JPH115781A - 2,3,5−コリジン及び2−エチル−5−メチルピリジンの製造方法 - Google Patents
2,3,5−コリジン及び2−エチル−5−メチルピリジンの製造方法Info
- Publication number
- JPH115781A JPH115781A JP9176549A JP17654997A JPH115781A JP H115781 A JPH115781 A JP H115781A JP 9176549 A JP9176549 A JP 9176549A JP 17654997 A JP17654997 A JP 17654997A JP H115781 A JPH115781 A JP H115781A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- alumina
- silica
- collidine
- methylpyridine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-trimethylpyridine Chemical compound CC1=CN=C(C)C(C)=C1 GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 41
- COHDGTRFTKHYSJ-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-5-methylpyridine Chemical compound CCC1=CC=C(C)C=N1 COHDGTRFTKHYSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 5
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 40
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- STNJBCKSHOAVAJ-UHFFFAOYSA-N Methacrolein Chemical compound CC(=C)C=O STNJBCKSHOAVAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims abstract description 13
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 23
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 21
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N anhydrous collidine Natural products CC1=CC=NC(C)=C1C HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N collidine Natural products CC1=CC=C(C)C(C)=N1 UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 abstract description 6
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- -1 for example Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CN=C1 ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylpyridine Chemical group CC1=CN=CC(C)=C1 HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 2
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 2
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XIEPJMXMMWZAAV-UHFFFAOYSA-N cadmium nitrate Inorganic materials [Cd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XIEPJMXMMWZAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMHMNPHRMNGLLB-UHFFFAOYSA-N phloretic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=C(O)C=C1 NMHMNPHRMNGLLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- WLZRMCYVCSSEQC-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+) Chemical compound [Cd+2] WLZRMCYVCSSEQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 1
