JPH1164769A - 光偏向装置およびそれを用いたビーム走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気回路の効率を良くすることにより、画像
劣化のない高品質の画像記録を可能にする光偏向装置お
よびそれを用いたビーム走査装置を提供する。 【解決手段】 本発明による光偏向装置は、光を反射す
るためのミラー２０と、このミラー２０を板バネ２１を
介して回動自在に保持するためのヨーク２４と、ミラー
２０をヨーク２４に対して回動駆動するためのコイル２
６および磁石２７と、ヨーク２４を保持する磁石固定仮
２８と、ヨーク２４にその一部が挿入されヨーク２４に
対して位置決めする位置決めピン３１ａ，３１ｂとを備
えている。磁石２７はヨーク２４内に磁気回路を形成す
る。位置決めピン３１ａ，３１ｂはヨーク２４内に形成
される磁気回路を妨げないよう磁性体からなっている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光偏向部材を微小
に変位させることによりレーザービーム等の光を偏向さ
せるための光偏向装置およびそれを用いたビーム走査装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光偏向装置は近年、レーザービーム等を
用いる種々の装置の発展により、その用いられる用途が
増加している。例えば、レーザープリンタは、画像やド
キュメント情報を頁単位で任意の枚数出力できる出力装
置であるが、従来のこの種のレーザープリンタのレーザ
ービーム走査装置には光偏向装置が用いられている。

【０００３】代表的な光偏向装置として、マルチビーム
走査装置に用いられるガルバノミラーについて、その従
来の構成を以下に説明する。図１２はガルバノミラーの
構成を示す斜視図、図１３（ａ）（ｂ）（ｃ）は３面
図、図１４は分解斜視図である。

【０００４】図１２乃至図１４において、レーザービー
ムを偏向するためのミラー（光偏向部材）２０は、それ
自身が微小駆動されるよう弾性支持体により弾性的に支
持されている。この弾性支持体はミラー２０に取り付け
られる部分と、フレームであるヨーク２４に取り付けら
れる部分と、この両部分を連結する２つの捻りバネすな
わちトーションバー２２ａ，２２ｂを有している板バネ
（支持部材）２１からなり、この板バネ２１にミラー２
０が接着されている。ミラー２０の反射面すなわち蒸着
面は、ミラー２０のうち板バネ２１がある側と反対側に
設けられている。

【０００５】板バネ２１の材料は、バネ材としてよく用
いられるベリリウム銅やステンレス、例えばＳＵＳ３０
４が用いられる。板バネ２１のミラー２０が接着されて
いる側と反対側にはボビン２３が接着されており、ボビ
ン２３の内側にはコイル２６が接着されている。板バネ
２１は、フレームを兼ねた強磁性体材料からなるヨーク
（保持部材）２４に、樹脂からなる板バネ押え２５ａ，
２５ｂにより固定されている。すなわち、板バネ２１
は、ヨーク２４に設けられたネジ穴４０ａ，４０ｂに図
示しないネジで、板バネ２１に設けられた穴３７ａ，３
７ｂと板バネ押え２５ａ，２５ｂに設けられた穴４１
ａ，４１ｂとを介して固定されている。

【０００６】磁石２７は非磁性体からなる磁石固定板
（ベース部材）２８に接着されており、ヨーク２４とは
図示しないネジによりヨーク２４に設けられた図示しな
いネジ穴に磁石固定板２８に設けられた穴３９ａ，３９
ｂを介して固定されている。板バネ２１の長手方向の両
側にはトーションバー２２ａ，２２ｂが設けられてお
り、これによりミラー２０は矢印Ｒ方向に回転可能にな
っている（図１２および図１３（ｃ）参照）。

【０００７】コイル２６に電流を流すことにより、磁石
固定板２８に取り付けられた磁石２７との間に電磁力が
発生してミラー２０が矢印Ｒ方向に回転する。

【０００８】具体的には、図１５において、磁石２７の
Ｎ極面（着磁面）から出た磁力線はヨーク２４に向か
い、矢印Ｂで示すようにヨーク２４で左右に分かれた磁
力線はヨーク２４に沿って半周して反対側に周り、磁石
２７のＳ極面（着磁面）に戻ってくるようになってい
る。

【０００９】この状態でコイル２６に電流を流すと、Ｎ
極面側にある、磁石２７とヨーク２４の磁気ギャップに
あるコイル２６の直線部分と、Ｓ極面側にあるコイル２
６の直線部分とは垂直方向に電磁力を受けるがその向き
は反対である。

【００１０】従って、板バネ２１はヨーク２４に固定さ
れているので、結果として板バネ２１が捻りバネである
トーションバー２２ａ，２２ｂを中心軸として回転し、
ミラー２０も矢印Ｒ方向に回転することになる。なお、
電流を流す向きを変えることにより回転方向を変えるこ
とができ、回転角は電流値に比例して変えることができ
る。また、通電電流を保持することによりミラー２０は
回転角を維持することができる。

【００１１】また、図１３（ａ）（ｂ）（ｃ）におい
て、ヨーク２４とボビン２３とのギャップには、外乱振
動でミラー２０が振動しないよう、例えばシリコーンゲ
ルのようなダンピング剤２９ａ，２９ｂが充填されてい
る。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような構成からなる光偏向装置によりレーザービームを
走査するときには次のような問題点があった。

【００１３】すなわち、図１４において、磁石固定板２
８に対してヨーク２４の位置決めを行うために、位置決
めピン（位置決め部材）３１ａ，３１ｂが磁石固定板２
８の位置決め用の穴３８ａ，３８ｂとヨーク２４の位置
決め用の穴３３ａ，３３ｂとに挿入される。しかし、従
来は位置決めピン３１ａ，３１ｂとして非磁性体である
ＳＵＳ３０４等を用いているので、ヨーク２４内を通る
磁力線が妨げられることになり、このためヨーク２４内
に形成される磁気回路の効率が悪くなるという問題があ
った。

【００１４】また、図１５において、磁石２７のＮ極面
から出た磁力線はヨーク２４に向かい、矢印Ｂで示すよ
うにヨーク２４で左右に分かれた磁力線はヨーク２４に
沿って半周して反対側に周り、磁石２７のＳ極面に戻っ
てくるようになっているが、Ｎ極面から出た磁力線がヨ
ーク２４に向かう際、ヨーク２４の磁石２７のＮ極面と
向かい合った部分の面積が磁石２７のＮ極面の面積より
大きいので、磁力線は広がりを持ってヨーク２４に向か
うことになる。Ｓ極面側も同様である。従って、コイル
２６の位置における磁束密度が低下し、磁気回路の効率
が悪くなるという問題があった。

