JPH1170583A - フィルタ及び溶接部を加熱する方法 - Google Patents
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- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
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-
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-
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-
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来のフィルタの欠点を解消すると共に低廉
であるユニークな構造のフィルタを使用する改善された
溶接装置及び方法を提供する。 【解決手段】 第一の部品を第二の部品に接合する溶接
部を加熱する際に使用される電磁放射線を吸収するフィ
ルタ。フィルタは内部に室を有するフィルタハウジング
を含み、室には流体が配置される。流体は放射線が溶接
部に到達する前に加熱源より放射される放射線のうちの
不要な波長の放射線を吸収する。フィルタ処理工程中流
体を冷却するためにフィルタには熱交換器が接続され
る。
であるユニークな構造のフィルタを使用する改善された
溶接装置及び方法を提供する。 【解決手段】 第一の部品を第二の部品に接合する溶接
部を加熱する際に使用される電磁放射線を吸収するフィ
ルタ。フィルタは内部に室を有するフィルタハウジング
を含み、室には流体が配置される。流体は放射線が溶接
部に到達する前に加熱源より放射される放射線のうちの
不要な波長の放射線を吸収する。フィルタ処理工程中流
体を冷却するためにフィルタには熱交換器が接続され
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、溶接に係り、更に
詳細には電磁放射線を利用してプラスチック及びこれと
同様の材料を溶接する改善された方法及び装置に係る。
詳細には電磁放射線を利用してプラスチック及びこれと
同様の材料を溶接する改善された方法及び装置に係る。
【0002】
【従来の技術】自動車用熱可塑性部品の如きプラスチッ
ク、即ち樹脂部品を接合するために一般に溶接が使用さ
れる。溶接工程を行うために必要な熱を供給するために
従来よりレーザーが使用されている(例えば米国特許第
4,636,609号公報を参照されたい)。レーザー
は特定の周波数の焦点調整された電磁放射線(即ちコヒ
ーレントな単色放射線)を与える。しかしレーザーは他
の加熱源に比して高価である。
ク、即ち樹脂部品を接合するために一般に溶接が使用さ
れる。溶接工程を行うために必要な熱を供給するために
従来よりレーザーが使用されている(例えば米国特許第
4,636,609号公報を参照されたい)。レーザー
は特定の周波数の焦点調整された電磁放射線(即ちコヒ
ーレントな単色放射線)を与える。しかしレーザーは他
の加熱源に比して高価である。
【0003】溶接部を加熱するための赤外線を供給する
ために赤外線加熱ランプの如き比較的低廉な加熱源も使
用されている。かかる方法の一つは通過伝達赤外線溶接
(Through-Transmission Infrared Welding(TTIRと略
称する))である。TTIR法に於いては、溶接部を加
熱すると共に少なくとも二つの部品を接合するに十分な
熱を供給すべく、少なくとも一方のプラスチック部品
(「伝達部品」と呼ばれることがある)を通過する赤外
線が使用される。
ために赤外線加熱ランプの如き比較的低廉な加熱源も使
用されている。かかる方法の一つは通過伝達赤外線溶接
(Through-Transmission Infrared Welding(TTIRと略
称する))である。TTIR法に於いては、溶接部を加
熱すると共に少なくとも二つの部品を接合するに十分な
熱を供給すべく、少なくとも一方のプラスチック部品
(「伝達部品」と呼ばれることがある)を通過する赤外
線が使用される。
【0004】赤外線加熱ランプはレーザー源よりも広い
周波数範囲を有する(即ち多色の)ノンコーヒーレント
な放射線を放射する。かかる広い範囲の周波数のなかに
は好ましからざる結果を生ずるものがある。かかる好ま
しからざる結果として、互いに溶接されるべき部品の所
望の目標とする溶接部を越える部分が加熱されることが
ある。かかる加熱が行われることにより部品全体の変形
や変色等の好ましからざる影響が生じる。
周波数範囲を有する(即ち多色の)ノンコーヒーレント
な放射線を放射する。かかる広い範囲の周波数のなかに
は好ましからざる結果を生ずるものがある。かかる好ま
しからざる結果として、互いに溶接されるべき部品の所
望の目標とする溶接部を越える部分が加熱されることが
ある。かかる加熱が行われることにより部品全体の変形
や変色等の好ましからざる影響が生じる。