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N lead nitrate Chemical compound [O-][N+](=O)O[Pb]O[N+]([O-])=O RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVPVRDXYQKGNMQ-UHFFFAOYSA-N lead(2+) Chemical compound [Pb+2] RVPVRDXYQKGNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011325 microbead Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/06—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring nitrogen atom
- C07D213/08—Preparation by ring-closure
- C07D213/09—Preparation by ring-closure involving the use of ammonia, amines, amine salts, or nitriles
- C07D213/12—Preparation by ring-closure involving the use of ammonia, amines, amine salts, or nitriles from unsaturated compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/12—Silica and alumina
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/04—Saturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C49/10—Methyl-ethyl ketone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/16—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation
- C07C51/21—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen
- C07C51/25—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of unsaturated compounds containing no six-membered aromatic ring
- C07C51/252—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of unsaturated compounds containing no six-membered aromatic ring of propene, butenes, acrolein or methacrolein
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
応せしめて2,3,5−コリジンを好収率で製造し、し
かも同時に2−エチル−5−メチルピリジンを製造する
こと。 【解決手段】 コバルト、亜鉛、カドミウム、タリウム
及び鉛からなる群より選ばれる1種以上の元素を含有す
るシリカ−アルミナを触媒として用い、当該触媒の存在
下、メタクロレイン及びメチルエチルケトンをアンモニ
アと気相接触反応せしめて2,3,5−コリジン及び2
−エチル−5−メチルピリジンを製造する。
Description
ジン及び2−エチル−5−メチルピリジンの製造方法に
関し、より詳しくは、触媒の存在下、カルボニル化合物
をアンモニアと気相接触反応せしめて2,3,5−コリ
ジン及び2−エチル−5−メチルピリジンを製造する方
法に関するものである。2,3,5−コリジン及び2−
エチル−5−メチルピリジンは、医農薬原料等、種々の
用途に使用される有用な化合物である。
をアンモニアと気相接触反応せしめて2,3,5−コリ
ジンを製造する方法としては、例えば、ケイ素とジルコ
ニウム、アルミニウム及び/又はリンを構成元素とする
酸化物触媒の存在下、メタクロレインをアンモニアと気
相接触反応せしめる方法(特開平8−245589号公
報)、ケイ素とリン及び/又はホウ素を構成元素とする
酸化物触媒の存在下、メタクロレイン及びメチルエチル
ケトンをアンモニアと気相接触反応せしめる方法(特開
平8−259537号公報)等が知られている。そして
2−エチル−5−メチルピリジンの製造方法としてのカ
ルボニル化合物をアンモニアと気相接触反応せしめる方
法は知られておらず、更に2,3,5−コリジン及び2
−エチル−5−メチルピリジンを併産する方法もこれま
で知られていない。
3,5−コリジンの製造方法に係る前者の方法は主生成
物が3,5−ルチジンであり、2,3,5−コリジンは
16.5%の収率で生成するに過ぎない。そして上記従
来法の後者の方法によれば、2,3,5−コリジンが収
率15〜37%で得られている。しかしながら上記の通
り、種々のピリジン塩基類の工業的製造方法として採用
されているようなカルボニル化合物をアンモニアと気相
接触反応せしめる方法により2−エチル−5−メチルピ
リジンを製造する方法、並びに2,3,5−コリジン及
び2−エチル−5−メチルピリジンを同時に製造する方
法はこれまで全く知られていない。
物をアンモニアと気相接触反応せしめて2,3,5−コ
リジンを好収率で製造し、しかも同時に2−エチル−5
−メチルピリジンを製造できる方法を提供しようとする
ものである。
解決すべく鋭意検討した。その結果、コバルト、亜鉛、
カドミウム、タリウム及び鉛からなる群より選ばれる1
種以上の元素を含有するシリカ−アルミナを触媒として
使用し、当該触媒の存在下にメタクロレイン及びメチル
エチルケトンをアンモニアと気相接触反応せしめると、
