわかる。
【0020】一方、接着部材の弾性係数を大きくしてい
くと外部端子となるはんだバンプに発生するひずみが大
きくなり、はんだバンプの信頼性が損なわれる問題が起
きる。図14は、はんだバンプに発生するひずみを接着
部材の室温における縦弾性係数を変えてシミュレーショ
ンで求め、はんだ材料の疲労強度データから寿命を算出
した結果である。図14のシミュレーションは、外部端
子となるはんだバンプに直径0.3mm 相当の球状はんだ
を使用した場合の結果である。上記したように強度のば
らつき等を考慮して2000回の寿命を確保するために
は、接着部材の縦弾性係数を4000MPa以下にする
必要のあることがわかる。
くと外部端子となるはんだバンプに発生するひずみが大
きくなり、はんだバンプの信頼性が損なわれる問題が起
きる。図14は、はんだバンプに発生するひずみを接着
部材の室温における縦弾性係数を変えてシミュレーショ
ンで求め、はんだ材料の疲労強度データから寿命を算出
した結果である。図14のシミュレーションは、外部端
子となるはんだバンプに直径0.3mm 相当の球状はんだ
を使用した場合の結果である。上記したように強度のば
らつき等を考慮して2000回の寿命を確保するために
は、接着部材の縦弾性係数を4000MPa以下にする
必要のあることがわかる。
【0021】このように本発明に用いる接着部材の縦弾
性係数を70MPa以上4000MPa以下にすること
によって、発生するひずみを外部端子となるはんだバン
プおよびシート状部材に形成される導電性リードがバラ
ンス良く分担するため、実使用環境において破壊を防止
でき十分な信頼性を確保することができる。
性係数を70MPa以上4000MPa以下にすること
によって、発生するひずみを外部端子となるはんだバン
プおよびシート状部材に形成される導電性リードがバラ
ンス良く分担するため、実使用環境において破壊を防止
でき十分な信頼性を確保することができる。
【0022】また、本発明の柔軟材からなる封止部材に
は、エラストマ樹脂を使用することが望ましく、さらに
エラストマ樹脂の縦弾性係数を10MPa以下にするこ
とによって十分な信頼性を確保できるようになる。
は、エラストマ樹脂を使用することが望ましく、さらに
エラストマ樹脂の縦弾性係数を10MPa以下にするこ
とによって十分な信頼性を確保できるようになる。
【0023】本発明による半導体装置のように半導体素
子の周辺部に電極があり、封止部材が半導体素子の主表
面外周部分のみを覆う構造では、封止部材に用いる材料
の弾性係数が大きいと、半導体素子の端部に大きな応力
が発生するようになる。図15は封止部材の室温におけ
る縦弾性係数を変えて半導体素子上端部に発生する応力
をシミュレーションで求めた結果である。発明者らの実
験による評価の結果、図15に示す半導体素子上端部の
応力が40MPa以下で半導体素子の割れが発生しない
結果が得られた。従って、封止部材の縦弾性係数を10
MPa以下にすることによって、半導体素子の割れを防
ぐことができる。
子の周辺部に電極があり、封止部材が半導体素子の主表
面外周部分のみを覆う構造では、封止部材に用いる材料
の弾性係数が大きいと、半導体素子の端部に大きな応力
が発生するようになる。図15は封止部材の室温におけ
る縦弾性係数を変えて半導体素子上端部に発生する応力
をシミュレーションで求めた結果である。発明者らの実
験による評価の結果、図15に示す半導体素子上端部の
応力が40MPa以下で半導体素子の割れが発生しない
結果が得られた。従って、封止部材の縦弾性係数を10
MPa以下にすることによって、半導体素子の割れを防
ぐことができる。
【0024】(2)本願の他の発明の特徴は、回路が形
成された方形の主表面を有し、該主表面外周部の少なく
とも1辺に電極が形成された半導体素子と、外部端子
と、前記電極と外部端子を電気的に接続する導電部材を
備えたシート状部材と、シート状部材を半導体素子表面
に接着するための接着部材と、前記半導体素子主表面の
外周部分であって、該半導体素子の主表面とそれに隣接
する半導体素子側面と前記接着部材側面および前記シー
ト状部材の側面とを封止する前記接着部材の弾性係数と
同等もしくはそれ以下の弾性係数である封止部材と、に
よって半導体装置を構成したことである。
成された方形の主表面を有し、該主表面外周部の少なく
とも1辺に電極が形成された半導体素子と、外部端子
と、前記電極と外部端子を電気的に接続する導電部材を
備えたシート状部材と、シート状部材を半導体素子表面
に接着するための接着部材と、前記半導体素子主表面の
外周部分であって、該半導体素子の主表面とそれに隣接
する半導体素子側面と前記接着部材側面および前記シー
ト状部材の側面とを封止する前記接着部材の弾性係数と
同等もしくはそれ以下の弾性係数である封止部材と、に
よって半導体装置を構成したことである。
【0025】また、回路が形成された方形の主表面を有
し、該主表面外周部の少なくとも1辺に電極が形成され
た半導体素子と、外部端子と、前記電極と外部端子を電
気的に接続する導電部材を備えたシート状部材と、前記
シート状部材を半導体素子表面に接着し、前記半導体素
子主表面の外周端から離れて形成された接着部材と、前
記半導体素子主表面の外周部分とそれに隣接する半導体
素子側面と前記接着部材側面および前記シート状部材の
側面とを封止する前記接着部材の弾性係数と同等もしく
はそれ以下の弾性係数である封止部材と、によって半導
体装置を構成したことである。
し、該主表面外周部の少なくとも1辺に電極が形成され
た半導体素子と、外部端子と、前記電極と外部端子を電
気的に接続する導電部材を備えたシート状部材と、前記
シート状部材を半導体素子表面に接着し、前記半導体素
子主表面の外周端から離れて形成された接着部材と、前
記半導体素子主表面の外周部分とそれに隣接する半導体
素子側面と前記接着部材側面および前記シート状部材の
側面とを封止する前記接着部材の弾性係数と同等もしく
はそれ以下の弾性係数である封止部材と、によって半導
体装置を構成したことである。
【0026】本発明では、封止部材に接着部材の弾性係
数と同等もしくはそれ以下の弾性係数を有する材料を用
いることによって、接着部材の変形に封止部材が追従で
きるので、接着部材と封止部材界面のはく離発生を防止
することができる。
数と同等もしくはそれ以下の弾性係数を有する材料を用
いることによって、接着部材の変形に封止部材が追従で
きるので、接着部材と封止部材界面のはく離発生を防止
することができる。
【0027】さらに封止部材を半導体素子主表面の外周
部分とそれと隣接する半導体素子側面と接着部材側面お
よびシート状部材の側面とを覆うように形成することに
よって、半導体素子の上端部に発生する応力を低減する
作用が得られる。
部分とそれと隣接する半導体素子側面と接着部材側面お
よびシート状部材の側面とを覆うように形成することに
よって、半導体素子の上端部に発生する応力を低減する
作用が得られる。
【0028】これは、封止部材が半導体素子の主表面だ
けでなくそれに隣接する半導体素子側面も覆うことによ
って、半導体素子に発生する応力を広い面積で負担する
ようになり、素子上端部に発生する応力が低減すること
による。
けでなくそれに隣接する半導体素子側面も覆うことによ
って、半導体素子に発生する応力を広い面積で負担する
ようになり、素子上端部に発生する応力が低減すること
による。
