JPH1167105A - カラープラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents
カラープラズマディスプレイパネル及びその製造方法Info
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- JPH1167105A JPH1167105A JP22150697A JP22150697A JPH1167105A JP H1167105 A JPH1167105 A JP H1167105A JP 22150697 A JP22150697 A JP 22150697A JP 22150697 A JP22150697 A JP 22150697A JP H1167105 A JPH1167105 A JP H1167105A
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Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラープラズマディスプレイパネルを構成す
る絶縁基板上には、スクリーン印刷法によってカラーフ
ィルタが形成される。しかしスクリーン印刷法はメッシ
ュを用いるため、大画面でかつ高精細な表示をすること
ができない。 【解決手段】 二つのセルCの分の開口部tを有するス
クリーン版Sを使用して、赤色発光のセルCの位置では
緑色吸収層4cと青色光吸収層4aを形成し、緑色発光
のセルCでは赤色光吸収層4bと青色光吸収層4aを形
成し、青色発光のセルCでは赤色光吸収層4bと緑色光
吸収層4cを形成する。
る絶縁基板上には、スクリーン印刷法によってカラーフ
ィルタが形成される。しかしスクリーン印刷法はメッシ
ュを用いるため、大画面でかつ高精細な表示をすること
ができない。 【解決手段】 二つのセルCの分の開口部tを有するス
クリーン版Sを使用して、赤色発光のセルCの位置では
緑色吸収層4cと青色光吸収層4aを形成し、緑色発光
のセルCでは赤色光吸収層4bと青色光吸収層4aを形
成し、青色発光のセルCでは赤色光吸収層4bと緑色光
吸収層4cを形成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は表示デバイスなどに
用いられるカラープラズマディスプレイパネル及びその
製造方法に関し、特に、赤色、緑色及び青色の各蛍光体
と各発光色に対して透過性を有するフィルタ層とを組み
合わせた高コントラストのカラープラズマディスプレイ
パネル及びその製造方法に関する。
用いられるカラープラズマディスプレイパネル及びその
製造方法に関し、特に、赤色、緑色及び青色の各蛍光体
と各発光色に対して透過性を有するフィルタ層とを組み
合わせた高コントラストのカラープラズマディスプレイ
パネル及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】カラープラズマディスプレイパネル(以
下、「ディスプレイパネル」と略す。)は基本的に図5
に示すように、平板状の前面基板Aと背面基板Bとが間
隔あけて平行に配置され、両者A,Bが隔壁7によって
一定の間隔に保持され、隔壁7間にセルCが形成された
構造となっている。前面基板Aは光を取り出す側であ
り、透明ガラスのような可視光透過性の絶縁基板1が背
面基板Bと対向する裏面に、ストライプ状の走査電極2
が紙面に左右方向に形成される。また、背面基板Bは透
明ガラスのような可視光透過性の絶縁基板5が前面基板
Aと対向する裏面に、ストライプ状の書き込み電極6が
紙面の裏面から表面方向に形成される。したがって、前
面基板Aと背面基板Bの各ストライプ状の電極2,6は
直交方向の位置関係となる。
下、「ディスプレイパネル」と略す。)は基本的に図5
に示すように、平板状の前面基板Aと背面基板Bとが間
隔あけて平行に配置され、両者A,Bが隔壁7によって
一定の間隔に保持され、隔壁7間にセルCが形成された
構造となっている。前面基板Aは光を取り出す側であ
り、透明ガラスのような可視光透過性の絶縁基板1が背
面基板Bと対向する裏面に、ストライプ状の走査電極2
が紙面に左右方向に形成される。また、背面基板Bは透
明ガラスのような可視光透過性の絶縁基板5が前面基板
Aと対向する裏面に、ストライプ状の書き込み電極6が
紙面の裏面から表面方向に形成される。したがって、前
面基板Aと背面基板Bの各ストライプ状の電極2,6は
直交方向の位置関係となる。
【0003】さらに、前面基板Aに形成された走査電極
2上には、走査電極2を電気的に絶縁被覆する透明な誘
電体層3が積層される。各セルC間の隔壁7には、光の
三原色である赤色、緑色及び青色の各色に対応する発光
色をもった紫外線励起型の蛍光体8が形成される。
2上には、走査電極2を電気的に絶縁被覆する透明な誘
電体層3が積層される。各セルC間の隔壁7には、光の
三原色である赤色、緑色及び青色の各色に対応する発光
色をもった紫外線励起型の蛍光体8が形成される。
【0004】このようなディスプレイパネルにおいて、
カラー表示を行うには、各セルCでの放電を制御し、各
発光色の発光強度を変えることによって行われている。
この時、隣り合った非選択された状態にある異なる発光
色の蛍光体8が発光しないようにするため、隔壁7は厚
膜印刷法の多層印刷などによって形成され、各色ごとの
セルCが仕切られている。
カラー表示を行うには、各セルCでの放電を制御し、各
発光色の発光強度を変えることによって行われている。
この時、隣り合った非選択された状態にある異なる発光
色の蛍光体8が発光しないようにするため、隔壁7は厚