【0005】放射線が部品に到達する前に好ましからざ
る周波数の放射線を吸収すべく、従来より固体材料が使
用されている。しかし固体フィルタには幾つかの欠点が
あり、例えば熱が制御不能に蓄積され、また放射線又は
熱の副生成物による損傷や劣化に起因して固体フィルタ
が連続的に交換されなければならないという欠点があ
る。ある期間の間に固体フィルタが劣化するので、好ま
しからざる波長の放射線を吸収する固体フィルタの性能
が悪化する。また多くの用途に於いて固体フィルタを十
分に冷却することは困難である。
る周波数の放射線を吸収すべく、従来より固体材料が使
用されている。しかし固体フィルタには幾つかの欠点が
あり、例えば熱が制御不能に蓄積され、また放射線又は
熱の副生成物による損傷や劣化に起因して固体フィルタ
が連続的に交換されなければならないという欠点があ
る。ある期間の間に固体フィルタが劣化するので、好ま
しからざる波長の放射線を吸収する固体フィルタの性能
が悪化する。また多くの用途に於いて固体フィルタを十
分に冷却することは困難である。
【0006】
【発明の概要】本発明の主要な目的は、上述の従来のフ
ィルタの欠点を解消すると共に低廉であるユニークな構
造のフィルタを使用する改善された溶接装置及び方法を
提供することである。
ィルタの欠点を解消すると共に低廉であるユニークな構
造のフィルタを使用する改善された溶接装置及び方法を
提供することである。
【0007】
【発明の実施の形態】以下に添付の図を参照しつつ、本
発明を好ましい実施形態について詳細に説明する。
発明を好ましい実施形態について詳細に説明する。
【0008】図1は溶接部27に於いて第一の部品24
を第二の部品26に溶接するためにノンコヒーレントな
多色の電磁放射線22を放射する放射加熱ランプ20を
含む溶接装置を示している。放射線22に含まれる不要
な波長の放射線を吸収すべく、放射加熱ランプ20と第
一の部品24との間にはユニークに構成されたフィルタ
28が配置されている。フィルタ28が使用されている
間フィルタ28を所望の温度範囲に維持する熱交換器3
0が設けられている。
を第二の部品26に溶接するためにノンコヒーレントな
多色の電磁放射線22を放射する放射加熱ランプ20を
含む溶接装置を示している。放射線22に含まれる不要
な波長の放射線を吸収すべく、放射加熱ランプ20と第
一の部品24との間にはユニークに構成されたフィルタ
28が配置されている。フィルタ28が使用されている
間フィルタ28を所望の温度範囲に維持する熱交換器3
0が設けられている。
【0009】フィルタ28は実質的に互いに平行な(図
示の如く平坦である場合)第一のプレート36及び第二
のプレート38とこれらのプレートの間に配置された周
縁シール40とにより郭定された室34を有するハウジ
ング32を含んでいる。第一のプレート36及び第二の
プレート38は、溶接部27を加熱するために使用され
る実質的に全ての波長の放射線を伝達する。第一のプレ
ート36を第二のプレート38に固定することによりハ
ウジング32の構造的一体性を維持すべく図には示され
ていないクランプが使用されてもよい。
示の如く平坦である場合)第一のプレート36及び第二
のプレート38とこれらのプレートの間に配置された周
縁シール40とにより郭定された室34を有するハウジ
ング32を含んでいる。第一のプレート36及び第二の
プレート38は、溶接部27を加熱するために使用され
る実質的に全ての波長の放射線を伝達する。第一のプレ
ート36を第二のプレート38に固定することによりハ
ウジング32の構造的一体性を維持すべく図には示され
ていないクランプが使用されてもよい。
【0010】本発明によれば、室34は放射加熱ランプ
20より放射される放射線22の一部をフィルタ処理す
る流体42を収容している。フィルタ28内の流体42
は放射線22が第一の部品24に到達する前に放射線2
2のうちの実質的に全ての不要な波長の放射線を吸収す
ることにより、フィルタ処理された放射線44を生成す
る。
20より放射される放射線22の一部をフィルタ処理す
る流体42を収容している。フィルタ28内の流体42
は放射線22が第一の部品24に到達する前に放射線2
2のうちの実質的に全ての不要な波長の放射線を吸収す
ることにより、フィルタ処理された放射線44を生成す
る。
【0011】TTIRの用途に於いては、第一の部品2
4はフィルタ処理された放射線44を溶接部27へ伝達
する。フィルタ処理された放射線44は第一の部品24
を第二の部品26に溶接すべく溶接部27を加熱する。
液体であることが好ましい流体42によって不要な波長
の放射線を吸収することにより、フィルタ処理された放
射線44が第一の部品24や第二の部品26を全体とし
て損傷したりこれらに好ましからざる影響を与えたりす
ることなく溶接部27を十分に加熱することができる。
4はフィルタ処理された放射線44を溶接部27へ伝達
する。フィルタ処理された放射線44は第一の部品24
を第二の部品26に溶接すべく溶接部27を加熱する。
液体であることが好ましい流体42によって不要な波長
の放射線を吸収することにより、フィルタ処理された放
射線44が第一の部品24や第二の部品26を全体とし
て損傷したりこれらに好ましからざる影響を与えたりす
ることなく溶接部27を十分に加熱することができる。
【0012】流体42の選定は幾つかの因子、特に特定
の用途に於いて使用される放射線22のうちの不要な又
は有害な波長の放射線を吸収し得るか否かに依存する。
例えば少なくとも一つの好ましい実施形態に於いては、
流体42は通常の熱可塑性重合体材料を溶接する場合に
は約1〜5μmの範囲の波長の放射線22を吸収するも
のでなければならない。特に流体42は上述の如き重合
体材料を溶接する場合には約1.3〜4μmの範囲の波
長の放射線22を吸収するものであることが好ましい。
の用途に於いて使用される放射線22のうちの不要な又
は有害な波長の放射線を吸収し得るか否かに依存する。
例えば少なくとも一つの好ましい実施形態に於いては、
流体42は通常の熱可塑性重合体材料を溶接する場合に
は約1〜5μmの範囲の波長の放射線22を吸収するも
のでなければならない。特に流体42は上述の如き重合
体材料を溶接する場合には約1.3〜4μmの範囲の波
長の放射線22を吸収するものであることが好ましい。
【0013】本発明の実施によって溶接されるのに特に
適した従来の重合体材料は熱可塑性の材料より選定され
ることが好ましい。かかる材料は幾つかの態様にて分類
される。好ましい材料は一般にエンジニアリング熱可塑
性材料(ETP)として分類され、またこれらの材料は
熱可塑性エラストマ(TPE)、熱可塑性ポリオレフィ
ン(TPO)、熱可塑性ポリウレタン(TPU)として
分類される。かかる材料としてポリカーボネート、高熱
ポリカーボネート、ポリカーボネートの混合物(例えば
ポリウレタン/ポリカーボネート混合物)、スチレン、
アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(A
BS)やポリカーボネート/ABS混合物の如きスチレ
ン混合物、ポリアミド、ポリアミド混合物、アクリル−
スチレン−アクリロニトリル(ASA)、アクリロニト
リル−エチレン−プロピレン−スチレン(AESW)、
スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−無水
マレイン酸等がある。非常に好ましい実施形態に於いて
は、好ましい材料としてポリカーボネート、アクリル、
ポリスチレン材料がある(これらに限定されるものでは
ない)。
適した従来の重合体材料は熱可塑性の材料より選定され
ることが好ましい。かかる材料は幾つかの態様にて分類
される。好ましい材料は一般にエンジニアリング熱可塑
性材料(ETP)として分類され、またこれらの材料は
熱可塑性エラストマ(TPE)、熱可塑性ポリオレフィ
ン(TPO)、熱可塑性ポリウレタン(TPU)として
分類される。かかる材料としてポリカーボネート、高熱
ポリカーボネート、ポリカーボネートの混合物(例えば
ポリウレタン/ポリカーボネート混合物)、スチレン、
アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(A
BS)やポリカーボネート/ABS混合物の如きスチレ
ン混合物、ポリアミド、ポリアミド混合物、アクリル−
スチレン−アクリロニトリル(ASA)、アクリロニト
リル−エチレン−プロピレン−スチレン(AESW)、
スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−無水
マレイン酸等がある。非常に好ましい実施形態に於いて
は、好ましい材料としてポリカーボネート、アクリル、
ポリスチレン材料がある(これらに限定されるものでは
ない)。
【0014】流体42が液体である場合には、多量の熱
を吸収すると共にフィルタ処理工程中にも蒸発したり沸
騰したりしないよう、流体42は比較的高い沸点を有す
る液体であることが好ましい。流体42は大気圧の条件
下に於いて、或いは室34内に収容された状態に於い
て、少なくとも約120°F(48.9℃)、好ましく
は少なくとも約240°F(116℃)、理想的には少
なくとも約350°F(177℃)の沸点を有していな
ければならない。
を吸収すると共にフィルタ処理工程中にも蒸発したり沸
騰したりしないよう、流体42は比較的高い沸点を有す
る液体であることが好ましい。流体42は大気圧の条件
下に於いて、或いは室34内に収容された状態に於い
て、少なくとも約120°F(48.9℃)、好ましく
は少なくとも約240°F(116℃)、理想的には少
なくとも約350°F(177℃)の沸点を有していな
ければならない。
【0015】一つの好ましいフィルタ処理流体はグルタ
ール酸、アジピン酸、サクシン酸のジメチルエステルを
含む液体混合物である。ジメチルエステル混合物はAlip
hatic Dibasic Estersなる商品名にてデュポン社等より
販売されている。またかかる物質はDibasic Ester、Dib
asic Ester Mixture、DBFなる商品名にて知られてい
る。これらの物質は一般にnを1〜5の整数、特に好ま
しくは2〜4の整数としてCH3COO(CH2)nCO
OCH3の化学式を有する物質の混合物である。非常に
好ましい実施形態に於いては、流体42は約55〜75
wt%のジメチルグルタール酸と、約10〜25wt%のジ
メチルアジピン酸と、約19〜26wt%のジメチルサク
シン酸とを含む混合物である。
ール酸、アジピン酸、サクシン酸のジメチルエステルを
含む液体混合物である。ジメチルエステル混合物はAlip
hatic Dibasic Estersなる商品名にてデュポン社等より
販売されている。またかかる物質はDibasic Ester、Dib
asic Ester Mixture、DBFなる商品名にて知られてい
る。これらの物質は一般にnを1〜5の整数、特に好ま
しくは2〜4の整数としてCH3COO(CH2)nCO
OCH3の化学式を有する物質の混合物である。非常に
好ましい実施形態に於いては、流体42は約55〜75
wt%のジメチルグルタール酸と、約10〜25wt%のジ
メチルアジピン酸と、約19〜26wt%のジメチルサク
シン酸とを含む混合物である。
【0016】有用な物質の他の例は、溶接を行うのに必
要な放射線を伝達する(吸収しない)物質である。かか
る物質としてグリセロール、エチレングリセロール、ジ
オクチルフタレート、トリブチルフォスフェン、ミネラ
ル、これらの物質の混合物や誘導体よりなる群より選択
される物質がある。しかし本発明はかかる流体や上述の
吸収波長及び沸点を有する流体に限定されるものではな
く、任意の適当な材料について溶接工程を行う際に使用
される任意の加熱源よりの不要な放射線をフィルタ処理
するのに十分な物理的性質を有する気体組成物の如き他
の流体が使用されてもよい。
要な放射線を伝達する(吸収しない)物質である。かか
る物質としてグリセロール、エチレングリセロール、ジ
オクチルフタレート、トリブチルフォスフェン、ミネラ
ル、これらの物質の混合物や誘導体よりなる群より選択
される物質がある。しかし本発明はかかる流体や上述の
吸収波長及び沸点を有する流体に限定されるものではな
く、任意の適当な材料について溶接工程を行う際に使用
される任意の加熱源よりの不要な放射線をフィルタ処理
するのに十分な物理的性質を有する気体組成物の如き他
の流体が使用されてもよい。
【0017】また液体の吸収特性を実質的に悪化しない
限り、フィルタ処理流体に添加物が使用されてもよい。
例えば粘性調整剤、熱的安定化剤、UV安定化剤、着色
剤、顔料、可視化剤等が使用されてもよい。
限り、フィルタ処理流体に添加物が使用されてもよい。
例えば粘性調整剤、熱的安定化剤、UV安定化剤、着色
剤、顔料、可視化剤等が使用されてもよい。
【0018】第一のプレート36及び第二のプレート3
8はQuartz Scientific, Inc.の如きメーカより販売さ
れている水晶プレートであることが好ましい。これらの
水晶プレートは約0.125inch(3.2mm)の厚さを
有し、シール40により0.125〜0.25inch
(3.2〜6.4mm)の距離にて互いに隔置されてい
る。シール40は流体42に対し実質的に不活性の物
質、例えばRTVシリコーンコーキング(これに限定さ
れるものではない)の如き物質にて形成される。
8はQuartz Scientific, Inc.の如きメーカより販売さ
れている水晶プレートであることが好ましい。これらの
水晶プレートは約0.125inch(3.2mm)の厚さを
有し、シール40により0.125〜0.25inch
(3.2〜6.4mm)の距離にて互いに隔置されてい
る。シール40は流体42に対し実質的に不活性の物
質、例えばRTVシリコーンコーキング(これに限定さ
れるものではない)の如き物質にて形成される。
【0019】尚本発明は、水晶プレートやそれらの寸法
及び形状に限定されるものではない。本発明は放射加熱
ランプ20より放射される実質的に全ての波長の放射線
22を伝達するプレートの如き他の実施形態を含むもの
である。
及び形状に限定されるものではない。本発明は放射加熱
ランプ20より放射される実質的に全ての波長の放射線
22を伝達するプレートの如き他の実施形態を含むもの
である。
【0020】本発明の他の一つの好ましい実施形態に於
いては、プレートの少なくとも一方はフィルタ処理機能
の一部を行う固体フィルタとして使用され、かかる実施
形態に於いては流体は部分フィルタとして機能すると共
に冷却材又は熱伝達材として機能する。例えば第一のプ
レート36及び第二のプレート38は第一の部品24と
実質的に同一の材料にて形成される(或いは少なくとも
二つのプレートは第一の部品24と実質的に同一の吸収
特性を有していなければならない)。従って第一の部品
24がポリカーボネートプラスチック部品である場合に
は、第一のプレート36及び第二のプレート38もポリ
カーボネートプラスチック部品である。この実施形態に
於いては、流体42が不要な波長の放射線をフィルタ処
理するだけでなく、第一のプレート36及び第二のプレ
ート38によってもフィルタ処理が行われる。
いては、プレートの少なくとも一方はフィルタ処理機能
の一部を行う固体フィルタとして使用され、かかる実施
形態に於いては流体は部分フィルタとして機能すると共
に冷却材又は熱伝達材として機能する。例えば第一のプ
レート36及び第二のプレート38は第一の部品24と
実質的に同一の材料にて形成される(或いは少なくとも
二つのプレートは第一の部品24と実質的に同一の吸収
特性を有していなければならない)。従って第一の部品
24がポリカーボネートプラスチック部品である場合に
は、第一のプレート36及び第二のプレート38もポリ
カーボネートプラスチック部品である。この実施形態に
於いては、流体42が不要な波長の放射線をフィルタ処
理するだけでなく、第一のプレート36及び第二のプレ
ート38によってもフィルタ処理が行われる。
【0021】室34は0.25×12×0.125inch
(6.4×305×3.2mm)の寸法を有する。尚室3
4の寸法は特定の用途に応じて異なる。また一つの好ま
しい実施形態に於いては、室34のほぼ100%がデュ
ポン社より販売されているDibasic Ester流体にて充填
された。更に一つの好ましい実施形態に於いては、放射
加熱ランプ20は好ましい波長の放射線を選択的に反射
する多層二色被覆又は水晶−ハロゲン加熱源よりの実質
的に全ての可視光線及び赤外線を反射するアルミナイズ
ド被覆を有するGeneral Electric 製のELC 250
W、交流24Vの水晶−ハロゲン反射ランプである。
(6.4×305×3.2mm)の寸法を有する。尚室3
4の寸法は特定の用途に応じて異なる。また一つの好ま
しい実施形態に於いては、室34のほぼ100%がデュ
ポン社より販売されているDibasic Ester流体にて充填
された。更に一つの好ましい実施形態に於いては、放射
加熱ランプ20は好ましい波長の放射線を選択的に反射
する多層二色被覆又は水晶−ハロゲン加熱源よりの実質
的に全ての可視光線及び赤外線を反射するアルミナイズ
ド被覆を有するGeneral Electric 製のELC 250
W、交流24Vの水晶−ハロゲン反射ランプである。
【0022】流体42が放射線22より不要な波長の放
射線を吸収している間流体42を冷却すべく、フィルタ
28には熱交換器30が流体的に連通接続されている。
室34と熱交換器30との間の供給導管48にはポンプ
46が設けられていることが好ましい。また本発明に於
いては、標準的な対流法による流体42の輸送の如く、
ポンプ46に加えて室34と熱交換器30との間に流体
42を輸送する他の方法が使用されてもよい。
射線を吸収している間流体42を冷却すべく、フィルタ
28には熱交換器30が流体的に連通接続されている。
室34と熱交換器30との間の供給導管48にはポンプ
46が設けられていることが好ましい。また本発明に於
いては、標準的な対流法による流体42の輸送の如く、
ポンプ46に加えて室34と熱交換器30との間に流体
42を輸送する他の方法が使用されてもよい。
【0023】復帰導管50が冷却された流体を室34へ
戻す。標準的な実施方法に従って任意の従来の熱交換器
30及びポンプ46が使用されてよい。フィルタ処理工
程中には、熱交換器30は流体42を所定の温度範囲、
例えば約65〜120°F(18.3〜48.9℃)の
範囲に維持することが好ましい。フィルタ28より加熱
された流体を連続的に除去すると共にフィルタ28へ冷
却された流体を循環供給することにより、公知の固体フ
ィルタの場合に比してフィルタ28の動作寿命を長くす
ることができる。
戻す。標準的な実施方法に従って任意の従来の熱交換器
30及びポンプ46が使用されてよい。フィルタ処理工
程中には、熱交換器30は流体42を所定の温度範囲、
例えば約65〜120°F(18.3〜48.9℃)の
範囲に維持することが好ましい。フィルタ28より加熱
された流体を連続的に除去すると共にフィルタ28へ冷
却された流体を循環供給することにより、公知の固体フ
ィルタの場合に比してフィルタ28の動作寿命を長くす
ることができる。
【0024】例 図1に於いて、本発明は第一のプラスチック部品を第二
のプラスチック部品にTTIR溶接するのに特に適して
いる。本発明の一つの例示的使用態様に於いては、第一
の部品24は第二の部品26に溶接されるべき放射線伝
達プラスチック24である。放射線伝達プラスチック2
4はそれがフィルタ処理された放射線44を溶接部27
へ伝達する際にフィルタ処理された放射線44を殆ど吸
収しない特性を有する。かかる目的から、放射線伝達プ
ラスチック24及び第二の部品26はポリカーボネート
プラスチック部品であってよい。
のプラスチック部品にTTIR溶接するのに特に適して
いる。本発明の一つの例示的使用態様に於いては、第一
の部品24は第二の部品26に溶接されるべき放射線伝
達プラスチック24である。放射線伝達プラスチック2
4はそれがフィルタ処理された放射線44を溶接部27
へ伝達する際にフィルタ処理された放射線44を殆ど吸
収しない特性を有する。かかる目的から、放射線伝達プ
ラスチック24及び第二の部品26はポリカーボネート
プラスチック部品であってよい。
【0025】フィルタ処理された放射線44が溶接部2
7に到達すると熱を発生するよう、放射線吸収材料52
が溶接部27に配置される。放射線伝達プラスチック2
4を第二の部品26に溶接するよう、十分な熱が放射線
吸収材料52により発生される。放射線吸収材料52は
カーボンブラックを含んでいるが、部品を溶接するに十
分な熱を発生する他の放射線吸収材料が使用されてもよ
い。
7に到達すると熱を発生するよう、放射線吸収材料52
が溶接部27に配置される。放射線伝達プラスチック2
4を第二の部品26に溶接するよう、十分な熱が放射線
吸収材料52により発生される。放射線吸収材料52は
カーボンブラックを含んでいるが、部品を溶接するに十
分な熱を発生する他の放射線吸収材料が使用されてもよ
い。
【0026】この例に於いては、放射線伝達プラスチッ
ク24を第二の部品26に溶接すべく、フィルタ28が
所定の位置に配置された状態で放射加熱ランプ20が以
下の要領にて動作された。まず放射加熱ランプ20が放
射線吸収材料52を加熱すべくその定格電圧レベルの8
0〜90%にて動作され(0.5〜1秒の立ち上がり時
間が採用された)、次いで放射加熱ランプ20は約6〜
9秒間上記レベルに維持され、更に溶接サイクルのアイ
ドル動作中定格電圧レベルの約5〜30%にて動作され
た。
ク24を第二の部品26に溶接すべく、フィルタ28が
所定の位置に配置された状態で放射加熱ランプ20が以
下の要領にて動作された。まず放射加熱ランプ20が放
射線吸収材料52を加熱すべくその定格電圧レベルの8
0〜90%にて動作され(0.5〜1秒の立ち上がり時
間が採用された)、次いで放射加熱ランプ20は約6〜
9秒間上記レベルに維持され、更に溶接サイクルのアイ
ドル動作中定格電圧レベルの約5〜30%にて動作され
た。
【0027】上述の態様にて放射加熱ランプ20が動作
されることによりその有効寿命が実質的に増大された。
尚本発明は上述の動作条件範囲に限定されるものではな
い。動作条件範囲は使用される特定の放射加熱ランプ2
0及び溶接されるべき部品に応じて異なる。例えば本発
明に於いては、放射加熱ランプ20は吸収材料52を加
熱すべくその定格電圧レベルの約60%の下限を有する
電圧範囲に於いて動作されてもよい。
されることによりその有効寿命が実質的に増大された。
尚本発明は上述の動作条件範囲に限定されるものではな
い。動作条件範囲は使用される特定の放射加熱ランプ2
0及び溶接されるべき部品に応じて異なる。例えば本発
明に於いては、放射加熱ランプ20は吸収材料52を加
熱すべくその定格電圧レベルの約60%の下限を有する
電圧範囲に於いて動作されてもよい。
【0028】本発明は、放射線伝達プラスチック24を
第二の部品26に溶接するに必要な熱を発生するよう、
第二の部品26それ自身が少なくとも溶接部27に十分
近い位置に放射線吸収材料52を含むTTIRの用途に
適用されてもよい。
第二の部品26に溶接するに必要な熱を発生するよう、
第二の部品26それ自身が少なくとも溶接部27に十分
近い位置に放射線吸収材料52を含むTTIRの用途に
適用されてもよい。
【0029】かかる用途に於いては、好ましい実施形態
に使用される流体42はその吸収特性が放射線伝達プラ
スチック24の吸収特性とできるだけ近い物質にて構成
される。場合によって放射線伝達プラスチック24と同
一の一つ又はそれ以上の単量体を含むプレポリマーが使
用されてよい。更に単量体の適当な誘導体が使用されて
もよい。更に好ましい実施形態に於いて使用される流体
42は溶接部27を加熱するために放射線吸収材料52
により必要とされる波長の放射線22を伝達する。
に使用される流体42はその吸収特性が放射線伝達プラ
スチック24の吸収特性とできるだけ近い物質にて構成
される。場合によって放射線伝達プラスチック24と同
一の一つ又はそれ以上の単量体を含むプレポリマーが使
用されてよい。更に単量体の適当な誘導体が使用されて
もよい。更に好ましい実施形態に於いて使用される流体
42は溶接部27を加熱するために放射線吸収材料52
により必要とされる波長の放射線22を伝達する。
【0030】上述の実施形態は例示のためのものであ
り、本発明を限定するものではない。例えば本発明は溶
接の用途に限定されるものではなく、不要な波長の放射
線をフィルタ処理する必要がある任意の用途に適用され
てよい。更に本発明の範囲内にて上述の実施形態に種々
の変更や修正が加えられてよい。
り、本発明を限定するものではない。例えば本発明は溶
接の用途に限定されるものではなく、不要な波長の放射
線をフィルタ処理する必要がある任意の用途に適用され
てよい。更に本発明の範囲内にて上述の実施形態に種々
の変更や修正が加えられてよい。
【図1】本発明が採用された装置の解図的斜視図であ
る。
る。
20…放射加熱ランプ 22…放射線 24…第一の部品 26…第二の部品 27…溶接部 28…フィルタ 30…熱交換器 32…ハウジング 34…室 36…第一のプレート 38…第二のプレート 40…周縁シール 42…流体 44…フィルタ処理された放射線 52…放射線吸収材料
Claims (45)
- 【請求項1】溶接部を加熱するために使用される電磁放
射線をフィルタ処理するフィルタにして、 室を郭定するフィルタハウジングと、 前記室内に配置され前記放射線が前記溶接部に到達する
前に所定の波長の前記放射線を吸収する流体と、を含ん
でいることを特徴とするフィルタ。 - 【請求項2】前記フィルタハウジングと流体的に連通し
前記流体の温度を低下させる熱交換器を含んでいること
を特徴とする請求項1に記載のフィルタ。 - 【請求項3】前記フィルタハウジング及び前記熱交換器
に接続され前記フィルタハウジングと前記熱交換器との
間に前記流体をポンプ送りするポンプ装置を含んでいる
ことを特徴とする請求項2に記載のフィルタ。 - 【請求項4】前記フィルタハウジングは前記室を郭定す
る第一及び第二のプレートを含み、前記第一及び第二の
プレートは前記放射線を伝達することを特徴とする請求
項1に記載のフィルタ。 - 【請求項5】前記第一及び第二のプレートは実質的に全
ての波長の前記放射線を伝達することを特徴とする請求
項4に記載のフィルタ。 - 【請求項6】前記第一及び第二のプレートは前記室を形
成するよう互いにシールされた水晶プレートであること
を特徴とする請求項5に記載のフィルタ。 - 【請求項7】前記流体は液体であり、該液体は実質的に
120゜F(48.9℃)よりも高い沸点を有すること
を特徴とする請求項1に記載のフィルタ。 - 【請求項8】前記液体はグルタール酸、アジピン酸、サ
クシン酸のジメチルエステルの混合物であることを特徴
とする請求項7に記載のフィルタ。 - 【請求項9】前記流体は少なくとも実質的に1μmより
も大きい波長の放射線を吸収することを特徴とする請求
項1に記載のフィルタ。 - 【請求項10】前記流体は少なくとも実質的に1.2〜
4μmの波長の放射線を吸収することを特徴とする請求
項9に記載のフィルタ。 - 【請求項11】前記流体は液体の混合物であり、前記液
体はグルタール酸、アジピン酸、サクシン酸のジメチル
エステルであることを特徴とする請求項10に記載のフ
ィルタ。 - 【請求項12】前記流体は液体の混合物であり、前記液
体はグルタール酸、アジピン酸、サクシン酸のジメチル
エステルであることを特徴とする請求項1に記載のフィ
ルタ。 - 【請求項13】前記放射線の波長は実質的に赤外線電磁
スペクトル内にあることを特徴とする請求項1に記載の
フィルタ。 - 【請求項14】前記放射線は放射加熱ランプより発生さ
れることを特徴とする請求項1に記載のフィルタ。 - 【請求項15】前記溶接部は第一及び第二のプラスチッ
ク部品を溶接するための領域であり、前記第一のプラス
チック部品は実質的に全ての波長の前記フィルタ処理さ
れた放射線を伝達することを特徴とする請求項1に記載
のフィルタ。 - 【請求項16】前記第二のプラスチック部品は第二の所
定の波長の前記放射線を吸収することを特徴とする請求
項15に記載のフィルタ。 - 【請求項17】前記溶接部は前記第一及び第二のプラス
チック部品を溶接するために加熱される吸収材料を含ん
でいることを特徴とする請求項15に記載のフィルタ。 - 【請求項18】前記放射線は放射加熱ランプより発生さ
れ、前記フィルタは前記フィルタハウジングと流体的に
連通し前記流体の温度を低下させる熱交換器を含んでい
ることを特徴とする請求項17に記載のフィルタ。 - 【請求項19】溶接部を加熱するために使用される電磁
放射線をフィルタ処理する方法にして、 加熱源より前記放射線を放射する工程と、 流体により所定の波長の前記放射線を吸収してフィルタ
処理された放射線を生成する工程と、 前記フィルタ処理された放射線を前記溶接部へ供給する
工程と、を含んでいることを特徴とする方法。 - 【請求項20】前記流体を冷却する工程を含んでいるこ
とを特徴とする請求項19に記載の方法。 - 【請求項21】前記流体の温度を低下させる熱交換器を
設ける工程を含んでいることを特徴とする請求項20に
記載の方法。 - 【請求項22】前記熱交換器へ前記流体をポンプ送りす
る工程を含んでいることを特徴とする請求項21に記載
の方法。 - 【請求項23】前記流体はフィルタハウジングの室内に
配置されることを特徴とする請求項19に記載の方法。 - 【請求項24】前記フィルタハウジングは前記放射線を
伝達する第一及び第二のプレートを含んでいることを特
徴とする請求項23に記載の方法。 - 【請求項25】前記第一及び第二のプレートは実質的に
全ての波長の前記放射線を伝達することを特徴とする請
求項24に記載の方法。 - 【請求項26】前記第一及び第二のプレートは前記室を
形成するよう互いにシールされた水晶プレートであるこ
とを特徴とする請求項25に記載の方法。 - 【請求項27】前記流体は実質的に120゜F(48.
9℃)よりも高い沸点を有する液体であることを特徴と
する請求項19に記載の方法。 - 【請求項28】前記液体はグルタール酸、アジピン酸、
サクシン酸のジメチルエステルの混合物であることを特
徴とする請求項27に記載の方法。 - 【請求項29】前記流体は少なくとも実質的に1μmよ
りも大きい波長の放射線を吸収することを特徴とする請
求項19に記載の方法。 - 【請求項30】前記流体は少なくとも実質的に1.2〜
4μmの波長の放射線を吸収することを特徴とする請求
項29に記載の方法。 - 【請求項31】前記流体はグルタール酸、アジピン酸、
サクシン酸のジメチルエステルの混合物であることを特
徴とする請求項30に記載の方法。 - 【請求項32】前記流体は液体の混合物であり、前記液
体はグルタール酸、アジピン酸、サクシン酸のジメチル
エステルであることを特徴とする請求項19に記載の方
法。 - 【請求項33】前記放射線の波長は実質的に赤外線電磁
スペクトル内にあることを特徴とする請求項19に記載
の方法。 - 【請求項34】前記放射線は放射加熱ランプより発生さ
れることを特徴とする請求項19に記載の方法。 - 【請求項35】前記溶接部は第一及び第二のプラスチッ
ク部品を溶接するための領域であり、前記第一のプラス
チック部品は実質的に全ての波長の前記放射線を伝達す
ることを特徴とする請求項19に記載の方法。 - 【請求項36】前記第二のプラスチック部品は第二の所
定の波長の前記放射線を吸収することを特徴とする請求
項35に記載の方法。 - 【請求項37】前記溶接部は前記第一及び第二のプラス
チック部品を溶接するために前記フィルタ処理された放
射線により加熱される吸収材料を含んでいることを特徴
とする請求項35に記載の方法。 - 【請求項38】前記放射線は放射加熱ランプより発生さ
れ、前記方法は前記流体の温度を低下させる熱交換器を
設ける工程を含んでいることを特徴とする請求項37に
記載の方法。 - 【請求項39】前記放射線は放射加熱ランプより発生さ
れ、前記放射加熱ランプは所定の定格電圧レベルを有
し、前記方法は前記溶接部を加熱すべく前記所定の定格
電圧レベルの実質的に60%の下限を有する第一の所定
の範囲にて前記放射加熱ランプを動作させる工程を含ん
でいることを特徴とする請求項35に記載の方法。 - 【請求項40】前記第一の所定の範囲は前記所定の定格
電圧レベルの実質的に70%より前記所定の定格電圧レ
ベルの実質的に90%までの範囲であることを特徴とす
る請求項39に記載の方法。 - 【請求項41】前記放射線は放射加熱ランプより発生さ
れ、前記放射加熱ランプは所定の定格電圧レベルを有
し、前記方法は前記溶接部を加熱すべく前記所定の定格
電圧レベルの実質的に60%の下限を有する第一の所定
の範囲にて前記放射加熱ランプを動作させる工程を含ん
でいることを特徴とする請求項19に記載の方法。 - 【請求項42】前記放射加熱ランプが前記第一の所定の
範囲に到達するための実質的に0.5〜1秒の立ち上が
り時間を与えることを特徴とする請求項41に記載の方
法。 - 【請求項43】前記放射線は放射加熱ランプより発生さ
れ、前記放射加熱ランプは (a)前記溶接部を加熱すべく前記所定の定格電圧レベ
ルの実質的に60%の下限を有する第一の所定の範囲に
て前記放射加熱ランプを動作させる工程と、 (b)前記所定の定格電圧レベルの実質的に5%の下限
を有する第二の所定の範囲にて前記放射加熱ランプをア
イドル動作させる工程と、 (c)前記工程(b)の次に実行され、前記溶接部を加
熱すべく前記第一の所定の範囲にて前記放射加熱ランプ
を動作させる工程と、に従って動作されることを特徴と
する請求項19に記載の方法。 - 【請求項44】前記第二の所定の範囲は前記所定の定格
電圧レベルの実質的に30%の上限を有することを特徴
とする請求項43に記載の方法。 - 【請求項45】前記放射加熱ランプが前記第一の所定の
範囲に到達するための実質的に0.5〜1秒の立ち上が
り時間を与えることを特徴とする請求項43に記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/890,323 US5943474A (en) | 1997-07-09 | 1997-07-09 | Welding method and apparatus |
| US890323 | 1997-07-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1170583A true JPH1170583A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=25396541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10185514A Pending JPH1170583A (ja) | 1997-07-09 | 1998-07-01 | フィルタ及び溶接部を加熱する方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5943474A (ja) |
| EP (1) | EP0893709B1 (ja) |
| JP (1) | JPH1170583A (ja) |
| KR (1) | KR19990013639A (ja) |
| CA (1) | CA2237824C (ja) |
| DE (1) | DE69837638T2 (ja) |
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