【００１５】また、図１５において、磁石２７のＮ極面
から出た磁力線はヨーク２４に向かい、矢印Ｂで示すよ
うにヨーク２４で左右に分かれた磁力線はヨーク２４に
沿って半周して磁石２７のＳ極面に戻るが、半周せず
に、ヨーク２４に設けられた振動対策のためのシリコー
ンゲルを充填する突起４７ａ，４７ｂがあるところで、
磁石２７に戻る磁力線が発生する可能性がある。従っ
て、漏れ磁束が生じ、ヨーク２４内に形成される磁気回
路の効率が悪くなるという問題があった。

【００１６】上述したように、従来のレーザビーム走査
装置では、光偏向装置としてのガルバノミラーの磁気回
路の効率が悪く、所望の性能が得られない可能性があっ
た。

【００１７】そこで、本発明の目的は、磁気回路の効率
を良くすることにより、画像劣化のない高品質の画像記
録を可能にする光偏向装置およびそれを用いたビーム走
査装置を提供することにある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の特徴は、
光を反射する反射面を有する光偏向部材と、前記光偏向
部材を支持する支持部材と、前記支持部材を保持する保
持部材と、前記光偏向部材を前記保持部材に対して回動
駆動するための駆動機構と、前記保持部材を支持するベ
ース部材と、前記保持部材を前記ベース部材に対して位
置決めする磁性体からなる位置決め部材とを備えたこと
を特徴とする光偏向装置である。なお、本発明の第１の
特徴において、前記駆動機構は、前記保持部材内に磁気
回路を形成することが好ましい。また、前記位置決め部
材は、前記保持部材内に形成される磁気回路を妨げない
よう磁性体からなることが好ましい。

【００１９】本発明の第２の特徴は、光を反射する反射
面を有する光偏向部材と、前記光偏向部材を支持する支
持部材と、前記支持部材を保持するとともに開口部を有
する保持部材と、前記保持部材の前記開口部内に配置さ
れ、前記光偏向部材を前記保持部材に対して回動駆動す
るための磁石およびコイルからなる駆動機構とを備え、
前記保持部材の前記開口部のうち前記磁石の着磁面に対
向する面には第１の張り出し部が突出形成されることを
特徴とする光偏向装置である。なお、本発明の第２の特
徴において、前記第１の張り出し部は、前記磁石の着磁
面と略同一の面積を有することが好ましい。また、前記
保持部材の前記開口部のうち前記磁石の着磁面に対向し
ない面には非磁性体からなる第２の張り出し部が突出形
成されることが好ましい。

【００２０】本発明の第３の特徴は、複数の光源と、前
記各光源から出射された光を所定の方向へ偏向する複数
の光偏向装置と、前記各光偏向装置により偏向された光
を所定像面に等速で走査する走査装置とを備えたビーム
走査装置において、前記各光偏向装置は、光を反射する
反射面を有する光偏向部材と、前記光偏向部材を支持す
る支持部材と、前記支持部材を保持する保持部材と、前
記光偏向部材を前記保持部材に対して回動駆動するため
の駆動機構と、前記保持部材を支持するベース部材と、
前記保持部材を前記ベース部材に対して位置決めする磁
性体からなる位置決め部材とを有することを特徴とする
ビーム走査装置である。なお、本発明の第３の特徴にお
いて、前記駆動機構は前記保持部材内に磁気回路を形成
することが好ましい。また、前記位置決め部材は、前記
保持部材内に形成される磁気回路を妨げないよう磁性体
からなることが好ましい。

【００２１】本発明の第４の特徴は、複数の光源と、前
記各光源から出射された光を所定の方向へ偏向する複数
の光偏向装置と、前記各光偏向装置により偏向された光
を所定像面に等速で走査する走査装置とを備えたビーム
走査装置において、前記各光偏向装置は、光を反射する
反射面を有する光偏向部材と、前記光偏向部材を支持す
る支持部材と、前記支持部材を保持するとともに開口部
を有する保持部材と、前記保持部材の前記開口部内に配
置され、前記光偏向部材を前記保持部材に対して回動駆
動するための磁石およびコイルからなる駆動機構とを有
し、前記保持部材の前記開口部のうち前記磁石の着磁面
に対向する面には第１の張り出し部が突出形成されるこ
とを特徴とするビーム走査装置である。なお、本発明の
第４の特徴において、前記第１の張り出し部は、前記磁
石の着磁面と略同一の面積を有することが好ましい。ま
た、前記保持部材の前記開口部のうち前記磁石の着磁面
に対向しない面には非磁性体からなる第２の張り出し部
が突出形成されることが好ましい。

【００２２】本発明の第１および第３の特徴によれば、
保持部材内を通る磁力線が妨げられることがないので、
保持部材内に形成される磁気回路の効率を良くすること
ができる。

【００２３】本発明の第２および第４の特徴によれば、
保持部材の開口部のうち磁石の着磁面に対向する面に第
１の張り出し部を突出形成しているので、磁石の着磁面
と保持部材とのギャップにおける磁束密度の低下や漏れ
磁束をほとんど生じさせることがなく、このため保持部
材内に形成される磁気回路の効率を良くすることができ
る。また、保持部材の開口部のうち磁石の着磁面に対向
しない面に非磁性体の第２の張り出し部を突出形成して
いるので、ダンピング剤等が充填される部分のギャップ
を狭く保ちながら漏れ磁束を防止することができ、この
ため保持部材内に形成される磁気回路の効率を良くする
ことができる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明によ
る光偏向装置およびそれを用いたビーム走査装置の実施
の形態について説明する。

【００２５】第１の実施の形態 図１は本発明の第１の実施の形態に係る光偏向装置を示
す図である。図１において、レーザービーム等の光を偏
向するためのミラー（光偏向部材）２０は、板バネ（支
持部材）２１の一方の面側に取り付けられている。この
板バネ２１のうちミラー２０が取り付けられている側と
反対側には、ボビン２３が取り付けられており、ボビン
２３の内側には磁石２７とともに駆動機構を構成するコ
イル２６が取り付けられている。

【００２６】板バネ２１を、中央に開口部２４ａを有す
るヨーク（保持部材）２４にネジ止め固定するため、板
バネ２１にはネジ止め用の穴３７ａ，３７ｂが設けら
れ、ヨーク２４にはネジ止め用の穴３７ａ，３７ｂに対
応するネジ穴３５ａ，３５ｂが設けられている。