【0029】本発明に用いる接着部材の縦弾性係数は7
0MPa以上,4000MPa以下にするのが望まし
い。これによって、発生するひずみを外部端子となるは
んだバンプおよびシート状部材に形成される導電性リー
ドがバランス良く分担するため、実使用環境において破
壊を防止でき十分な信頼性を確保することができる。
0MPa以上,4000MPa以下にするのが望まし
い。これによって、発生するひずみを外部端子となるは
んだバンプおよびシート状部材に形成される導電性リー
ドがバランス良く分担するため、実使用環境において破
壊を防止でき十分な信頼性を確保することができる。
【0030】(3)本願のさらに他の発明の特徴は、回
路が形成された方形の主表面を有し、該主表面外周部の
少なくとも1辺に電極が形成された半導体素子と、外部
端子と、前記電極と外部端子を電気的に接続する導電部
材を備えたシート状部材と、前記シート状部材を半導体
素子主表面に接着し、前記半導体素子主表面と電極が形
成されていない半導体素子主表面の外周部分に隣接する
半導体素子側面とを覆う接着部材と、前記電極が形成さ
れた半導体素子主表面の外周部分であって、該半導体素
子の主表面と前記接着部材側面および前記シート状部材
の側面とを封止する前記接着部材の弾性係数と同等もし
くはそれ以下の弾性係数である柔軟材からなる封止部材
と、によって半導体装置を構成したことである。
路が形成された方形の主表面を有し、該主表面外周部の
少なくとも1辺に電極が形成された半導体素子と、外部
端子と、前記電極と外部端子を電気的に接続する導電部
材を備えたシート状部材と、前記シート状部材を半導体
素子主表面に接着し、前記半導体素子主表面と電極が形
成されていない半導体素子主表面の外周部分に隣接する
半導体素子側面とを覆う接着部材と、前記電極が形成さ
れた半導体素子主表面の外周部分であって、該半導体素
子の主表面と前記接着部材側面および前記シート状部材
の側面とを封止する前記接着部材の弾性係数と同等もし
くはそれ以下の弾性係数である柔軟材からなる封止部材
と、によって半導体装置を構成したことである。
【0031】本発明では、電極が形成された半導体素子
の主表面外周部と前記接着部材側面および前記シート状
部材側面とを覆う封止部材に接着部材と同等もしくはそ
れより小さな弾性係数である柔軟材を用いることによっ
て、封止部材が接着部材の変形に追従することができ、
接着部材と封止部材界面のはく離発生を防止することが
できる。また、接着部材および封止部材の熱収縮を封止
部材自体の変形で吸収することができる。
の主表面外周部と前記接着部材側面および前記シート状
部材側面とを覆う封止部材に接着部材と同等もしくはそ
れより小さな弾性係数である柔軟材を用いることによっ
て、封止部材が接着部材の変形に追従することができ、
接着部材と封止部材界面のはく離発生を防止することが
できる。また、接着部材および封止部材の熱収縮を封止
部材自体の変形で吸収することができる。
【0032】本発明に用いる接着部材の室温における縦
弾性係数は70MPa以上,4000MPa以下にするのが
望ましい。これによって、外部端子となるはんだバンプ
およびシート状部材に形成される導電性リードの信頼性
を確保することができる。
弾性係数は70MPa以上,4000MPa以下にするのが
望ましい。これによって、外部端子となるはんだバンプ
およびシート状部材に形成される導電性リードの信頼性
を確保することができる。
【0033】このように本発明に用いる接着部材の縦弾
性係数は70MPa以上,4000MPa以下にするこ
とによって、発生するひずみを外部端子となるはんだバ
ンプおよびシート状部材に形成される導電性リードがバ
ランス良く分担するため、実使用環境において破壊を防
止でき十分な信頼性を確保することができる。
性係数は70MPa以上,4000MPa以下にするこ
とによって、発生するひずみを外部端子となるはんだバ
ンプおよびシート状部材に形成される導電性リードがバ
ランス良く分担するため、実使用環境において破壊を防
止でき十分な信頼性を確保することができる。
【0034】また、本発明の柔軟材からなる封止部材に
は、エラストマ樹脂を使用することが望ましく、さらに
エラストマ樹脂の縦弾性係数を10MPa以下にするこ
とによって半導体素子の割れを防ぐことができ十分な信
頼性を確保できるようになる。
は、エラストマ樹脂を使用することが望ましく、さらに
エラストマ樹脂の縦弾性係数を10MPa以下にするこ
とによって半導体素子の割れを防ぐことができ十分な信
頼性を確保できるようになる。
【0035】さらに半導体素子主表面の電極が形成され
ていない外周部分において、接着部材を半導体素子の主
表面とそれと隣接する半導体素子側面と接着部材側面お
よびシート状部材の側面とを覆うように形成することに
よって、半導体素子主表面の電極が形成されていない外
周部分の上端部に発生する応力を低減する作用が得られ
る。
ていない外周部分において、接着部材を半導体素子の主
表面とそれと隣接する半導体素子側面と接着部材側面お
よびシート状部材の側面とを覆うように形成することに
よって、半導体素子主表面の電極が形成されていない外
周部分の上端部に発生する応力を低減する作用が得られ
る。
【0036】これは、接着部材が半導体素子の主表面だ
けでなくそれに隣接する半導体素子側面も覆うことによ
って、半導体素子表面に発生する応力を広い面積で負担
するようになり、素子上端部に発生する応力が低減する
ことによる。これによって、この部分からの半導体素子
の割れを防止することができる。
けでなくそれに隣接する半導体素子側面も覆うことによ
って、半導体素子表面に発生する応力を広い面積で負担
するようになり、素子上端部に発生する応力が低減する
ことによる。これによって、この部分からの半導体素子
の割れを防止することができる。
【0037】(4)本願のさらに他の発明の特徴は、回
路が形成された方形の主表面を有し、該主表面外周部の
少なくとも1辺に電極が形成された半導体素子と、外部
端子と、前記電極と外部端子を電気的に接続する導電部
材を備えたシート状部材と、前記シート状部材を半導体
素子主表面に接着し、前記半導体素子主表面と電極が形
成されていない半導体素子主表面の外周部分に隣接する
半導体素子側面とを覆う接着部材と、前記電極が形成さ
れている半導体素子主表面の外周部分であって、該半導
体素子の主表面とそれに隣接する半導体素子側面と前記
接着部材側面および前記シート状部材の側面とを封止す
る前記接着部材の弾性係数と同等もしくはそれ以下の弾
性係数である封止部材と、によって半導体装置を構成し
たことである。
路が形成された方形の主表面を有し、該主表面外周部の
少なくとも1辺に電極が形成された半導体素子と、外部
端子と、前記電極と外部端子を電気的に接続する導電部
材を備えたシート状部材と、前記シート状部材を半導体
素子主表面に接着し、前記半導体素子主表面と電極が形
成されていない半導体素子主表面の外周部分に隣接する
半導体素子側面とを覆う接着部材と、前記電極が形成さ
れている半導体素子主表面の外周部分であって、該半導
体素子の主表面とそれに隣接する半導体素子側面と前記
接着部材側面および前記シート状部材の側面とを封止す
る前記接着部材の弾性係数と同等もしくはそれ以下の弾
性係数である封止部材と、によって半導体装置を構成し
たことである。
【0038】本発明では、封止部材に接着部材の弾性係
