JPH115878A - スチレン系樹脂組成物及びその製造方法 - Google Patents
スチレン系樹脂組成物及びその製造方法Info
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐候性が良好で衝撃強度と剛性が優れたゴム
変性スチレン系樹脂を得る。 【解決手段】 スチレン系単量体を重合せしめて得られ
る重合体にゴム状重合体粒子を分散させてなるゴム変性
スチレン系樹脂組成物であって、特定の、エチレンと炭
素数６以上の不飽和化合物とからなる共重合体であるゴ
ム状重合体を使用する。
変性スチレン系樹脂を得る。 【解決手段】 スチレン系単量体を重合せしめて得られ
る重合体にゴム状重合体粒子を分散させてなるゴム変性
スチレン系樹脂組成物であって、特定の、エチレンと炭
素数６以上の不飽和化合物とからなる共重合体であるゴ
ム状重合体を使用する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はスチレン系樹脂組成
物およびその製造方法に関する。さらに詳しくは特定の
構造を有するゴムを含むスチレン系樹脂組成物およびそ
の製造方法に関する。
物およびその製造方法に関する。さらに詳しくは特定の
構造を有するゴムを含むスチレン系樹脂組成物およびそ
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリスチレンは成形加工性に優れ、成形
物とした場合、成形物の外観と、機械物性、電気特性、
寸法安定性等のバランスの良い樹脂であり、家庭電気製
品、電子機器等に広く用いられているが、さらにポリス
チレンの持つ欠点である脆さを改良するためにゴムを添
加グラフト化して、耐衝撃性を向上させた耐衝撃性ポリ
スチレンが用いられている。最近では大型でより複雑な
形状を有し、しかも肉厚が薄い成形物にも用いられるよ
うになった。このような状況から、成形加工性に優れ、
しかも高い衝撃強度を有するゴム変性スチレン系樹脂が
求められている。ゴム変性スチレン系樹脂は、ゴム粒子
をスチレン系樹脂に分散させたものであるが、その分散
ゴム粒子を形成するゴム状重合体の性質が、製品性能に
重要な影響を及ぼす事が知られている。分散ゴム粒子を
形成するゴム状重合体としては、従来アニオン重合等の
重合方法で製造されるポリブタジエンゴムやスチレン・
ブタジエンゴムあるいはエチレン・プロピレンゴム、エ
チレン・プロピレン・ジエンゴム等が用いられている。
物とした場合、成形物の外観と、機械物性、電気特性、
寸法安定性等のバランスの良い樹脂であり、家庭電気製
品、電子機器等に広く用いられているが、さらにポリス
チレンの持つ欠点である脆さを改良するためにゴムを添
加グラフト化して、耐衝撃性を向上させた耐衝撃性ポリ
スチレンが用いられている。最近では大型でより複雑な
形状を有し、しかも肉厚が薄い成形物にも用いられるよ
うになった。このような状況から、成形加工性に優れ、
しかも高い衝撃強度を有するゴム変性スチレン系樹脂が
求められている。ゴム変性スチレン系樹脂は、ゴム粒子
をスチレン系樹脂に分散させたものであるが、その分散
ゴム粒子を形成するゴム状重合体の性質が、製品性能に
重要な影響を及ぼす事が知られている。分散ゴム粒子を
形成するゴム状重合体としては、従来アニオン重合等の
重合方法で製造されるポリブタジエンゴムやスチレン・
ブタジエンゴムあるいはエチレン・プロピレンゴム、エ
チレン・プロピレン・ジエンゴム等が用いられている。
【０００３】ゴム状重合体としてポリブタジエンまたは
ブタジエンを含む重合体が一般的に用いられているが、
これで製造したゴム変性スチレン系樹脂は耐候性が不十
分で用途によっては問題があり、改良がのぞまれてい
る。
ブタジエンを含む重合体が一般的に用いられているが、
これで製造したゴム変性スチレン系樹脂は耐候性が不十
分で用途によっては問題があり、改良がのぞまれてい
る。
【０００４】通常、ゴムの種類により樹脂中のゴム粒子
の粒径や構造も大きく変化することが知られている。例
えば、ゴム変性スチレン系共重合体樹脂中のゴム粒子の
形状としては通常いわゆるサラミ構造をしているものが
多い。例えばＡｎｇｅｗ．Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅ
ｍ．５８／５９Ｐ１７５−１９８（１９７７年））。
の粒径や構造も大きく変化することが知られている。例
えば、ゴム変性スチレン系共重合体樹脂中のゴム粒子の
形状としては通常いわゆるサラミ構造をしているものが
多い。例えばＡｎｇｅｗ．Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅ
ｍ．５８／５９Ｐ１７５−１９８（１９７７年））。
【０００５】これらの方法によれば、ゴムの種類により
樹脂中のゴム粒子の粒径や構造が変化し、それによって
成形物の物性も変わっている。
樹脂中のゴム粒子の粒径や構造が変化し、それによって
成形物の物性も変わっている。
【０００６】一方、最近シクロペンタジエニル骨挌から
なる配位子を有する遷移金属化合物とメチルアルミノキ
サンを助触媒に使用してなる触媒の存在下にエチレンと
プロピレンとジエンとを共重合することにより従来とは
異なった物性のゴムが得られることが報告されている。
なる配位子を有する遷移金属化合物とメチルアルミノキ
サンを助触媒に使用してなる触媒の存在下にエチレンと
プロピレンとジエンとを共重合することにより従来とは
異なった物性のゴムが得られることが報告されている。
【０００７】さらにシクロペンタジエニル骨挌からなる
配位子を有する遷移金属化合物とメチルアルミノキサン
を助触媒に使用してなる触媒の存在下にエチレンとブテ
ンやヘキセン等のオレフィンとを共重合することによっ
ても従来とは異なった物性のゴムが得られることが報告
されている。
配位子を有する遷移金属化合物とメチルアルミノキサン
を助触媒に使用してなる触媒の存在下にエチレンとブテ
ンやヘキセン等のオレフィンとを共重合することによっ
ても従来とは異なった物性のゴムが得られることが報告
されている。
【０００８】例えば新しいプロピレン、エチレン、ジエ
ン共重合体として最近では特開平２−６４１１１に架橋
構造を有するメタロセン化合物とアルミノキサンよりな
る触媒を用いてプロピレン、エチレン、ジエン共重合体
を合成する方法が公知である。また、ＤＯＷ社特許ＵＳ
Ｐ５，２７８，２７２にはエチレンとヘキセンの共重合
体を合成する方法も公知である。
ン共重合体として最近では特開平２−６４１１１に架橋
構造を有するメタロセン化合物とアルミノキサンよりな
る触媒を用いてプロピレン、エチレン、ジエン共重合体
を合成する方法が公知である。また、ＤＯＷ社特許ＵＳ
Ｐ５，２７８，２７２にはエチレンとヘキセンの共重合
体を合成する方法も公知である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】耐衝撃強度を改良する
ためのポリスチレンとゴム状重合体を組み合わせる方法
は、ゴムの種類を変えることにより組成物の物性が大き
く変わることから、精力的に研究開発が行われ、これま
で多くの特許公報等に開示されている。スチレンを含ま
ないゴムであるＥＰＲやＥＰＤＭでは耐衝撃性を改良す
るためには大量のゴムを添加しなければならなかった
り、ゴムを樹脂中に均一に分散させるために相溶化剤と
してスチレン成分を含むゴム共重合体を添加する方法が
特開平１−１４６９４４、特開平１−２７９９４４に提
案されているが、これらの方法は相溶化剤としての効果
が小さく、耐衝撃性を改良するためのゴムの添加量を減
らせることはできないと言う問題があり、現在もポリス
チレンの物性改良を目的に新しいゴムの改良努力が続け
られており、物性バランスの優れたスチレン系樹脂の開
発が望まれている。
ためのポリスチレンとゴム状重合体を組み合わせる方法
は、ゴムの種類を変えることにより組成物の物性が大き
く変わることから、精力的に研究開発が行われ、これま
で多くの特許公報等に開示されている。スチレンを含ま
ないゴムであるＥＰＲやＥＰＤＭでは耐衝撃性を改良す
るためには大量のゴムを添加しなければならなかった
り、ゴムを樹脂中に均一に分散させるために相溶化剤と
してスチレン成分を含むゴム共重合体を添加する方法が
特開平１−１４６９４４、特開平１−２７９９４４に提
案されているが、これらの方法は相溶化剤としての効果
が小さく、耐衝撃性を改良するためのゴムの添加量を減
らせることはできないと言う問題があり、現在もポリス
チレンの物性改良を目的に新しいゴムの改良努力が続け
られており、物性バランスの優れたスチレン系樹脂の開
発が望まれている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題を
解決するために種々のゴムを用いてスチレン系樹脂を合
成する方法を鋭意検討したところ、特定の構造を有する
ゴム状重合体をスチレン系樹脂中に分散させることによ
って物性バランスの優れたスチレン系樹脂組成物が得ら
れることを見いだして本発明を完成させた。すなわち本
発明は以下の発明より構成される。
解決するために種々のゴムを用いてスチレン系樹脂を合
成する方法を鋭意検討したところ、特定の構造を有する
ゴム状重合体をスチレン系樹脂中に分散させることによ
って物性バランスの優れたスチレン系樹脂組成物が得ら
れることを見いだして本発明を完成させた。すなわち本
発明は以下の発明より構成される。
【００１１】 スチレン系単量体を重合せしめて得ら
れる重合体にゴム状重合体粒子を分散させてなるゴム変
性スチレン系樹脂組成物であって、該ゴム状重合体粒子
の形成原料であるゴム状重合体が、エチレンと炭素数６
以上の不飽和化合物とからなる共重合体であって、エチ
レンと炭素数６以上の不飽和化合物との共重合体におけ
る、該炭素数６以上の不飽和化合物単位の含量が２０な
いし６０モル％の範囲にあり、ムーニー粘度 ＭＬ1+4
（１００℃）が５〜１００の範囲であり、ＤＳＣで求め
たガラス転移温度が−３０℃以下であり、ジク温度が−
３０℃以下であり、ジクロロベンゼンを移動相として昇
温分別装置で２５℃以下で流出する成分が９０％以上で
あることを特徴とするゴム変性スチレン系樹脂組成物。
れる重合体にゴム状重合体粒子を分散させてなるゴム変
性スチレン系樹脂組成物であって、該ゴム状重合体粒子
の形成原料であるゴム状重合体が、エチレンと炭素数６
以上の不飽和化合物とからなる共重合体であって、エチ
レンと炭素数６以上の不飽和化合物との共重合体におけ
る、該炭素数６以上の不飽和化合物単位の含量が２０な
いし６０モル％の範囲にあり、ムーニー粘度 ＭＬ1+4
（１００℃）が５〜１００の範囲であり、ＤＳＣで求め
たガラス転移温度が−３０℃以下であり、ジク温度が−
３０℃以下であり、ジクロロベンゼンを移動相として昇
温分別装置で２５℃以下で流出する成分が９０％以上で
あることを特徴とするゴム変性スチレン系樹脂組成物。
【００１２】 ゴム状重合体が （Ａ）下記一般式（１、２、３）（化２）
【００１３】
【化２】 （Ａ）Ｍ（Ｒ1）（Ｒ2）（Ｒ3） 一般式（１） （Ａ）（Ｂ）Ｍ（Ｒ1）（Ｒ2） 一般式（２） （Ａ）（Ｂ）（Ｃ）Ｍ（Ｒ1） 一般式（３） （式中Ａ、ＢおよびＣは、Ｍに結合または配位している
π系）の不飽和化合物よりなる基、シクロペンタジエニ
ル基またはその誘導体基、周期律表第１３族、１４族、
１５族及び１６族の複素原子がＭに結合または配位して
いる基よりなる配位子であり、Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ
の間で一重結合、二重結合またはそれらの組合せで結合
されていても良い。Ａ、ＢおよびＣはＭに結合または配
位しており、Ａ，Ｂ及びＣでＭが共鳴結合しているもの
も含む。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、有機メタロイド基、アルコキシ基、アミノ基、炭
化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を示し、それ
らはお互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ1、Ｒ2及
びＲ3間で架橋していても良く、またＲ1、Ｒ2及びＲ3と
Ｍとが架橋していてもよい。Ｍは周期律表第３族、第４
族、第５族、ランタノイド系またはアクチノイド系の金
属である。） （Ｂ）（Ｂ１）〜（Ｂ３）より選ばれた少なくとも一種
の、（Ａ）と反応して安定なイオン性の錯体を形成する
化合物 （Ｂ１）アルミノキサン、 （Ｂ２）（Ａ）と反応して安定なイオン性の錯体を形成
する嵩高いアニオンとカチオンから形成されるイオン性
化合物、 （Ｂ３）（Ａ）と反応して安定なイオン性の錯体を形成
するルイス酸化合物 （Ｃ）必要に応じて少なくとも１個以上の炭化水素残基
を有する周期律表第１、２族または１３族の有機金属化
合物 よりなる触媒を使用してエチレンと不飽和結合を有する
炭素数６以上の不飽和化合物を共重合して得られたもの
であることを特徴とする記載のゴム変成スチレン系樹
脂組成物。
π系）の不飽和化合物よりなる基、シクロペンタジエニ
ル基またはその誘導体基、周期律表第１３族、１４族、
１５族及び１６族の複素原子がＭに結合または配位して
いる基よりなる配位子であり、Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ
の間で一重結合、二重結合またはそれらの組合せで結合
されていても良い。Ａ、ＢおよびＣはＭに結合または配
位しており、Ａ，Ｂ及びＣでＭが共鳴結合しているもの
も含む。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、有機メタロイド基、アルコキシ基、アミノ基、炭
化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を示し、それ
らはお互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ1、Ｒ2及
びＲ3間で架橋していても良く、またＲ1、Ｒ2及びＲ3と
Ｍとが架橋していてもよい。Ｍは周期律表第３族、第４
族、第５族、ランタノイド系またはアクチノイド系の金
属である。） （Ｂ）（Ｂ１）〜（Ｂ３）より選ばれた少なくとも一種
の、（Ａ）と反応して安定なイオン性の錯体を形成する
化合物 （Ｂ１）アルミノキサン、 （Ｂ２）（Ａ）と反応して安定なイオン性の錯体を形成
する嵩高いアニオンとカチオンから形成されるイオン性
化合物、 （Ｂ３）（Ａ）と反応して安定なイオン性の錯体を形成
するルイス酸化合物 （Ｃ）必要に応じて少なくとも１個以上の炭化水素残基
を有する周期律表第１、２族または１３族の有機金属化
合物 よりなる触媒を使用してエチレンと不飽和結合を有する
炭素数６以上の不飽和化合物を共重合して得られたもの
であることを特徴とする記載のゴム変成スチレン系樹
脂組成物。
【００１４】 スチレン系単量体の重合体と、前記ゴ
ム状重合体とを溶融混合することを特徴とするまたは
記載のゴム変性スチレン系脂組成物を製造する方法。
ム状重合体とを溶融混合することを特徴とするまたは
記載のゴム変性スチレン系脂組成物を製造する方法。
【００１５】 記載のゴム状重合体をスチレン系
単量体を含む溶液に溶解し、この溶液を重合させて得ら
れるゴム状重合体粒子を分散してなるゴム変性スチレン
系樹脂組成物の製造方法。
単量体を含む溶液に溶解し、この溶液を重合させて得ら
れるゴム状重合体粒子を分散してなるゴム変性スチレン
系樹脂組成物の製造方法。
【００１６】 ゴム状重合体粒子化を分散する際
に、ゴム状重合体がスチレン系単量体を含む溶液に溶解
した溶液１００重量部に対し、有機過酸化物を０．００
０５ないし０．０５重量部添加して重合することを特徴
とする記載のゴム変性スチレン系樹脂組成物の製造方
法。
に、ゴム状重合体がスチレン系単量体を含む溶液に溶解
した溶液１００重量部に対し、有機過酸化物を０．００
０５ないし０．０５重量部添加して重合することを特徴
とする記載のゴム変性スチレン系樹脂組成物の製造方
法。
【００１７】 乃至のいずれか記載の製造方法に
よって得られるゴム変性スチレン系樹脂組成物。
よって得られるゴム変性スチレン系樹脂組成物。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明のゴム変性スチレン系組成
物のゴム状重合体粒子の形成原料であるゴム状重合体
は、エチレンと炭素数６以上の不飽和化合物とからなる
共重合体であって、エチレンと炭素数６以上の不飽和化
合物との共重合体における、該炭素数６以上の不飽和化
合物単位の含量が２０ないし６０モル％の範囲にあり、
ムーニー粘度 ＭＬ1+4（１００℃）が５〜１００の範
囲であり、ＤＳＣで求めたガラス転移温度が−３０℃以
下であり、ジクロロベンゼンを移動相として昇温分別装
置で２５℃以下で流出する成分が９０％以上であるもの
が用いられる。
物のゴム状重合体粒子の形成原料であるゴム状重合体
は、エチレンと炭素数６以上の不飽和化合物とからなる
共重合体であって、エチレンと炭素数６以上の不飽和化
合物との共重合体における、該炭素数６以上の不飽和化
合物単位の含量が２０ないし６０モル％の範囲にあり、
ムーニー粘度 ＭＬ1+4（１００℃）が５〜１００の範
囲であり、ＤＳＣで求めたガラス転移温度が−３０℃以
下であり、ジクロロベンゼンを移動相として昇温分別装
置で２５℃以下で流出する成分が９０％以上であるもの
が用いられる。
【００１９】上記で定義されたゴム状重合体であれば製
造法など特に制限なく使用できる。該ゴム状重合体の好
ましい重合方法の一例は下記一般式（１、２、３）（化
３）と助触媒よりなる触媒系でエチレンと炭素数６以上
の不飽和化合物との共重合して得られたものである。
造法など特に制限なく使用できる。該ゴム状重合体の好
ましい重合方法の一例は下記一般式（１、２、３）（化
３）と助触媒よりなる触媒系でエチレンと炭素数６以上
の不飽和化合物との共重合して得られたものである。
【００２０】
【化３】 （Ａ）Ｍ（Ｒ1）（Ｒ2）（Ｒ3） 一般式（１） （Ａ）（Ｂ）Ｍ（Ｒ1）（Ｒ2） 一般式（２） （Ａ）（Ｂ）（Ｃ）Ｍ（Ｒ1） 一般式（３） （Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｍ、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は既に定義下も
のである） 本発明のゴム状重合体に使用される不飽和結合を有する
炭素数６以上の不飽和化合物としては例えば３−メタル
ペンテン−１、４−メタルペンテン−１、２，３−ジメ
チルブタジエン、２−メチル−５−ビニルピリジン、１
−ヘキセン、２−エチル−１，２−エチル−１−ヘキセ
ン、１−オクテン、１−デセン、１−ノネン、１−ウン
デセン、１−ドデセン、ビニルシクロヘキサン、スチレ
ン誘導体等の不飽和化合物化合物が挙げられる。
のである） 本発明のゴム状重合体に使用される不飽和結合を有する
炭素数６以上の不飽和化合物としては例えば３−メタル
ペンテン−１、４−メタルペンテン−１、２，３−ジメ
チルブタジエン、２−メチル−５−ビニルピリジン、１
−ヘキセン、２−エチル−１，２−エチル−１−ヘキセ
ン、１−オクテン、１−デセン、１−ノネン、１−ウン
デセン、１−ドデセン、ビニルシクロヘキサン、スチレ
ン誘導体等の不飽和化合物化合物が挙げられる。
【００２１】本発明のゴム状重合体はエチレンに対して
不飽和結合を有する炭素数６以上の不飽和化合物単位の
含量が２０ないし６０モル％、好ましくは２５〜５０モ
ル％の範囲にあるものが物性的に良好である。
不飽和結合を有する炭素数６以上の不飽和化合物単位の
含量が２０ないし６０モル％、好ましくは２５〜５０モ
ル％の範囲にあるものが物性的に良好である。
【００２２】さらに、ムーニー粘度 ＭＬ1+4（１００
℃）が５〜１００の範囲であることが必要であり、好ま
しくは１０〜７０の範囲、より好ましくは１０〜５０の
範囲である。
℃）が５〜１００の範囲であることが必要であり、好ま
しくは１０〜７０の範囲、より好ましくは１０〜５０の
範囲である。
【００２３】ムーニー粘度５以下では物性的に悪くなる
ので好ましくない。またムーニー粘度が１００以上であ
る樹脂中でのゴム粒子の分散性や樹脂組成物の成形性が
悪くなるので好ましくない。
ので好ましくない。またムーニー粘度が１００以上であ
る樹脂中でのゴム粒子の分散性や樹脂組成物の成形性が
悪くなるので好ましくない。
【００２４】また示差熱分析計（ＤＳＣ）で求めたガラ
ス転移温度が−３０℃以下、であることが必要であり、
好ましくは−４０℃以下である。−３０℃を超えると衝
撃強度が低下するので好ましくない。
ス転移温度が−３０℃以下、であることが必要であり、
好ましくは−４０℃以下である。−３０℃を超えると衝
撃強度が低下するので好ましくない。
【００２５】さらにジクロロベンゼンを移動相に用いた
昇温分別装置で２５℃以下で流出する成分が９０％以
上、好ましくは９５％以上である。
昇温分別装置で２５℃以下で流出する成分が９０％以
上、好ましくは９５％以上である。
【００２６】２５℃以下で流出しない成分はエチレン連
鎖を多く含むためゴムとしての性能を低下させるためこ
の成分が１０％以上のものは好ましくない。
鎖を多く含むためゴムとしての性能を低下させるためこ
の成分が１０％以上のものは好ましくない。
【００２７】本発明の方法で使用する昇温分別装置とし
て１．０７ｃｍ径のカラムにクロモソルブ−Ｐを充填
し、赤外検出器を付け、移動相として０−ジクロロベン
ゼンを毎分２ｍｌの割合で流しながら、測定を行った。
試料は０．７ｍｇを２ｍｌの０−ジクロロベンゼンに溶
解した試料溶液を１３５℃のカラム内に注入し、０℃ま
でカラム全体を冷却した後カラム温度を２０℃／時間の
割合で昇温し、各温度で溶出したポリマー濃度を赤外検
出器で検出して求められる。
て１．０７ｃｍ径のカラムにクロモソルブ−Ｐを充填
し、赤外検出器を付け、移動相として０−ジクロロベン
ゼンを毎分２ｍｌの割合で流しながら、測定を行った。
試料は０．７ｍｇを２ｍｌの０−ジクロロベンゼンに溶
解した試料溶液を１３５℃のカラム内に注入し、０℃ま
でカラム全体を冷却した後カラム温度を２０℃／時間の
割合で昇温し、各温度で溶出したポリマー濃度を赤外検
出器で検出して求められる。
【００２８】本発明でいうスチレン系単量体とは、スチ
レン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレンのよう
な側鎖アルキル置換スチレン、ビニルトルエン、ビニル
キシレン、ｏ−ｔ−ブチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルス
チレン、ｐ−メチルスチレンのような核アルキル置換ス
チレン、モノクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリ
プロモスチレン、テトラヒドロスチレン等のハロゲン化
スチレン及びｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−メトキシス
チレン等が挙げられる。
レン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレンのよう
な側鎖アルキル置換スチレン、ビニルトルエン、ビニル
キシレン、ｏ−ｔ−ブチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルス
チレン、ｐ−メチルスチレンのような核アルキル置換ス
チレン、モノクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリ
プロモスチレン、テトラヒドロスチレン等のハロゲン化
スチレン及びｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−メトキシス
チレン等が挙げられる。
【００２９】特に好ましくは、スチレン、α−メチルス
チレン、及びｐ−メチルスチレンであり、スチレン系単
量体はこれらのうちの一種又は二種以上を混合して用い
ることができる。
チレン、及びｐ−メチルスチレンであり、スチレン系単
量体はこれらのうちの一種又は二種以上を混合して用い
ることができる。
【００３０】ゴム状重合体粒子は、ゴム状重合体の所定
量を上記スチレン系単量体に溶融混合させることによ
り、スチレン系重合体中にゴム状重合体粒子を分散状態
で形成させるものである。またはゴム状重合体の所定量
を添加したスチレン系単量体を重合させることにより、
スチレン系重合体中にゴム状重合体粒子を分散状態で形
成させるものである。
量を上記スチレン系単量体に溶融混合させることによ
り、スチレン系重合体中にゴム状重合体粒子を分散状態
で形成させるものである。またはゴム状重合体の所定量
を添加したスチレン系単量体を重合させることにより、
スチレン系重合体中にゴム状重合体粒子を分散状態で形
成させるものである。
【００３１】使用するゴム状重合体の割合は重合条件等
で重合体中に分散される量が異なるので、スチレン系単
量体の重合体中に含まれるゴム状重合体の割合で示す
と、スチレン系重合体に対して３〜５０重量％、好まし
くは５〜４０重量％、さらに好ましくは３〜３０重量％
である。
で重合体中に分散される量が異なるので、スチレン系単
量体の重合体中に含まれるゴム状重合体の割合で示す
と、スチレン系重合体に対して３〜５０重量％、好まし
くは５〜４０重量％、さらに好ましくは３〜３０重量％
である。
【００３２】本発明のゴム状重合体はエチレンと炭素数
６以上の不飽和化合物の共重合体であって、前記したよ
うな特定の不飽和化合物含有率、極限粘度、ガラス転位
温度、昇温分別装置での特定の分別値を有するもであれ
ば製造方法に限定されずに使用することができるが、該
ゴム状重合体の好ましい製造は以下に示す遷移金属化合
物を触媒成分として含む触媒系を用いて行うことができ
る。
６以上の不飽和化合物の共重合体であって、前記したよ
うな特定の不飽和化合物含有率、極限粘度、ガラス転位
温度、昇温分別装置での特定の分別値を有するもであれ
ば製造方法に限定されずに使用することができるが、該
ゴム状重合体の好ましい製造は以下に示す遷移金属化合
物を触媒成分として含む触媒系を用いて行うことができ
る。
【００３３】該遷移金属化合物は、少なくとも一つのシ
クロペンタジエニル基またはその誘導体基や周期律表第
１３族、１４族、１５族または第１６族の複素原子を含
む基を配位子とする周期律表第３族、第４族、第５族、
ランタノイドまたはアクチノイドの金属を含む金属錯体
である。
クロペンタジエニル基またはその誘導体基や周期律表第
１３族、１４族、１５族または第１６族の複素原子を含
む基を配位子とする周期律表第３族、第４族、第５族、
ランタノイドまたはアクチノイドの金属を含む金属錯体
である。
【００３４】これらの遷移金属錯体は有機化合物や無機
化合物から選ばれた担体、好ましくは無機化合物に担持
したものが好ましく使用される。有機化合物の担体とし
ては架橋ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、カーボン等、無機化合物としては無機酸化物、金属
炭酸塩、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、例えばシリカ
ゲル、アルミナ、塩化マグネシウムまたは炭酸マグネシ
ウム等が例示される。
化合物から選ばれた担体、好ましくは無機化合物に担持
したものが好ましく使用される。有機化合物の担体とし
ては架橋ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、カーボン等、無機化合物としては無機酸化物、金属
炭酸塩、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、例えばシリカ
ゲル、アルミナ、塩化マグネシウムまたは炭酸マグネシ
ウム等が例示される。
【００３５】上記遷移金属化合物は助触媒、及び必要に
応じて他の成分を組み合わせて使用することも可能であ
る。
応じて他の成分を組み合わせて使用することも可能であ
る。
【００３６】該遷移金属化合物としては前記の一般式
（１、２、３）で示された化合物が使用でき、これを具
体的に以下に示す。
（１、２、３）で示された化合物が使用でき、これを具
体的に以下に示す。
【００３７】ここで一般式（１）で示される化合物の具
体的な例を挙げれば次のようなものがある。ビス（シク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス
（メチルヒクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロラ
イド、ビス（１，２ジメチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、ビス（１，３ジメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス
（１，２，３トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロライド、ビス（１，２，４トリメチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス
（１，２，３，４テトラメチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロライド、ビス（ペンタメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（エ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、ビス（１，２ジエチルシクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロライド、ビス（１，３ジエチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロライド，ビス（イソ
プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロラ
イド、ビス（フェニルプロピルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロライド、ビス（ｔ−ブチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（イン
デニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（４−メチル
−１−インデニル）ジルコニウムジクロライド、ビス
（５−メチルー１−インデニル）ジルコニウムジクロラ
イド、ビス（６−メチル−１−インデニル）ジルコニウ
ムジクロライド、ビス（７−メチルー１−インデニル）
ジルコニウムジクロライド、ビス（５−メトキシー１−
インデニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（２，３
−ジメチル−１−インデニル）ジルコニウムジクロライ
ド、ビス（４−７−ジメチルー１−インデニル）ジルコ
ニウムジクロライド、ビス（４，７−ジメトキシー１−
インデニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（フルオ
レニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタジ
エニル）（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロライド、（シクロペンタジエニル）（ジメチルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、（シ
クロペンタジエニル）（トリメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタジエニ
ル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（ペンタメ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、（シクロペンタジエニル）（エチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタジ
エニル）（ジエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（トリエチ
ルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、
（シクロペンタジエニル）（テトラエチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタ
ジエニル）（ペンタエチルシクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（フ
ルオレニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペン
タジエニル）（２、７−ジｔブチルフルオレニル）ジル
コニウムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（オ
クタヒドロフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
（シクロペンタジエニル）（４−メトキシフルオレニ
ル）ジルコニウムジクロライド、（メチルシクロペンタ
ジエニル）（ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロライド、（メチルシクロペンタジエニル）
（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、（メチル
シクロペンタジエニル）（２、７−ジｔブチルフルオレ
ニル）ジルコニウムジクロライド、（メチルシクロペン
タジエニル）（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニウ
ムジクロライド、（メチルシクロペンタジエニル）（４
−メトキシフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
（ジメチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジ
ルコニウムジクロライド、（ジメチルシクロペンタジエ
ニル）（２、７−ジｔブチルフルオレニル）ジルコニウ
ムジクロライド、（ジメチルシクロペンタジエニル）
（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニウムジクロライ
ド、（ジメチルシクロペンタジエニル）（４−メトキシ
フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、（エチルシ
クロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジ
クロライド、（エチルシクロペンタジエニル）（２、７
−ジｔブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライ
ド、（エチルシクロペンタジエニル）（オクタヒドロフ
ルオレニル）ジルコニウムジクロライド、（エチルシク
ロペンタジエニル）（４−メトキシフルオレニル）ジル
コニウムジクロライド、（ジエチルシクロペンタジエニ
ル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、（ジ
エチルシクロペンタジエニル）（２、７−ジｔブチルフ
ルオレニル）ジルコニウムジクロライド、（ジエチルシ
クロペンタジエニル）（オクタヒドロフルオレニル）ジ
ルコニウムジクロライド、（ジエチルシクロペンタジエ
ニル）（４−メトキシフルオレニル）ジルコニウムジク
ロライド、エチレンビス（シクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロライド、エチレンビス（メチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エチレンビ
ス（１，２ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロライド、エチレンビス（１，３ジメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン
ビス（１，２，３トリメチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、エチレンビス（１，２，４ト
リメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロラ
イド、エチレンビス（１．２，３，４テトラメチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス
（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロライド、エチレンビス（エチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロライド、ビス（１，２ジエチル
シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エ
チレンビス（１．３ジエチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、エチレンビス（イソプロピル
シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エ
チレンビス（フェニルプロピルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロライド、エチレンビス（ｔ−ブチル
シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エ
チレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド、
エチレンビス（４−メチルー１−インデニル）ジルコニ
ウムジクロライド、エチレンビス（５−メチルー１−イ
ンデニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（６−メチ
ル−１−インデニル）ジルコニウムジクロライド、エチ
レンビス（７−メチルー１−インデニル）ジルコニウム
ジクロライド、ビス（５−メトキシ−１−インデニル）
ジルコニウムジクロライド、エチレンビス（２，３−ジ
メチル−１−インデニル）ジルコニウムジクロライド、
エチレンビス（４，７−ジメチル−１−インデニル）ジ
ルコニウムジクロライド、エチレンビス（４，７−ジメ
トキシー１−インデニル）ジルコニウムジクロライド、
エチレンビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロライ
ド、エチレンビス（４．５，６，７テトラヒドロ−１−
インデニル）ジルコニウムジクロライド、エチレンビス
（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン
（シクロペンタジエニル）（メチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（シクロペン
タジエニル）（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロライド、エチレン（シクロペンタジエニ
ル）（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロライド、エテレン（シクロペンタジエニル）（テ
トラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロ
ライド、エチレン（シクロペンタジエニル）（ペンタメ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、エチレン（シクロペンタジエニル）（エチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン
（シクロペンタジエニル）（ジエチルシクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（シクロペ
ンタジエニル）（トリエチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、エチレン（シクロペンタジエ
ニル）（テトラエチルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロライド、エチレン（シクロペンタジエニル）
（ペンタエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロライド、エチレン（シクロペンタジエニル）（フル
オレニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（シク
ロペンタ ジエニル）（２、７−ジｔブチルフルオレニ
ル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（シクロペン
タジエニル）（２、７−ジクロルフルオレニル）ジルコ
ニウムジクロライド、エチレン（シクロペンタジエニ
ル）（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニウムジクロ
ライド、エチレン（シクロペンタジエニル）（４−メト
キシフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、エチレ
ン（メチルシクロペンタジエニル）（ｔ−ブチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン
（メチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジル
コニウムジクロライド、エチレン（メチルシクロペンタ
ジエニル）（２、７−ジｔブチルフルオレニル）ジルコ
ニウムジクロライド、（メチルシクロペンタジエニル）
（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニウムジクロライ
ド、エチレン（メチルシクロペンタジエニル）（４−メ
トキシフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、エチ
レン（ジメチルシクロペンタジエニル）（フルオレニ
ル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（ジメチルシ
クロペンタジエニル）（２、７−ジｔブチルフルオレニ
ル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（ジメチルシ
クロペンタジエニル）（オクタヒドロブルオレニル）ジ
ルコニウムジクロライド、エチレン（ジメチルシクロペ
ンタジエニル）（４−メトキシフルオレニル）ジルコニ
ウムジクロライド、エチレン（エチルシクロペンタジエ
ニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、エ
チレン（エチルシクロペンタジエニル）（２、７−ジｔ
ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、エチ
レン（エチルシクロペンタジエニル）（オクタヒドロフ
ルオレニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（エ
チルシクロペンタジエニル）（４−メトキシフルオレニ
ル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（ジエチルシ
クロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジ
クロライド、エチレン（ジエチルシクロペンタジエニ
ル）（２、７−ジｔブチルフルオレニル）ジルコニウム
ジクロライド、エチレン（ジエチルシクロペンタジエニ
ル）（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニウムジクロ
ライド、エチレン（ジエチルシクロペンタジエニル）
（４−メトキシフルオレニル）ジルコニウムジクロライ
ド、エチレン（シクロペンタジエニル）（４，５−メチ
レンフェナントレン）ジルコニウムジクロライド、この
ほかに架橋部分エチレン基の代わりにイソプロピリデン
基、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、メ
チルフェニルメチレン基、ジフェニルメチレン基、１，
４−シクロペンタン−ジ−イリデン基、１，４−シクロ
ヘキサン−ジ−イリデン基、ジメチルシリレン基、メチ
ルフェニルシリレン基、ジフェニルシリレン基、ジメチ
ルゲルミレン基、ジメチルスタニレン基等が結合した物
が挙げられる。またジルコニウム原子の代わりにチタニ
ウム原子及びハフニウム原子に変えた錯体、さらにクロ
ライドの代わりにブロマイド、ヨーダイド、フルオライ
ドに変えた錯体が挙げられる。
体的な例を挙げれば次のようなものがある。ビス（シク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス
（メチルヒクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロラ
イド、ビス（１，２ジメチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、ビス（１，３ジメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス
（１，２，３トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロライド、ビス（１，２，４トリメチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス
（１，２，３，４テトラメチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロライド、ビス（ペンタメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（エ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、ビス（１，２ジエチルシクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロライド、ビス（１，３ジエチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロライド，ビス（イソ
プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロラ
イド、ビス（フェニルプロピルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロライド、ビス（ｔ−ブチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（イン
デニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（４−メチル
−１−インデニル）ジルコニウムジクロライド、ビス
（５−メチルー１−インデニル）ジルコニウムジクロラ
イド、ビス（６−メチル−１−インデニル）ジルコニウ
ムジクロライド、ビス（７−メチルー１−インデニル）
ジルコニウムジクロライド、ビス（５−メトキシー１−
インデニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（２，３
−ジメチル−１−インデニル）ジルコニウムジクロライ
ド、ビス（４−７−ジメチルー１−インデニル）ジルコ
ニウムジクロライド、ビス（４，７−ジメトキシー１−
インデニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（フルオ
レニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタジ
エニル）（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロライド、（シクロペンタジエニル）（ジメチルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、（シ
クロペンタジエニル）（トリメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタジエニ
ル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（ペンタメ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、（シクロペンタジエニル）（エチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタジ
エニル）（ジエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（トリエチ
ルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、
（シクロペンタジエニル）（テトラエチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペンタ
ジエニル）（ペンタエチルシクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（フ
ルオレニル）ジルコニウムジクロライド、（シクロペン
タジエニル）（２、７−ジｔブチルフルオレニル）ジル
コニウムジクロライド、（シクロペンタジエニル）（オ
クタヒドロフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
（シクロペンタジエニル）（４−メトキシフルオレニ
ル）ジルコニウムジクロライド、（メチルシクロペンタ
ジエニル）（ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロライド、（メチルシクロペンタジエニル）
（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、（メチル
シクロペンタジエニル）（２、７−ジｔブチルフルオレ
ニル）ジルコニウムジクロライド、（メチルシクロペン
タジエニル）（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニウ
ムジクロライド、（メチルシクロペンタジエニル）（４
−メトキシフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
（ジメチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジ
ルコニウムジクロライド、（ジメチルシクロペンタジエ
ニル）（２、７−ジｔブチルフルオレニル）ジルコニウ
ムジクロライド、（ジメチルシクロペンタジエニル）
（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニウムジクロライ
ド、（ジメチルシクロペンタジエニル）（４−メトキシ
フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、（エチルシ
クロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジ
クロライド、（エチルシクロペンタジエニル）（２、７
−ジｔブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライ
ド、（エチルシクロペンタジエニル）（オクタヒドロフ
ルオレニル）ジルコニウムジクロライド、（エチルシク
ロペンタジエニル）（４−メトキシフルオレニル）ジル
コニウムジクロライド、（ジエチルシクロペンタジエニ
ル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、（ジ
エチルシクロペンタジエニル）（２、７−ジｔブチルフ
ルオレニル）ジルコニウムジクロライド、（ジエチルシ
クロペンタジエニル）（オクタヒドロフルオレニル）ジ
ルコニウムジクロライド、（ジエチルシクロペンタジエ
ニル）（４−メトキシフルオレニル）ジルコニウムジク
ロライド、エチレンビス（シクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロライド、エチレンビス（メチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エチレンビ
ス（１，２ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロライド、エチレンビス（１，３ジメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン
ビス（１，２，３トリメチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、エチレンビス（１，２，４ト
リメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロラ
イド、エチレンビス（１．２，３，４テトラメチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス
（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロライド、エチレンビス（エチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロライド、ビス（１，２ジエチル
シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エ
チレンビス（１．３ジエチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、エチレンビス（イソプロピル
シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エ
チレンビス（フェニルプロピルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロライド、エチレンビス（ｔ−ブチル
シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エ
チレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド、
エチレンビス（４−メチルー１−インデニル）ジルコニ
ウムジクロライド、エチレンビス（５−メチルー１−イ
ンデニル）ジルコニウムジクロライド、ビス（６−メチ
ル−１−インデニル）ジルコニウムジクロライド、エチ
レンビス（７−メチルー１−インデニル）ジルコニウム
ジクロライド、ビス（５−メトキシ−１−インデニル）
ジルコニウムジクロライド、エチレンビス（２，３−ジ
メチル−１−インデニル）ジルコニウムジクロライド、
エチレンビス（４，７−ジメチル−１−インデニル）ジ
ルコニウムジクロライド、エチレンビス（４，７−ジメ
トキシー１−インデニル）ジルコニウムジクロライド、
エチレンビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロライ
ド、エチレンビス（４．５，６，７テトラヒドロ−１−
インデニル）ジルコニウムジクロライド、エチレンビス
（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン
（シクロペンタジエニル）（メチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（シクロペン
タジエニル）（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロライド、エチレン（シクロペンタジエニ
ル）（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロライド、エテレン（シクロペンタジエニル）（テ
トラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロ
ライド、エチレン（シクロペンタジエニル）（ペンタメ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、エチレン（シクロペンタジエニル）（エチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン
（シクロペンタジエニル）（ジエチルシクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（シクロペ
ンタジエニル）（トリエチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、エチレン（シクロペンタジエ
ニル）（テトラエチルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロライド、エチレン（シクロペンタジエニル）
（ペンタエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロライド、エチレン（シクロペンタジエニル）（フル
オレニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（シク
ロペンタ ジエニル）（２、７−ジｔブチルフルオレニ
ル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（シクロペン
タジエニル）（２、７−ジクロルフルオレニル）ジルコ
ニウムジクロライド、エチレン（シクロペンタジエニ
ル）（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニウムジクロ
ライド、エチレン（シクロペンタジエニル）（４−メト
キシフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、エチレ
ン（メチルシクロペンタジエニル）（ｔ−ブチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン
（メチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジル
コニウムジクロライド、エチレン（メチルシクロペンタ
ジエニル）（２、７−ジｔブチルフルオレニル）ジルコ
ニウムジクロライド、（メチルシクロペンタジエニル）
（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニウムジクロライ
ド、エチレン（メチルシクロペンタジエニル）（４−メ
トキシフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、エチ
レン（ジメチルシクロペンタジエニル）（フルオレニ
ル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（ジメチルシ
クロペンタジエニル）（２、７−ジｔブチルフルオレニ
ル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（ジメチルシ
クロペンタジエニル）（オクタヒドロブルオレニル）ジ
ルコニウムジクロライド、エチレン（ジメチルシクロペ
ンタジエニル）（４−メトキシフルオレニル）ジルコニ
ウムジクロライド、エチレン（エチルシクロペンタジエ
ニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、エ
チレン（エチルシクロペンタジエニル）（２、７−ジｔ
ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、エチ
レン（エチルシクロペンタジエニル）（オクタヒドロフ
ルオレニル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（エ
チルシクロペンタジエニル）（４−メトキシフルオレニ
ル）ジルコニウムジクロライド、エチレン（ジエチルシ
クロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジ
クロライド、エチレン（ジエチルシクロペンタジエニ
ル）（２、７−ジｔブチルフルオレニル）ジルコニウム
ジクロライド、エチレン（ジエチルシクロペンタジエニ
ル）（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニウムジクロ
ライド、エチレン（ジエチルシクロペンタジエニル）
（４−メトキシフルオレニル）ジルコニウムジクロライ
ド、エチレン（シクロペンタジエニル）（４，５−メチ
レンフェナントレン）ジルコニウムジクロライド、この
ほかに架橋部分エチレン基の代わりにイソプロピリデン
基、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、メ
チルフェニルメチレン基、ジフェニルメチレン基、１，
４−シクロペンタン−ジ−イリデン基、１，４−シクロ
ヘキサン−ジ−イリデン基、ジメチルシリレン基、メチ
ルフェニルシリレン基、ジフェニルシリレン基、ジメチ
ルゲルミレン基、ジメチルスタニレン基等が結合した物
が挙げられる。またジルコニウム原子の代わりにチタニ
ウム原子及びハフニウム原子に変えた錯体、さらにクロ
ライドの代わりにブロマイド、ヨーダイド、フルオライ
ドに変えた錯体が挙げられる。
【００３８】また２つのシクロペンタジエニル基を連結
する化合物の具体的な例を挙げれぱ次のようなものがあ
る。ジメチルシリレンビス（３−メチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレン
ビス（２、４−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（２、４−
ジエチルシクロペンタジエニル）ジルゴニウムジクロラ
イド、ジメチルシリレンビス（２，３，５−トリメチル
シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジ
メチルシリレンビス（２，４−ジｔブチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレ
ンビス（フェニルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロライド、ジメチルシリレンビス（３−エチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルシリレンビス（２、４−ジフェニルシクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビ
ス（２、３、５−トリエチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（３−
イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロライド、ジメチルシリレンビス（３−フェニルプロピ
ルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、
ジメチルシリレンビス（３−ｔ−ブチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレン
（メチルシクロペンタジエニル）（２、４−ジメチルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメ
チルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（２，
３，５−トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシリレン（２，４−ジメチル
シクロペンタジエニル）（２，３，５−トリメチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルシリレン（シクロペンタジエニル）（テトラメテルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメ
チルシリレン（２，４−ジメチルシクロペンタジエニ
ル）（３−エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロライド、ジメチルシリレン（２．４−ジメチルシ
クロペンタジエニル）（２，４−ジエチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレ
ン（メチルシクロペンタジエニル）（２．３，５−トリ
メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）
（ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエ
ニル）（フェニルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロライド等が挙げられる。
する化合物の具体的な例を挙げれぱ次のようなものがあ
る。ジメチルシリレンビス（３−メチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレン
ビス（２、４−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（２、４−
ジエチルシクロペンタジエニル）ジルゴニウムジクロラ
イド、ジメチルシリレンビス（２，３，５−トリメチル
シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジ
メチルシリレンビス（２，４−ジｔブチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレ
ンビス（フェニルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロライド、ジメチルシリレンビス（３−エチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルシリレンビス（２、４−ジフェニルシクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビ
ス（２、３、５−トリエチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（３−
イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロライド、ジメチルシリレンビス（３−フェニルプロピ
ルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、
ジメチルシリレンビス（３−ｔ−ブチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレン
（メチルシクロペンタジエニル）（２、４−ジメチルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメ
チルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（２，
３，５−トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシリレン（２，４−ジメチル
シクロペンタジエニル）（２，３，５−トリメチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルシリレン（シクロペンタジエニル）（テトラメテルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメ
チルシリレン（２，４−ジメチルシクロペンタジエニ
ル）（３−エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロライド、ジメチルシリレン（２．４−ジメチルシ
クロペンタジエニル）（２，４−ジエチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレ
ン（メチルシクロペンタジエニル）（２．３，５−トリ
メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）
（ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエ
ニル）（フェニルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロライド等が挙げられる。
【００３９】またシクロペンタジエニル基を有しない化
合物としてビス〔Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）ベ
ンズアミジナートジルコニウムジクロライド、ビス
〔Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミジナート）ジルコニウム
ジクロライド、ビス〔（ｔ−ブトキシジメチルシリル）
−ｔ−ブチルアミノジルコニウムジクロライド、ビス
〔（ｔ−ブトキシジメチルシロキシ）ビス（トリメチル
シリルジルコニウム、ビス〔Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミジナート）ジエトキシジルコニウム、ビス〔Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミジナ−ト）ビス（ジエチルアミノ）
ジルコニウム、ビス〔（ｔ−ブトキシジメチルシロキ
シ）ビス（ジエチルアミノ）ジルコニウム、ビス〔（ｔ
−ブトキシジメチルシリル）ーｔ−ブチルアミノ〕ジメ
チルジルコニウム、ブチレンビス〔Ｎ．Ｎ−ビス（トリ
メチルシリル）ベンズアミジナ−ト〕ジルコニウムジク
ロライド、δ一（ｔ−ブチルアミノ）バレルーＮ．Ｎ−
ビス（トリメチルシリル）アミジナート〕ジルコニウム
ジクロライド、ジアミジナートチタンジクロラシドな
ど、ジルコニウム原子の代わりにチタニウム原子及びハ
フニウム原子に変えた錯体、あるいはランタノイド系列
やアクチノイド系列の金属錯体であってもよい。さらに
クロライドの変わりにブロマイド、ヨーダイド、フルオ
ライドに変えた錯体が挙げられる。これらの化合物は一
種でもあるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
合物としてビス〔Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）ベ
ンズアミジナートジルコニウムジクロライド、ビス
〔Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミジナート）ジルコニウム
ジクロライド、ビス〔（ｔ−ブトキシジメチルシリル）
−ｔ−ブチルアミノジルコニウムジクロライド、ビス
〔（ｔ−ブトキシジメチルシロキシ）ビス（トリメチル
シリルジルコニウム、ビス〔Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミジナート）ジエトキシジルコニウム、ビス〔Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミジナ−ト）ビス（ジエチルアミノ）
ジルコニウム、ビス〔（ｔ−ブトキシジメチルシロキ
シ）ビス（ジエチルアミノ）ジルコニウム、ビス〔（ｔ
−ブトキシジメチルシリル）ーｔ−ブチルアミノ〕ジメ
チルジルコニウム、ブチレンビス〔Ｎ．Ｎ−ビス（トリ
メチルシリル）ベンズアミジナ−ト〕ジルコニウムジク
ロライド、δ一（ｔ−ブチルアミノ）バレルーＮ．Ｎ−
ビス（トリメチルシリル）アミジナート〕ジルコニウム
ジクロライド、ジアミジナートチタンジクロラシドな
ど、ジルコニウム原子の代わりにチタニウム原子及びハ
フニウム原子に変えた錯体、あるいはランタノイド系列
やアクチノイド系列の金属錯体であってもよい。さらに
クロライドの変わりにブロマイド、ヨーダイド、フルオ
ライドに変えた錯体が挙げられる。これらの化合物は一
種でもあるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４０】助触媒として前記遷移金属化合物（Ａ）と
反応して安定なイオン性錯体を形成しうる化合物（Ｂ）
が用いられ、下記（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）の中から少な
くとも一種が使用される。
反応して安定なイオン性錯体を形成しうる化合物（Ｂ）
が用いられ、下記（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）の中から少な
くとも一種が使用される。
【００４１】この（Ｂ）成分としては、（Ｂ−１）
（Ａ）成分の遷移金属化合物と反応して安定なイオン性
の錯体を形成する嵩高いアニオンとカチオンから形成さ
れるイオン性化合物，（Ｂ−２）アルミノキサン，（Ｂ
−３）（Ａ）と反応して安定なイオン性の錯体を形成す
るルイス酸化合物を挙げることができる。
（Ａ）成分の遷移金属化合物と反応して安定なイオン性
の錯体を形成する嵩高いアニオンとカチオンから形成さ
れるイオン性化合物，（Ｂ−２）アルミノキサン，（Ｂ
−３）（Ａ）と反応して安定なイオン性の錯体を形成す
るルイス酸化合物を挙げることができる。
【００４２】（Ｂ−１）成分としては、前記（Ａ）成分
の遷移金属化合物と反応して、安定なイオン性の錯体を
形成するイオン性化合物であれば、いずれのものでも使
用できるが、次の一般式（４）（化４）、一般式（５)
（化５）
の遷移金属化合物と反応して、安定なイオン性の錯体を
形成するイオン性化合物であれば、いずれのものでも使
用できるが、次の一般式（４）（化４）、一般式（５)
（化５）
【００４３】
【化４】 （［Ｌ1 −Ｒ4 ］k+）p （［Ｚ］- ）q ・・・（４）
【００４４】
【化５】 （［Ｌ2 ］k+）p （［Ｚ］- ）q ・・・（５） 〔ただし、Ｌ2 はＭ2 、Ｒ5 Ｒ6 Ｍ3 、Ｒ7 3Ｃ又はＲ8
Ｍ3 である。〕〔（４）、（５）式中、Ｌ1 はルイス塩
基、［Ｚ］- は、非配位性アニオン［Ｚ1 ］- 及び［Ｚ
2 ］- 、ここで［Ｚ1 ］- は複数の基が元素に結合した
アニオンすなわち［Ｍ1 Ａ1 Ａ2 ・・・Ａn ］- （ここ
で、Ｍ1 は周期律表第５〜１５族元素、好ましくは周期
律表第１３〜１５族元素を示す。Ａ1 〜Ａn は、それぞ
れ水素原子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０のアルキル
基，炭素数２〜４０のジアルキルアミノ基，炭素数１〜
２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリール基，炭
素数６〜２０のアリールオキシ基，炭素数７〜４０のア
ルキルアリール基，炭素数７〜４０のアリールアルキル
基，炭素数１〜２０のハロゲン置換炭化水素基，炭素数
１〜２０のアシルオキシ基，有機メタロイド基、又は炭
素数２〜２０のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。Ａ1
〜Ａn のうち２つ以上が環を形成していてもよい。ｎは
［（中心金属Ｍ1 の原子価）＋１］の整数を示す。）、
［Ｚ2 ］- は、酸解離定数の逆数の対数（ｐＫａ）が−
１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸
及びルイス酸の組合わせの共役塩基、あるいは一般的に
超強酸と定義される共役塩基を示す。また、ルイス塩基
が配位していてもよい。
Ｍ3 である。〕〔（４）、（５）式中、Ｌ1 はルイス塩
基、［Ｚ］- は、非配位性アニオン［Ｚ1 ］- 及び［Ｚ
2 ］- 、ここで［Ｚ1 ］- は複数の基が元素に結合した
アニオンすなわち［Ｍ1 Ａ1 Ａ2 ・・・Ａn ］- （ここ
で、Ｍ1 は周期律表第５〜１５族元素、好ましくは周期
律表第１３〜１５族元素を示す。Ａ1 〜Ａn は、それぞ
れ水素原子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０のアルキル
基，炭素数２〜４０のジアルキルアミノ基，炭素数１〜
２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリール基，炭
素数６〜２０のアリールオキシ基，炭素数７〜４０のア
ルキルアリール基，炭素数７〜４０のアリールアルキル
基，炭素数１〜２０のハロゲン置換炭化水素基，炭素数
１〜２０のアシルオキシ基，有機メタロイド基、又は炭
素数２〜２０のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。Ａ1
〜Ａn のうち２つ以上が環を形成していてもよい。ｎは
［（中心金属Ｍ1 の原子価）＋１］の整数を示す。）、
［Ｚ2 ］- は、酸解離定数の逆数の対数（ｐＫａ）が−
１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸
及びルイス酸の組合わせの共役塩基、あるいは一般的に
超強酸と定義される共役塩基を示す。また、ルイス塩基
が配位していてもよい。
【００４５】また、Ｒ4 は水素原子，炭素数１〜２０の
アルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキルア
リール基又はアリールアルキル基を示し、Ｒ5 及びＲ6
は、それぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペン
タジエニル基，インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ7
は炭素数１〜２０のアルキル基，アリール基，アルキル
アリール基又はアリールアルキル基を示す。
アルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキルア
リール基又はアリールアルキル基を示し、Ｒ5 及びＲ6
は、それぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペン
タジエニル基，インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ7
は炭素数１〜２０のアルキル基，アリール基，アルキル
アリール基又はアリールアルキル基を示す。
【００４６】Ｒ8 はテトラフェニルポルフィリン，フタ
ロシアニン等の大環状配位子を示す。ｋは［Ｌ1 −Ｒ
4 ］，［Ｌ2 ］のイオン価数で１〜３の整数、ｐは１以
上の整数、ｑ＝（ｋ×ｐ）である。Ｍ2 は、周期律表第
１〜３、１１〜１３、１７族元素を含むものであり、Ｍ
3 は、周期律表第７〜１２族元素を示す。〕で表される
ものを好適に使用することができる。
ロシアニン等の大環状配位子を示す。ｋは［Ｌ1 −Ｒ
4 ］，［Ｌ2 ］のイオン価数で１〜３の整数、ｐは１以
上の整数、ｑ＝（ｋ×ｐ）である。Ｍ2 は、周期律表第
１〜３、１１〜１３、１７族元素を含むものであり、Ｍ
3 は、周期律表第７〜１２族元素を示す。〕で表される
ものを好適に使用することができる。
【００４７】ここで、Ｌ1 の具体例としては、アンモニ
ア、メチルアミン、アニリン、ジメチルアミン、ジエチ
ルアミン、Ｎ−メチルアニリン、ジフェニルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、メチルジフェニ
ルアミン、ピリジン、ｐ−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどの
アミン類、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフ
ィン、ジフェニルホスフィンなどのホスフィン類、テト
ラヒドロチオフェンなどのチオエーテル類、安息香酸エ
チルなどのエステル類、アセトニトリル、ベンゾニトリ
ルなどのニトリル類などを挙げることができる。
ア、メチルアミン、アニリン、ジメチルアミン、ジエチ
ルアミン、Ｎ−メチルアニリン、ジフェニルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、メチルジフェニ
ルアミン、ピリジン、ｐ−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどの
アミン類、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフ
ィン、ジフェニルホスフィンなどのホスフィン類、テト
ラヒドロチオフェンなどのチオエーテル類、安息香酸エ
チルなどのエステル類、アセトニトリル、ベンゾニトリ
ルなどのニトリル類などを挙げることができる。
【００４８】Ｒ4 の具体例としては、水素、メチル基、
エチル基、ベンジル基、トリチル基などを挙げることが
でき、Ｒ5 、Ｒ6 の具体例としては、シクロペンタジエ
ニル基、メチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロ
ペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジエニル
基などを挙げることができる。
エチル基、ベンジル基、トリチル基などを挙げることが
でき、Ｒ5 、Ｒ6 の具体例としては、シクロペンタジエ
ニル基、メチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロ
ペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジエニル
基などを挙げることができる。
【００４９】Ｒ7 の具体例としては、フェニル基、ｐ−
トリル基、ｐ−メトキシフェニル基などを挙げることが
でき、Ｒ8 の具体例としてはテトラフェニルポルフィ
ン、フタロシアニン、アリル、メタリルなどを挙げるこ
とができる。
トリル基、ｐ−メトキシフェニル基などを挙げることが
でき、Ｒ8 の具体例としてはテトラフェニルポルフィ
ン、フタロシアニン、アリル、メタリルなどを挙げるこ
とができる。
【００５０】また、Ｍ2 の具体例としては、Ｌｉ、Ｎ
ａ、Ｋ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｂｒ、Ｉ、Ｉ3などを挙げること
ができ、Ｍ3 の具体例としては、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｚｎなどを挙げることができる。
ａ、Ｋ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｂｒ、Ｉ、Ｉ3などを挙げること
ができ、Ｍ3 の具体例としては、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｚｎなどを挙げることができる。
【００５１】また、［Ｚ1］- 、すなわち［Ｍ1 Ａ1 Ａ2
・・・Ａn ］において、Ｍ1 の具体例としては、Ｂ、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂなど、好ましくはＢ及びＡ
ｌが挙げられる。
・・・Ａn ］において、Ｍ1 の具体例としては、Ｂ、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂなど、好ましくはＢ及びＡ
ｌが挙げられる。
【００５２】また、Ａ1 、Ａ2 〜Ａn の具体例として
は、ジアルキルアミノ基としてジメチルアミノ基，ジエ
チルアミノ基など、アルコキシ基若しくはアリールオキ
シ基としてメトキシ基，エトキシ基，ｎ−ブトキシ基，
フェノキシ基など、炭化水素基としてメチル基，エチル
基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，
イソブチル基，ｎ−オクチル基，ｎ−エイコシル基，フ
ェニル基，ｐ−トリル基，ベンジル基，４−ｔ−ブチル
フェニル基，３，５−ジメチルフェニル基など、ハロゲ
ン原子としてフッ素，塩素，臭素，ヨウ素、ヘテロ原子
含有炭化水素基としてｐ−フルオロフェニル基，３，５
−ジフルオロフェニル基，ペンタクロロフェニル基，
３，４，５−トリフルオロフェニル基，ペンタフルオロ
フェニル基，３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル基，ビス（トリメチルシリル）メチル基など、有機
メタロイド基としてペンタメチルアンチモン基，トリメ
チルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニルアル
シン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニル硼
素などが挙げられる。
は、ジアルキルアミノ基としてジメチルアミノ基，ジエ
チルアミノ基など、アルコキシ基若しくはアリールオキ
シ基としてメトキシ基，エトキシ基，ｎ−ブトキシ基，
フェノキシ基など、炭化水素基としてメチル基，エチル
基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，
イソブチル基，ｎ−オクチル基，ｎ−エイコシル基，フ
ェニル基，ｐ−トリル基，ベンジル基，４−ｔ−ブチル
フェニル基，３，５−ジメチルフェニル基など、ハロゲ
ン原子としてフッ素，塩素，臭素，ヨウ素、ヘテロ原子
含有炭化水素基としてｐ−フルオロフェニル基，３，５
−ジフルオロフェニル基，ペンタクロロフェニル基，
３，４，５−トリフルオロフェニル基，ペンタフルオロ
フェニル基，３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル基，ビス（トリメチルシリル）メチル基など、有機
メタロイド基としてペンタメチルアンチモン基，トリメ
チルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニルアル
シン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニル硼
素などが挙げられる。
【００５３】また、非配位性のアニオンすなわちｐＫａ
が−１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッ
ド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基［Ｚ2 ］- の具
体例としては、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン
（ＣＦ3 ＳＯ3 ）- 、ビス（トリフルオロメタンスルホ
ニル）メチルアニオン、ビス（トリフルオロメタンスル
ホニル）ベンジルアニオン、ビス（トリフルオロメタン
スルホニル）アミド、過塩素酸アニオン（ＣｌＯ4 ）
- 、トリフルオロ酢酸アニオン（ＣＦ3 ＣＯ2 ） - 、ヘ
キサフルオロアンチモンアニオン（ＳｂＦ6 ）- 、フル
オロスルホン酸アニオン（ＦＳＯ3 ）- 、クロロスルホ
ン酸アニオン（ＣｌＳＯ3 ）- 、フルオロスルホン酸ア
ニオン／５−フッ化アンチモン（ＦＳＯ3 ／ＳｂＦ5 ）
- 、フルオロスルホン酸アニオン／５−フッ化砒素（Ｆ
ＳＯ3 ／ＡｓＦ5 ）- 、トリフルオロメタンスルホン酸
／５−フッ化アンチモン（ＣＦ3 ＳＯ3 ／ＳｂＦ5 ）-
などを挙げることができる。
が−１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッ
ド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基［Ｚ2 ］- の具
体例としては、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン
（ＣＦ3 ＳＯ3 ）- 、ビス（トリフルオロメタンスルホ
ニル）メチルアニオン、ビス（トリフルオロメタンスル
ホニル）ベンジルアニオン、ビス（トリフルオロメタン
スルホニル）アミド、過塩素酸アニオン（ＣｌＯ4 ）
- 、トリフルオロ酢酸アニオン（ＣＦ3 ＣＯ2 ） - 、ヘ
キサフルオロアンチモンアニオン（ＳｂＦ6 ）- 、フル
オロスルホン酸アニオン（ＦＳＯ3 ）- 、クロロスルホ
ン酸アニオン（ＣｌＳＯ3 ）- 、フルオロスルホン酸ア
ニオン／５−フッ化アンチモン（ＦＳＯ3 ／ＳｂＦ5 ）
- 、フルオロスルホン酸アニオン／５−フッ化砒素（Ｆ
ＳＯ3 ／ＡｓＦ5 ）- 、トリフルオロメタンスルホン酸
／５−フッ化アンチモン（ＣＦ3 ＳＯ3 ／ＳｂＦ5 ）-
などを挙げることができる。
【００５４】このような前記（Ａ）成分の遷移金属化合
物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合
物、すなわち（Ｂ−１）成分化合物の具体例としては、
テトラフェニル硼酸トリエチルアンモニウム、テトラフ
ェニル硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム、テトラフェ
ニル硼酸トリメチルアンモニウム、テトラフェニル硼酸
テトラエチルアンモニウム、テトラフェニル硼酸メチル
（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラフェニル硼
酸ベンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラ
フェニル硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム、テトラ
フェニル硼酸トリフェニル（メチル）アンモニウム、テ
トラフェニル硼酸トリメチルアニリニウム、テトラフェ
ニル硼酸メチルピリジニウム、テトラフェニル硼酸ベン
ジルピリジニウム、テトラフェニル硼酸メチル（２−シ
アノピリジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）硼酸トリエチルアンモニウム、テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウ
ム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフ
ェニルアンモニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）硼酸テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テトラエチルアンモ
ニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベ
ンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチルジフェニルアン
モニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸
トリフェニル（メチル）アンモニウム、テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸メチルアニリニウム、テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルアニリ
ニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ト
リメチルアニリニウム、テトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）硼酸メチルピリジニウム、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）硼酸ベンジルピリジニウム、テトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（２−シア
ノピリジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸ベンジル（２−シアノピリジニウム）、テトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（４−シア
ノピリジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸トリフェニルホスホニウム、テトラキス［ビス
（３，５−ジトリフルオロメチル）フェニル］硼酸ジメ
チルアニリニウム、テトラフェニル硼酸フェロセニウ
ム、テトラフェニル硼酸銀、テトラフェニル硼酸トリチ
ル、テトラフェニル硼酸テトラフェニルポルフィリンマ
ンガン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フ
ェロセニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
硼酸（１，１’−ジメチルフェロセニウム）、テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカメチルフェロセ
ニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸
銀、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリチ
ル、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸リチウ
ム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ナトリ
ウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テオ
ラフェニルポルフィリンマンガン、テトラフルオロ硼酸
銀、ヘキサフルオロ燐酸銀、ヘキサフルオロ砒素酸銀、
過塩素酸銀、トリフルオロ酢酸銀、トリフルオロメタン
スルホン酸銀などを挙げることができる。
物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合
物、すなわち（Ｂ−１）成分化合物の具体例としては、
テトラフェニル硼酸トリエチルアンモニウム、テトラフ
ェニル硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム、テトラフェ
ニル硼酸トリメチルアンモニウム、テトラフェニル硼酸
テトラエチルアンモニウム、テトラフェニル硼酸メチル
（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラフェニル硼
酸ベンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラ
フェニル硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム、テトラ
フェニル硼酸トリフェニル（メチル）アンモニウム、テ
トラフェニル硼酸トリメチルアニリニウム、テトラフェ
ニル硼酸メチルピリジニウム、テトラフェニル硼酸ベン
ジルピリジニウム、テトラフェニル硼酸メチル（２−シ
アノピリジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）硼酸トリエチルアンモニウム、テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウ
ム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフ
ェニルアンモニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）硼酸テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テトラエチルアンモ
ニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベ
ンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチルジフェニルアン
モニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸
トリフェニル（メチル）アンモニウム、テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸メチルアニリニウム、テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルアニリ
ニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ト
リメチルアニリニウム、テトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）硼酸メチルピリジニウム、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）硼酸ベンジルピリジニウム、テトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（２−シア
ノピリジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸ベンジル（２−シアノピリジニウム）、テトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（４−シア
ノピリジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸トリフェニルホスホニウム、テトラキス［ビス
（３，５−ジトリフルオロメチル）フェニル］硼酸ジメ
チルアニリニウム、テトラフェニル硼酸フェロセニウ
ム、テトラフェニル硼酸銀、テトラフェニル硼酸トリチ
ル、テトラフェニル硼酸テトラフェニルポルフィリンマ
ンガン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フ
ェロセニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
硼酸（１，１’−ジメチルフェロセニウム）、テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカメチルフェロセ
ニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸
銀、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリチ
ル、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸リチウ
ム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ナトリ
ウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テオ
ラフェニルポルフィリンマンガン、テトラフルオロ硼酸
銀、ヘキサフルオロ燐酸銀、ヘキサフルオロ砒素酸銀、
過塩素酸銀、トリフルオロ酢酸銀、トリフルオロメタン
スルホン酸銀などを挙げることができる。
【００５５】この（Ｂ−１）成分である、該（Ａ）成分
の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する
イオン性化合物は一種用いてもよく、また二種以上を組
み合わせて用いてもよい。
の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する
イオン性化合物は一種用いてもよく、また二種以上を組
み合わせて用いてもよい。
【００５６】一方、（Ｂ−２）成分のアルミノキサンと
しては、一般式（６）（化６）
しては、一般式（６）（化６）
【００５７】
【化６】 〔式中、Ｒ9 は炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２の
アルキル基，アルケニル基，アリール基，アリールアル
キル基などの炭化水素基、ｓは重合度を示し、通常３〜
５０、好ましくは７〜４０の整数である。〕、及び一般
式（７）（化７）
アルキル基，アルケニル基，アリール基，アリールアル
キル基などの炭化水素基、ｓは重合度を示し、通常３〜
５０、好ましくは７〜４０の整数である。〕、及び一般
式（７）（化７）
【００５８】
【化７】 〔式中、Ｒ9 及びｓは、前記と同じである。〕及びこれ
らの組み合わせで、示されるアルミノキサン化合物を挙
げることができる。
らの組み合わせで、示されるアルミノキサン化合物を挙
げることができる。
【００５９】前記アルミノキサンの製造法としては、ア
ルキルアルミニウムと水などの縮合剤とを接触させる方
法が挙げられるが、その手段については、特に限定はな
く、公知の方法に準じて反応させればよい。例えば、
有機アルミニウム化合物を有機溶剤に溶解しておき、こ
れを水と接触させる方法、重合時に当初有機アルミニ
ウム化合物を加えておき、後に水を添加する方法、金
属塩などに含有されている結晶水、無機物や有機物への
吸着水を有機アルミニウム化合物と反応させる方法、
テトラアルキルジアルミノキサンにトリアルキルアルミ
ニウムを反応させ、さらに水を反応させる方法などがあ
る。なお、アルミノキサンとしては、トルエン不溶性の
ものであってもよい。これらのアルミノキサンは一種用
いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
ルキルアルミニウムと水などの縮合剤とを接触させる方
法が挙げられるが、その手段については、特に限定はな
く、公知の方法に準じて反応させればよい。例えば、
有機アルミニウム化合物を有機溶剤に溶解しておき、こ
れを水と接触させる方法、重合時に当初有機アルミニ
ウム化合物を加えておき、後に水を添加する方法、金
属塩などに含有されている結晶水、無機物や有機物への
吸着水を有機アルミニウム化合物と反応させる方法、
テトラアルキルジアルミノキサンにトリアルキルアルミ
ニウムを反応させ、さらに水を反応させる方法などがあ
る。なお、アルミノキサンとしては、トルエン不溶性の
ものであってもよい。これらのアルミノキサンは一種用
いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６０】（Ｂ−３）成分の（Ａ）と反応して安定な
イオン性錯体を形成するルイス酸については、特に制限
はなく、有機化合物でも固体状無機化合物でもよい。
イオン性錯体を形成するルイス酸については、特に制限
はなく、有機化合物でも固体状無機化合物でもよい。
【００６１】例えば、有機化合物としては、硼素化合物
やアルミニウム化合物などが、無機化合物としてはマグ
ネシウム化合物，アルミニウム化合物などが好ましく用
いられる。
やアルミニウム化合物などが、無機化合物としてはマグ
ネシウム化合物，アルミニウム化合物などが好ましく用
いられる。
【００６２】該アルミニウム化合物としては、例えばビ
ス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）
アルミニウムメチル，（１，１−ビ−２−ナフトキシ）
アルミニウムメチルなどが、マグネシウム化合物として
は、例えば塩化マグネシウム，ジエトキシマグネシウム
などが、アルミニウム化合物としては、酸化アルミニウ
ム，塩化アルミニウムなどが、硼素化合物としては、例
えばトリフェニル硼素、トリス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼素、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］硼素、トリス［（４−フルオロメチル）
フェニル］硼素、トリメチル硼素、トリエチル硼素、ト
リ−ｎ−ブチル硼素、トリス（フルオロメチル）硼素、
トリス（ペンタフルオロエチル）硼素、トリス（ノナフ
ルオロブチル）硼素、トリス（２，４，６−トリフルオ
ロフェニル）硼素、トリス（３，５−ジフルオロ）硼
素、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］硼素、ビス（ペンタフルオロフェニル）フルオロ
硼素、ジフェニルフルオロ硼素、ビス（ペンタフルオロ
フェニル）クロロ硼素、ジメチルフルオロ硼素、ジエチ
ルフルオロ硼素、ジ−ｎ−ブチルフルオロ硼素、ペンタ
フルオロフェニルジフルオロ硼素、フェニルジフルオロ
硼素、ペンタフルオロフェニルジクロロ硼素、メチルジ
フルオロ硼素、エチルジフルオロ硼素、ｎ−ブチルジフ
ルオロ硼素などが挙げられる。これらのルイス酸は一種
用いてもよく、また二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
ス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）
アルミニウムメチル，（１，１−ビ−２−ナフトキシ）
アルミニウムメチルなどが、マグネシウム化合物として
は、例えば塩化マグネシウム，ジエトキシマグネシウム
などが、アルミニウム化合物としては、酸化アルミニウ
ム，塩化アルミニウムなどが、硼素化合物としては、例
えばトリフェニル硼素、トリス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼素、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］硼素、トリス［（４−フルオロメチル）
フェニル］硼素、トリメチル硼素、トリエチル硼素、ト
リ−ｎ−ブチル硼素、トリス（フルオロメチル）硼素、
トリス（ペンタフルオロエチル）硼素、トリス（ノナフ
ルオロブチル）硼素、トリス（２，４，６−トリフルオ
ロフェニル）硼素、トリス（３，５−ジフルオロ）硼
素、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］硼素、ビス（ペンタフルオロフェニル）フルオロ
硼素、ジフェニルフルオロ硼素、ビス（ペンタフルオロ
フェニル）クロロ硼素、ジメチルフルオロ硼素、ジエチ
ルフルオロ硼素、ジ−ｎ−ブチルフルオロ硼素、ペンタ
フルオロフェニルジフルオロ硼素、フェニルジフルオロ
硼素、ペンタフルオロフェニルジクロロ硼素、メチルジ
フルオロ硼素、エチルジフルオロ硼素、ｎ−ブチルジフ
ルオロ硼素などが挙げられる。これらのルイス酸は一種
用いてもよく、また二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
【００６３】該重合用触媒における（Ａ）触媒成分と
（Ｂ）触媒成分との使用割合は、（Ｂ）触媒成分として
（Ｂ−１）化合物を用いた場合には、モル比で好ましく
は１０：１〜１：１００、より好ましくは２：１〜１：
１０の範囲が望ましく、また（Ｂ−２）化合物を用いた
場合には、モル比で好ましくは１：１〜１：１００，０
００、より好ましくは１：１０〜１：１０，０００の範
囲が望ましい。前記（Ａ）触媒成分と（Ｂ−３）触媒成
分との使用割合は、モル比で、好ましくは１：０．１〜
１：２，０００、より好ましくは１：０．２〜１：１，
０００、さらに好ましくは１：０．５〜１：５００の範
囲が望ましい。また、触媒成分（Ｂ）としては（Ｂ−
１），（Ｂ−２），（Ｂ−３）などを単独又は二種以上
組み合わせて用いることもできる。
（Ｂ）触媒成分との使用割合は、（Ｂ）触媒成分として
（Ｂ−１）化合物を用いた場合には、モル比で好ましく
は１０：１〜１：１００、より好ましくは２：１〜１：
１０の範囲が望ましく、また（Ｂ−２）化合物を用いた
場合には、モル比で好ましくは１：１〜１：１００，０
００、より好ましくは１：１０〜１：１０，０００の範
囲が望ましい。前記（Ａ）触媒成分と（Ｂ−３）触媒成
分との使用割合は、モル比で、好ましくは１：０．１〜
１：２，０００、より好ましくは１：０．２〜１：１，
０００、さらに好ましくは１：０．５〜１：５００の範
囲が望ましい。また、触媒成分（Ｂ）としては（Ｂ−
１），（Ｂ−２），（Ｂ−３）などを単独又は二種以上
組み合わせて用いることもできる。
【００６４】該重合用触媒は、前記の（Ａ）成分及び
（Ｂ）成分を主成分として含有するものであってもよい
し、また、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）少なくと
も１個以上の金属と炭化水素基の結合を有する周期律表
第１、第２または第１３族の有機金属化合物を含有する
ものも使用できる。
（Ｂ）成分を主成分として含有するものであってもよい
し、また、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）少なくと
も１個以上の金属と炭化水素基の結合を有する周期律表
第１、第２または第１３族の有機金属化合物を含有する
ものも使用できる。
【００６５】（Ｃ）成分としては特に有機アルミニウム
化合物が好ましく使用できる。ここで、（Ｃ）成分の有
機アルミニウム化合物としては、一般式（８）（化８）
化合物が好ましく使用できる。ここで、（Ｃ）成分の有
機アルミニウム化合物としては、一般式（８）（化８）
【００６６】
【化８】 Ｒ10 r ＡｌＱ3-r 一般式（８） 〔式中、Ｒ10は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｑは水素
原子，炭素数１〜２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０
のアリール基又はハロゲン原子を示し、ｒは１〜３の整
数である。〕で示される化合物が用いられる。
原子，炭素数１〜２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０
のアリール基又はハロゲン原子を示し、ｒは１〜３の整
数である。〕で示される化合物が用いられる。
【００６７】前記一般式（８）で示される化合物の具体
例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブ
チルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリド、ジ
エチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムジク
ロリド、エチルアルミニウムジクロリド、ジメチルアル
ミニウムフルオリド、ジイソブチルアルミニウムヒドリ
ド、ジエチルアルミニウムヒドリド、エチルアルミニウ
ムセスキクロリド等が挙げられる。これらの有機アルミ
ニウム化合物は一種用いてもよく、二種以上を組合せて
用いてもよい。前記（Ａ）触媒成分と（Ｃ）触媒成分と
の使用割合は、モル比で好ましくは１：１〜１：１０，
０００、より好ましくは１：５〜１：２，０００、さら
に好ましくは１：１０ないし１：１，０００の範囲が望
ましい。該（Ｃ）触媒成分を用いることにより、遷移金
属当たりの重合活性を向上させることができるが、あま
り多いと有機アルミニウム化合物が無駄になるととも
に、共重合体中に多量に残存し、好ましくない。
例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブ
チルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリド、ジ
エチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムジク
ロリド、エチルアルミニウムジクロリド、ジメチルアル
ミニウムフルオリド、ジイソブチルアルミニウムヒドリ
ド、ジエチルアルミニウムヒドリド、エチルアルミニウ
ムセスキクロリド等が挙げられる。これらの有機アルミ
ニウム化合物は一種用いてもよく、二種以上を組合せて
用いてもよい。前記（Ａ）触媒成分と（Ｃ）触媒成分と
の使用割合は、モル比で好ましくは１：１〜１：１０，
０００、より好ましくは１：５〜１：２，０００、さら
に好ましくは１：１０ないし１：１，０００の範囲が望
ましい。該（Ｃ）触媒成分を用いることにより、遷移金
属当たりの重合活性を向上させることができるが、あま
り多いと有機アルミニウム化合物が無駄になるととも
に、共重合体中に多量に残存し、好ましくない。
【００６８】本発明においては、触媒成分の少なくとも
一種を適当な担体に担持して用いることができる。該担
体の種類については、特に制限はなく、無機酸化物担
体、それ以外の無機担体及び有機担体のいずれも用いる
ことができるが、特に無機酸化物担体あるいはそれ以外
の無機担体が好ましい。無機酸化物担体としては、具体
的には、ＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＭｇＯ，ＺｒＯ2 ，Ｔ
ｌＯ2 ，Ｆｅ2 Ｏ3 ，Ｂ 2 Ｏ3 ，ＣａＯ，ＺｎＯ，Ｂａ
Ｏ，ＴｈＯ2 やこれらの混合物、例えば、シリカアルミ
ナ，ゼオライト，フェライト，グラスファイバーなどが
挙げられる。これらの中では、特にＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ
3 が好ましい。なお、上記無機酸化物担体は、少量の炭
酸塩，硝酸塩，硫酸塩などを含有してもよい。
一種を適当な担体に担持して用いることができる。該担
体の種類については、特に制限はなく、無機酸化物担
体、それ以外の無機担体及び有機担体のいずれも用いる
ことができるが、特に無機酸化物担体あるいはそれ以外
の無機担体が好ましい。無機酸化物担体としては、具体
的には、ＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＭｇＯ，ＺｒＯ2 ，Ｔ
ｌＯ2 ，Ｆｅ2 Ｏ3 ，Ｂ 2 Ｏ3 ，ＣａＯ，ＺｎＯ，Ｂａ
Ｏ，ＴｈＯ2 やこれらの混合物、例えば、シリカアルミ
ナ，ゼオライト，フェライト，グラスファイバーなどが
挙げられる。これらの中では、特にＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ
3 が好ましい。なお、上記無機酸化物担体は、少量の炭
酸塩，硝酸塩，硫酸塩などを含有してもよい。
【００６９】一方、上記以外の担体としては、ＭｇＣｌ
2 ，Ｍｇ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 などのマグネシウム化合物な
どで代表される一般式ＭｇＲ11 x Ｘ1 y で表されるマグ
ネシウム化合物やその錯塩も使用できる。
2 ，Ｍｇ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 などのマグネシウム化合物な
どで代表される一般式ＭｇＲ11 x Ｘ1 y で表されるマグ
ネシウム化合物やその錯塩も使用できる。
【００７０】助触媒としてはこれらを１種ないし２種以
上混合して使用することができる。
上混合して使用することができる。
【００７１】該ゴム状重合体の重合方法は特に限定され
ず、溶媒重合法あるいは実質的に溶媒の存在しない塊状
重合法、気相重合法などの従来の方法で利用でき、また
重合条件については特に制限はなく通常、反応温度は常
温〜２５０℃、圧力が常圧〜５０kg／cm2で行われる。
ず、溶媒重合法あるいは実質的に溶媒の存在しない塊状
重合法、気相重合法などの従来の方法で利用でき、また
重合条件については特に制限はなく通常、反応温度は常
温〜２５０℃、圧力が常圧〜５０kg／cm2で行われる。
【００７２】本発明はまたスチレン系単量体の重合体と
前記のゴム状重合体とを溶融混合するゴム変性スチレン
系樹脂組成物の製造方法である。溶融混合の方法として
は特に制限はなく、これらの各成分を溶融混合する温度
として、一番融点の高い重合体の融点よりも実質的に高
い温度で溶融混合すればよい。必要に応じて酸化防止
剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤、あるいは他の核
剤など公知の添加剤をヘンシェルミキサー、Ｖ型ブレン
ダー等で混合後、押出機、あるいはロール、バンバリー
ミキサー、ニーダー等で溶融混合し一度造粒してペレッ
ト状にしておくことが好ましい。
前記のゴム状重合体とを溶融混合するゴム変性スチレン
系樹脂組成物の製造方法である。溶融混合の方法として
は特に制限はなく、これらの各成分を溶融混合する温度
として、一番融点の高い重合体の融点よりも実質的に高
い温度で溶融混合すればよい。必要に応じて酸化防止
剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤、あるいは他の核
剤など公知の添加剤をヘンシェルミキサー、Ｖ型ブレン
ダー等で混合後、押出機、あるいはロール、バンバリー
ミキサー、ニーダー等で溶融混合し一度造粒してペレッ
ト状にしておくことが好ましい。
【００７３】また本発明は上記のゴム状重合体をスチレ
ン系単重体に溶解し、この溶液を重合させるゴム変性ス
チレン系樹脂組成物の製造方法である。すなわち重合方
法としてはゴム状重合体をスチレン系単量体に溶解した
溶液を塊状重合又は塊状−懸濁二段重合法にて重合する
等により得られるが、重合方法は特に限定はなく熱重合
或いは触媒重合により製造される。
ン系単重体に溶解し、この溶液を重合させるゴム変性ス
チレン系樹脂組成物の製造方法である。すなわち重合方
法としてはゴム状重合体をスチレン系単量体に溶解した
溶液を塊状重合又は塊状−懸濁二段重合法にて重合する
等により得られるが、重合方法は特に限定はなく熱重合
或いは触媒重合により製造される。
【００７４】上記のように重合で得られる樹脂組成物は
単にブレンドした場合よりもゴムへのグラフト効果によ
って衝撃強度が向上して好ましい。
単にブレンドした場合よりもゴムへのグラフト効果によ
って衝撃強度が向上して好ましい。
【００７５】ゴム溶液にはベンゼン、トルエン、キシレ
ン、エチルベンゼン、アセトン、イソプロピルペンゼ
ン、メチルエチルケトンや塩化メチレンなどの溶剤が含
まれていてもよい。
ン、エチルベンゼン、アセトン、イソプロピルペンゼ
ン、メチルエチルケトンや塩化メチレンなどの溶剤が含
まれていてもよい。
【００７６】本発明においては、ゴム状重合体にスチレ
ン系モノマーをグラフトさせて、さらにゴム状重合体を
粒子化して樹脂中に分散させるがこれらの反応は熱重合
あるいは反応の際に重合開始剤を使用することも好まし
い。
ン系モノマーをグラフトさせて、さらにゴム状重合体を
粒子化して樹脂中に分散させるがこれらの反応は熱重合
あるいは反応の際に重合開始剤を使用することも好まし
い。
【００７７】例えば本発明で用いることのできる重合開
始剤としては、例えばベンゾイルパ−オキサイド、ラウ
ロイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパ−オキシピパレー
ト、ｔ−ブチルパ−オキシペンゾエート、ｔ−ブチルパ
−オキシイソブチレート、ｔ−ブチルパ−オキシオクト
エート、クミルパ−オキシオクトエート、１，１−ビス
（ｔ−ブチルパ−オキシ）３，３，５−トリメチルシロ
キサン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパ−オキシ）オクタ
ン、ｎ−ブチル４，４−ビス（ｔ−ブチルパ−オキシ）
バレレート、２，２−ビス（ｔ−ブチルパ−オキシ）ブ
タン、ｔ−ブチルパ−オキシマレイン酸、ｔ−ブチルパ
−オキシイソプロピルカ−ポネート、ジクミルパ−オキ
サイド、ｔ−ブチルハイドロパ−オキサイド、クメンハ
オドロパ−オキサイド等が挙げられる。これらは単独で
あるいは２種以上組み合わせて用いられる。これらの重
合開始剤の使用量としては例えば有機過酸化物を使用す
る場合には有機過酸化物をゴム状重合体を溶解した溶液
１００重量部に対し、０．０００５〜０．０５重量部使
用することが好ましい。０．０５重量部より少なければ
巨大粒子が生成せず、成形品の表面状態が良好で好まし
く、０．０００５重量部以上使用すれば適度な重合速度
とゴムへのグラフト率が保たれて好ましい。
始剤としては、例えばベンゾイルパ−オキサイド、ラウ
ロイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパ−オキシピパレー
ト、ｔ−ブチルパ−オキシペンゾエート、ｔ−ブチルパ
−オキシイソブチレート、ｔ−ブチルパ−オキシオクト
エート、クミルパ−オキシオクトエート、１，１−ビス
（ｔ−ブチルパ−オキシ）３，３，５−トリメチルシロ
キサン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパ−オキシ）オクタ
ン、ｎ−ブチル４，４−ビス（ｔ−ブチルパ−オキシ）
バレレート、２，２−ビス（ｔ−ブチルパ−オキシ）ブ
タン、ｔ−ブチルパ−オキシマレイン酸、ｔ−ブチルパ
−オキシイソプロピルカ−ポネート、ジクミルパ−オキ
サイド、ｔ−ブチルハイドロパ−オキサイド、クメンハ
オドロパ−オキサイド等が挙げられる。これらは単独で
あるいは２種以上組み合わせて用いられる。これらの重
合開始剤の使用量としては例えば有機過酸化物を使用す
る場合には有機過酸化物をゴム状重合体を溶解した溶液
１００重量部に対し、０．０００５〜０．０５重量部使
用することが好ましい。０．０５重量部より少なければ
巨大粒子が生成せず、成形品の表面状態が良好で好まし
く、０．０００５重量部以上使用すれば適度な重合速度
とゴムへのグラフト率が保たれて好ましい。
【００７８】本発明において、スチレン系重合体の分子
量調節のために連鎖移動剤を使用することができる。例
えばα−メチルスチレンダイマー、ｔ−ドデシルメルカ
プタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｎ−オクチルメル
カプタン等の使用が可能である。
量調節のために連鎖移動剤を使用することができる。例
えばα−メチルスチレンダイマー、ｔ−ドデシルメルカ
プタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｎ−オクチルメル
カプタン等の使用が可能である。
【００７９】本発明の重合では溶液重合あるいは塊状重
合であるが、その重合工程では特定の反応槽に限定され
ず、例えば完全混合型反応槽、管型反応槽、塔型反応槽
等が用いられ、それらの反応槽の種類や数は特に限定さ
れない。
合であるが、その重合工程では特定の反応槽に限定され
ず、例えば完全混合型反応槽、管型反応槽、塔型反応槽
等が用いられ、それらの反応槽の種類や数は特に限定さ
れない。
【００８０】本発明のゴム変性スチレン系樹脂組成物に
は必要に応じてヒンダ−ドフェノール系酸化防止剤、リ
ン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤、
ミネラル油等の流動性改良剤、ステアリン酸、ステアリ
ン酸亜鉛、有機ポリシロキサン等の離型剤を原料溶液或
いは重合の途中もしくは重合の終了した時点で添加して
もよい。
は必要に応じてヒンダ−ドフェノール系酸化防止剤、リ
ン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤、
ミネラル油等の流動性改良剤、ステアリン酸、ステアリ
ン酸亜鉛、有機ポリシロキサン等の離型剤を原料溶液或
いは重合の途中もしくは重合の終了した時点で添加して
もよい。
【００８１】本発明の樹脂組成物は射出成形や押出し成
形等の通常のポリスチレンの成形に用いられている方法
で成形して剛性と耐衝撃性のバランスの良好な成形物を
製造することができる。このときの成形温度としては特
に制限はなく通常の成形温度で可能であり、通常１６０
〜３００℃である。
形等の通常のポリスチレンの成形に用いられている方法
で成形して剛性と耐衝撃性のバランスの良好な成形物を
製造することができる。このときの成形温度としては特
に制限はなく通常の成形温度で可能であり、通常１６０
〜３００℃である。
【００８２】
【実施例】以下に実施例を示しさらに本発明を説明す
る。
る。
【００８３】物性の評価 （１）アイゾット衝撃強度：ＪＩＳ Ｋ−６８７１に準
じて測定した。 （２）曲げ弾性率 ：ＪＩＳ Ｋ−７２０３に準
じて測定した。 （３）耐候性保持率（％）は下記式（数１）で測定し
た。
じて測定した。 （２）曲げ弾性率 ：ＪＩＳ Ｋ−７２０３に準
じて測定した。 （３）耐候性保持率（％）は下記式（数１）で測定し
た。
【００８４】
【数１】 実施例１ 〔エチレン／オクテンー１共重合体の合成〕内容積２０
０リットルのステンレス製オートクレープにトルエン５
０リットルを入れ、２０℃に保ちながら１−オクテン５
０リットルを導入し、さらにトリイソプチルアルミニウ
ム１００ミリモルを入れ、２０℃でエチレンガスを導入
して３ｋｇ／ｃｍ2−Ｇとして常法にしたがって合成し
た（シクロペンタジエニル）〔Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメ
チルシリン）ベンズアミジナト〕ジルコニウムジクロリ
ド１ミリモルをトルエンに溶解した溶液を加えて、つい
でさらにＮ，Ｎ’−ジメチルアニリニウム、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート２ミリモルを添加
してエチレンガスを３ｋｇ／ｃｍ2−Ｇで一定に保ちな
がら８０℃に昇温して９０分間重合することにより、Ｄ
ＳＣで求めたガラス転移温度が−３０℃以下であり、Ｄ
ＳＣで求めたガラス転移温度が−４２℃であり、ジクロ
ロベンゼンを移動相として昇温分別装置で２５℃以下で
流出する成分が９９％以上であるエチレン／オクテンー
１共重合体（オクテン−１含量２６モル％）を得た。
０リットルのステンレス製オートクレープにトルエン５
０リットルを入れ、２０℃に保ちながら１−オクテン５
０リットルを導入し、さらにトリイソプチルアルミニウ
ム１００ミリモルを入れ、２０℃でエチレンガスを導入
して３ｋｇ／ｃｍ2−Ｇとして常法にしたがって合成し
た（シクロペンタジエニル）〔Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメ
チルシリン）ベンズアミジナト〕ジルコニウムジクロリ
ド１ミリモルをトルエンに溶解した溶液を加えて、つい
でさらにＮ，Ｎ’−ジメチルアニリニウム、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート２ミリモルを添加
してエチレンガスを３ｋｇ／ｃｍ2−Ｇで一定に保ちな
がら８０℃に昇温して９０分間重合することにより、Ｄ
ＳＣで求めたガラス転移温度が−３０℃以下であり、Ｄ
ＳＣで求めたガラス転移温度が−４２℃であり、ジクロ
ロベンゼンを移動相として昇温分別装置で２５℃以下で
流出する成分が９９％以上であるエチレン／オクテンー
１共重合体（オクテン−１含量２６モル％）を得た。
【００８５】〔樹脂組成物の製造〕３基の直列の撹件機
付き反応器の出口に予熱器、ついで真空槽を連結した連
続塊状重合装置を用いてゴム変性スチレン系樹脂を製造
した。第１基目の撹津機付き反応槽にゴム状重合体とし
て上記のゴム状重合体４．２重量部、エチルベンゼン１
５重量部、スチレン７９重量部、有機過酸化物として
１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−ト
リメチルシクロヘキサン０．００５重量部よりなる原料
液を連続的に供給した。第１基目の反応温度は１４２℃
とし、第２基目は反応温度を１４５℃、第３基目は反応
温度を１４５℃とした。また予熱器の温度は、２１０〜
２４０℃に保持し、真空槽の真空度は４０Ｔｏｒｒとし
た。結果を表１に示す。この樹脂はサンシャインウエザ
ーメーターの暴露試験で１０００時間後でも伸びの保持
率が６０％であり粘性を保持していた。
付き反応器の出口に予熱器、ついで真空槽を連結した連
続塊状重合装置を用いてゴム変性スチレン系樹脂を製造
した。第１基目の撹津機付き反応槽にゴム状重合体とし
て上記のゴム状重合体４．２重量部、エチルベンゼン１
５重量部、スチレン７９重量部、有機過酸化物として
１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−ト
リメチルシクロヘキサン０．００５重量部よりなる原料
液を連続的に供給した。第１基目の反応温度は１４２℃
とし、第２基目は反応温度を１４５℃、第３基目は反応
温度を１４５℃とした。また予熱器の温度は、２１０〜
２４０℃に保持し、真空槽の真空度は４０Ｔｏｒｒとし
た。結果を表１に示す。この樹脂はサンシャインウエザ
ーメーターの暴露試験で１０００時間後でも伸びの保持
率が６０％であり粘性を保持していた。
【００８６】実施例２ １−オクテンの代わりに１−ヘキセンを用いた他は実施
例１と同様にして共重合をおこなって、ジクロロベンゼ
ンを移動相として昇温分別装置で２５℃以下で流出する
成分が９９％以上であり、ＤＳＣで求めたガラス転移温
度が−３８℃であるエチレン／１−ヘキセン共重合体
（ヘキセン含量３２モル％）を用いた以外は実施例１と
同様の条件で行った。結果を表１に示す。この樹脂はサ
ンシャインウエザーメーターの暴露試験で１０００時間
後でも伸びの保持率が６２％であり粘性を保持してい
た。
例１と同様にして共重合をおこなって、ジクロロベンゼ
ンを移動相として昇温分別装置で２５℃以下で流出する
成分が９９％以上であり、ＤＳＣで求めたガラス転移温
度が−３８℃であるエチレン／１−ヘキセン共重合体
（ヘキセン含量３２モル％）を用いた以外は実施例１と
同様の条件で行った。結果を表１に示す。この樹脂はサ
ンシャインウエザーメーターの暴露試験で１０００時間
後でも伸びの保持率が６２％であり粘性を保持してい
た。
【００８７】実施例３ １−オクテンの代わりに１−デセンを用いた他は実施例
１と同様にして共重合をおこなって、得られたエチレン
／１−デセン共重合体を用いた以外は実施例１と同様の
条件で行った。結果を表１に示す。この樹脂はサンシャ
インウエザーメーターの暴露試験で１０００時間後でも
伸びの保持率が５４％であり粘性を保持していた。
１と同様にして共重合をおこなって、得られたエチレン
／１−デセン共重合体を用いた以外は実施例１と同様の
条件で行った。結果を表１に示す。この樹脂はサンシャ
インウエザーメーターの暴露試験で１０００時間後でも
伸びの保持率が５４％であり粘性を保持していた。
【００８８】実施例４ ゴム状重合体としてを実施例１のエチレン圧力を低下さ
せた以外は同様にして重合して、ＤＳＣで求めたガラス
転移温度が−４８℃であり、ジクロロベンゼンを移動相
として昇温分別装置で２５℃以下で流出する成分が９９
％以上であるエチレン／オクテンー１共重合体（オクテ
ン−１含量３４モル％）を得た。これを用いた以外は実
施例１と同様にスチレンの重合を行った結果を表１に示
す。この樹脂はサンシャインウエザーメーターの暴露試
験で１０００時間後でも伸びの保持率が５２％であり粘
性を保持していた。
せた以外は同様にして重合して、ＤＳＣで求めたガラス
転移温度が−４８℃であり、ジクロロベンゼンを移動相
として昇温分別装置で２５℃以下で流出する成分が９９
％以上であるエチレン／オクテンー１共重合体（オクテ
ン−１含量３４モル％）を得た。これを用いた以外は実
施例１と同様にスチレンの重合を行った結果を表１に示
す。この樹脂はサンシャインウエザーメーターの暴露試
験で１０００時間後でも伸びの保持率が５２％であり粘
性を保持していた。
【００８９】比較例 エチレン／１−オクテン共重合体の代わりにポリブタジ
エン（旭化成ポリブタジエン３５ＳＡ）を使用した以外
は実施例１と同様の条件でスチレンの重合を行った。結
果を表１に示す。この樹脂はサンシャインウエザーメー
ターの暴露試験で１０００時間後には脆化していた。
エン（旭化成ポリブタジエン３５ＳＡ）を使用した以外
は実施例１と同様の条件でスチレンの重合を行った。結
果を表１に示す。この樹脂はサンシャインウエザーメー
ターの暴露試験で１０００時間後には脆化していた。
【００９０】
【表１】
【００９１】
【発明の効果】本発明のゴム変性スチレン系樹脂組成物
は、衝撃強度、及び成形物の外観とのバランスが優れて
おり、家庭電気製品、電子機器等の部品材料の用途にお
いて産業上の利用価値は大きいものである。
は、衝撃強度、及び成形物の外観とのバランスが優れて
おり、家庭電気製品、電子機器等の部品材料の用途にお
いて産業上の利用価値は大きいものである。
Claims (6)
- 【請求項１】 スチレン系単量体を重合せしめて得られ
る重合体にゴム状重合体粒子を分散させてなるゴム変性
スチレン系樹脂組成物であって、該ゴム状重合体粒子の
形成原料であるゴム状重合体が、エチレンと炭素数６以
上の不飽和化合物とからなる共重合体であって、エチレ
ンと炭素数６以上の不飽和化合物との共重合体におけ
る、該炭素数６以上の不飽和化合物単位の含量が２０な
いし６０モル％の範囲にあり、ムーニー粘度 ＭＬ1+4
（１００℃）が５〜１００の範囲であり、ＤＳＣで求め
たガラス転移温度が−３０℃以下であり、ジクロロベン
ゼンを移動相として昇温分別装置で２５℃以下で流出す
る成分が９０％以上であることを特徴とするゴム変性ス
チレン系樹脂組成物。 - 【請求項２】 ゴム状重合体が （Ａ）下記一般式（１、２、３）（化１） 【化１】 （Ａ）Ｍ（Ｒ1）（Ｒ2）（Ｒ3） 一般式（１） （Ａ）（Ｂ）Ｍ（Ｒ1）（Ｒ2） 一般式（２） （Ａ）（Ｂ）（Ｃ）Ｍ（Ｒ1） 一般式（３） （式中Ａ、ＢおよびＣは、Ｍに結合または配位している
π系）の不飽和化合物よりなる基、シクロペンタジエニ
ル基またはその誘導体基、周期律表第１３族、１４族、
１５族及び１６族の複素原子がＭに結合または配位して
いる基よりなる配位子であり、Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ
の間で一重結合、二重結合またはそれらの組合せで結合
されていても良い。Ａ、ＢおよびＣはＭに結合または配
位しており、Ａ，Ｂ及びＣでＭが共鳴結合しているもの
も含む。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、有機メタロイド基、アルコキシ基、アミノ基、炭
化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を示し、それ
らはお互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ1、Ｒ2及
びＲ3間で架橋していても良く、またＲ1、Ｒ2及びＲ3と
Ｍとが架橋していてもよい。Ｍは周期律表第３族、第４
族、第５族、ランタノイド系またはアクチノイド系の金
属である。） （Ｂ）（Ｂ１）〜（Ｂ３）より選ばれた少なくとも一種
の、（Ａ）と反応して安定なイオン性の錯体を形成する
化合物 （Ｂ１）アルミノキサン、 （Ｂ２）（Ａ）と反応して安定なイオン性の錯体を形成
する嵩高いアニオンとカチオンから形成されるイオン性
化合物、 （Ｂ３）（Ａ）と反応して安定なイオン性の錯体を形成
するルイス酸化合物 （Ｃ）必要に応じて少なくとも１個以上の炭化水素残基
を有する周期律表第１、２族または１３族の有機金属化
合物 よりなる触媒を使用してエチレンと不飽和結合を有する
炭素数６以上の不飽和化合物を共重合して得られたもの
であることを特徴とする請求項１記載のゴム変成スチレ
ン系樹脂組成物。 - 【請求項３】 スチレン系単量体の重合体と、前記ゴム
状重合体とを溶融混合することを特徴とする請求項１ま
たは２記載のゴム変性スチレン系樹脂組成物を製造する
方法。 - 【請求項４】 請求項１記載のゴム状重合体をスチレン
系単量体を含む溶液に溶解し、この溶液を重合させて得
られるゴム状重合体粒子を分散してなるゴム変性スチレ
ン系樹脂組成物の製造方法。 - 【請求項５】 ゴム状重合体粒子化を分散する際に、ゴ
ム状重合体がスチレン系単量体を含む溶液に溶解した溶
液１００重量部に対し、有機過酸化物を０．０００５な
いし０．０５重量部添加して重合することを特徴とする
請求項４記載のゴム変性スチレン系樹脂組成物の製造方
法。 - 【請求項６】 請求項３乃至５のいずれか記載の製造方
法によって得られるゴム変性スチレン系樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12727197A JPH115878A (ja) | 1997-04-22 | 1997-05-16 | スチレン系樹脂組成物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-104621 | 1997-04-22 | ||
| JP10462197 | 1997-04-22 | ||
| JP12727197A JPH115878A (ja) | 1997-04-22 | 1997-05-16 | スチレン系樹脂組成物及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH115878A true JPH115878A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=26445061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12727197A Pending JPH115878A (ja) | 1997-04-22 | 1997-05-16 | スチレン系樹脂組成物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH115878A (ja) |
-
1997
- 1997-05-16 JP JP12727197A patent/JPH115878A/ja active Pending
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