【００２７】さらに、板バネ２１には位置決め用の穴３
６ａ，３６ｂ，３６ｃ，３６ｄが設けられ、ヨーク２４
には同様に位置決め用の穴３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３
４ｄが設けられている。そして、これらの位置決め用の
穴に位置決めピン３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄを通
して動かないように仮止め固定した後、ネジ止め固定す
る。

【００２８】このように、板バネ２１に設けられた位置
決め用の穴３６ａ，３６ｂ，３６ｃ，３６ｄとヨーク２
４に設けられた位置決め用の穴３４ａ，３４ｂ，３４
ｃ，３４ｄとに共通に位置決めピン３２ａ，３２ｂ，３
２ｃ，３２ｄを貫通させることにより、板バネ２１はヨ
ーク２４に仮止め固定された状態となり、板バネ２１の
捻りバネであるトーションバー２２ａ，２２ｂがネジ止
め時に曲がらないようにすることができる。

【００２９】板バネ２１に設けられるネジ止め用の穴３
７ａ，３７ｂと位置決め用の穴３６ａ，３６ｂ，３６
ｃ，３６ｄは、図１に示したような位置に設けることが
望ましい。すなわち、ネジ止め用の穴３７ａ，３７ｂは
例えば、トーションバー２２ａ，２２ｂの長手方向と一
直線状に並ぶよう配置し、位置決め用の穴３６ａ，３６
ｂ，３６ｃ，３６ｄはネジ止め用の穴３７ａ，３７ｂの
両側で、かつトーションバー２２ａ，２２ｂの長手方向
と直交する方向に離間して配置する。

【００３０】そして、このようにして配置された位置決
め用の穴３６ａ，３６ｂ，３６ｃ，３６ｄとネジ止め用
の穴３７ａ，３７ｂとを位置合わせして位置決めピン３
２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄで仮止め固定することに
より、組立工程においてネジを締めた場合にも、位置決
めピン３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄが位置決め用の
穴３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄと接触していること
から、ネジの締付けに対して板バネ２１とヨーク２４と
は一体化されたように作用し、トーションバー２２ａ，
２２ｂに不要な捻り力等の応力が作用するのを防止する
ことができる。

【００３１】また、位置決めピン（位置決め部材）３１
ａ，３１ｂは、ヨーク２４と磁石固定板（ベース部材）
２８との位置を決めるためのものであり、ヨーク２４の
位置決め用の穴３３ａ，３３ｂと磁石固定板２８の位置
決め用の穴３８ａ，３８ｂとに共通に位置決めピン３１
ａ，３１ｂを通すことにより、位置決めを行うことがで
きる。

【００３２】ここで、この位置決めピン３１ａ，３１ｂ
の材質は磁性体である。すなわち、従来はこのような位
置決めピン３１ａ，３１ｂとして、非磁性体であるＳＵ
Ｓ３０４等を用いていたが、本発明の第１の実施の形態
では磁性体の位置決めピン、例えばＳＵＳ４０５やＳＵ
Ｓ４１０等のステンレス鋼、またはＳ１５Ｃ等の炭素鋼
に代表される磁性体の位置決めピンを用いる。

【００３３】位置決めピン３１ａ，３１ｂが挿入される
ヨーク２４の位置決め用の穴３３ａ，３３ｂは、磁力線
が通るヨーク２４内に設けられているので、従来のよう
に非磁性体（例えばＳＵＳ３０４）の位置決めピンを用
いると、磁気回路をなす磁力線の妨げになる可能性があ
った。これに対して、本発明の第１の実施の形態によれ
ば、位置決めピン３１ａ，３１ｂを磁性体にすることに
より、磁気回路の効率を良くすることができる。

【００３４】このような磁性体の位置決めピン３１ａ，
３１ｂの材質としては、ヨーク２４と同一材質、または
ヨーク２４と同等の材質でも良いが、位置決めピン３１
ａ，３１ｂとして有効に作用するよう材質の硬度や加工
性を考慮し、上述したようなステンレス鋼（例えばＳＵ
Ｓ４０５やＳＵＳ４１０）等を用いることが望ましい。
ステンレス鋼であれば、位置決めピン３１ａ，３１ｂに
必要な位置決め精度を満足するための加工性、例えば位
置決めピン３１ａ，３１ｂの表面の鏡面加工や、また位
置決めピン３１ａ，３１ｂとして必要な硬度を十分に満
たすことが可能である。

【００３５】第２の実施の形態 図２は本発明の第２の実施の形態に係る光偏向装置の要
部を示す図であり、以下、図１と同一部分には同一符号
を付してその説明は省略し、異なる構成の部分について
のみ説明する。図２に示すように、本発明の第２の実施
の形態においては、ヨーク２４の開口部２４ａのうち磁
石２７のＮ極面およびＳ極面（着磁面）に対向する面に
ヨーク２４から突出形成された張り出し部（第１の張り
出し部）４４ａ，４４ｂが設けられている。

【００３６】この張り出し部４４ａ，４４ｂは、ヨーク
２４から突出形成されているので、ヨーク２４と磁石２
７とのギャップはこの張り出し部４４ａ，４４ｂの厚さ
分だけ他の部分よりも小さく、すなわち磁気ギャップが
狭くなっている。

【００３７】すなわち、磁石２７のＮ極面から出た磁力
線は、ヨーク２４から突出形成されて磁気ギャップを小
さくする張り出し部４４ａに向かい、矢印Ｂで示すよう
にヨーク２４で左右に分かれた磁力線はヨーク２４に沿
って半周して反対側に周り、張り出し部４４ｂを通って
磁石２７のＳ極面に戻ってくるようになっている。

【００３８】これにより、張り出し部がない従来の場合
のように、磁力線が広がってヨーク２４に向かうことが
なく、また、磁石２７のＮ極面から出た磁力線Ｂがヨー
ク２４に向かう際、直線的に進む磁力線と斜めに進む磁
力線とが混在し、斜めに進んだ磁力線がヨーク２４の内
側を通り、ヨーク２４の磁石２７のＳ極面に対向する面
に到達せずに、ヨーク２４の内側から漏れて磁石２７の
Ｓ極面に戻らなくなる、という事態を回避することがで
きる。

【００３９】従って、本発明の第２の実施の形態によれ
ば、磁石２７のＮ極面およびＳ極面とヨーク２４とのギ
ャップにおける磁束密度の低下や漏れ磁束をほとんど生
じさせることがなく、ヨーク２４内に形成される磁気回
路の効率を良くすることができる。

【００４０】なお、漏れ磁束を低減させるためには、張
り出し部４４ａ，４４ｂの磁石２７のＮ極面およびＳ極
面に対向する面は、図２に示すように、磁石２７のＮ極
面およびＳ極面と略同一の面積を有していることが望ま
しい。

【００４１】第３の実施の形態 図３は本発明の第３の実施の形態に係る光偏向装置の要
部を示す図であり、以下、図１と同一部分には同一符号
を付してその説明は省略し、異なる構成の部分について
のみ説明する。

【００４２】図３に示すように、本発明の第３の実施の
形態においては、ヨーク２４の開口部２４のうち磁石２
７のＮ極面およびＳ極面（着磁面）に対向しない面に張
り出し部（第２の張り出し部）４５ａ，４５ｂを形成
し、この張り出し部４５ａ，４５ｂを非磁性体にしてい
る。この張り出し部４５ａ，４５ｂは例えば、非磁性体
（例えば樹脂）からなる張り出し部４５ａ，４５ｂをヨ
ーク２４に対して接着剤等で一体的に取り付けて突出さ
せることにより実現することができる。

【００４３】この非磁性体の張り出し部４５ａ，４５ｂ
を設ける理由は次の通りである。すなわち、磁石２７か
らの磁力線が通らない部分には、外乱振動でミラー２０
が振動しないよう、例えばシリコーンゲルのようなダン
ピング剤２９ａ，２９ｂ（図１３（ｂ）参照）が充填さ
れる。このシリコーンゲルのようなダンピング剤は、そ
れが充填されるギャップが狭い方がダンピング特性が良
好であるので、ヨーク２４とボビン２３とのギャップを
狭くする必要がある。

【００４４】このように、ダンピング剤２９ａ，２９ｂ
を充填するためにはヨーク２４とボビン２３とのギャッ
プを狭くする必要があるが、ギャップを狭くすると逆
に、本来の磁気回路をなす磁力線の流れが、このダンピ
ング剤を充填するために狭くされたギャップに漏れてき
てしまい、磁気回路の効率が低下してしまうという、問
題がある。

【００４５】従って、本発明の第３の実施の形態では、
シリコーンゲルのようなダンピング剤２９ａ，２９ｂを
充填するために設けられた張り出し部４５ａ，４５ｂを
非磁性体にすることにより、図３に示すように、磁石２
７のＮ極面から出た磁力線Ｂが張り出し部４５ａ，４５
ｂから磁力線が漏れて磁石２７のＳ極面に戻るという可
能性が皆無になり、このためギャップを狭く保ちながら
漏れ磁束を防止することができ、このためヨーク２４内
に形成される磁気回路の効率を良くすることができる。

【００４６】なお、上述した第３の実施の形態における
張り出し部４５ａ，４５ｂは、図３に示すように、上述
した第２の実施の形態における磁性体の張り出し部４４
ａ，４４ｂとともに用いることにより、さらに磁気回路
の効率を良くすることができる。

【００４７】第４の実施の形態 上述した第１乃至第３の実施の形態に係る光偏向装置
を、例えば図４に示すマルチビーム走査装置に適用し、
このマルチビーム走査装置を複写機に搭載することによ
り、画像劣化のない高品質の画像記録を行うことができ
る。図４はレーザープリンタや、レーザープリンタを記
録部に備えた複写機等に搭載され、原稿情報に応じてレ
ーザービームを感光ドラムに書き込むための、マルチビ
ーム走査装置を示したものであり、上述した第１乃至第
３の実施の形態に係る光偏向装置をガルバノミラー３
ａ，３ｂとして組み込んでいる。

【００４８】なお、図４においては、一例として２つの
レーザー発光源１ａ，１ｂを備えたマルチビーム走査装
置を示したが、２つ以上のレーザー発光源を備えたマル
チビーム走査装置であっても同様の説明が成り立つ。

【００４９】図４において、レーザー発光源１ａ，１ｂ
は、半導体レーザーダイオードからなり、これらは記録
する画像情報に応じてパルス幅変調されて点滅する。レ
ーザー発光源１ａ，１ｂにより発光された拡散光は有限
レンズ２ａ，２ｂによって平行光となる。有限レンズ２
ａ，２ｂを通過したレーザービームＬａ，Ｌｂは電気信
号によって反射角を任意に変更可能なガルバノミラー３
ａ，３ｂによって偏向される。偏向された２本のレーザ
ービームＬａ，Ｌｂはハーフミラー４によって感光ドラ
ム１０表面（所定像面）でプリンタ解像度と同一ピッチ
となるように合成される。例えば、解像度が６００ｄｐ
ｉ（dots per inch）の場合、ピッチが４２μｍとな
る。

【００５０】合成された２本のレーザービームＬａ，Ｌ
ｂは、高速で回転する８面体の多面鏡からなるポリゴン
ミラー（走査装置）５によって感光ドラム１０表面を同
時に走査する。ポリゴンミラー５はポリゴンモータ６に
より矢印Ｃの方向に回転駆動される。

【００５１】ポリゴンミラー５によって走査される２本
のレーザービームＬａ，Ｌｂは、感光ドラム１０表面で
結像するようｆ−θレンズ１１を通過し、主走査方向
（矢印Ｓ方向）に走査する。感光ドラム１０の画像領域
にかからないレーザービーム走査範囲の走査開始側に
は、レーザービームＬａ，Ｌｂの主走査方向位置と副走
査方向位置とを検知するためのセンサ１３に向けてレー
ザービームＬａ，Ｌｂを導くための反射ミラー１２を設
置する。

【００５２】センサ１３は２本のレーザービームＬａ，
Ｌｂが感光ドラム１０表面で焦点が合うのと同様に、セ
ンサ１３上でレーザービームＬａ，Ｌｂの焦点が合う位
置に設置する。感光ドラム１０表面への画像記録はセン
サ１３による２本のレーザービームＬａ，Ｌｂの走査方
向の位置検知信号に同期して行われる。

【００５３】すなわち、レーザ発光源１ａ，１ｂにおい
て、センサ１３の主走査方向検知信号から一定時間後に
画像ビデオ信号に応じてレーザービームの変調が開始さ
れる。これにより感光ドラム１０表面の画像がレーザー
ビーム走査と直行する方向に正しく整列する。なお、図
４においては、センサ１３による主走査方向検知信号に
同期して、画像記録のためのレーザー変調を画像ビデオ
データに従って実施するための制御回路については省略
している。