膜印刷法の多層印刷などによって形成され、各色ごとの
セルCが仕切られている。
【0005】また、カラー化のために、蛍光体8が隔壁
7に形成されると、蛍光体粒子のボディカラーはほとん
どが白色もしくは淡い灰色を呈するため、外光がパネル
に当たっている状態では発光中の表示ドットと発光して
いない非表示ドットとの明暗が不明確になり、表示のコ
ントラストが悪くなるという問題点がある。外光のパネ
ル表面での反射を抑えるため、可視波長全域に一様な吸
収特性を持ったフィルタ板をパネルの前面に設置する方
法もある。しかし、このようなフィルタ板はディスプレ
イパネル内部からの蛍光体の発光も吸収してしまうた
め、輝度や効率が低下するという問題が生じる。
7に形成されると、蛍光体粒子のボディカラーはほとん
どが白色もしくは淡い灰色を呈するため、外光がパネル
に当たっている状態では発光中の表示ドットと発光して
いない非表示ドットとの明暗が不明確になり、表示のコ
ントラストが悪くなるという問題点がある。外光のパネ
ル表面での反射を抑えるため、可視波長全域に一様な吸
収特性を持ったフィルタ板をパネルの前面に設置する方
法もある。しかし、このようなフィルタ板はディスプレ
イパネル内部からの蛍光体の発光も吸収してしまうた
め、輝度や効率が低下するという問題が生じる。
【0006】そこで、図6及び図7に示すようなAC型
ディスプレイパネルが特開平4−36930号に開示さ
れている。図6に示すAC型ディスプレイパネルは前面
基板Aを構成する絶縁基板1の走査電極2上に、着色誘
電体層10を積層するものである。着色誘電体層10
は、赤色発光蛍光体を形成したセルに青色光透過フィル
タ、緑色発光蛍光体を形成したセルに緑色光透過フィル
タ、青色発光蛍光体を形成したセルに青色光透過フィル
タをそれぞれ形成するものである。
ディスプレイパネルが特開平4−36930号に開示さ
れている。図6に示すAC型ディスプレイパネルは前面
基板Aを構成する絶縁基板1の走査電極2上に、着色誘
電体層10を積層するものである。着色誘電体層10
は、赤色発光蛍光体を形成したセルに青色光透過フィル
タ、緑色発光蛍光体を形成したセルに緑色光透過フィル
タ、青色発光蛍光体を形成したセルに青色光透過フィル
タをそれぞれ形成するものである。
【0007】図7に示すAC型ディスプレイパネルは前
面基板Aを構成する絶縁基板1の走査電極2上にフィル
タ層11と透明誘電体層3とが積層されるもので、フィ
ルタ層11は隔壁7によって仕切られる各セルCごとに
赤色、緑色及び青色を透過するようにするものである。
面基板Aを構成する絶縁基板1の走査電極2上にフィル
タ層11と透明誘電体層3とが積層されるもので、フィ
ルタ層11は隔壁7によって仕切られる各セルCごとに
赤色、緑色及び青色を透過するようにするものである。
【0008】さらに、図8に示すようなDC型ディスプ
レイパネルが特開平4−11202号に開示されてい
る。DC型ディスプレイパネルは前面基板Aを構成する
絶縁基板1上の走査電極2が誘電体層で覆われず、絶縁
基板11の裏面全面にブラックマトリックスを有するカ
ラーフィルタ層12を積層し、そのカラーフィルタ層1
2上で各セルCごとに走査電極2を形成し、その走査電
極2上に蛍光体8を積層するものである。
レイパネルが特開平4−11202号に開示されてい
る。DC型ディスプレイパネルは前面基板Aを構成する
絶縁基板1上の走査電極2が誘電体層で覆われず、絶縁
基板11の裏面全面にブラックマトリックスを有するカ
ラーフィルタ層12を積層し、そのカラーフィルタ層1
2上で各セルCごとに走査電極2を形成し、その走査電
極2上に蛍光体8を積層するものである。
【0009】赤色発光の蛍光体8を形成したセルCには
赤色光透過のフィルタ層12、緑色発光の蛍光体8を形
成したセルCには緑色光透過のフィルタ層12、青色発
光の蛍光体8を形成したセルCには青色光透過のフィル
タ層12というように、各蛍光体8の発光色に合わせた
カラーフィルタ層12を各セルCごとに形成すること
で、輝度効率を下げることなくコントラストを高めるこ
とができる。
赤色光透過のフィルタ層12、緑色発光の蛍光体8を形
成したセルCには緑色光透過のフィルタ層12、青色発
光の蛍光体8を形成したセルCには青色光透過のフィル
タ層12というように、各蛍光体8の発光色に合わせた
カラーフィルタ層12を各セルCごとに形成すること
で、輝度効率を下げることなくコントラストを高めるこ
とができる。
【0010】カラーフィルタ層12は一般に所望の透過
特性を有する顔料粉末を低融点ガラスと混合・ペースト
化し、スクリーン印刷法によって塗布して形成される。
スクリーン印刷法は細線を編んだメッシュに乳剤を塗布
し、パターンを形成したスクリーン版を用いて、乳剤を
塗布していない開口部からスキージによりペーストを吐
出させることにより、ペーストをパターン塗布するもの
である。例えば、図9に示すようにスクリーン版Sは25
μm径で400番手のスクリーンメッシュMを用いてバイ
アス角を30°とし、100μm及び80μmのパターンを描
くことができる。
特性を有する顔料粉末を低融点ガラスと混合・ペースト
化し、スクリーン印刷法によって塗布して形成される。
スクリーン印刷法は細線を編んだメッシュに乳剤を塗布
し、パターンを形成したスクリーン版を用いて、乳剤を
塗布していない開口部からスキージによりペーストを吐
出させることにより、ペーストをパターン塗布するもの
である。例えば、図9に示すようにスクリーン版Sは25
μm径で400番手のスクリーンメッシュMを用いてバイ
アス角を30°とし、100μm及び80μmのパターンを描
くことができる。
【0011】なお、耐熱性に優れるとともに出ガスがな
く、しかも解像性や加工精度などを向上させることがで
きるようにしたプラズマディスプレイ用基板のカラーフ
ィルタ形成方法が特開平6−5202号に開示されてい
る。
く、しかも解像性や加工精度などを向上させることがで
きるようにしたプラズマディスプレイ用基板のカラーフ
ィルタ形成方法が特開平6−5202号に開示されてい
る。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】カラーフィルタ層12
を形成する上記のスクリーン印刷法は、スクリーンメッ
シュMを用いているため、ペーストを吐出する開口部に
も実際にはスクリーンメッシュMを形成する細線が存在
する。開口部が大きい場合にはスクリーンメッシュMに
よるパターンの閉塞はそれほど問題にならない。
を形成する上記のスクリーン印刷法は、スクリーンメッ
シュMを用いているため、ペーストを吐出する開口部に
も実際にはスクリーンメッシュMを形成する細線が存在
する。開口部が大きい場合にはスクリーンメッシュMに
よるパターンの閉塞はそれほど問題にならない。
【0013】しかし現在、種々の利用形態において、高
密度な映像情報が要求されるようになっており、プラズ
マディスプレイパネルにおいても大面積でかつ高精細な
表示が要求されている。したがって、パターンが小さ
く、またパターン幅が狭くなるにしたがって、印刷後の
パターンに対してメッシュの影響を無視できず、高精度
のカラーフィルタ層12を形成することができなくなっ
ている。
密度な映像情報が要求されるようになっており、プラズ
マディスプレイパネルにおいても大面積でかつ高精細な
表示が要求されている。したがって、パターンが小さ
く、またパターン幅が狭くなるにしたがって、印刷後の
パターンに対してメッシュの影響を無視できず、高精度
のカラーフィルタ層12を形成することができなくなっ
ている。
【0014】すなわち、図9に示すスクリーン版Sにお
いて、例えば100μm幅の場合には最も開口部が塞がれ
るX部においても、幅方向で20%程度の開口部が確保さ
れており、全体的に安定したペーストの吐出が得られ
る。しかし80μm幅のY部分ではパターンの幅方向をほ
ぼ塞ぐようにスクリーンメッシュが存在するため、ペー
ストの吐出量が減少し、連続したパターンが描けない原
因となる。このように、スクリーン印刷では100μm以
下のパターンを描くことはむずかしく、カラーフィルタ
層12を高精度に形成することができない。
いて、例えば100μm幅の場合には最も開口部が塞がれ
るX部においても、幅方向で20%程度の開口部が確保さ
れており、全体的に安定したペーストの吐出が得られ
る。しかし80μm幅のY部分ではパターンの幅方向をほ
ぼ塞ぐようにスクリーンメッシュが存在するため、ペー
ストの吐出量が減少し、連続したパターンが描けない原
因となる。このように、スクリーン印刷では100μm以
下のパターンを描くことはむずかしく、カラーフィルタ
層12を高精度に形成することができない。
【0015】また、感光性のフィルタ材を用いてフォト
リソグラフィー法により、高精細な赤、緑、青の各色ご
とに単一のフィルタパターンを形成する方法もあるが、
工程が複雑になったり、材料の利用効率が悪いといった
問題がある。
リソグラフィー法により、高精細な赤、緑、青の各色ご
とに単一のフィルタパターンを形成する方法もあるが、
工程が複雑になったり、材料の利用効率が悪いといった
問題がある。
【0016】そこで、本発明は高精細のパターンであっ
ても十分な開口幅を持ったスクリーン版を用いて、コン
トラストを向上させるためのカラーフィルタ層を形成す
ることができるカラープラズマディスプレイ及びその製
造方法を提供することを目的とする。
ても十分な開口幅を持ったスクリーン版を用いて、コン
トラストを向上させるためのカラーフィルタ層を形成す
ることができるカラープラズマディスプレイ及びその製
造方法を提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明のカラーディスプ
レイパネルは、可視光透過性で絶縁基板の裏面に形成さ
れる赤色発光、緑色発光及び青色発光の各セルごとに透
明な書き込み電極をストライプ状に形成した背面基板
と、その背面基板の裏面側に間隔をあけて平行に配置さ
れる可視光透過性の絶縁基板の裏面に、透明な走査電極
をストライプ状で上記の書き込み電極と直交方向に形成
し、走査電極上に走査電極を電気的に絶縁被覆する透明
な誘電体層を積層し、誘電体層上に、赤色発光のセルの
位置で緑色光吸収層と青色光吸収層を形成し、緑色発光
のセルの位置で赤色光吸収層と青色光吸収層とを形成
し、青色発光のセルの位置で赤色光吸収層と緑色光吸収
層とを形成した透明で可視光を選択的に透過するフィル
タ層を形成し、フィルタ層上に透明の誘電体層を積層し
た前面基板と、上記背面基板の絶縁基板と前面基板のフ
ィルタ層上の誘電体層とを保持し、赤色発光のセル、緑
色発光のセル及び青色発光のセルごとに仕切る多数の隔
壁と、を有することを特徴とするものである。
レイパネルは、可視光透過性で絶縁基板の裏面に形成さ
れる赤色発光、緑色発光及び青色発光の各セルごとに透
明な書き込み電極をストライプ状に形成した背面基板
と、その背面基板の裏面側に間隔をあけて平行に配置さ
れる可視光透過性の絶縁基板の裏面に、透明な走査電極
をストライプ状で上記の書き込み電極と直交方向に形成
し、走査電極上に走査電極を電気的に絶縁被覆する透明
な誘電体層を積層し、誘電体層上に、赤色発光のセルの
位置で緑色光吸収層と青色光吸収層を形成し、緑色発光
のセルの位置で赤色光吸収層と青色光吸収層とを形成
し、青色発光のセルの位置で赤色光吸収層と緑色光吸収
層とを形成した透明で可視光を選択的に透過するフィル
タ層を形成し、フィルタ層上に透明の誘電体層を積層し
た前面基板と、上記背面基板の絶縁基板と前面基板のフ
ィルタ層上の誘電体層とを保持し、赤色発光のセル、緑
色発光のセル及び青色発光のセルごとに仕切る多数の隔
壁と、を有することを特徴とするものである。
【0018】本発明によれば、フィルタ層は二つのセル
に対して一つの光吸収層を形成するため、パターンが小
さくなって、セルピッチが狭くなってもセルピッチの2
倍の開口幅を有するスクリーン版によって、緑色、青色
及び赤色の各光吸収層を形成することができる。
に対して一つの光吸収層を形成するため、パターンが小
さくなって、セルピッチが狭くなってもセルピッチの2
倍の開口幅を有するスクリーン版によって、緑色、青色
及び赤色の各光吸収層を形成することができる。
【0019】フィルタ層の赤色光吸収層、緑色光吸収層
及び青色光吸収層の各吸収層が透明誘導体層により分離
して積層されてもよい。
及び青色光吸収層の各吸収層が透明誘導体層により分離
して積層されてもよい。
【0020】フィルタ層の青色光吸収層は少なくともク
ロム酸鉛を含むものであることが好ましい。フィルタ層
の赤色光吸収層は少なくとも酸化コバルト−錫を含むも
のであることが好ましい。フィルタ層の緑色光吸収層は
少なくともリン酸コバルトを含むものであることが好ま
しい。
ロム酸鉛を含むものであることが好ましい。フィルタ層
の赤色光吸収層は少なくとも酸化コバルト−錫を含むも
のであることが好ましい。フィルタ層の緑色光吸収層は
少なくともリン酸コバルトを含むものであることが好ま
しい。
【0021】本発明のカラープラズマディスプレイの製
造方法は、(1)背面基板の裏面に間隔をあけて平行に
配置される可視光透過性の絶縁基板の裏面に、透明な走
査電極をストライプ状に形成する工程と、(2)走査電
極上に走査電極を電気的に絶縁する誘電体層を積層する
工程と、(3)誘電体層上に、赤色発光セルと緑色発光
セルに青色光吸収層を同時に形成し、緑色発光のセルと
青色発光のセルと同時に赤色光吸収層を形成し、青色発
光のセルと赤色発光のセルと同時に緑色光吸収層を同時
に形成することにより、透明で可視光を選択的に透過す
るフィルタ層を形成する工程と、を有し、(1)から
(3)の順序で行うことを特徴とするものである。
造方法は、(1)背面基板の裏面に間隔をあけて平行に
配置される可視光透過性の絶縁基板の裏面に、透明な走
査電極をストライプ状に形成する工程と、(2)走査電
極上に走査電極を電気的に絶縁する誘電体層を積層する
工程と、(3)誘電体層上に、赤色発光セルと緑色発光
セルに青色光吸収層を同時に形成し、緑色発光のセルと
青色発光のセルと同時に赤色光吸収層を形成し、青色発
光のセルと赤色発光のセルと同時に緑色光吸収層を同時
に形成することにより、透明で可視光を選択的に透過す
るフィルタ層を形成する工程と、を有し、(1)から
(3)の順序で行うことを特徴とするものである。
【0022】本発明によれば、フィルタ層は、二つのセ
ルに一つの光吸収層を形成するものであるため、パター
ンが小さくなって、セルピッチが狭くなってもセルピッ
チの倍の開口幅を有するスクリーン版によって、緑色、
青色及び赤色の各光吸収層を形成することができる。
ルに一つの光吸収層を形成するものであるため、パター
ンが小さくなって、セルピッチが狭くなってもセルピッ
チの倍の開口幅を有するスクリーン版によって、緑色、
青色及び赤色の各光吸収層を形成することができる。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るカラープラズ
マディスプレイの構造を図1を参照しながら説明する。
本発明に係るカラープラズマディスプレイは、間隔をあ
けて平行に配置された前面基板Aと背面基板Bとが多数
の隔壁7によって保持され、多数の隔壁7によって赤色
発光、緑色発光及び青色発光の各セルCを形成するもの
である。
マディスプレイの構造を図1を参照しながら説明する。
本発明に係るカラープラズマディスプレイは、間隔をあ
けて平行に配置された前面基板Aと背面基板Bとが多数
の隔壁7によって保持され、多数の隔壁7によって赤色
発光、緑色発光及び青色発光の各セルCを形成するもの
である。
【0024】前面基板Aは透明ガラスのような可視光透
過性の絶縁基板1が背面基板Bと対向する裏面に、スト
ライプ状の透明な走査電極2を紙面の左右方向に形成
し、走査電極2上に走査電極2を電気的に絶縁する透明
な誘電体層3aを積層し、誘電体層3a上にフィルタ層
4を形成し、フィルタ層4上に上記の隔壁7と接合する
透明な誘電体層3bを積層したものである。フィルタ層
4は、赤色発光のセルCでは緑色光吸収層4cと青色光
吸収層4aを形成し、緑色発光のセルCでは赤色光吸収
層4bと青色光吸収層4aとを形成し、青色発光のセル
Cでは赤色光吸収層4bと緑色光吸収層4cとを形成し
たものである。
過性の絶縁基板1が背面基板Bと対向する裏面に、スト
ライプ状の透明な走査電極2を紙面の左右方向に形成
し、走査電極2上に走査電極2を電気的に絶縁する透明
な誘電体層3aを積層し、誘電体層3a上にフィルタ層
4を形成し、フィルタ層4上に上記の隔壁7と接合する
透明な誘電体層3bを積層したものである。フィルタ層
4は、赤色発光のセルCでは緑色光吸収層4cと青色光
吸収層4aを形成し、緑色発光のセルCでは赤色光吸収
層4bと青色光吸収層4aとを形成し、青色発光のセル
Cでは赤色光吸収層4bと緑色光吸収層4cとを形成し
たものである。
【0025】したがって、一つのセルCに対して、二つ