数と同等もしくはそれ以下の弾性係数を有する材料を用
いることによって、接着部材の変形に封止部材が追従で
きるので、接着部材と封止部材界面のはく離発生を防止
することができる。
数と同等もしくはそれ以下の弾性係数を有する材料を用
いることによって、接着部材の変形に封止部材が追従で
きるので、接着部材と封止部材界面のはく離発生を防止
することができる。
【0039】また、半導体素子主表面の電極部分を覆う
封止部材を半導体素子主表面の外周部分とそれと隣接す
る半導体素子側面と接着部材側面およびシート状部材の
側面とを覆うように形成することによって、半導体素子
の上端部に発生する応力を低減する作用が得られる。
封止部材を半導体素子主表面の外周部分とそれと隣接す
る半導体素子側面と接着部材側面およびシート状部材の
側面とを覆うように形成することによって、半導体素子
の上端部に発生する応力を低減する作用が得られる。
【0040】これは、封止部材が半導体素子の主表面だ
けでなくそれに隣接する半導体素子側面も覆うことによ
って、半導体素子に発生する応力を広い面積で負担する
ようになり、素子上端部に発生する応力が低減すること
による。
けでなくそれに隣接する半導体素子側面も覆うことによ
って、半導体素子に発生する応力を広い面積で負担する
ようになり、素子上端部に発生する応力が低減すること
による。
【0041】さらに、半導体素子主表面の電極が形成さ
れていない外周部分においては、接着部材を、半導体素
子の主表面とそれと隣接する半導体素子側面と接着部材
側面およびシート状部材の側面とを覆うように形成する
ことによって、半導体素子主表面の電極が形成されてい
ない外周部分の上端部に発生する応力を低減する作用が
得られる。
れていない外周部分においては、接着部材を、半導体素
子の主表面とそれと隣接する半導体素子側面と接着部材
側面およびシート状部材の側面とを覆うように形成する
ことによって、半導体素子主表面の電極が形成されてい
ない外周部分の上端部に発生する応力を低減する作用が
得られる。
【0042】これは、接着部材が半導体素子の主表面だ
けでなくそれに隣接する半導体素子側面も覆うことによ
って、半導体素子表面に発生する応力を広い面積で負担
するようになり、素子上端部に発生する応力が低減する
ことによる。これによって、この部分からの半導体素子
の割れを防止することができる。
けでなくそれに隣接する半導体素子側面も覆うことによ
って、半導体素子表面に発生する応力を広い面積で負担
するようになり、素子上端部に発生する応力が低減する
ことによる。これによって、この部分からの半導体素子
の割れを防止することができる。
【0043】本発明に用いる接着部材の縦弾性係数は7
0MPa以上,4000MPa以下にするのが望まし
い。これによって、発生するひずみを外部端子となるは
んだバンプおよびシート状部材に形成される導電性リー
ドがバランス良く分担するため、実使用環境において破
壊を防止でき十分な信頼性を確保することができる。
0MPa以上,4000MPa以下にするのが望まし
い。これによって、発生するひずみを外部端子となるは
んだバンプおよびシート状部材に形成される導電性リー
ドがバランス良く分担するため、実使用環境において破
壊を防止でき十分な信頼性を確保することができる。
【0044】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を用
いて説明する。
いて説明する。
【0045】図1は、本発明による半導体装置の第1実
施例を示すシート状部材および接着部材の一部と封止部
材を取り除いた状態での平面図であり、図2は図1に示
した半導体装置のA−A線における断面図、図3は図1
に示した半導体装置のB−B線における断面図である。
施例を示すシート状部材および接着部材の一部と封止部
材を取り除いた状態での平面図であり、図2は図1に示
した半導体装置のA−A線における断面図、図3は図1
に示した半導体装置のB−B線における断面図である。
【0046】図において、半導体素子1の電極2が形成
されている長方形状の半導体素子の主表面1aには、接
着部材3によってシート状部材4が接着されており、シ
ート状部材4の表面には銅(Cu)箔、あるいは表面に
金(Au),ニッケル(Ni)等のメッキを施した銅箔か
らなるパターン状リード5と、パターン状リード5に連
なりシート状部材4から突出したリード6が設けられて
いる。
されている長方形状の半導体素子の主表面1aには、接
着部材3によってシート状部材4が接着されており、シ
ート状部材4の表面には銅(Cu)箔、あるいは表面に
金(Au),ニッケル(Ni)等のメッキを施した銅箔か
らなるパターン状リード5と、パターン状リード5に連
なりシート状部材4から突出したリード6が設けられて
いる。
【0047】パターン状リード5は例えばシート状部材
4に図示されていない接着剤などによって固定される。
半導体素子1の電極2は半導体素子主表面1aの対向す
る短辺側外周部分1aaに設けられている。接着部材3
は電極2が形成されている短辺側外周部分1aaと長辺
側外周部分1abを除く領域に設けられている。短辺側
外周部分1aaと長辺側外周部分1abは、半導体素子
主表面1aと接着部材側面3aとシート状部材側面4a
とを覆うように柔軟材からなる封止部材7によって封止
されている。リード6の端部6aと電極2は熱圧着等の
方法により接合され、リード6と半導体素子1は電気的
に接続されている。
4に図示されていない接着剤などによって固定される。
半導体素子1の電極2は半導体素子主表面1aの対向す
る短辺側外周部分1aaに設けられている。接着部材3
は電極2が形成されている短辺側外周部分1aaと長辺
側外周部分1abを除く領域に設けられている。短辺側
外周部分1aaと長辺側外周部分1abは、半導体素子
主表面1aと接着部材側面3aとシート状部材側面4a
とを覆うように柔軟材からなる封止部材7によって封止
されている。リード6の端部6aと電極2は熱圧着等の
方法により接合され、リード6と半導体素子1は電気的
に接続されている。
【0048】リード6に連なるシート状部材4表面のパ
ターン状リード5は外部端子8の直下部分まで配設され
てランド5aとなり、シート状部材に形成された穴部9
内部においてランド5aと外部端子8を接合している。
金属バンプからなる外部端子8には、表面実装型半導体
装置の実装に広く用いられているはんだ(例えば、Pb
−Sn系共晶はんだ)を用いる。シート状部材4は、ポ
リイミド樹脂などからなるテープあるいはフィルム状部
材で形成する。封止部材7は弾性係数の小さな柔軟材か
らなり、接着部材3の縦弾性係数と同等もしくはそれよ
り小さな縦弾性係数を有する材料を用いる。
ターン状リード5は外部端子8の直下部分まで配設され
てランド5aとなり、シート状部材に形成された穴部9
内部においてランド5aと外部端子8を接合している。
金属バンプからなる外部端子8には、表面実装型半導体
装置の実装に広く用いられているはんだ(例えば、Pb
−Sn系共晶はんだ)を用いる。シート状部材4は、ポ
リイミド樹脂などからなるテープあるいはフィルム状部
材で形成する。封止部材7は弾性係数の小さな柔軟材か
らなり、接着部材3の縦弾性係数と同等もしくはそれよ
り小さな縦弾性係数を有する材料を用いる。
【0049】本実施例の半導体装置によれば、半導体装
置が温度変化を受けた場合の冷却時において、接着部材