好収率で2,3,5−コリジンを製造することができ、
しかも同時に2−エチル−5−メチルピリジンを製造で
きることを見出し、本発明を完成するに至った。
ウム、タリウム及び鉛からなる群より選ばれる1種以上
の元素を含有するシリカ−アルミナを触媒として用い、
当該触媒の存在下、メタクロレイン及びメチルエチルケ
トンをアンモニアと気相接触反応せしめることを特徴と
する2,3,5−コリジン及び2−エチル−5−メチル
ピリジンの製造方法に関する。
る。本発明においては、コバルト、亜鉛、カドミウム、
タリウム及び鉛からなる群より選ばれる1種以上の元素
を含有するシリカ−アルミナを触媒として使用する。コ
バルト、亜鉛、カドミウム、タリウム及び鉛からなる群
より選ばれる1種以上の元素は、金属、イオン及び/又
は化合物として触媒に含有される。本発明の触媒に含有
されるコバルト、亜鉛、カドミウム、タリウム及び鉛の
化合物としては、それらの酸化物、ハロゲン化物、硫酸
塩、硝酸塩、水酸化物、硫化物、珪酸塩、チタン酸塩、
炭酸塩等の無機金属化合物、有機カルボン酸塩、有機キ
レート等の有機金属化合物が挙げられる。
のアルミナの含有量は特に限定されるものではないが、
アルミナの含有量が2〜25重量%であるものが好まし
い。また、本発明の触媒におけるシリカ−アルミナに対
するコバルト、亜鉛、カドミウム、タリウム及び鉛から
なる群より選ばれる1種以上の元素の含有量は、通常
0.1〜30重量%、好ましくは2〜25重量%であ
る。上記元素の含有量は、触媒に含有された上記元素の
金属の量、イオンの量及び/又は化合物中の元素の量の
合計量である。シリカ−アルミナ中のアルミナの含有量
並びにシリカ−アルミナに対するコバルト、亜鉛、カド
ミウム、タリウム及び鉛からなる群より選ばれる1種以
上の元素の含有量が上記好ましい範囲の触媒は、2,
3,5−コリジン及び2−エチル−5−メチルピリジン
を収率よく製造でき、しかも触媒活性の経時劣化を抑制
した優れた触媒である。
ウム、タリウム及び鉛のからなる群より選ばれる1種以
上の元素の原料化合物として、それらの酸化物、ハロゲ
ン化物、硫酸塩、硝酸塩、水酸化物、硫化物、珪酸塩、
チタン酸塩、炭酸塩等の無機金属化合物及びそれらの有
機カルボン酸塩、有機キレート等の有機金属化合物から
選ばれる1種以上の化合物を使用し、これとシリカ−ア
ルミナ粉末又は水ガラス、シリカゾル、珪酸アルカリ等
の珪素化合物及び硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウ
ム、アルミナゾル等のアルミニウム化合物を用いて調製
することができる。
混練法、共沈法及びイオン交換法等のいかなる方法で行
ってもよい。例えば、上記元素の化合物の水溶液をシリ
カ−アルミナに含浸し乾燥、焼成する方法、上記元素の
化合物の水溶液にシリカ−アルミナを浸漬し乾燥、焼成
する方法、上記元素の化合物を粉末のまま或は水等とと
もにシリカ−アルミナと混合又は混練し乾燥、焼成する
方法、上記元素の化合物、珪素化合物及びアルミニウム
化合物の水溶液から得たコバルト、亜鉛、カドミウム、
タリウム及び/又は鉛の水酸化物、珪酸ゲル並びに水酸
化アルミニウムの混合物スラリーを乾燥、焼成する方
法、シリカ−アルミナを塩化アンモニウム水溶液中又は
アンモニア水溶液中で処理してイオン交換し、次いで上
記元素の化合物の水溶液中で処理してイオン交換した
後、得られたコバルトイオン、亜鉛イオン、カドミウム
イオン、タリウムイオン及び/又は鉛イオンを含有する
シリカ−アルミナを水洗、乾燥、焼成する方法等により
調製することができる。
媒として使用できる。固定床触媒として使用するとき
は、例えば、上記のようにして調製した触媒に、所望に
よりシリカ、硅藻土、カオリン、ベントナイト、アルミ
ナ及び/或いはシリカ−アルミナ等を混合するか又は更
に水、ポリビニルアルコール及び/或いは酢酸ビニル等
を加えて混合して、打錠機又は押し出し機で円柱状、円
筒状、棒状に成形すればよい。また、流動床触媒として
使用するときは、例えば、上記のようにして調製した触
媒にシリカ、硅藻土、カオリン、ベントナイト、アルミ
ナ及び/又はシリカ−アルミナ等と水を加えてスラリー
とし、これを噴霧乾燥して球状のマイクロビーズとすれ
ばよい。
気又はその他窒素や二酸化炭素等のガス雰囲気下、30
0〜800℃で数時間焼成して成形品に強度を付与し、
成形品に含まれる揮発成分を除去する。ただし、触媒は
気相接触反応において反応器中で昇温されるため、必ず
しも成形後の焼成は必要ではない。
用して実施することができ、メタクロレイン、メチルエ
チルケトン及びアンモニアの原料混合ガスを本発明の触
媒上に供給して気相接触反応せしめればよい。メタクロ
レインとメチルエチルケトンの使用割合は、メタクロレ
イン1モルに対してメチルエチルケトンが、通常1モル
以上、好ましくは1〜5モルである。また、アンモニア
の使用割合は、メタクロレイン及びメチルエチルケトン
の合計モル数に対して通常0.5〜5倍モル、好ましく
は1〜3倍モルである。
不活性ガスの共存下で行うと、副反応が抑制されて2,
3,5−コリジン及び2−エチル−5−メチルピリジン
の収率が向上するため好ましい。不活性ガスを使用する
とき、その使用量は、メタクロレイン及びメチルエチル
ケトンの合計モルに対して、通常0.2〜10倍モル、
好ましくは0.5〜3倍モルである。
600℃、好ましくは350〜550℃であり、原料混
合ガス又は更に不活性ガスを含む混合ガスの空間速度
(以下、SVという。)は、通常100〜10000H
r-1、好ましくは200〜3000Hr-1である。また
反応は減圧下、常圧下及び加圧下の何れにおいても行う
ことができ、通常常圧〜2気圧(202kPa:ゲージ
圧)付近が至便である。