【００５４】２本のレーザービームＬａ，Ｌｂの感光ド
ラム１０表面での走査方向と直行する方向（副走査方
向）のピッチは、プリンタ解像度と同じになるように設
定されている。レーザービームＬａ，Ｌｂのピッチは記
録画質が抵下しないよう、ピッチ精度が数ミクロン以下
であることが要求される。しかし、レーザービームＬ
ａ，Ｌｂはレーザー発光源１ａ，１ｂから感光ドラム１
０に至るまでに２０〜６０倍程度に拡大され、またレー
ザー発光源１ａ，１ｂはそれぞれ独立に筐体に取り付け
られているので、取付け時の調整のみではレーザービー
ムのピッチ精度を維持することが不可能である。

【００５５】そこで、センサ１３および検知回路１４に
より、２本のレーザービームＬａ，Ｌｂの感光ドラム１
０表面での結像位置を検知し、設定値からの偏差を得
る。その偏差信号に基づいて、それぞれのレーザービー
ムＬａ，Ｌｂの光路中に配置したレーザビーム結像位置
変更用のガルバノミラー３ａ，３ｂを制御するための制
御信号を制御回路１５にて生成する。

【００５６】この制御信号をガルバノミラー駆動回路１
６にフィードバックし、ガルバノミラー３ａ，３ｂの回
転角を制御してレーザービームＬａ，Ｌｂの結像位置を
所定値に収めることによりレーザービームＬａ，Ｌｂ間
のピッチを精度よく保っている。ガルバノミラー３ａ，
３ｂはレーザービームＬａ，Ｌｂが副走査方向に移動す
る方向に回転する。

【００５７】図５は感光ドラム１０表面でのレーザービ
ーム結像位置を検知するためのセンサ１３の受光面を示
す概略図である。

【００５８】センサ１３は受光面２００をフォトダイオ
ード（レーザ受光素子）にて形成したものである。ここ
では、１チップのフォトダイオードに５つの受光部２０
１，２０２，２０３，２０４，２０５を形成することに
よりセンサ１３を構成している。

【００５９】なお、各受光部２０１，２０２，２０３，
２０４，２０５と接続された端子には、カソードとアノ
ード間にバイアスをかけた状態でレーザービームを照射
することにより電流が流れ、その電流値はレーザー光量
により変化する。受光部２０２，２０３は一方のレーザ
ービームＬａの副走査方向の結像位置を検知するための
ものである。長方形の受光部表面を０．０１ｍｍ程度の
ギャップを隔てて対向させる。レーザービームＬａが２
つの受光部２０２，２０３にまたがって走査されること
により、それぞれの受光部２０２，２０３のギャップセ
ンタからどれだけずれているかを検知することが可能と
なる。

【００６０】ギャップセンタからのずれに相当する検知
信号を上述した制御回路１５を介してレーザービームＬ
ａの光軸を偏向するガルバノミラー３ａの駆動回路１６
にフィードバックして、レーザービームＬａが常に受光
部２０２と２０３のギャップセンタ上を通過するよう制
御する。

【００６１】また、もう一つのレーザービームＬｂに対
しても同様の制御を行う。この場合には、レーザービー
ムＬｂの副走査方向の結像位置を検知するため、ギャッ
プを０．０１ｍｍとして対向させた受光部２０４，２０
５を設け、このギャップセンタをレーザービームＬａを
検知する受光部２０２，２０３のギャップセンタから
０．０４２ｍｍだけ離間して設定した。そして、レーザ
ービームＬｂが常に受光部２０４，２０５のギャップセ
ンタ上を通過するよう制御することにより、レーザービ
ームＬａ，Ｌｂのピッチがプリンタ解像度６００ｄｐｉ
に対応するドットピッチ０．０４２ｍｍと等しくなるよ
うに設定される。

【００６２】なお、受光部２０１は、各レーザービーム
Ｌａ，Ｌｂの主走査方向通過タイミングを検出するもの
であり、受光部２０１により得られる信号に同期して画
像記録のためのレーザー変調が実施される。

【００６３】レーザ発光源１ａ，１ｂおよびガルバノミ
ラー３ａ，３ｂの数は、マルチビーム走査装置が搭載さ
れるプリンタや複写機等に求められる性能により、図４
に示したように２組であったり、３組以上、例えば４組
であったり必要に応じて適宜設定される。

【００６４】このように、図４に示すマルチビーム走査
装置に、上述した第１乃至第３の実施の形態に係る光偏
向装置をガルバノミラー３ａ，３ｂとして組み込むこと
により、画像劣化のない高品質の画像記録が可能にな
る。

【００６５】なお、本発明は上述した第１乃至第４の実
施の形態に限定されるものではなく、光偏向装置とし
て、例えば回転駆動力を発生する駆動機構のうち、コイ
ル２６がミラー２０ではなく磁石固定板２８に配置され
る一方、磁石２７がミラー２０と一体的に接合され、こ
れにより磁石２７がミラー２０と一体的に回転する、い
わゆる可動磁石方式を採用するようにしても良い。

【００６６】ところで、上述した第４の実施の形態にお
いて、光偏向装置を複写機等に搭載して用いる場合に
は、光偏向装置であるガルバノミラー３ａ，３ｂの共振
周波数と、複写機等で使用されているモータの回転周波
数およびその整数倍または整数分の１の回転周波数とが
一致すると、共振が発生し、ガルバノミラー３ａ，３ｂ
が振動して所望の性能を満たすことができなくなること
が知られている。特に、ガルバノミラー３ａ，３ｂと同
じ光学ユニット内に設けられるポリゴンモータ６は、最
もガルバノミラー３ａ，３ｂに近いため、このポリゴン
モータ６の回転周波数およびその整数倍または整数分の
１の回転周波数がガルバノミラー３ａ，３ｂの共振周波
数と一致するか、または近傍にあると、ポリゴンモータ
６とガルバノミラー３ａ，３ｂとが共振する可能性があ
る。

【００６７】図６は光偏向装置が搭載される複写機に使
用される複数のモータのうち、光偏向装置としてのガル
バノミラー３ａ，３ｂに最も近い位置に配置されるポリ
ゴンモータ６の回転周波数およびその整数倍または整数
分の１の回転周波数と、各回転周波数における振動の振
幅との関係を示したものである。