の熱変形に封止部材が追従して変形するようになるた
め、接着部材と封止部材との界面に発生する応力が低減
し、界面はく離の発生を防止することができる。また、
封止部材が柔軟材で形成されているので、接着部材およ
び封止部材の熱変形を封止部材自体の変形で吸収するこ
とができ、半導体素子主表面端部に大きな応力が発生し
なくなる。
置が温度変化を受けた場合の冷却時において、接着部材
の熱変形に封止部材が追従して変形するようになるた
め、接着部材と封止部材との界面に発生する応力が低減
し、界面はく離の発生を防止することができる。また、
封止部材が柔軟材で形成されているので、接着部材およ
び封止部材の熱変形を封止部材自体の変形で吸収するこ
とができ、半導体素子主表面端部に大きな応力が発生し
なくなる。
【0050】封止部材7には、エラストマ樹脂を使用す
ることにより、半導体装置の半導体素子主表面端部の発
生応力低減効果がより得られる。エラストマ樹脂の縦弾
性係数は0.1MPa〜50MPa 程度であり、シリコ
ーンゴム,スチレンブタジエンゴム,ブチルゴム等の材
料がある。特に封止部材7に用いるエラストマ樹脂の縦
弾性係数を10MPa以下にすることによって、半導体
装置の信頼性をより向上することができる。
ることにより、半導体装置の半導体素子主表面端部の発
生応力低減効果がより得られる。エラストマ樹脂の縦弾
性係数は0.1MPa〜50MPa 程度であり、シリコ
ーンゴム,スチレンブタジエンゴム,ブチルゴム等の材
料がある。特に封止部材7に用いるエラストマ樹脂の縦
弾性係数を10MPa以下にすることによって、半導体
装置の信頼性をより向上することができる。
【0051】接着部材3の材料には、室温における縦弾
性係数が70MPa以上,4000MPa以下の材料も
用いるのが望ましい。これによってはんだバンプなどか
らなる外部端子8およびリード6それぞれに発生するひ
ずみを最適化することができる。
性係数が70MPa以上,4000MPa以下の材料も
用いるのが望ましい。これによってはんだバンプなどか
らなる外部端子8およびリード6それぞれに発生するひ
ずみを最適化することができる。
【0052】接着部材3は単一材料からなる単層構造の
材料、あるいはテープ状の基材表面に接着材料を形成し
た三層構造もしくはそれ以上の層構成の材料を用いる。
単層構造の材料としては、エポキシ系樹脂,エホキシ+
ポリイミド系樹脂,エポキシ樹脂とアクリル系ゴムから
構成される樹脂,アクリル系樹脂,多孔質ポリテトラフ
ルオロエチレンおよびシリコーン系樹脂などを使用す
る。単層構造の接着部材3は、シート状部材3表面にス
クリーン印刷法,ポッティング法あるいは貼り付け法に
よって形成しても良いし、半導体素子1の表面に形成さ
れたものでも良い。三層構造の接着部材3は、ポリイミ
ド樹脂からなるテープ状基材表面に上記単層構造の材料
として挙げたものを接着剤として形成した部材より構成
する。
材料、あるいはテープ状の基材表面に接着材料を形成し
た三層構造もしくはそれ以上の層構成の材料を用いる。
単層構造の材料としては、エポキシ系樹脂,エホキシ+
ポリイミド系樹脂,エポキシ樹脂とアクリル系ゴムから
構成される樹脂,アクリル系樹脂,多孔質ポリテトラフ
ルオロエチレンおよびシリコーン系樹脂などを使用す
る。単層構造の接着部材3は、シート状部材3表面にス
クリーン印刷法,ポッティング法あるいは貼り付け法に
よって形成しても良いし、半導体素子1の表面に形成さ
れたものでも良い。三層構造の接着部材3は、ポリイミ
ド樹脂からなるテープ状基材表面に上記単層構造の材料
として挙げたものを接着剤として形成した部材より構成
する。
【0053】図1から図3に示した本発明による半導体
装置は、外部端子8が接合されている方向の面を対向さ
せた状態でプリント回路基板に実装される。
装置は、外部端子8が接合されている方向の面を対向さ
せた状態でプリント回路基板に実装される。
【0054】図1から図3に示した半導体装置では、シ
ート状部材4に形成した穴9に外部端子8の一部を入れ
てパターン状リード5と外部端子8を接続する例を示し
た。図4はシート状部材4の他の様態を示す本発明によ
る半導体装置の断面図である。
ート状部材4に形成した穴9に外部端子8の一部を入れ
てパターン状リード5と外部端子8を接続する例を示し
た。図4はシート状部材4の他の様態を示す本発明によ
る半導体装置の断面図である。
【0055】図において、半導体素子1の電極2が形成
されている方形の半導体素子主表面1aには、接着部材
3によってシート状部材4が接着されており、シート状
部材4の表面にはパターン状リード5と、パターン状リ
ード5に連なりシート状部材4から突出したリード6が
設けられている。半導体素子1の電極2は、図1と同様
に半導体素子主表面1aの短辺側外周部分1aaに設け
られている。接着部材3は電極2が形成されている短辺
側外周部分1aaと図示されていない長辺側外周部分1
abを除く領域に設けられている。短辺側外周部分1a
aと長辺側外周部分1abは、半導体素子主表面1aと
接着部材側面3aとシート状部材側面4aとを覆うよう
に柔軟材からなる封止部材7によって封止されている。
されている方形の半導体素子主表面1aには、接着部材
3によってシート状部材4が接着されており、シート状
部材4の表面にはパターン状リード5と、パターン状リ
ード5に連なりシート状部材4から突出したリード6が
設けられている。半導体素子1の電極2は、図1と同様
に半導体素子主表面1aの短辺側外周部分1aaに設け
られている。接着部材3は電極2が形成されている短辺
側外周部分1aaと図示されていない長辺側外周部分1
abを除く領域に設けられている。短辺側外周部分1a
aと長辺側外周部分1abは、半導体素子主表面1aと
接着部材側面3aとシート状部材側面4aとを覆うよう
に柔軟材からなる封止部材7によって封止されている。
【0056】リード6の端部6aと電極2が熱圧着等の
方法により接合され、リード6と半導体素子1は電気的
に接続されている。リード6に連なるシート状部材4表
面のパターン状リード5は外部端子8の直下部分まで配
設されてランド5aとなって外部端子8と接合されてお
り、外部端子接合部を除くシート状部材表面にはソルダ
レジスト10が設けられている。封止部材7はソルダレ
ジスト側面10aも覆うように形成されている。
方法により接合され、リード6と半導体素子1は電気的
に接続されている。リード6に連なるシート状部材4表
面のパターン状リード5は外部端子8の直下部分まで配
設されてランド5aとなって外部端子8と接合されてお
り、外部端子接合部を除くシート状部材表面にはソルダ
レジスト10が設けられている。封止部材7はソルダレ
ジスト側面10aも覆うように形成されている。
【0057】封止部材7は弾性係数の小さな柔軟材から
なり、接着部材3の縦弾性係数と同等もしくはそれより
小さな縦弾性係数を有する材料を用いる。
なり、接着部材3の縦弾性係数と同等もしくはそれより
小さな縦弾性係数を有する材料を用いる。
【0058】本実施例においても、半導体装置が温度変
化を受けた場合の冷却時において、接着部材の熱変形に
封止部材が追従して変形するようになるため、接着部材
と封止部材との界面に発生する応力が低減し、界面はく
離の発生を防止することができる。また、封止部材が柔
軟材で形成されているので、接着部材および封止部材の
熱変形を封止部材自体の変形で吸収することができ、半
導体素子上端部に大きな応力が発生しなくなる。さら
に、図4の構造では、外部端子と半導体素子の間に接着
部材の他にポリイミド樹脂などからなるシート状部材が
介在しているため、半導体素子と実装基板の線膨張係数
差に起因して外部端子に発生するひずみがさらに緩和さ
れる効果が得られる。
化を受けた場合の冷却時において、接着部材の熱変形に
封止部材が追従して変形するようになるため、接着部材
と封止部材との界面に発生する応力が低減し、界面はく
離の発生を防止することができる。また、封止部材が柔
軟材で形成されているので、接着部材および封止部材の
熱変形を封止部材自体の変形で吸収することができ、半
導体素子上端部に大きな応力が発生しなくなる。さら
に、図4の構造では、外部端子と半導体素子の間に接着
部材の他にポリイミド樹脂などからなるシート状部材が
介在しているため、半導体素子と実装基板の線膨張係数
差に起因して外部端子に発生するひずみがさらに緩和さ
れる効果が得られる。
【0059】図1に示した実施例では、半導体素子1の
電極2が半導体素子主表面1aの対向する短辺側外周部
分1aaの2辺に形成されている例を示した。しかしな
がら、電極2は外周部の1辺に形成したものでも良い
し、3辺に形成されていても良い。また長辺側外周部分
1abに形成されていても良い。また図1では、半導体
素子主表面1aの形状が長方形状の例を示したが、主表
面1aの形状は正方形あるいは他の形状であっても良
い。
電極2が半導体素子主表面1aの対向する短辺側外周部
分1aaの2辺に形成されている例を示した。しかしな
がら、電極2は外周部の1辺に形成したものでも良い
し、3辺に形成されていても良い。また長辺側外周部分
1abに形成されていても良い。また図1では、半導体
素子主表面1aの形状が長方形状の例を示したが、主表
面1aの形状は正方形あるいは他の形状であっても良
い。
【0060】図5は、本発明による半導体装置の第2実
施例を示す封止部材の一部を取り除いた状態での平面図
であり、図6は図5に示した半導体装置のA−A線にお
ける断面図、図7は図5に示した半導体装置のB−B線
における断面図である。
施例を示す封止部材の一部を取り除いた状態での平面図
であり、図6は図5に示した半導体装置のA−A線にお
ける断面図、図7は図5に示した半導体装置のB−B線
における断面図である。
【0061】図において、半導体素子1の電極2が形成
されている長方形状の半導体素子主表面1aには、接着
部材3によってシート状部材4が接着されており、シー
ト状部材4の表面には銅(Cu)箔、あるいは表面に金
(Au),ニッケル(Ni)等のメッキを施した銅箔か
らなるパターン状リード5と、パターン状リード5に連
なりシート状部材4から突出したリード6が設けられて
いる。パターン状リード5は例えばシート状部材に図示
されていない接着剤などによって固定される。半導体素
子1の電極2は半導体素子主表面1aの短辺側外周部分
1aaに設けられている。
されている長方形状の半導体素子主表面1aには、接着
部材3によってシート状部材4が接着されており、シー
ト状部材4の表面には銅(Cu)箔、あるいは表面に金
(Au),ニッケル(Ni)等のメッキを施した銅箔か
らなるパターン状リード5と、パターン状リード5に連
なりシート状部材4から突出したリード6が設けられて
いる。パターン状リード5は例えばシート状部材に図示
されていない接着剤などによって固定される。半導体素
子1の電極2は半導体素子主表面1aの短辺側外周部分
1aaに設けられている。
【0062】接着部材3は電極2が形成されている短辺
側外周部分1aaと長辺側外周部分1abを除く領域に
設けられている。短辺側外周部分1aaと長辺側外周部
分1abは、これらに隣接する半導体素子側面1bとと
もに接着部材側面3a、およびシート状部材側面4aと
を覆うように封止部材7によって封止されている。封止
部材7は接着部材3の縦弾性係数と同等もしくはそれよ
り小さな縦弾性係数を有する材料から構成される。
側外周部分1aaと長辺側外周部分1abを除く領域に
設けられている。短辺側外周部分1aaと長辺側外周部
分1abは、これらに隣接する半導体素子側面1bとと
もに接着部材側面3a、およびシート状部材側面4aと
を覆うように封止部材7によって封止されている。封止
部材7は接着部材3の縦弾性係数と同等もしくはそれよ
り小さな縦弾性係数を有する材料から構成される。
【0063】リード6の端部6aと電極2が熱圧着等の
方法により接合され、リード6と半導体素子1は電気的
に接続されている。リード6に連なるシート状部材4表
面のパターン状リード5は外部端子8の直下部分まで配
設されてランド5aとなり、シート状部材に形成された
穴部9内部においてランド5aと外部端子8を接合して
いる。金属バンプからなる外部端子8には、表面実装型
半導体装置の実装に広く用いられているはんだ(例え
ば、Pb−Sn系共晶はんだ)を用いる。シート状部材
4は、ポリイミド樹脂などからなるテープあるいはフィ
ルム状部材で形成する。
方法により接合され、リード6と半導体素子1は電気的
に接続されている。リード6に連なるシート状部材4表
面のパターン状リード5は外部端子8の直下部分まで配
設されてランド5aとなり、シート状部材に形成された
穴部9内部においてランド5aと外部端子8を接合して
いる。金属バンプからなる外部端子8には、表面実装型
半導体装置の実装に広く用いられているはんだ(例え
ば、Pb−Sn系共晶はんだ)を用いる。シート状部材
4は、ポリイミド樹脂などからなるテープあるいはフィ
ルム状部材で形成する。
【0064】本実施例の半導体装置によれば、半導体装
置が温度変化を受けた場合の冷却時において、接着部材
の熱変形に封止部材が追従して変形するようになるた
め、接着部材と封止部材との界面に発生する応力が低減
し、界面はく離の発生を防止することができる。また、
封止部材が半導体素子の主表面だけでなくそれに隣接す
る半導体素子側面も覆っていることから、接着部材およ
び封止部材の熱変形によって、半導体素子表面に発生す
る応力を広い面積で負担するようになり、半導体素子主
表面端部に大きな応力が発生しなくなる。
置が温度変化を受けた場合の冷却時において、接着部材
の熱変形に封止部材が追従して変形するようになるた
め、接着部材と封止部材との界面に発生する応力が低減
し、界面はく離の発生を防止することができる。また、
封止部材が半導体素子の主表面だけでなくそれに隣接す
る半導体素子側面も覆っていることから、接着部材およ
び封止部材の熱変形によって、半導体素子表面に発生す
る応力を広い面積で負担するようになり、半導体素子主
表面端部に大きな応力が発生しなくなる。
【0065】接着部材3の材料には、室温における縦弾
性係数が70MPa以上,4000MPa以下の材料も
用いるのが望ましい。これによってはんだバンプなどか
らなる外部端子8およびリード6それぞれに発生するひ
ずみを最適化することができる。
性係数が70MPa以上,4000MPa以下の材料も
用いるのが望ましい。これによってはんだバンプなどか
らなる外部端子8およびリード6それぞれに発生するひ
ずみを最適化することができる。
【0066】接着部材3は1材料からなる単層構造の材
料、あるいはテープ状の基材表面に接着材料を形成した
3層構造もしくはそれ以上の層構成の材料を用いる。単
層構造の材料としては、エポキシ系樹脂,エホキシ+ポ
リイミド系樹脂,エポキシ樹脂とアクリル系ゴムから構
成される樹脂,アクリル系樹脂,多孔質ポリテトラフル
オロエチレンおよびシリコーン系樹脂などを使用する。
単層構造の接着部材3は、シート状部材3表面にスクリ
ーン印刷法,ポッティング法あるいは貼り付け法によっ
て形成しても良いし、半導体素子1の表面に形成された
ものでも良い。3層構造の接着部材3は、ポリイミド樹
脂からなるテープ状基材表面に上記単層構造の材料とし
て挙げたものを接着剤として形成した部材より構成す
る。
料、あるいはテープ状の基材表面に接着材料を形成した
3層構造もしくはそれ以上の層構成の材料を用いる。単
層構造の材料としては、エポキシ系樹脂,エホキシ+ポ
リイミド系樹脂,エポキシ樹脂とアクリル系ゴムから構
成される樹脂,アクリル系樹脂,多孔質ポリテトラフル
オロエチレンおよびシリコーン系樹脂などを使用する。
単層構造の接着部材3は、シート状部材3表面にスクリ
ーン印刷法,ポッティング法あるいは貼り付け法によっ
て形成しても良いし、半導体素子1の表面に形成された
ものでも良い。3層構造の接着部材3は、ポリイミド樹
脂からなるテープ状基材表面に上記単層構造の材料とし
て挙げたものを接着剤として形成した部材より構成す
る。
【0067】図8は、本発明による半導体装置の第3実
施例を示すシート状部材および接着部材の一部と封止部
材を取り除いた状態での平面図であり、図9は図8示し
た半導体装置のB−B線における断面図である。
施例を示すシート状部材および接着部材の一部と封止部
材を取り除いた状態での平面図であり、図9は図8示し
た半導体装置のB−B線における断面図である。
【0068】図において、半導体素子1の電極2が形成
されている長方形状の半導体素子主表面1aには、接着
部材3によってシート状部材4が接着されており、シー
ト状部材4の表面には銅(Cu)箔、あるいは表面に金
(Au),ニッケル(Ni)等のメッキを施した銅箔から
なるパターン状リード5と、パターン状リード5に連な
りシート状部材4から突出したリード6が設けられてい
る。パターン状リード5は例えばシート状部材4に図示
されていない接着剤などによって固定される。半導体素
子1の電極2は半導体素子主表面1aの対向する短辺側
外周部分1aaに設けられている。
されている長方形状の半導体素子主表面1aには、接着
部材3によってシート状部材4が接着されており、シー
ト状部材4の表面には銅(Cu)箔、あるいは表面に金
(Au),ニッケル(Ni)等のメッキを施した銅箔から
なるパターン状リード5と、パターン状リード5に連な
りシート状部材4から突出したリード6が設けられてい
る。パターン状リード5は例えばシート状部材4に図示
されていない接着剤などによって固定される。半導体素
子1の電極2は半導体素子主表面1aの対向する短辺側
外周部分1aaに設けられている。
【0069】接着部材3は電極2が形成されている短辺
側外周部分1aaを除く半導体素子主表面1a上に設け
られており、半導体素子の長辺側外周部分1abから半
導体素子主表面1aの面外へはみだして長辺側外周部分
1abに隣接する半導体素子側面1bをも覆っている。
短辺側外周部分1aaは、半導体素子主表面1aと接着
部材側面3aとシート状部材側面4aとを覆うように柔
軟材からなる封止部材7によって封止されている。
側外周部分1aaを除く半導体素子主表面1a上に設け
られており、半導体素子の長辺側外周部分1abから半
導体素子主表面1aの面外へはみだして長辺側外周部分
1abに隣接する半導体素子側面1bをも覆っている。
短辺側外周部分1aaは、半導体素子主表面1aと接着
部材側面3aとシート状部材側面4aとを覆うように柔
軟材からなる封止部材7によって封止されている。
【0070】リード6の端部6aと電極2は熱圧着等の
方法により接合され、リード6と半導体素子1は電気的
に接続されている。リード6に連なるシート状部材4表
面のパターン状リード5は外部端子8の直下部分まで配
設されてランド5aとなり、シート状部材に形成された
穴部9内部においてランド5aと外部端子8を接合して
いる。金属バンプからなる外部端子8には、表面実装型
半導体装置の実装に広く用いられているはんだ(例え
ば、Pb−Sn系共晶はんだ)を用いる。シート状部材
4は、ポリイミド樹脂などからなるテープあるいはフィ
ルム状部材で形成する。
方法により接合され、リード6と半導体素子1は電気的
に接続されている。リード6に連なるシート状部材4表
面のパターン状リード5は外部端子8の直下部分まで配
設されてランド5aとなり、シート状部材に形成された
穴部9内部においてランド5aと外部端子8を接合して
いる。金属バンプからなる外部端子8には、表面実装型
半導体装置の実装に広く用いられているはんだ(例え
ば、Pb−Sn系共晶はんだ)を用いる。シート状部材
4は、ポリイミド樹脂などからなるテープあるいはフィ
ルム状部材で形成する。
【0071】封止部材7は弾性係数の小さな柔軟材から
なり、接着部材3の縦弾性係数と同等もしくはそれより
小さな縦弾性係数を有する材料を用いる。
なり、接着部材3の縦弾性係数と同等もしくはそれより
小さな縦弾性係数を有する材料を用いる。
【0072】本実施例の半導体装置によれば、半導体装
置が温度変化を受けた場合の冷却時において、接着部材
の熱変形に半導体素子主表面の電極形成部分に設けられ
る封止部材が追従して変形するようになるため、接着部
材と封止部材との界面に発生する応力が低減し、界面は
く離の発生を防止することができる。また、封止部材が
柔軟材で形成されているので、接着部材および封止部材
の熱変形を封止部材自体の変形で吸収することができ、
半導体素子主表面端部に大きな応力が発生しなくなる。
置が温度変化を受けた場合の冷却時において、接着部材
の熱変形に半導体素子主表面の電極形成部分に設けられ
る封止部材が追従して変形するようになるため、接着部
材と封止部材との界面に発生する応力が低減し、界面は
く離の発生を防止することができる。また、封止部材が
柔軟材で形成されているので、接着部材および封止部材
の熱変形を封止部材自体の変形で吸収することができ、
半導体素子主表面端部に大きな応力が発生しなくなる。
【0073】さらに、半導体素子主表面の電極が形成さ
れていない外周部分においては、接着部材が半導体素子
主表面とそれに隣接する半導体素子側面を覆うように形
成されているため、半導体素子に発生する応力を広い面
積で負担することができ、半導体素子主表面の端部に発
生する応力が低減する。
れていない外周部分においては、接着部材が半導体素子
主表面とそれに隣接する半導体素子側面を覆うように形
成されているため、半導体素子に発生する応力を広い面
積で負担することができ、半導体素子主表面の端部に発
生する応力が低減する。
【0074】封止部材7には、エラストマ樹脂を使用す
ることにより、半導体装置の半導体素子上端部の発生応
力低減効果が得られる。エラストマ樹脂の縦弾性係数は
0.1MPa〜50MPa程度であり、シリコーンゴム,
スチレンブタジエンゴム,ブチルゴム等の材料がある。
特に封止部材7に用いるエラストマ樹脂の縦弾性係数を
10MPa以下にすることによって、半導体装置の信頼
性をより向上することができる。
ることにより、半導体装置の半導体素子上端部の発生応
力低減効果が得られる。エラストマ樹脂の縦弾性係数は
0.1MPa〜50MPa程度であり、シリコーンゴム,
スチレンブタジエンゴム,ブチルゴム等の材料がある。
特に封止部材7に用いるエラストマ樹脂の縦弾性係数を
10MPa以下にすることによって、半導体装置の信頼
性をより向上することができる。
【0075】接着部材3の材料には、室温における縦弾
性係数が70MPa以上,4000MPa以下の材料も
用いるのが望ましい。これによってはんだバンプなどか
らなる外部端子8およびリード6それぞれに発生するひ
ずみを最適化することができる。
性係数が70MPa以上,4000MPa以下の材料も
用いるのが望ましい。これによってはんだバンプなどか
らなる外部端子8およびリード6それぞれに発生するひ
ずみを最適化することができる。
【0076】図10は、本発明による半導体装置の第4
実施例を示すシート状部材および封止部材の一部を取り
除いた状態での平面図であり、図11は図10に示した
半導体装置のA−A線における断面図であり、図12は
図10に示した半導体装置のB−B線における断面図で
ある。
実施例を示すシート状部材および封止部材の一部を取り
除いた状態での平面図であり、図11は図10に示した
半導体装置のA−A線における断面図であり、図12は
図10に示した半導体装置のB−B線における断面図で
ある。
【0077】図において、半導体素子1の電極2が形成
されている長方形状の半導体素子主表面1aには、接着
部材3によってシート状部材4が接着されており、シー
ト状部材4の表面には銅(Cu)箔、あるいは表面に金
(Au),ニッケル(Ni)等のメッキを施した銅箔か
らなるパターン状リード5と、パターン状リード5に連
なりシート状部材4から突出したリード6が設けられて
いる。パターン状リード5は例えばシート状部材に図示
されていない接着剤などによって固定される。
されている長方形状の半導体素子主表面1aには、接着
部材3によってシート状部材4が接着されており、シー
ト状部材4の表面には銅(Cu)箔、あるいは表面に金
(Au),ニッケル(Ni)等のメッキを施した銅箔か
らなるパターン状リード5と、パターン状リード5に連
なりシート状部材4から突出したリード6が設けられて
いる。パターン状リード5は例えばシート状部材に図示
されていない接着剤などによって固定される。
【0078】半導体素子1の電極2は半導体素子主表面
1aの短辺側外周部分1aaに設けられている。接着部
材3は電極2が形成されている短辺側外周部分1aaを
除く半導体素子主表面1a上に設けられており、半導体
素子の長辺側外周部分1abから半導体素子主表面1a
の面外へはみだして長辺側外周部分1abに隣接する半
導体素子側面1bをも覆っている。短辺側外周部分1a
aは、これらに隣接する半導体素子側面1bとともに接
着部材側面3a、およびシート状部材側面4aとを覆う
ように封止部材7によって封止されている。
1aの短辺側外周部分1aaに設けられている。接着部
材3は電極2が形成されている短辺側外周部分1aaを
除く半導体素子主表面1a上に設けられており、半導体
素子の長辺側外周部分1abから半導体素子主表面1a
の面外へはみだして長辺側外周部分1abに隣接する半
導体素子側面1bをも覆っている。短辺側外周部分1a
aは、これらに隣接する半導体素子側面1bとともに接
着部材側面3a、およびシート状部材側面4aとを覆う
ように封止部材7によって封止されている。
【0079】封止部材7は接着部材3の縦弾性係数と同
等もしくはそれより小さな縦弾性係数を有する材料から
構成される。リード6の端部6aと電極2が熱圧着等の
方法により接合され、リード6と半導体素子1は電気的
に接続されている。リード6に連なるシート状部材4表
面のパターン状リード5は外部端子8の直下部分まで配
設されてランド5aとなり、シート状部材に形成された
穴部9内部においてランド5aと外部端子8を接合して
いる。金属バンプからなる外部端子8には、表面実装型
半導体装置の実装に広く用いられているはんだ(例え
ば、Pb−Sn系共晶はんだ)を用いる。シート状部材
4は、ポリイミド樹脂などからなるテープあるいはフィ
ルム状部材で形成する。
等もしくはそれより小さな縦弾性係数を有する材料から
構成される。リード6の端部6aと電極2が熱圧着等の
方法により接合され、リード6と半導体素子1は電気的
に接続されている。リード6に連なるシート状部材4表
面のパターン状リード5は外部端子8の直下部分まで配
設されてランド5aとなり、シート状部材に形成された
穴部9内部においてランド5aと外部端子8を接合して
いる。金属バンプからなる外部端子8には、表面実装型
半導体装置の実装に広く用いられているはんだ(例え
ば、Pb−Sn系共晶はんだ)を用いる。シート状部材
4は、ポリイミド樹脂などからなるテープあるいはフィ
ルム状部材で形成する。
【0080】本実施例の半導体装置によれば、半導体装
置が温度変化を受けた場合の冷却時において、接着部材
の熱変形に封止部材が追従して変形するようになるた
め、接着部材と封止部材との界面に発生する応力が低減
し、界面はく離の発生を防止することができる。また、
半導体素子主表面の電極形成部分では、封止部材が半導
体素子の主表面だけでなくそれに隣接する半導体素子側
面も覆っていることから、接着部材および封止部材の熱
変形によって、半導体素子表面に発生する応力を広い面
積で負担するようになり、半導体素子主表面の端部に大
きな応力が発生しなくなる。さらに、半導体素子主表面
の電極が形成されていない外周部分においては、接着部
材が半導体素子主表面とそれに隣接する半導体素子側面
を覆うように形成されているため、半導体素子に発生す
る応力を広い面積で負担することができ、半導体素子主
表面の端部に発生する応力が低減する。
置が温度変化を受けた場合の冷却時において、接着部材
の熱変形に封止部材が追従して変形するようになるた
め、接着部材と封止部材との界面に発生する応力が低減
し、界面はく離の発生を防止することができる。また、
半導体素子主表面の電極形成部分では、封止部材が半導
体素子の主表面だけでなくそれに隣接する半導体素子側
面も覆っていることから、接着部材および封止部材の熱
変形によって、半導体素子表面に発生する応力を広い面
積で負担するようになり、半導体素子主表面の端部に大
きな応力が発生しなくなる。さらに、半導体素子主表面
の電極が形成されていない外周部分においては、接着部
材が半導体素子主表面とそれに隣接する半導体素子側面
を覆うように形成されているため、半導体素子に発生す
る応力を広い面積で負担することができ、半導体素子主
表面の端部に発生する応力が低減する。
【0081】接着部材3の材料には、室温における縦弾
性係数が70MPa以上,4000MPa以下の材料も
用いるのが望ましい。これによってはんだバンプなどか
らなる外部端子8およびリード6それぞれに発生するひ
ずみを最適化することができる。
性係数が70MPa以上,4000MPa以下の材料も
用いるのが望ましい。これによってはんだバンプなどか
らなる外部端子8およびリード6それぞれに発生するひ
ずみを最適化することができる。
【0082】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、次に
述べる効果が得られ、信頼性の高いCSP型の半導体装
置を提供することができる。
述べる効果が得られ、信頼性の高いCSP型の半導体装