は、反応管に本発明の触媒を充填して上記反応温度に昇
温した後、当該温度を保持しながら触媒充填層にメタク
ロレイン、メチルエチルケトン、アンモニア及び所望に
より不活性ガスからなる混合ガスを供給して気相接触反
応せしめれば、2,3,5−コリジン及び2−エチル−
5−メチルピリジンを含む反応生成ガスが得られる。
スを、そのまま冷却して凝集せしめるか又は適当な溶媒
中に導入して捕集するかして2,3,5−コリジン及び
2−エチル−5−メチルピリジンを含む凝集物又は捕集
液を得た後、得られた凝集物又は捕集液を蒸留すれば、
2,3,5−コリジン及び2−エチル−5−メチルピリ
ジンを回収することができる。
に詳しく説明するが、本発明はそれらの実施例に限定さ
れるものではない。尚、実施例又は比較例に示される収
率は、それぞれメタクロレイン対するモル収率である。
29.4重量%含有)及び50重量部の水からなる約9
0℃の水溶液に、84重量部の30%硝酸水溶液並びに
18重量部の硝酸アルミニウム[Al(NO3)3・9H
2O]、5重量部の硝酸カドミウム[Cd(NO3)2・
4H2O]及び100重量部の水からなる水溶液を混合
し、次いで得られた混合物にアンモニア水溶液を加えて
pH8に調整しながら3時間熟成した。生成した沈殿を
濾別して水洗し、乾燥した後、空気雰囲気下、500℃
で5時間焼成して、カドミウムの含有量がシリカ−アル
ミナ(シリカ−アルミナ中のアルミナの含有量:15重
量%)に対して5.5重量%である酸化カドミウムを含
有するシリカ−アルミナを得た。このようにして得た酸
化カドミウムを含有するシリカ−アルミナを触媒として
用い、以下の2,3,5−コリジン及び2−エチル−5
−メチルピリジンの製造を行った。上記で得た触媒3g
を内径12.6mmφのガラス製反応管に充填し、反応
管の触媒充填部を450℃に保持した。この反応管の触
媒充填部にメタクロレイン、メチルエチルケトン、水及
びアンモニアの割合がそれぞれ1モル、3モル、4.3
モル及び8モルの混合ガスをSV=500Hr-1で通じ
て反応を行った。反応開始から反応開始後4時間目まで
の反応生成ガスを冷却して凝集せしめた後、得られた凝
集物をガスクロマトグラフにより分析した。その結果、
2,3,5−コリジンの収率は45%及び2−エチル−
5−メチルピリジンの収率は22%であった。また、反
応開始後26時間目から反応開始後30時間目までの4
時間の収率は、2,3,5−コリジン43%、2−エチ
ル−5−メチルピリジン22%であった。
ン、水及びアンモニアの割合をそれぞれ1モル、2モ
ル、4.3モル及び6モルに代えた以外は実施例1と同
様にして2,3,5−コリジン及び2−エチル−5−メ
チルピリジンの製造を行った。その結果、反応開始から
反応開始後4時間目までの2,3,5−コリジンの収率
は41%及び2−エチル−5−メチルピリジンの収率は
18%であった。
重量部の硝酸鉛[Pb(NO3)3]を用いた以外は実施
例1と同様にして、鉛の含有量がシリカ−アルミナ(ア
ルミナの含有量:15重量%)に対して9.3重量%で
ある酸化鉛を含有するシリカ−アルミナを得た。酸化カ
ドミウムを含有するシリカ−アルミナに代えて上記で得
た酸化鉛を含有するシリカ−アルミナを触媒として用い
た以外は実施例1と同様にして2,3,5−コリジン及
び2−エチル−5−メチルピリジンの製造を行った。そ
の結果、反応開始から反応開始後4時間目までの2,
3,5−コリジンの収率は43%及び2−エチル−5−
メチルピリジンの収率は21%であった。
Claims (7)
- 【請求項1】 コバルト、亜鉛、カドミウム、タリウム
及び鉛からなる群より選ばれる1種以上の元素を含有す
るシリカ−アルミナを触媒として用い、当該触媒の存在
下、メタクロレイン及びメチルエチルケトンをアンモニ
アと気相接触反応せしめることを特徴とする2,3,5
−コリジン及び2−エチル−5−メチルピリジンの製造
方法。 - 【請求項2】 シリカ−アルミナ中のアルミナの含有量
が2〜25重量%の触媒である請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 シリカ−アルミナに対するコバルト、亜
鉛、カドミウム、タリウム及び鉛からなる群より選ばれ
る1種以上の元素の含有量が0.1〜30重量%の触媒
である請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 コバルト、亜鉛、カドミウム、タリウム
及び鉛からなる群より選ばれる1種以上の元素を酸化物
として含有する触媒である請求項1、2又は3に記載の
方法。 - 【請求項5】 メタクロレイン1モルに対してメチルエ
チルケトンを1モル以上使用し、且つメタクロレイン及
びメチルエチルケトンの合計モル数に対してアンモニア
を0.5〜5倍モル使用する請求項1〜4のいずれか1
項に記載の方法。 - 【請求項6】 不活性ガスの共存下で気相接触反応せし
める請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項7】 不活性ガスが水蒸気又は窒素である請求
項6に記載の方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17654997A JP4313854B2 (ja) | 1997-06-16 | 1997-06-16 | 2,3,5−コリジン及び2−エチル−5−メチルピリジンの製造方法 |
| IN1026CA1998 IN184375B (ja) | 1997-06-16 | 1998-06-09 | |
| TW087109254A TW382626B (en) | 1997-06-16 | 1998-06-10 | Process for the preparation of 2,3,5-collidine and 2-ethyl-5-methylpyridine |