【００６８】図６によれば、ポリゴンモータ６が任意の
一定の回転周波数で回転する場合、その回転周波数ｆ_m
で最も大きく振動し、また回転周波数の整数倍または整
数分の１の回転周波数でも振動の振幅ピークが立ち、振
動しやすいことが分かる。ここでは、ポリゴンモータ６
の回転周波数ｆ_mに対して、この４倍までの周波数ｆ_{m 4}
と１／４までの周波数ｆ_m1/4について示しているが、こ
れより広い倍率についても同様に振動のピークが立ち振
動しやすい周波数がある。

【００６９】このように、ポリゴンモータ６は回転周波
数に起因した振動成分を持っており、この回転周波数ｆ
_mおよびその整数倍または整数分の１の回転周波数と、
図７に示すような周波数特性になっているガルバノミラ
ー３ａ，３ｂの共振周波数ｆ_gとが一致すると共振が発
生し、ミラー２０が大きく振動して印字を正確に行うこ
とができなくなる。

【００７０】この点につき本発明者らは、図６に示すよ
うに、ガルバノミラー３ａ，３ｂの共振周波数ｆ_gを、
ポリゴンモータ６の回転周波数ｆ_mおよびその整数倍ま
たは整数分の１の回転周波数の±５％の範囲外に設定す
ることにより、このような望ましくない共振を避けるこ
とができることを確かめている。

【００７１】すなわち、モータの回転周波数に起因した
回転周波数をｆ_miとすると、 ｜ｆ_g−ｆ_mi｜／ｆ_g ＞ ０．０５ ｉ＝…，１／４，１／３，１／２，１，２，３，４，… の条件を満たすようにガルバノミラー３ａ，３ｂの共振
周波数ｆ_gを設計すれば、共振が発生することなく安定
して印字を行うことができる。

【００７２】なおここでは、外乱振動としてポリゴンモ
ータ６の回転周波数を例にして説明したが、複写機内の
他のモータ、例えば感光ドラムを駆動するモータ、定着
機のヒートローラを駆動するモータ、スキャナのキャリ
ッジを駆動するモータ、用紙を搬送するモータ等につい
ても同様のことが成り立つ。

【００７３】さらに、これら複数のモータが同時に違っ
た回転数で回転する場合についても同様のことが成り立
つ。すなわち、図６ではポリゴンモータ６の場合につい
てのみ示したが、複数のモータが異なった回転数で回転
する場合には、モータの数だけ周波数特性のグラフが得
られ、それぞれのモータの回転周波数に振動のピークを
もっている。この場合には、各モータの回転周波数およ
びその整数倍または整数分の１の回転周波数の±５％の
範囲外にガルバノミラー３ａ，３ｂの共振周波数ｆ_gを
設定すれば共振を避けることができ、安定した印字を行
うことができる。

【００７４】また、モータには回転周波数に起因しな
い、モータ自身のハウジング等の共振が存在し、この周
波数も含めてガルバノミラーの共振周波数ｆ_gを設計す
ることにより、さらに安定した印字を行うことができ
る。

【００７５】一方、上述した第１乃至第４の実施の形態
において、ガルバノミラー３ａ，３ｂはコイル２６に電
流を流すとミラー２０が回動する構造になっているが、
コイル２６に電流を流すとコイル抵抗に応じて必ずジュ
ール熱が発生する。コイル２６が発熱すると板バネ２１
のトーションバー２２ａ，２２ｂが熱膨張により変形す
る可能性があるので、発熱をできるだけ防ぐ必要があ
る。このコイル２６の温度上昇はコイル２６の材質、線
径、巻線数（ターン数）と、負荷および磁気回路で決ま
り、最終的にはコイル抵抗とコイル２６に流す電流で決
まる。従って、コイル２６が発熱しないよう所定の条件
を満たすガルバノミラーを設計する必要がある。

【００７６】この点につき本発明者らは、コイル２６の
材質を銅とし、コイル２６の直径（導体系の線径）を
０．０６〜０．０７ｍｍの範囲とし、コイルターン数を
４００〜６００ターンの範囲とし、コイル抵抗値を７０
〜１２０Ωの範囲とすることによりコイル２６の温度上
昇を少なくすることができることを確かめている。

【００７７】図８はコイルの直径が０．０６ｍｍの場合
について、コイルターン数が４０８ターンでコイル抵抗
が７９Ωの場合と、コイルターン数が５４０ターンでコ
イル抵抗が１０５Ωの場合との２種類について、実際に
ミラー２０を回転させるだけの値の電流を流したときの
コイル２６自身の温度を測定した結果を示す。

【００７８】図８によれば、４０８ターンの場合、ミラ
ー２０を最大変位させる角度である１０ｍｒａｄ変位さ
せたときの電流値が約０．０５５Ａで温度上昇が約２０
℃であり、５４０ターンの場合、電流値が約０．０３８
Ａで温度上昇が約１５℃であり、コイル２６の温度上昇
の目安（温度上昇ΔＴ≦６０℃）を逸脱してコイル２６
が高温にならないことが分かる。

【００７９】第５の実施の形態 図９および図１０は図１に示す板バネ２１の固定方法の
変形例を説明するための図であり、以下、図１と同一部
分には同一符号を付してその説明は省略し、異なる構成
の部分についてのみ説明する。

【００８０】まず、図９により、板バネ２１の固定方法
の第１の変形例について説明する。

【００８１】図９に示すように、板バネ押え部材４２ａ
は、例えば図１４に示す板バネ押え２５ａに位置決め用
突起４３ａ，４３ｂが設けられたものである。なお、も
う一つの板バネ押え部材４２ｂも同様に図１４に示す板
バネ押さえ２５ｂに位置決め用突起４３ｃ，４３ｄが設
けられたものである。

【００８２】これらの位置決め用突起４３ａ，４３ｂ，
４３ｃ，４３ｄは、図１に示す位置決めピン３２ａ，３
２ｂ，３２ｃ，３２ｄに相当するものである。なお、板
バネ押え部材４２ａ，４２ｂには、位置決め用突起４３
ａ，４３ｂの間または位置決め用突起４３ｃ，４３ｄの
間にそれぞれネジ止め用の穴４１ａ，４１ｂが設けられ
ている。