の各色の光吸収層4a,4b,4cが形成される。この
ため、セルピッチが狭くなっても、セルピッチの2倍の
開口幅を有するスクリーン版によって各色の光吸収層4
a,4b,4cを形成することができる。
の各色の光吸収層4a,4b,4cが形成される。この
ため、セルピッチが狭くなっても、セルピッチの2倍の
開口幅を有するスクリーン版によって各色の光吸収層4
a,4b,4cを形成することができる。
【0026】青色光吸収層としてはクロム酸鉛(PbCrO
4)の粉末を、赤色光吸収層としては酸化コバルト−錫
(CoO・SnO2)粉末を、緑色光吸収層としてはリン酸コ
バルト(Co3(PO4)2)粉末を、それぞれセルロース系
バインダ、溶剤と混合しペースト化したものを用いる。
クロム酸鉛は480nm以下の波長の可視光に対して大き
な吸収を持ち、また酸化コバルト−錫は560〜680nmの
波長域の光に対して大きな吸収を持ち、さらにリン酸コ
バルトは480〜580nmの波長域の光に対して大きな吸収
を持つ。
4)の粉末を、赤色光吸収層としては酸化コバルト−錫
(CoO・SnO2)粉末を、緑色光吸収層としてはリン酸コ
バルト(Co3(PO4)2)粉末を、それぞれセルロース系
バインダ、溶剤と混合しペースト化したものを用いる。
クロム酸鉛は480nm以下の波長の可視光に対して大き
な吸収を持ち、また酸化コバルト−錫は560〜680nmの
波長域の光に対して大きな吸収を持ち、さらにリン酸コ
バルトは480〜580nmの波長域の光に対して大きな吸収
を持つ。
【0027】この結果、青色光吸収層と赤色光吸収層が
積層された緑色発光セルでは、480〜560nmの緑色発光
に対応する波長域が選択的に透過され、また赤色光吸収
層と緑色光吸収層が積層された青色発光セルでは、480
nm以下の青色発光に対応する波長域が選択に透過さ
れ、さらに緑色光吸収層と青色光吸収層が積層された赤
色発光セルでは580nm以上の赤色発光に対応する波長
域が選択的に透過されるようになる。
積層された緑色発光セルでは、480〜560nmの緑色発光
に対応する波長域が選択的に透過され、また赤色光吸収
層と緑色光吸収層が積層された青色発光セルでは、480
nm以下の青色発光に対応する波長域が選択に透過さ
れ、さらに緑色光吸収層と青色光吸収層が積層された赤
色発光セルでは580nm以上の赤色発光に対応する波長
域が選択的に透過されるようになる。
【0028】他方、背面基板Bは可視光線を透過する透
明ガラスのような絶縁基板5が前面基板Aと対向する裏
面であって多数の隔壁7の間に、ストライプ状の書き込
み電極6を紙面の裏面側から表面側の方向に形成したも
のである。この書き込み電極6、絶縁基板5及び隔壁7
には連続して、青色、赤色及び緑色の各蛍光体8a,8
b,8cが積層され、赤色発光、緑色発光及び青色発光
の各セルCが形成される。
明ガラスのような絶縁基板5が前面基板Aと対向する裏
面であって多数の隔壁7の間に、ストライプ状の書き込
み電極6を紙面の裏面側から表面側の方向に形成したも
のである。この書き込み電極6、絶縁基板5及び隔壁7
には連続して、青色、赤色及び緑色の各蛍光体8a,8
b,8cが積層され、赤色発光、緑色発光及び青色発光
の各セルCが形成される。
【0029】つぎに、本発明に係るプラズマディスプレ
イの製造方法を図2を参照しながら説明する。まず、前
面基板Aの形成方法について説明する。最初に、絶縁基
板1の裏面全面に酸化錫−酸化インジウム(ITO)か
らなる透明導電膜をスパッタリング法により形成する。
さらにITO膜をフォトリソグラフィ法と硝酸によるエ
ッチングにより、ストライプ状の走査電極2を紙面の左
右方向に形成する。続いて、ディスプレイパネルの表示
部全体を覆うように、低融点ガラスペーストをスクリー
ン印刷により塗布し、600℃で焼成することにより、
透明な誘電体層3aを形成する。
イの製造方法を図2を参照しながら説明する。まず、前
面基板Aの形成方法について説明する。最初に、絶縁基
板1の裏面全面に酸化錫−酸化インジウム(ITO)か
らなる透明導電膜をスパッタリング法により形成する。
さらにITO膜をフォトリソグラフィ法と硝酸によるエ
ッチングにより、ストライプ状の走査電極2を紙面の左
右方向に形成する。続いて、ディスプレイパネルの表示
部全体を覆うように、低融点ガラスペーストをスクリー
ン印刷により塗布し、600℃で焼成することにより、
透明な誘電体層3aを形成する。
【0030】つぎに誘電体層3a上にフィルタ層4を形
成する。フィルタ層4は図2に示すように、スクリーン
版Sを用いて青色光吸収層4aを赤色発光及び緑色発光
の各セルCに対応する部分に、紙面の裏面側から表面側
の方向にストライプ状に塗布して形成する。このスクリ
ーン版Sは二つのセルCの分の幅の開口部tを、三つの
セルCの分のピッチでストライプ状に形成したものであ
る。
成する。フィルタ層4は図2に示すように、スクリーン
版Sを用いて青色光吸収層4aを赤色発光及び緑色発光
の各セルCに対応する部分に、紙面の裏面側から表面側
の方向にストライプ状に塗布して形成する。このスクリ
ーン版Sは二つのセルCの分の幅の開口部tを、三つの
セルCの分のピッチでストライプ状に形成したものであ
る。
【0031】続いて、同様に赤色光吸収層4bを緑色発
光及び青色発光の各セルCに対応する部分に塗布形成す
る。これにより、緑色発光のセルCでは青色光吸収層4
aと赤色光吸収層4bが積層された状態となる。さら
に、緑色光吸収層4cを青色発光及び赤色発光の各セル
Cに対応する部分に塗布形成することにより、赤色発光
のセルCでは青色光吸収層4aと緑色光吸収層4cが積
層される。また青色発光のセルCでは赤色光吸収層4b
と緑色光吸収層4cが積層された状態となる。
光及び青色発光の各セルCに対応する部分に塗布形成す
る。これにより、緑色発光のセルCでは青色光吸収層4
aと赤色光吸収層4bが積層された状態となる。さら
に、緑色光吸収層4cを青色発光及び赤色発光の各セル
Cに対応する部分に塗布形成することにより、赤色発光
のセルCでは青色光吸収層4aと緑色光吸収層4cが積
層される。また青色発光のセルCでは赤色光吸収層4b
と緑色光吸収層4cが積層された状態となる。
【0032】つぎに表示領域全体に低融点ガラスペース
トを塗布し、600℃で焼成することによりフィルタ層
4及び透明な誘電体層3bを得る。さらに、図示しない
酸化マグネシウム(MgO)層を真空蒸着法により、表示
領域に形成して絶縁基板1上への各層の形成が終了す
る。
トを塗布し、600℃で焼成することによりフィルタ層
4及び透明な誘電体層3bを得る。さらに、図示しない
酸化マグネシウム(MgO)層を真空蒸着法により、表示
領域に形成して絶縁基板1上への各層の形成が終了す
る。
【0033】他方、背面基板Bはガラスのような可視光
透過性の絶縁基板5の裏面に、ストライプ状の書き込み
電極6を上記の前面基板Aの書き込み電極6と直交する
方向に形成する。そして、この書き込み電極6の間で絶
縁基板5の裏面に多数の隔壁7を設ける。その後、書き
込み電極6、背面基板5及び隔壁7の表面にそれぞれ青
色蛍光体層4a、赤色蛍光体層4b、緑色蛍光体層4c
を形成する。その後、背面基板Bの周囲に図示しないシ
ール用のフリットガラス層を形成する。
透過性の絶縁基板5の裏面に、ストライプ状の書き込み
電極6を上記の前面基板Aの書き込み電極6と直交する
方向に形成する。そして、この書き込み電極6の間で絶
縁基板5の裏面に多数の隔壁7を設ける。その後、書き
込み電極6、背面基板5及び隔壁7の表面にそれぞれ青
色蛍光体層4a、赤色蛍光体層4b、緑色蛍光体層4c
を形成する。その後、背面基板Bの周囲に図示しないシ
ール用のフリットガラス層を形成する。
【0034】最後に、上記の前面基板Aと背面基板Bの
裏面同士を間隔を空けて平行に対向させ、所定の位置に
組み合わせて隔壁7が前面基板Aと背面基板Bとを保持
し、周囲のシールフリットにより封止し、内部を排気し
た後、放電ガスを封入すると、プラズマディスプレイが
完成する。
裏面同士を間隔を空けて平行に対向させ、所定の位置に
組み合わせて隔壁7が前面基板Aと背面基板Bとを保持
し、周囲のシールフリットにより封止し、内部を排気し
た後、放電ガスを封入すると、プラズマディスプレイが
完成する。
【0035】つぎに、プラズマディスプレイパネルの前
面基板Aの別の形成方法を図3を参照しながら説明す
る。この製造方法はまず、絶縁基板1上に走査電極2と
透明な誘電体層3aとを積層する。つぎに図3(a)に
示すように、各発光色ごとにセルCを区切るブラックマ
スク9を形成する。ブラックマスク9は、例えば黒色顔
料と低融点ガラスペーストとを混合し、ペースト化した
ものを表示領域の全体に塗布した後、ブラックマスク9
を形成する部分のみにレジスト層を形成し、サンドブラ
スト法によりパターン化することにより形成することが
できる。
面基板Aの別の形成方法を図3を参照しながら説明す
る。この製造方法はまず、絶縁基板1上に走査電極2と
透明な誘電体層3aとを積層する。つぎに図3(a)に
示すように、各発光色ごとにセルCを区切るブラックマ
スク9を形成する。ブラックマスク9は、例えば黒色顔
料と低融点ガラスペーストとを混合し、ペースト化した
ものを表示領域の全体に塗布した後、ブラックマスク9
を形成する部分のみにレジスト層を形成し、サンドブラ
スト法によりパターン化することにより形成することが
できる。
【0036】つぎに図3(b)に示すように、赤色発光
のセルC、緑色発光のセルCにスクリーン印刷法によ
り、青色光吸収層ペースト14を押し込み、塗布する。
このとき、青色光吸収層ペースト14の溶剤分を多く
し、粘度を下げることにより、スクリーン版Sの開口部
に偏りが生じても、ブラックマスクに挟まれた領域に均
等にペーストを押し込むことができる。
のセルC、緑色発光のセルCにスクリーン印刷法によ
り、青色光吸収層ペースト14を押し込み、塗布する。
このとき、青色光吸収層ペースト14の溶剤分を多く
し、粘度を下げることにより、スクリーン版Sの開口部
に偏りが生じても、ブラックマスクに挟まれた領域に均
等にペーストを押し込むことができる。
【0037】青色光吸収層ペースト14を塗布した後、
乾燥すると、図3(c)に示すように、青色光吸収層4
aを得る。同様にして、赤色光吸収層4b及び緑色光吸
収層4cを形成する。これにより図3(d)に示すよう
に、赤色発光のセルCでは、青色光吸収層4aと緑色光
吸収層4cが、緑色発光のセルCでは青色光吸収層4a
と赤色光吸収層4bが、また青色発光のセルCでは、赤
色光吸収層4bと緑色光吸収層4cがそれぞれ積層され
た状態のフィルタ層4が形成される。絶縁基板1にはさ
らに表示領域全体に透明な誘電体層3b(図1参照)を
形成する。その後、600℃で焼成することにより、ブ
ラックマスク9で区切られた、所望の透過特性を有する
フィルタ層4が形成される。
乾燥すると、図3(c)に示すように、青色光吸収層4
aを得る。同様にして、赤色光吸収層4b及び緑色光吸
収層4cを形成する。これにより図3(d)に示すよう
に、赤色発光のセルCでは、青色光吸収層4aと緑色光
吸収層4cが、緑色発光のセルCでは青色光吸収層4a
と赤色光吸収層4bが、また青色発光のセルCでは、赤
色光吸収層4bと緑色光吸収層4cがそれぞれ積層され
た状態のフィルタ層4が形成される。絶縁基板1にはさ
らに表示領域全体に透明な誘電体層3b(図1参照)を
形成する。その後、600℃で焼成することにより、ブ
ラックマスク9で区切られた、所望の透過特性を有する
フィルタ層4が形成される。
【0038】つぎに、プラズマディスプレイパネルの前
面基板Aのさらに別の形成方法を図4を参照しながら説
明する。この方法はまず、透明ガラスのような絶縁基板
1上に走査電極2と透明な誘電体層3aを形成する。つ
ぎに赤色発光のセルC及び緑色発光のセルCに青色光吸
収層4aを、表示領域全体に透明な誘電体層3cを、緑
色発光のセルC及び青色発光のセルCに赤色光吸収層4
bを、表示領域全体に透明な誘電体層3dを、青色発光
のセルC及び赤色発光のセルCに緑色光吸収層4cを、
表示領域全体に透明な誘電体層3bを形成する。
面基板Aのさらに別の形成方法を図4を参照しながら説
明する。この方法はまず、透明ガラスのような絶縁基板
1上に走査電極2と透明な誘電体層3aを形成する。つ
ぎに赤色発光のセルC及び緑色発光のセルCに青色光吸
収層4aを、表示領域全体に透明な誘電体層3cを、緑
色発光のセルC及び青色発光のセルCに赤色光吸収層4
bを、表示領域全体に透明な誘電体層3dを、青色発光
のセルC及び赤色発光のセルCに緑色光吸収層4cを、
表示領域全体に透明な誘電体層3bを形成する。
【0039】その後、600℃で焼成することにより、
フィルタ層4と透明な誘電体層3a,3b,3c,3d
の積層膜が形成される。上記の構成により、赤色、緑色
及び青色の各光吸収層4a,4b,4cは誘電体層3
a,3b,3c,3dにより隔離され、直接に接触する
ことがない。このような構成においても赤色、緑色及び
青色の各光吸収層4a,4b,4cの組み合わせによ
り、各セルCにおいて発光色に応じた透過特性を有する
フィルタ層を形成することができる。
フィルタ層4と透明な誘電体層3a,3b,3c,3d
の積層膜が形成される。上記の構成により、赤色、緑色
及び青色の各光吸収層4a,4b,4cは誘電体層3
a,3b,3c,3dにより隔離され、直接に接触する
ことがない。このような構成においても赤色、緑色及び
青色の各光吸収層4a,4b,4cの組み合わせによ
り、各セルCにおいて発光色に応じた透過特性を有する
フィルタ層を形成することができる。
【0040】なお、本発明は上記の実施の形態に限定さ
れることなく、特許請求の範囲に記載された技術的事項
の範囲内において種々の変更が可能である。
れることなく、特許請求の範囲に記載された技術的事項
の範囲内において種々の変更が可能である。
【0041】
【発明の効果】本発明によれば、フィルタ層は二つのセ
ルに対して一つの光吸収層を形成するため、セルピッチ
が狭くなってもセルピッチの2倍の開口幅を有するスク
リーン版によって、緑色、青色及び赤色の各光吸収層を
形成することができる。したがって、高詳細なパターン
もスクリーン印刷法を用いて、フィルタ層を形成するこ
とができる。その結果、この方法によって製造されたカ
ラープラズマディスプレイは、高密度な映像情報を提供
することができる。
ルに対して一つの光吸収層を形成するため、セルピッチ
が狭くなってもセルピッチの2倍の開口幅を有するスク
リーン版によって、緑色、青色及び赤色の各光吸収層を
形成することができる。したがって、高詳細なパターン
もスクリーン印刷法を用いて、フィルタ層を形成するこ
とができる。その結果、この方法によって製造されたカ
ラープラズマディスプレイは、高密度な映像情報を提供
することができる。
【0042】さらに、図2及び図3に示した方法によれ
ば、積層形成するフィルタ層を隣接するセルと同時に形
成するため、各セルに単独でフィルタ層を形成する従来
の場合と同様、3回の印刷でフィルタ層をすべて形成す
ることができる。したがって、この方法によって生産性
が向上する。また、異種のフィルタ層が接触したまま焼
成することにより、透過特性に変化が起こるような場合
には、図4に示したようにフィルタ層の間に透明な誘電
体層を形成することで、フィルタ層相互の影響をなくす
ことができる。
ば、積層形成するフィルタ層を隣接するセルと同時に形
成するため、各セルに単独でフィルタ層を形成する従来
の場合と同様、3回の印刷でフィルタ層をすべて形成す
ることができる。したがって、この方法によって生産性
が向上する。また、異種のフィルタ層が接触したまま焼
成することにより、透過特性に変化が起こるような場合
には、図4に示したようにフィルタ層の間に透明な誘電
体層を形成することで、フィルタ層相互の影響をなくす
ことができる。
【図1】本発明に係るカラープラズマディスプレイパネ
ルの要部断面図である。
ルの要部断面図である。
【図2】図1に示したカラープラズマディスプレイの製
造工程を示す模式図である。
造工程を示す模式図である。
【図3】本発明に係るカラープラズマディスプレイパネ
ルの図2とは別の製造工程を示す模式図である。
ルの図2とは別の製造工程を示す模式図である。
【図4】本発明に係るカラープラズマディスプレイパネ
ルの図1及び図2とは別の製造工程を示す模式図であ
る。
ルの図1及び図2とは別の製造工程を示す模式図であ
る。
【図5】従来のカラープラズマディスプレイパネルの要
部断面図である。
部断面図である。
【図6】従来のAC型プラズマディスプレイパネルの要
部断面図である。
部断面図である。
【図7】図6とは別の従来のAC型プラズマディスプレ
イパネルの要部断面図である。
イパネルの要部断面図である。
【図8】従来のDC型プラズマディスプレイパネルの要
部断面図である。
部断面図である。
【図9】スクリーン印刷に用いるスクリーン版の模式図
である。
である。
【符号の説明】 A:前面基板 B:背面基板 C:セル 1:絶縁基板 2:走査電極 3a:誘電体層 3b:誘電体層 4:フィルタ層 4a:青色光吸収層 4b:赤色光吸収層 4c:緑色光吸収層 5:絶縁基板 6:書き込み電極 7:隔壁 8a:青色蛍光体 8b:赤色蛍光体 8c:緑色蛍光体
Claims (6)
- 【請求項1】可視光透過性で絶縁基板の裏面に形成され
る赤色発光、緑色発光及び青色発光の各セルごとに透明
な書き込み電極をストライプ状に形成した背面基板と、 その背面基板の裏面側に間隔をあけて平行に配置される
可視光透過性の絶縁基板の裏面に、透明な走査電極をス
トライプ状で前記書き込み電極と直交方向に形成し、前
記走査電極上に走査電極を電気的に絶縁被覆する透明な
誘電体層を積層し、前記誘電体層上に、赤色発光のセル
の位置で緑色光吸収層と青色光吸収層を形成し、緑色発
光のセルの位置で赤色光吸収層と青色光吸収層とを形成
し、青色発光のセルの位置で赤色光吸収層と緑色光吸収
層とを形成した透明で可視光を選択的に透過するフィル
タ層を形成し、前記フィルタ層上に透明の誘電体層を積
層した前面基板と、 前記背面基板の絶縁基板と前面基板のフィルタ層上の誘
電体層とを保持し、赤色発光のセル、緑色発光のセル及
び青色発光のセルごとに仕切る隔壁と、 を有することを特徴とするカラープラズマディスプレイ
パネル。 - 【請求項2】前記フィルタ層の赤色光吸収層、緑色光吸
収層及び青色光吸収層の各吸収層が透明誘導体層により
分離して積層されることを特徴とする請求項1に記載の
カラープラズマディスプレイパネル。 - 【請求項3】前記フィルタ層の青色光吸収層が少なくと
もクロム酸鉛を含むものであることを特徴とする請求項
1又は2に記載のカラープラズマディスプレイパネル。 - 【請求項4】前記フィルタ層の赤色光吸収層が少なくと
も酸化コバルト−錫を含むものであることを特徴とする
請求項1乃至3のいずれか1つの項に記載のカラープラ
ズマディスプレイパネル。 - 【請求項5】前記フィルタ層の緑色光吸収層が少なくと
もリン酸コバルトを含むものであることを特徴とする請
求項1乃至4のいずれか1つの項に記載のカラープラズ
マディスプレイパネル。 - 【請求項6】(1)背面基板の裏面に間隔をあけて平行
に配置される可視光透過性の絶縁基板の裏面に、透明な
走査電極をストライプ状に形成する工程と、(2)前記
走査電極上に走査電極を電気的に絶縁する誘電体層を積
層する工程と、(3)前記誘電体層上に、赤色発光セル
と緑色発光セルに青色光吸収層を同時に形成し、緑色発
光のセルと青色発光のセルと同時に赤色光吸収層を形成
し、青色発光のセルと赤色発光のセルと同時に緑色光吸
収層を同時に形成することにより、透明で可視光を選択
的に透過するフィルタ層を形成する工程と、 を有し、(1)から(3)の順序で行うことを特徴とす
るカラープラズマディスプレイパネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22150697A JP3119208B2 (ja) | 1997-08-18 | 1997-08-18 | カラープラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22150697A JP3119208B2 (ja) | 1997-08-18 | 1997-08-18 | カラープラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1167105A true JPH1167105A (ja) | 1999-03-09 |
| JP3119208B2 JP3119208B2 (ja) | 2000-12-18 |
Family
ID=16767788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22150697A Expired - Fee Related JP3119208B2 (ja) | 1997-08-18 | 1997-08-18 | カラープラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3119208B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7235927B2 (en) | 2003-08-13 | 2007-06-26 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Plasma display panel having light absorbing layer to improve contrast |
-
1997
- 1997-08-18 JP JP22150697A patent/JP3119208B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7235927B2 (en) | 2003-08-13 | 2007-06-26 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Plasma display panel having light absorbing layer to improve contrast |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3119208B2 (ja) | 2000-12-18 |
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