置を提供することができる。
【0083】(1)半導体素子と実装基板の線膨張係数
差に起因して発生するひずみをバランス良く金属バンプ
からなる外部端子と接着部材でバランス良く分担できる
ので、外部端子と導電性リードの両方に発生するひずみ
を低減することができ、信頼性を向上することができ
る。
差に起因して発生するひずみをバランス良く金属バンプ
からなる外部端子と接着部材でバランス良く分担できる
ので、外部端子と導電性リードの両方に発生するひずみ
を低減することができ、信頼性を向上することができ
る。
【0084】(2)導電性リードが形成されたシート状
部材を半導体素子に接着する接着部材の変形に封止部材
が追従できるようになるため、接着部材と封止部材界面
のはく離発生に伴う導電性リードの断線あるいは半導体
素子の耐湿性低下を防止することができ、半導体装置の
信頼性を向上することができる。
部材を半導体素子に接着する接着部材の変形に封止部材
が追従できるようになるため、接着部材と封止部材界面
のはく離発生に伴う導電性リードの断線あるいは半導体
素子の耐湿性低下を防止することができ、半導体装置の
信頼性を向上することができる。
【0085】(3)封止部材を柔軟な材料で形成するこ
とによって、半導体素子上端部に発生する応力を低減
し、半導体素子の割れを防止できるので、半導体装置の
信頼性を向上することができる。
とによって、半導体素子上端部に発生する応力を低減
し、半導体素子の割れを防止できるので、半導体装置の
信頼性を向上することができる。
【0086】(4)封止部材を半導体素子の主表面とそ
れに隣接する半導体素子側面を覆うように形成すること
によって、半導体素子上端部に発生する応力を低減し、
半導体素子の割れを防止できるので、半導体装置の信頼
性を向上することができる。
れに隣接する半導体素子側面を覆うように形成すること
によって、半導体素子上端部に発生する応力を低減し、
半導体素子の割れを防止できるので、半導体装置の信頼
性を向上することができる。
【0087】(5)接着部材を半導体素子主表面とそれ
に隣接する半導体素子側面を覆うように形成することに
よって、半導体素子上端部に発生する応力を低減し、半
導体素子の割れを防止できるので、半導体装置の信頼性
を向上することができる。
に隣接する半導体素子側面を覆うように形成することに
よって、半導体素子上端部に発生する応力を低減し、半
導体素子の割れを防止できるので、半導体装置の信頼性
を向上することができる。
【図1】本発明による半導体装置の第1実施例を示すシ
ート状部材および接着部材の一部と封止部材を取り除い
た状態での平面図である。
ート状部材および接着部材の一部と封止部材を取り除い
た状態での平面図である。
【図2】図1に示した第1実施例のA−A線における断
面図である。
面図である。
【図3】図1に示した第1実施例のB−B線における断
面図である。
面図である。
【図4】図1から図3に示した第1実施例のさらに他の
態様を示す断面図である。
態様を示す断面図である。
【図5】本発明による半導体装置の第2実施例を示す封
止部材の一部を取り除いた状態での平面図である。
止部材の一部を取り除いた状態での平面図である。
【図6】図5に示した第2実施例のA−A線における断
面図である。
面図である。
【図7】図5に示した第2実施例のB−B線における断
面図である。
面図である。
【図8】本発明による半導体装置の第3実施例を示すシ
ート状部材および接着部材の一部と封止部材を取り除い
た状態での平面図である。
ート状部材および接着部材の一部と封止部材を取り除い
た状態での平面図である。
【図9】図8に示した第3実施例のB−B線における断
面図である。
面図である。
【図10】本発明による半導体装置の第4実施例を示す
シート状部材および封止部材の一部を取り除いた状態で
の平面図である。
シート状部材および封止部材の一部を取り除いた状態で
の平面図である。
【図11】図10に示した第2実施例のA−A線におけ
る断面図である。
る断面図である。
【図12】図10に示した第2実施例のB−B線におけ
る断面図である。
る断面図である。
【図13】接着部材の縦弾性係数と導電性リードの破壊
寿命の関係を解析した特性図である。
寿命の関係を解析した特性図である。
【図14】接着部材の縦弾性係数と外部端子となるはん
だバンプの破壊寿命の関係を解析した特性図である。
だバンプの破壊寿命の関係を解析した特性図である。
【図15】封止部材の縦弾性係数と半導体素子上端部の
応力の関係を解析した特性図である。
応力の関係を解析した特性図である。
1…半導体素子、1a…半導体素子の主表面、1b…半
導体素子側面、2…電極、3…接着部材、3a…接着部
材側面、4…シート状部材、4a…シート状部材側面、
5…パターン状リード、6…リード、7…封止部材、8
…外部端子、9…シート状部材孔部、10…ソルダレジ
スト。
導体素子側面、2…電極、3…接着部材、3a…接着部
材側面、4…シート状部材、4a…シート状部材側面、
5…パターン状リード、6…リード、7…封止部材、8
…外部端子、9…シート状部材孔部、10…ソルダレジ
スト。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西村 朝雄 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 (72)発明者 永井 晃 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内
Claims (1)
- 【請求項1】回路が形成された方形の主表面を有し、該
主表面外周部の少なくとも1辺に電極が形成された半導
体素子と、外部端子と、前記電極と外部端子を電気的に
接続する導電部材を備えたシート状部材と、シート状部
材を半導体素子主表面に接着するための接着部材と、前
記半導体素子主表面の外周部分であって、該半導体素子
の主表面と前記接着部材側面および前記シート状部材の
側面とを封止する前記接着部材の弾性係数と同等もしく
はそれ以下の弾性係数である柔軟材からなる封止部材と
によって構成した半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21291597A JPH1154653A (ja) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21291597A JPH1154653A (ja) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1154653A true JPH1154653A (ja) | 1999-02-26 |
Family
ID=16630395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21291597A Pending JPH1154653A (ja) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1154653A (ja) |
-
1997
- 1997-08-07 JP JP21291597A patent/JPH1154653A/ja active Pending
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