【００８３】この板バネ押え部材４２ａ，４２ｂの位置
決め用突起４３ａ，４３ｂ，４３ｃ，４３ｄは、図１に
示す位置決めピン３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄの代
わりに用いられる。すなわち、この板バネ押え部材４２
ａ，４２ｂの位置決め用突起４３ａ，４３ｂ，４３ｃ，
４３ｄを板バネ２１の位置決め用の穴３６ａ，３６ｂ，
３６ｃ，３６ｄとヨーク２４の位置決め用の穴３４ａ，
３４ｂ，３４ｃ，３４ｄとに通し、板バネ２１をヨーク
２４に仮止め固定する。

【００８４】このように、板バネ２１とヨーク２４とを
仮止め固定することにより、図１に示す位置決めピン３
２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄを用いた方法と同様に、
板バネ２１の捻りバネであるトーションバー２２ａ，２
２ｂには、ネジの締付け時に不要な捻り力等の応力が作
用せず、このためトーションバー２２ａ，２２ｂがネジ
止め時に曲がらないようにすることができる。

【００８５】この板バネ押え部材４２ａ，４２ｂは、例
えば樹脂等から構成され、その重量等は比較的軽量にな
っており、図１の場合と比較しても駆動力等の点におい
て不利にはならないようになっている。

【００８６】なお、図１に示す位置決めピン３２ａ，３
２ｂ，３２ｃ，３２ｄを用いた場合と比較し、図９に示
す板バネ押え部材４２ａ，４２ｂを用いた場合には、板
バネ押え部材４２ａ，４２ｂの全面で板バネ２１を押さ
えることができるので、仮止め固定時の板バネ２１の不
要な動きを効率的に防止することができる。

【００８７】また、図１に示す位置決めピン３２ａ，３
２ｂ，３２ｃ，３２ｄを用いた場合と比較し、図９に示
す板バネ押え部材４２ａ，４２ｂを用いた場合には、板
バネ押え部材４２ａ，４２ｂと位置決め用突起４３ａ，
４３ｂ，４３ｃ，４３ｄとが一体化されているので、板
バネ押え部材４２ａ，４２ｂを嵌め込むだけで、位置決
め用突起４３ａ，４３ｂまたは位置決め用突起４３ｃ，
４３ｄを板バネ２１の位置決め用の穴３６ａ，３６ｂま
たは位置決め用の穴３６ｃ，３６ｄに同時に通すことが
でき、このため位置決めピン３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，
３２ｄを１つずつ通す場合と比較して、組立工程を簡略
化することができる。

【００８８】次に、図１０により、板バネ２１の固定方
法の第２の変形例について説明する。図１０に示すよう
に、板バネ２１は、ヨーク２４に固定する際に、図１に
示すネジ止め以外の方法として、スポット溶接を用いる
ことができる。

【００８９】この場合には、位置決めピン３２ａ，３２
ｂ，３２ｃ，３２ｄを板バネ２１の位置決め用の穴３６
ａ，３６ｂ，３６ｃ，３６ｄとヨーク２４の位置決め用
の穴３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄとに通し、次い
で、板バネ２１に設けられたスポット溶接用の穴３７
ａ，３７ｂを用いて板バネ２１とヨーク２４とを溶接す
る。

【００９０】これにより、板バネ２１はネジを用いなく
ともヨーク２４に固定することができ、捻りバネである
トーションバー２２ａ，２２ｂが曲がらないように固定
することができる。

【００９１】このように、図１０に示す板バネ２１の固
定方法によれば、位置決めピン３２ａ，３２ｂ，３２
ｃ，３２ｄにより板バネ２１をヨーク２４に仮止め固定
した後、スポット溶接を行うことにより、板バネ２１の
トーションバー２２ａ，２２ｂに不要な捻り力等の応力
が作用しないようにして、安定した組立工程を実現する
ことができる。

【００９２】第６の実施の形態 図１１は図１に示す光偏向装置の組付け状態を示す図で
あり、以下、図１と同一部分には同一符号を付してその
説明は省略し、異なる構成の部分についてのみ説明す
る。

【００９３】図１１に示すように、ガルバノミラー３
は、例えばマルチビーム光学ユニット等のベース４５に
設けられたＬ字型の位置決め用の壁面６０の一側面（基
準面をなす側面）６０ａに、ヨーク２４の一側面４４を
押し付けてネジやバネ等で固定することにより、位置決
めを行う。

【００９４】すなわち、ベース４５に設けられた位置決
め用の壁面６０と接触するヨーク２４の一側面４４が位
置決め面となり、この位置決め面４４に板バネ２１が取
り付けられ、さらに板バネ２１にミラー２０が接着等の
方法により固定される。

【００９５】これにより、ミラー２０を支持する板バネ
２１を取り付けるヨーク２４の一側面４４が、ガルバノ
ミラー３をベース４５に組み付ける際の基準面となるの
で、組立時に最も位置精度を出したいミラー２０をベー
ス４５に対して正確に位置決めすることができる。

【００９６】なお、従来の組付け方法では、ガルバノミ
ラー３をマルチビーム光学ユニットに組み付ける場合
に、図１３（ｂ）に示す凹部４２ａ，４２ｂにネジを通
してベースにネジ止め等で固定しているので、ガルバノ
ミラー３のベース４５に対する組付けを正確に行うこと
が困難である。また、組付け後に行う光学調整でレーザ
ービームの位置を確認しながらガルバノミラー３本体を
回転、または前後に傾けながら微調整をして組付け誤差
を調整する必要があり、このため光学調整にかなりの時
間が必要となる。特に、マルチビーム光学系ではレーザ
ビームを複数本用いるので、この光学調整の時間もガル
バノミラー３の数だけ必要となる。しかし、図１１に示
す組付け方法によれば、ガルバノミラー３のベース４５
に対する組付け精度を高めることができるとともに、マ
ルチビーム光学系における光学調整の時間を短縮するこ
とができる。

【００９７】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、保
持部材内を通る磁力線が妨げられることがないので、保
持部材内に形成される磁気回路の効率を良くすることが
できる。

【００９８】また本発明によれば、保持部材の開口部の
うち磁石の着磁面に対向する面に第１の張り出し部を突
出形成しているので、磁石の着磁面と保持部材とのギャ
ップにおける磁束密度の低下や漏れ磁束をほとんど生じ
させることがなく、このため保持部材内に形成される磁
気回路の効率を良くすることができる。また、保持部材
の開口部のうち磁石の着磁面に対向しない面に非磁性体
の第２の張り出し部を突出形成しているので、ダンピン
グ剤等が充填される部分のギャップを狭く保ちながら漏
れ磁束を防止することができ、このため保持部材内に形
成される磁気回路の効率を良くすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る光偏向装置を
説明するための分解斜視図。