| KR1019980021994A KR100508514B1 (ko) | 1997-06-16 | 1998-06-12 | 2,3,5-콜리딘및2-에틸-5-메틸피리딘의제조방법 |
| US09/096,383 US6111113A (en) | 1997-06-16 | 1998-06-12 | Process for the preparation of 2,3,5-collidine and 2-ethyl-5-methylpyridine |
| CN98114984A CN1093121C (zh) | 1997-06-16 | 1998-06-16 | 制备2,3,5-可力丁和2-乙基-5-甲基吡啶的方法 |
| EP98110988A EP0885884A1 (en) | 1997-06-16 | 1998-06-16 | Process for the preparation of 2,3,5-collidine and 2-ethyl-5-methylpyridine |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17654997A JP4313854B2 (ja) | 1997-06-16 | 1997-06-16 | 2,3,5−コリジン及び2−エチル−5−メチルピリジンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH115781A true JPH115781A (ja) | 1999-01-12 |
| JP4313854B2 JP4313854B2 (ja) | 2009-08-12 |
Family
ID=16015535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17654997A Expired - Fee Related JP4313854B2 (ja) | 1997-06-16 | 1997-06-16 | 2,3,5−コリジン及び2−エチル−5−メチルピリジンの製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6111113A (ja) |
| EP (1) | EP0885884A1 (ja) |
| JP (1) | JP4313854B2 (ja) |
| KR (1) | KR100508514B1 (ja) |
| CN (1) | CN1093121C (ja) |
| IN (1) | IN184375B (ja) |
| TW (1) | TW382626B (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6495695B2 (en) * | 2001-03-30 | 2002-12-17 | Council Of Scientific And Industrial Research | Process for the preparation of a collidine and 2,3,5,6-tetramethyl pyridine |
| CN100460393C (zh) * | 2006-11-21 | 2009-02-11 | 浙江大学 | 2,3-二甲基吡啶的制备方法 |
| CN103030591B (zh) * | 2012-12-11 | 2014-08-06 | 安徽国星生物化学有限公司 | 2,3,5-三甲基吡啶的吸附提纯方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6153265A (ja) * | 1984-08-23 | 1986-03-17 | Koei Chem Co Ltd | β−ピコリン及び3,5−ルチジンの製造方法 |
| US4810794A (en) * | 1986-02-06 | 1989-03-07 | Koei Chemical Co., Ltd. | Process for producing pyridine bases |
| FR2725446A1 (fr) * | 1994-10-06 | 1996-04-12 | Solvay Interox | Oxydation d'heterocycles de l'azote et n-oxydes heterocycliques produits par cette oxydation |
| JPH08245589A (ja) * | 1995-03-16 | 1996-09-24 | Nitto Chem Ind Co Ltd | ジ−およびトリ−メチルピリジンの製造法 |
| JPH08259537A (ja) * | 1995-03-24 | 1996-10-08 | Nitto Chem Ind Co Ltd | 3−メチルピリジン類の製造方法 |
| PT837849E (pt) * | 1995-06-23 | 2002-06-28 | Reilly Ind Inc | Sintese de bases de piridina |
| JPH09124602A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-05-13 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 3,5−ルチジンおよび2,3,5−コリジンの製造方法 |
-
1997
- 1997-06-16 JP JP17654997A patent/JP4313854B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-06-09 IN IN1026CA1998 patent/IN184375B/en unknown