【図２】本発明の第２の実施の形態に係る光偏向装置と
してのガルバノミラーの磁気回路を説明するための平面
図。

【図３】本発明の第３の実施の形態に係る光偏向装置と
してのガルバノミラーの磁気回路を説明するための平面
図。

【図４】本発明の第４の実施の形態に係るビーム走査装
置（マルチビーム走査装置）を説明するための図。

【図５】マルチビーム走査装置に用いられるレーザービ
ーム結像位置を検知するためのセンサの受光面を示す概
略図。

【図６】マルチビーム走査装置に用いられるモータの周
波数特性のグラフ。

【図７】光偏向装置としてのガルバノミラーの周波数特
性のグラフ。

【図８】光偏向装置としてのガルバノミラーの電流値と
コイル温度の関係を説明するためのグラフ。

【図９】図１に示す板バネ（支持部材）の固定方法の第
１の変形例を説明するための図。

【図１０】図１に示す板バネ（支持部材）の固定方法の
第２の変形例を説明するための図。

【図１１】光偏向装置としてのガルバノミラーの組付け
状態を説明するための斜視図。

【図１２】従来のマルチビーム走査装置に用いられる光
偏向装置としてのガルバノミラーを説明するための斜視
図。

【図１３】従来のマルチビーム走査装置に用いられる光
偏向装置としてのガルバノミラーを説明するための３面
図。

【図１４】従来のマルチビーム走査装置に用いられる光
偏向装置としてのガルバノミラーを説明するための分解
斜視図。

【図１５】従来のマルチビーム走査装置に用いられる光
偏向装置としてのガルバノミラーの磁気回路を説明する
ための平面図。

【符号の説明】

１ａ，１ｂ 光源 ３ａ，３ｂ ガルバノミラー（光偏向装置） ５ ポリゴンミラー（走査装置） ２０ ミラー（光偏向部材） ２１ 板バネ（支持部材） ２４ ヨーク（保持部材） ２４ａ 開口部 ２６ コイル（駆動機構） ２７ 磁石（駆動機構） ２８ 磁石固定板（ベース部材） ３１ａ，３１ｂ 位置決めピン（位置決め部材） ４４ａ，４４ｂ （第１の）張り出し部 ４５ａ，４５ｂ （第２の）張り出し部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高 原 珠 音 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１ 株式会 社東芝研究開発センター内

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光を反射する反射面を有する光偏向部材
   と、 前記光偏向部材を支持する支持部材と、 前記支持部材を保持する保持部材と、 前記光偏向部材を前記保持部材に対して回動駆動するた
   めの駆動機構と、 前記保持部材を支持するベース部材と、 前記保持部材を前記ベース部材に対して位置決めする磁
   性体からなる位置決め部材とを備えたことを特徴とする
   光偏向装置。
2. 【請求項２】前記駆動機構は、前記保持部材内に磁気回
   路を形成することを特徴とする請求項１記載の光偏向装
   置。
3. 【請求項３】前記位置決め部材は、前記保持部材内に形
   成される磁気回路を妨げないよう磁性体からなることを
   特徴とする請求項２記載の光偏向装置。
4. 【請求項４】光を反射する反射面を有する光偏向部材
   と、 前記光偏向部材を支持する支持部材と、 前記支持部材を保持するとともに開口部を有する保持部
   材と、 前記保持部材の前記開口部内に配置され、前記光偏向部
   材を前記保持部材に対して回動駆動するための磁石およ
   びコイルからなる駆動機構とを備え、 前記保持部材の前記開口部のうち前記磁石の着磁面に対
   向する面には第１の張り出し部が突出形成されることを
   特徴とする光偏向装置。
5. 【請求項５】前記第１の張り出し部は、前記磁石の着磁
   面と略同一の面積を有することを特徴とする請求項４記
   載の光偏向装置。
6. 【請求項６】前記保持部材の前記開口部のうち前記磁石
   の着磁面に対向しない面には非磁性体からなる第２の張
   り出し部が突出形成されることを特徴とする請求項４ま
   たは５記載の光偏向装置。
7. 【請求項７】複数の光源と、前記各光源から出射された
   光を所定の方向へ偏向する複数の光偏向装置と、前記各
   光偏向装置により偏向された光を所定像面に等速で走査
   する走査装置とを備えたビーム走査装置において、 前記各光偏向装置は、光を反射する反射面を有する光偏
   向部材と、前記光偏向部材を支持する支持部材と、前記
   支持部材を保持する保持部材と、前記光偏向部材を前記
   保持部材に対して回動駆動するための駆動機構と、前記
   保持部材を支持するベース部材と、前記保持部材を前記
   ベース部材に対して位置決めする磁性体からなる位置決
   め部材とを有することを特徴とするビーム走査装置。
8. 【請求項８】前記駆動機構は、前記保持部材内に磁気回
   路を形成することを特徴とする請求項７記載のビーム走
   査装置。
9. 【請求項９】前記位置決め部材は、前記保持部材内に形
   成される磁気回路を妨げないよう磁性体からなることを
   特徴とする請求項８記載のビーム走査装置。
10. 【請求項１０】複数の光源と、前記各光源から出射され
    た光を所定の方向へ偏向する複数の光偏向装置と、前記
    各光偏向装置により偏向された光を所定像面に等速で走
    査する走査装置とを備えたビーム走査装置において、 前記各光偏向装置は、光を反射する反射面を有する光偏
    向部材と、前記光偏向部材を支持する支持部材と、前記
    支持部材を保持するとともに開口部を有する保持部材
    と、前記保持部材の前記開口部内に配置され、前記光偏
    向部材を前記保持部材に対して回動駆動するための磁石
    およびコイルからなる駆動機構とを有し、前記保持部材
    の前記開口部のうち前記磁石の着磁面に対向する面には
    第１の張り出し部が突出形成されることを特徴とするビ
    ーム走査装置。
11. 【請求項１１】前記第１の張り出し部は、前記磁石の着
    磁面と略同一の面積を有することを特徴とする請求項１
    ０記載のビーム走査装置。
12. 【請求項１２】前記保持部材の前記開口部のうち前記磁
    石の着磁面に対向しない面には非磁性体からなる第２の
    張り出し部が突出形成されることを特徴とする請求項１
    ０または１１記載のビーム走査装置。