- 1998-06-10 TW TW087109254A patent/TW382626B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-06-12 US US09/096,383 patent/US6111113A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-06-12 KR KR1019980021994A patent/KR100508514B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1998-06-16 CN CN98114984A patent/CN1093121C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-06-16 EP EP98110988A patent/EP0885884A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1093121C (zh) | 2002-10-23 |
| IN184375B (ja) | 2000-08-12 |
| US6111113A (en) | 2000-08-29 |
| EP0885884A1 (en) | 1998-12-23 |
| KR100508514B1 (ko) | 2006-03-31 |
| JP4313854B2 (ja) | 2009-08-12 |
| TW382626B (en) | 2000-02-21 |
| CN1203912A (zh) | 1999-01-06 |
| KR19990006933A (ko) | 1999-01-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4810794A (en) | Process for producing pyridine bases | |
| JPH0559787B2 (ja) | ||
| JP4081824B2 (ja) | アクリル酸の製造方法 | |
| US4388221A (en) | Vanadium-phosphorus-tin-mordenite oxidation catalysts | |
| JP3465350B2 (ja) | メタクリル酸製造用触媒の製造法 | |
| US4638085A (en) | Preparation of methyl methacrylate from methacrolein | |
| US4000209A (en) | Isoprene production and catalyst therefor | |
| JPS58219944A (ja) | コバルトを含有する担体触媒及びその製法 | |
| JP4313854B2 (ja) | 2,3,5−コリジン及び2−エチル−5−メチルピリジンの製造方法 | |
| JP4164603B2 (ja) | ε−カプロラクタムの製造法 | |
| US4481363A (en) | Method for producing maleic anhydride | |
| JP4092741B2 (ja) | アミンの製法 | |
| JP2862257B2 (ja) | ピリジン塩基類を製造する方法 | |
| JP4040471B2 (ja) | 2,3,5−トリメチルピリジン、2,3,6−トリメチルピリジン及び2,3,5,6−テトラメチルピリジンの製造方法 | |
| JPH026414A (ja) | イソブチレンの製造法 | |
| JP3036938B2 (ja) | 飽和炭化水素の酸化方法 | |
| JP3209960B2 (ja) | 不飽和ニトリルの製造法 | |
| JP3818697B2 (ja) | アンモ酸化触媒及びそれを用いたニトリルの製造方法 | |
| JPH08245211A (ja) | 一酸化炭素の製造方法 | |
| JP2003001112A (ja) | メタクリル酸合成用触媒およびメタクリル酸の製造方法 | |
| JPS6126972B2 (ja) | ||
| JP3768289B2 (ja) | アンモ酸化触媒およびそれを用いたニトリルの製造方法 | |
| JP3020153B2 (ja) | エタノール合成用触媒 | |
| JPH08301815A (ja) | グリオキシル酸エステルの製造法 | |
| US20040119052A1 (en) | Process for preparing alpha- and beta- methyl-gamma-butyrolactone and 3-methyltetrahydrofuran |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040610 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080207 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080212 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090428 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090518 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120522 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |