JPH117656A - Optical information recording medium - Google Patents
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- JPH117656A JPH117656A JP9160838A JP16083897A JPH117656A JP H117656 A JPH117656 A JP H117656A JP 9160838 A JP9160838 A JP 9160838A JP 16083897 A JP16083897 A JP 16083897A JP H117656 A JPH117656 A JP H117656A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学情報記録媒体において貴金属を含む反射
層と樹脂材料からなる保護層は、接着性が悪く積層して
形成することが困難である。接着を可能にし両層を積層
できるようにすることを目的とする。
【解決手段】 貴金属を含む反射層5と樹脂材料からな
る保護層7の間に、窒化物、酸化物、フッ化物、炭化
物、硫化物の中から形成される群より選ばれる材料層6
を形成する。材料層6の膜厚は光学的熱的特性に影響し
ない範囲として5〜20nmに設定し、約10nmが最
も好ましい。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflective layer containing a noble metal and a protective layer made of a resin material in an optical information recording medium, which have poor adhesion and are difficult to form by lamination. The purpose is to enable adhesion and to enable lamination of both layers. A material layer (6) selected from the group consisting of nitride, oxide, fluoride, carbide, and sulfide is provided between a reflective layer (5) containing a noble metal and a protective layer (7) made of a resin material.
To form The thickness of the material layer 6 is set to 5 to 20 nm so as not to affect the optical and thermal characteristics, and is most preferably about 10 nm.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は光学的に情報を記録
再生消去する情報記録媒体に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording medium for optically recording, reproducing, and erasing information.
【0002】[0002]
【従来の技術】光学情報記録媒体として例えば光ディス
クは、一般に記録層・反射層・光干渉層を有する多層構
造になっており多重干渉効果を利用して信号を読み出
す。従来、登録特許1949320号、登録特許209
4839号に開示されている構造が知られており、反射
層は光学的には記録層に吸収される光量を増大させ、熱
的には記録層で生じた熱を速やかに拡散させるという働
きをもち、さらには多層膜を使用環境から保護する役割
をも兼ね備えている。金属の中でも貴金属は酸化しにく
く耐食性に優れていることから反射層材料に適してい
る。特にAuは耐食性に優れ、膜厚を薄くして且つ急冷
条件を満足する反射層材料として最も優れている。2. Description of the Related Art As an optical information recording medium, for example, an optical disk generally has a multilayer structure having a recording layer, a reflection layer, and a light interference layer, and reads out a signal using a multiple interference effect. Conventionally, registered patent 1949320, registered patent 209
No. 4839 is known, and the reflection layer optically increases the amount of light absorbed by the recording layer and thermally diffuses the heat generated in the recording layer quickly. In addition, it also has a role of protecting the multilayer film from the use environment. Among metals, noble metals are not easily oxidized and have excellent corrosion resistance, so that they are suitable for the reflective layer material. In particular, Au is excellent in corrosion resistance, and is most excellent as a reflective layer material which has a thin film thickness and satisfies rapid cooling conditions.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、貴金属
は酸化しにくく多金属と比較して化学的に安定している
分、樹脂との接着性は悪い。例えばAuを反射層に用い
た場合、アクリル樹脂の保護層との接着性が悪く反射層
上に形成することができないという問題を有していた。However, noble metals are hardly oxidized and are chemically stable as compared with polymetals, so that their adhesion to resins is poor. For example, when Au is used for the reflective layer, there is a problem that the adhesiveness of the acrylic resin to the protective layer is so poor that it cannot be formed on the reflective layer.
【0004】本発明は、上記課題を解決するもので貴金
属を含む反射層上に樹脂の保護層を形成することを目的
とする。An object of the present invention is to solve the above problems and to form a protective layer of a resin on a reflective layer containing a noble metal.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明は、基板上に少なくとも貴金属を含む反射層と
樹脂材料からなる保護層を有する光学情報記録媒体であ
って、反射層と保護層の間に、窒化物、酸化物、フッ化
物、炭化物、硫化物の中から形成される群より選ばれる
材料層が形成されている。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve this problem, the present invention provides an optical information recording medium having a reflective layer containing at least a noble metal on a substrate and a protective layer made of a resin material. A material layer selected from the group consisting of nitride, oxide, fluoride, carbide, and sulfide is formed between the layers.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載のもの
は、基板上に貴金属を含む反射層と、樹脂材料からなる
保護層と、単層または複数の層よりなる情報記録可能な
記録層とを有する光学情報記録媒体であって、上記基板
と上記反射層の間に上記記録層が形成され、上記反射層
と上記保護層の間に窒化物、酸化物、フッ化物、炭化
物、硫化物の中から形成される群より選ばれる材料層が
形成されていることを特徴とするものである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS According to a first aspect of the present invention, there is provided a recordable recording layer comprising a reflective layer containing a noble metal, a protective layer made of a resin material, and a single layer or a plurality of layers on a substrate. An optical information recording medium having a layer, wherein the recording layer is formed between the substrate and the reflective layer, and a nitride, an oxide, a fluoride, a carbide, a sulfide is provided between the reflective layer and the protective layer. A material layer selected from a group formed from objects is formed.
【0007】また、請求項2に記載の発明は、基板上に
貴金属を含む反射層と、樹脂材料からなる保護層と、単
層または複数の層よりなる情報記録可能な記録層とを有
する光学情報記録媒体であって、上記基板と上記反射層
の間に上記記録層が形成され、上記保護層がエポキシ樹
脂を主成分とし、上記保護層の硬化収縮率Xが0≦X≦
5(%)であり、上記保護層の25℃における硬化前の
粘度Yが600≦Y≦1400(cP)であることを特
徴とするものである。According to a second aspect of the present invention, there is provided an optical device having a reflective layer containing a noble metal on a substrate, a protective layer made of a resin material, and a single or multiple information recording layer. An information recording medium, wherein the recording layer is formed between the substrate and the reflective layer, the protective layer is mainly composed of an epoxy resin, and the curing shrinkage X of the protective layer is 0 ≦ X ≦
5 (%), and the viscosity Y before curing of the protective layer at 25 ° C. is 600 ≦ Y ≦ 1400 (cP).
【0008】以下、本発明の実施の形態について、図面
を参照しながら説明する。図1は本発明の光学情報記録
媒体の一構成例を示し、基板1の上に第1の光干渉層
2、記録層3、第2の光干渉層4、反射層5、材料層6
を順次積層して保護層7を塗布した単板構造としてい
る。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a configuration example of an optical information recording medium of the present invention, in which a first light interference layer 2, a recording layer 3, a second light interference layer 4, a reflection layer 5, and a material layer 6 are provided on a substrate 1.
Are sequentially laminated to form a single-plate structure in which a protective layer 7 is applied.
【0009】基板1としては円盤状で、PMMA、ポリ
カーボネート、アモルファスポリオレフィンなどの樹脂
またはガラスなど、通常光ディスクに用いられる透明で
表面の平滑なものを選んだ。As the substrate 1, a disk-shaped substrate such as a resin such as PMMA, polycarbonate or amorphous polyolefin or glass, which is transparent and has a smooth surface, which is usually used for an optical disk, is selected.
【0010】第1の光干渉層2及び第2の光干渉層4は
誘電体薄膜で、光の行路長を調節して記録層への光吸収
効率を高め、記録前後の反射光量の変化を大きくしてC
N比を上げる働きがある。光干渉層2及び4は例えばS
iO2、Ta2O5などの酸化物、GeN、SiN、Al
N、TiNなどの窒化物、ZnSなどの硫化物、SiC
などの炭化物、CaF2などのフッ化物及びこれらの混
合物としてZnS−SiO2などを用いることができ、
スパッタリングや蒸着等の方法により形成することがで
きる。第1及び第2の光干渉層の膜厚は、例えばマトリ
クス法(例えば久保田広著「波動光学」岩波新書、19
71年、第3章を参照)に基づく計算により、記録前後
の反射率変化がより大きく且つ記録層への光吸収率が十
分大きくなる条件を満足するように厳密に決定すること
ができる。The first light interference layer 2 and the second light interference layer 4 are dielectric thin films, and adjust the path length of light to increase the light absorption efficiency to the recording layer, and reduce the change in the amount of reflected light before and after recording. Enlarge and C
It has the function of raising the N ratio. The light interference layers 2 and 4 are, for example, S
oxides such as iO 2 and Ta 2 O 5 , GeN, SiN, Al
Nitride such as N and TiN, sulfide such as ZnS, SiC
Such as carbides, fluorides such as CaF 2 and mixtures thereof, such as ZnS—SiO 2 ,
It can be formed by a method such as sputtering or vapor deposition. The thickness of the first and second optical interference layers can be determined, for example, by a matrix method (for example, Hiroshi Kubota, “Wave Optics”, Iwanami Shinsho, 19
(Refer to Chapter 3 in 1971) can be strictly determined so as to satisfy the condition that the change in reflectance before and after recording is larger and the light absorption to the recording layer is sufficiently large.
【0011】記録層3の材料としては、結晶相とアモル
ファス相との間で可逆的な相変態を起こす材料で代表的
にはGe−Sb−Te、Ge−Te、In−Sb−T
e、Ge−Sb−Te−Pd、Ag−Sb−In−Te
等の系、あるいはこれらの酸化物、窒化物を用いること
ができる。また希土類元素と遷移金属元素よりなる光磁
気記録材料としてTb−Fe−Co、Gd−Fe−C
o、Gd−Tb−Fe−Co、Dy−Fe−Co、Gd
−Dy−Fe−Coなどを用いることもできる。The material of the recording layer 3 is a material which causes a reversible phase transformation between a crystalline phase and an amorphous phase, and is typically Ge-Sb-Te, Ge-Te, In-Sb-T.
e, Ge-Sb-Te-Pd, Ag-Sb-In-Te
Or an oxide or nitride thereof. Tb-Fe-Co and Gd-Fe-C are magneto-optical recording materials comprising a rare earth element and a transition metal element.
o, Gd-Tb-Fe-Co, Dy-Fe-Co, Gd
-Dy-Fe-Co or the like can also be used.
【0012】反射層5としてはAu、Pt、Ag、Pd
またはこれらを主成分とする合金を用いることができ
る。反射層は光学的には記録層に吸収される光量を増大
させ、熱的には記録層で生じた熱を速やかに拡散させる
という働きをもち、さらには多層膜を使用環境から保護
する役割をも兼ね備えている。中でもAuは耐食性に優
れ膜厚を薄くして且つ急冷条件を満足する優れた材料で
ある。Au, Pt, Ag, Pd
Alternatively, an alloy containing these as main components can be used. The reflection layer optically increases the amount of light absorbed by the recording layer, thermally diffuses the heat generated in the recording layer quickly, and furthermore, has a role of protecting the multilayer film from the use environment. Also has. Among them, Au is an excellent material which is excellent in corrosion resistance and has a small thickness and satisfies the quenching condition.
【0013】材料層6としてはGeN、SiN、Al
N、TiNなどの窒化物、SiO2、Ta2O5などの酸
化物、CaF2などのフッ化物、SiCなどの炭化物、
ZnSなどの硫化物及びこれらの混合物としてZnS−
SiO2などを用いることができる。光干渉層2及び4
と同材料より選ぶことができるが、材料層6の働きは保
護層7を反射層5の上に形成するための接着層であるた
め、多層構造の光学的特性及び熱的特性が変化しない極
薄い膜厚で形成する。したがって、厚くても30nmで
望ましくは約10nmである。The material layer 6 is made of GeN, SiN, Al
Nitrides such as N and TiN, oxides such as SiO 2 and Ta 2 O 5 , fluorides such as CaF 2, and carbides such as SiC;
As a sulfide such as ZnS and a mixture thereof, ZnS-
SiO 2 or the like can be used. Light interference layers 2 and 4
However, since the function of the material layer 6 is an adhesive layer for forming the protective layer 7 on the reflective layer 5, the optical properties and thermal properties of the multilayer structure do not change. It is formed with a thin film thickness. Therefore, the thickness is at most 30 nm, preferably about 10 nm.
【0014】保護層7はアクリル樹脂を主成分とした材
料であり、例えば紫外線硬化型のウレタンアクリレート
とアクリル酸エステルモノマーの混合体などを用いるこ
とができる。光学情報記録媒体を回転させて塗布するた
め、低粘度であるほど塗布が容易で、短時間に薄く均一
に薄膜上に形成できる。薄ければ短い紫外線照射時間で
硬化し、塗布から硬化までの時間がより短くできる。し
たがって粘度は10〜100cPの範囲が好ましく、3
0cP以下がより好ましい。The protective layer 7 is a material containing an acrylic resin as a main component. For example, a mixture of a UV-curable urethane acrylate and an acrylate monomer can be used. Since the optical information recording medium is rotated and applied, the lower the viscosity, the easier the application, and the thinner and more uniform the thin film can be formed in a short time. If it is thin, it cures in a short ultraviolet irradiation time, and the time from application to curing can be shortened. Therefore, the viscosity is preferably in the range of 10 to 100 cP,
0 cP or less is more preferable.
【0015】図2は本発明の光学情報記録媒体の別の実
施の形態の部分断面図を示し、基板1の上に第1の光干
渉層2、記録層3、第2の光干渉層4、反射層5を順次
積層して保護層8を塗布した単板構造としている。図2
の第1の光干渉層2、記録層3、第2の光干渉層4、反
射層5の材料は図1の説明と同様の群から選択される
が、反射層5の上に直接保護層8を形成する構成であ
る。この構成は材料層6が不要であるため、多層構成を
1層減らすことができる。FIG. 2 is a partial cross-sectional view of another embodiment of the optical information recording medium of the present invention, in which a first light interference layer 2, a recording layer 3, and a second light interference layer 4 are formed on a substrate 1. The reflective layer 5 is sequentially laminated to form a single-plate structure in which a protective layer 8 is applied. FIG.
The material of the first optical interference layer 2, the recording layer 3, the second optical interference layer 4, and the reflective layer 5 is selected from the same group as described with reference to FIG. 8 is formed. This configuration does not require the material layer 6, so that the number of layers in the multilayer configuration can be reduced by one.
【0016】保護層8はエポキシ樹脂を主成分とした材
料で、例えばエポキシ樹脂とスチレンコポリマーの混合
体などを用い、光学情報記録媒体を回転させて反射層5
上に塗布し紫外線照射により重合硬化し形成することが
できる。貴金属を含む反射層に直接塗布する場合は、粘
度がある程度大きい方が接着性があがる。少なくとも粘
度は600cP以上を要し1000cP以上1400c
P以下が最も好ましい。また、貴金属を含む反射層上に
直接塗布するため、硬化による収縮率は高々5%でより
小さいことが好ましい。The protective layer 8 is made of a material mainly composed of an epoxy resin. For example, a mixture of an epoxy resin and a styrene copolymer is used.
It can be formed by applying it on the top and polymerizing and curing by irradiation of ultraviolet rays. When applied directly to the reflective layer containing a noble metal, the higher the viscosity, the better the adhesion. At least 600 cP or more viscosity is required and 1000 cP or more and 1400 c
Most preferably P or less. Further, since the composition is applied directly on the reflection layer containing a noble metal, the shrinkage ratio due to curing is preferably as small as 5% at most.
【0017】なお、以上の説明では保護層まで形成した
単板構造の光学情報記録媒体を例にとって説明したが、
その他保護層まで形成した光学情報記録媒体2枚を、例
えばホットメルト性の接着剤で保護層側を貼り合わせた
両面構造の光学情報記録媒体についても同様に実施可能
である。In the above description, an optical information recording medium having a single-plate structure in which a protective layer is formed has been described as an example.
In addition, the present invention can be similarly applied to an optical information recording medium having a double-sided structure in which two optical information recording media formed up to the protective layer are bonded to each other on the protective layer side with, for example, a hot-melt adhesive.
【0018】[0018]
【実施例】次に、我々が実験した本発明の実施例を説明
する。Next, embodiments of the present invention that we have experimented will be described.
【0019】(実施例1)直径203mmのターゲット
及び真空放電を発生させるための電源を備えた真空チャ
ンバーを7つ有する静止対向式スパッタ装置で実験を行
った。まず第1の光干渉層、記録層、第2の光干渉層、
反射層、材料層のスパッタレートを測定するため(表
1)に示す材料と条件で各層をガラス基板片上に形成し
た。(Example 1) An experiment was conducted using a stationary facing type sputtering apparatus having a target having a diameter of 203 mm and seven vacuum chambers provided with a power supply for generating vacuum discharge. First, a first optical interference layer, a recording layer, a second optical interference layer,
Each layer was formed on a glass substrate piece using the materials and conditions shown in Table 1 to measure the sputter rates of the reflective layer and the material layer.
【0020】[0020]
【表1】 [Table 1]
【0021】スパッタガスにはArガスを使用した。ス
タイラス法により膜厚を測定してスパッタレートを求め
た。得られたスパッタレートから厳密に膜厚を制御し、
各層の屈折率nと消衰係数kを決定するための薄膜サン
プルを作製した。薄膜はn、k決定精度を上げるために
透過率が十分高く得られる約20nmの極薄い膜厚とし
た。記録層はアモルファス相と結晶相のn、kを求め
る。スパッタ後はアモルファス相であるため、結晶相は
窒素雰囲気中で熱処理することにより作製した。膜厚測
定は上記の方法で行い、スペクトロメータにより反射率
と透過率を測定し、測定結果を用いて計算によりn、k
を決定した。得られたスパッタレート及びn、kを(表
2)に示す。Ar gas was used as a sputtering gas. The sputter rate was determined by measuring the film thickness by the stylus method. Strictly control the film thickness from the obtained sputter rate,
A thin film sample for determining the refractive index n and the extinction coefficient k of each layer was prepared. The thin film had an extremely thin film thickness of about 20 nm, at which the transmittance was sufficiently high in order to increase the accuracy of determining n and k. For the recording layer, n and k of the amorphous phase and the crystalline phase are determined. Since the amorphous phase after sputtering, the crystalline phase was prepared by heat treatment in a nitrogen atmosphere. The film thickness is measured by the above method, and the reflectance and the transmittance are measured by a spectrometer, and n, k are calculated by using the measurement results.
It was determined. The obtained sputter rates and n and k are shown in (Table 2).
【0022】[0022]
【表2】 [Table 2]
【0023】(実施例2)実施例1で決定したn、k値
を用いてマトリクス法により多層構成の光学計算を行
い、第1の光干渉層と第2の光干渉層の膜厚を決定し
た。材料層は含まないで計算する。記録層は23nm、
反射層は10nmに固定し、結晶状態の反射率Rc、反
射率変化ΔR、結晶状態の吸収率Ac、結晶相とアモル
ファス相の吸収率比Ac/Aaを計算し、Rc>20
%、ΔR>15%、Ac>60%、Ac/Aa>1とな
るように光干渉層の膜厚を決定した。計算波長は790
nmである。決定した膜厚及び反射率、吸収率の値を
(表3)に示す。膜厚は各層±5%の許容幅があった。(Embodiment 2) Using the n and k values determined in Embodiment 1, optical calculation of a multilayer structure is performed by a matrix method to determine the film thicknesses of the first light interference layer and the second light interference layer. did. The calculation does not include the material layer. The recording layer is 23 nm,
The reflection layer is fixed to 10 nm, and the reflectance Rc in the crystalline state, the reflectance change ΔR, the absorptivity Ac in the crystalline state, the absorptivity ratio Ac / Aa between the crystalline phase and the amorphous phase are calculated, and Rc> 20.
%, ΔR> 15%, Ac> 60%, and Ac / Aa> 1, the thickness of the light interference layer was determined. Calculation wavelength is 790
nm. The values of the determined film thickness, reflectance and absorptance are shown in (Table 3). The thickness of each layer had a tolerance of ± 5%.
【0024】[0024]
【表3】 [Table 3]
【0025】(実施例3)実施例2で決めた構成の反射
層上に材料層ZnS−SiO2を形成した場合の、材料
層の厚みに対する光学特性の変化を計算し、光学特性が
変わらない材料層の膜厚範囲を決めた。計算結果を(表
4)に示す。[0025] (Example 3) in the case of forming the material layer ZnS-SiO 2 on a reflective layer configuration decided in Example 2, changes in optical characteristics with respect to the thickness of the material layer was calculated, does not change the optical properties The thickness range of the material layer was determined. The calculation results are shown in (Table 4).
【0026】[0026]
【表4】 [Table 4]
【0027】(表4)の結果から材料層の膜厚が30n
m以上になると光学特性の変化が大きくなるため、光学
特性がほとんど変化しない範囲で、厚くても高々30n
mで約10nmが最も好ましいことがわかる。From the results shown in Table 4, the thickness of the material layer was 30 n.
m or more, the change in the optical characteristics becomes large.
It turns out that about 10 nm is most preferable in m.
【0028】(実施例4)実施例3の計算結果に基づ
き、第1の光干渉層2を130nm、記録層3を23n
m、第2の光干渉層4を24nm、反射層5を10nm
として、材料層6の膜厚が0nm、5nm、10nm、
20nm、30nm、50nm、100nmであるディ
スク7種類を試作して、アクリル樹脂の塗布状態を確認
した。1.2μmピッチの案内溝を有する直径120m
mのポリカーボネート基板1上に、実施例1に記載の静
止対向式スパッタ装置を用いて(表1)に記載の成膜条
件で、第1の光干渉層2、記録層3、第2の光干渉層
4、反射層5、材料層6を順次積層した。積層後、真空
チャンバーよりディスクを取り出し、初期化工程を経て
保護層7を塗布した。保護層7にはウレタンアクリレー
トとアクリル酸エステルモノマーの混合体を使用し、回
転数1250rpmで塗布し、4500rpm2秒で全
面に約3μm厚で拡げた。薄く速く均一に塗布するには
低粘度の方が適しており、本実施例で使用したアクリル
樹脂は粘度が約23cPである。全面に拡げた後、50
0mW/cm2の強度の紫外線を3秒間照射し硬化させ
た。硬化後の状態を目視確認した結果を(表5)に示
す。(Embodiment 4) Based on the calculation results of Embodiment 3, the first light interference layer 2 is 130 nm, and the recording layer 3 is 23 n.
m, the second light interference layer 4 is 24 nm, and the reflection layer 5 is 10 nm.
The thickness of the material layer 6 is 0 nm, 5 nm, 10 nm,
Seven types of discs of 20 nm, 30 nm, 50 nm, and 100 nm were prototyped, and the application state of the acrylic resin was confirmed. 120 m diameter with 1.2 μm pitch guide grooves
The first light interference layer 2, the recording layer 3, and the second light were formed on the polycarbonate substrate 1 with the stationary facing sputtering apparatus described in Example 1 under the film forming conditions described in (Table 1). The interference layer 4, the reflection layer 5, and the material layer 6 were sequentially laminated. After lamination, the disk was taken out of the vacuum chamber, and the protective layer 7 was applied through an initialization step. For the protective layer 7, a mixture of urethane acrylate and acrylic acid ester monomers was used, applied at a rotation speed of 1250 rpm, and spread over the entire surface with a thickness of about 3 μm at 4500 rpm for 2 seconds. A low viscosity is more suitable for thin and uniform application, and the acrylic resin used in this example has a viscosity of about 23 cP. After spreading all over, 50
Ultraviolet rays having an intensity of 0 mW / cm 2 were irradiated for 3 seconds for curing. The results of visually confirming the state after curing are shown in (Table 5).
【0029】[0029]
【表5】 [Table 5]
【0030】この結果から、材料層6がない場合反射層
5には直接塗布できないが、材料層6が5nmでもあれ
ばディスク全面に均一に塗布できることがわかった。From these results, it was found that when the material layer 6 was not provided, it could not be directly applied to the reflective layer 5, but when the material layer 6 was 5 nm, it could be applied uniformly to the entire surface of the disk.
【0031】(実施例5)実施例4で試作したディスク
の最内周部と最外周部の記録特性を評価した。また反射
率の測定も行った。材料層6が0nm(ディスクA)の
場合保護層7は塗布できないため、5nm(B)、10
nm(C)、20nm(D)、30nm(E)、50n
m(F)、100nm(G)のディスクについても保護
層7は塗布せずに、材料層6の膜厚に対する記録特性の
相対比較を行った。この実験の目的は、ディスクの熱的
特性が変化しない材料層6の膜厚範囲を明らかにするこ
とである。また、試作ディスクの反射率を測定すること
により、実施例2で行った計算結果との比較を行い、光
学的特性が変化しないための材料層6の膜厚範囲を実験
的に決定できる。記録特性の評価条件は、ディスク回転
数2000rpm、レーザー波長780nm、記録信号
は1.5T信号である。最内周部及び最外周部ともに消
去バイアスパワーを固定して、記録ピークパワーを変化
させてCN比を測定した。CN比43dBとなるピーク
パワーを−25%としてディスクAの評価結果から最内
周部及び最外周部の−25、0、+10%のピークパワ
ーを決め、ディスクB、C、D、E、FについてもCN
比を測定した。その結果を(表6)に示す。(Embodiment 5) The recording characteristics of the innermost peripheral portion and the outermost peripheral portion of the disk prototyped in Example 4 were evaluated. The reflectance was also measured. When the material layer 6 has a thickness of 0 nm (disk A), the protective layer 7 cannot be applied.
nm (C), 20 nm (D), 30 nm (E), 50 n
For the discs of m (F) and 100 nm (G), the recording layer was compared with the film thickness of the material layer 6 without applying the protective layer 7, and a relative comparison was made. The purpose of this experiment is to clarify the thickness range of the material layer 6 in which the thermal characteristics of the disk do not change. Further, by measuring the reflectivity of the prototype disk, a comparison with the calculation results performed in Example 2 can be made, and the range of the film thickness of the material layer 6 that does not change the optical characteristics can be experimentally determined. The evaluation conditions of the recording characteristics are a disk rotation speed of 2000 rpm, a laser wavelength of 780 nm, and a recording signal of a 1.5T signal. The CN ratio was measured by changing the recording peak power while fixing the erase bias power at both the innermost and outermost portions. Assuming that the peak power at which the CN ratio is 43 dB is −25%, the peak powers of −25, 0, and + 10% at the innermost and outermost portions are determined from the evaluation result of the disk A, and the disks B, C, D, E, and F About CN
The ratio was measured. The results are shown in (Table 6).
【0032】[0032]
【表6】 [Table 6]
【0033】最外周部の記録ピークパワーは順に9m
W、12mW、13.2mWで消去バイアスパワーは6
mW固定、最内周部の記録ピークパワーは順に7.5m
W、10mW、11mWで消去バイアスパワーは4mW
固定である。この結果から材料層6の膜厚が0〜20n
mまではCN比の飽和値は変化がない。−25%の記録
ピークパワーで最内周部最外周部ともに若干CN比に差
が見られるが、実質的に記録感度の変化がないと判断で
きる。また30nm以上になるとCN比の低下が顕著に
なり、光学的にも熱的にもディスク特性に影響している
ことが判る。実施例3で行った光学計算結果と比較する
と、30nmからΔRとAcが低下する傾向と良く一致
している。次に最内周部最外周部の反射率の測定結果を
(表7)に示す。The recording peak power at the outermost periphery is 9 m in order.
W, 12 mW, 13.2 mW and erase bias power of 6
mW fixed, the recording peak power at the innermost circumference is 7.5 m in order
W, 10mW, 11mW, erase bias power is 4mW
Fixed. From this result, the thickness of the material layer 6 is 0 to 20 n.
Up to m, the saturation value of the CN ratio does not change. At a recording peak power of −25%, there is a slight difference in the CN ratio between the innermost portion and the outermost portion, but it can be determined that there is substantially no change in the recording sensitivity. Further, when the thickness is 30 nm or more, the decrease in the CN ratio becomes remarkable, and it can be seen that both optically and thermally affect the disk characteristics. When compared with the results of the optical calculations performed in Example 3, the tendency that ΔR and Ac decrease from 30 nm agrees well. Next, Table 7 shows the measurement results of the reflectance at the innermost peripheral portion and the outermost peripheral portion.
【0034】[0034]
【表7】 [Table 7]
【0035】反射率についても光学計算値と傾向は良く
一致しており、30nmまでは反射率に影響しない。以
上の結果から光学的熱的変化を生じることなく形成でき
る、材料層6の膜厚範囲は5〜30nmであり、約10
nmが最適であることが明らかである。Regarding the reflectance, the calculated value is in good agreement with the calculated optical value, and does not affect the reflectance up to 30 nm. From the above results, the thickness range of the material layer 6 that can be formed without causing optical and thermal changes is 5 to 30 nm,
It is clear that nm is optimal.
【0036】(実施例6)実施例1、2、3、4、5
を、反射層5として他の貴金属元素Pt、Ag、Pdに
ついても行い同様の結果を得た。(Embodiment 6) Embodiments 1, 2, 3, 4, 5
Was performed for the other noble metal elements Pt, Ag, and Pd as the reflection layer 5, and similar results were obtained.
【0037】(実施例7)実施例1、2、3、4、5
を、材料層6としてTa2O5、GeN、ZnS、Si
C、CaF2についても行い同様の結果を得た。(Embodiment 7) Embodiments 1, 2, 3, 4, 5
For the material layer 6, Ta 2 O 5 , GeN, ZnS, Si
Similar results were obtained for C and CaF 2 .
【0038】(実施例8)次に第2の発明について説明
する。(表1)記載の材料及び成膜条件で直径120m
mのポリカーボネート基板1上に、第1の光干渉層2を
130nm、記録層3を23nm、第2の光干渉層4を
24nm、反射層5を10nm順次スパッタにより形成
し初期化を行った。反射層5に直接塗布できる樹脂の粘
度を決めるため、エポキシ樹脂とスチレンコポリマーの
混合比を変えて塗布実験を行った。その結果を(表8)
に示す。(Embodiment 8) Next, a second invention will be described. 120 m in diameter with the materials and film forming conditions described in (Table 1)
The first optical interference layer 2 was formed on the polycarbonate substrate 1 by a thickness of 130 nm, the recording layer 3 was formed to a thickness of 23 nm, the second optical interference layer 4 was formed to a thickness of 24 nm, and the reflection layer 5 was formed to a thickness of 10 nm by sputtering. In order to determine the viscosity of the resin that can be directly applied to the reflective layer 5, an application experiment was performed by changing the mixing ratio of the epoxy resin and the styrene copolymer. (Table 8)
Shown in
【0039】[0039]
【表8】 [Table 8]
【0040】粘度1000〜1500cPの樹脂はAu
反射層5にはじくことなく塗布でき、500cP以下は
はじいて塗布ムラが発生した。粘度が大きいと塗布厚が
大きくなるため、塗布状態と塗り厚を考慮して粘度は1
000〜1400cPが最も好ましい。また、エポキシ
樹脂に限らずアクリル樹脂でも粘度が1000〜140
0cPであればAg、Pt、Pdといった他の貴金属に
塗布することが可能であることが確認できた。粘度の低
い樹脂と比較して塗布時間と塗布厚は大きくなるが、材
料層を形成しなくて良いため設備の簡素化が図れる。The resin having a viscosity of 1000 to 1500 cP is Au
The coating could be performed without repelling the reflective layer 5, and the coating was repelled below 500 cP, causing application unevenness. If the viscosity is large, the coating thickness becomes large.
000-1400 cP is most preferred. In addition, not only epoxy resin but also acrylic resin has a viscosity of 1000 to 140.
It was confirmed that it was possible to apply to other noble metals such as Ag, Pt and Pd if it was 0 cP. Although the coating time and the coating thickness are larger than those of a resin having a low viscosity, the equipment can be simplified because the material layer does not need to be formed.
【0041】[0041]
【発明の効果】以上のように本発明は、基板上に少なく
とも貴金属を含む反射層と樹脂材料からなる保護層を有
する光学情報記録媒体であって、反射層と保護層の間
に、窒化物、酸化物、フッ化物、炭化物、硫化物の中か
ら形成される群より選ばれる材料層が形成されているこ
とにより、光学的熱的特性を変えずに貴金属反射層上に
粘度が低い樹脂が塗布できるという効果が得られた。As described above, the present invention relates to an optical information recording medium having a reflective layer containing at least a noble metal and a protective layer made of a resin material on a substrate, wherein a nitride is provided between the reflective layer and the protective layer. By forming a material layer selected from the group consisting of oxides, fluorides, carbides, and sulfides, a resin having a low viscosity is formed on the noble metal reflection layer without changing the optical and thermal characteristics. The effect of being able to apply was obtained.
【図1】本発明の光学情報記録媒体における一実施の形
態の部分断面図FIG. 1 is a partial cross-sectional view of an embodiment of an optical information recording medium of the present invention.
【図2】同、別の実施の形態の部分断面図FIG. 2 is a partial sectional view of another embodiment of the invention.
1 基板 2 第1の光干渉層 3 記録層 4 第2の光干渉層 5 反射層 6 材料層 7 保護層 8 保護層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 1st light interference layer 3 recording layer 4 2nd light interference layer 5 reflection layer 6 material layer 7 protective layer 8 protective layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 昇 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Noboru Yamada 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Claims (10)
料からなる保護層と、単層または複数の層よりなる情報
記録可能な記録層とを有する光学情報記録媒体であっ
て、上記基板と上記反射層の間に上記記録層が形成さ
れ、上記反射層と上記保護層の間に窒化物、酸化物、フ
ッ化物、炭化物、硫化物の中から形成される群より選ば
れる材料層が形成されていることを特徴とする光学情報
記録媒体。1. An optical information recording medium having a reflective layer containing a noble metal on a substrate, a protective layer composed of a resin material, and a recording layer composed of a single layer or a plurality of layers on which information can be recorded. And the recording layer is formed between the reflective layer and a material layer selected from the group consisting of nitride, oxide, fluoride, carbide, and sulfide between the reflective layer and the protective layer. An optical information recording medium characterized by being formed.
料からなる保護層と、単層または複数の層よりなる情報
記録可能な記録層とを有する光学情報記録媒体であっ
て、上記基板と上記反射層の間に上記記録層が形成さ
れ、上記保護層がエポキシ樹脂を主成分とし、上記保護
層の硬化収縮率Xが0≦X≦5(%)であり、上記保護
層の25℃における硬化前の粘度Yが600≦Y≦14
00(cP)であることを特徴とする光学情報記録媒
体。2. An optical information recording medium having a reflective layer containing a noble metal on a substrate, a protective layer made of a resin material, and a recording layer capable of recording information comprising a single layer or a plurality of layers. The recording layer is formed between the protective layer and the reflective layer, the protective layer is mainly composed of an epoxy resin, and the curing shrinkage X of the protective layer is 0 ≦ X ≦ 5 (%). The viscosity Y before curing at 600 ° C. is 600 ≦ Y ≦ 14
00 (cP).
生専用型であることを特徴とする請求項1または請求項
2記載の光学情報記録媒体。3. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the optical information recording medium is of a read-only type in which an uneven pit signal is recorded on a substrate.
録層を有することを特徴とする請求項1または請求項2
記載の光学情報記録媒体。4. The recording medium according to claim 1, wherein at least a write-once recording layer is provided between the substrate and the reflective layer.
The optical information recording medium according to the above.
録層を有することを特徴とする請求項1または請求項2
記載の光学情報記録媒体。5. The recording medium according to claim 1, further comprising at least a rewritable recording layer between the substrate and the reflection layer.
The optical information recording medium according to the above.
化収縮率Aが8≦A≦12(%)、25℃における硬化
前の粘度Bが10≦B≦100(cP)であることを特
徴とする請求項1記載の光学情報記録媒体。6. A protective layer comprising an acrylic resin as a main component, a curing shrinkage A of 8 ≦ A ≦ 12 (%) and a viscosity B before curing at 25 ° C. of 10 ≦ B ≦ 100 (cP). The optical information recording medium according to claim 1, wherein:
であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の
光学情報記録媒体。7. The thickness d of the protective layer is 2 ≦ d ≦ 30 (μm)
The optical information recording medium according to claim 1, wherein:
であることを特徴とする請求項1記載の光学情報記録媒
体。8. The thickness D of the material layer is 5 ≦ D ≦ 30 (nm)
The optical information recording medium according to claim 1, wherein:
とする請求項1または請求項2記載の光学情報記録媒
体。9. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the reflection layer contains Au as a main component.
することを特徴とする請求項1記載の光学情報記録媒
体。10. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the material layer contains ZnS—SiO 2 as a main component.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9160838A JPH117656A (en) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | Optical information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9160838A JPH117656A (en) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | Optical information recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH117656A true JPH117656A (en) | 1999-01-12 |
Family
ID=15723511
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9160838A Pending JPH117656A (en) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | Optical information recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH117656A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100373467C (en) * | 2003-07-01 | 2008-03-05 | Tdk株式会社 | Optical recording medium, optical recording/reproducing device, optical recording device and optical reproducing device, data recording/reproducing method for optical recording medium, and data recording method and data reproducing method |
-
1997
- 1997-06-18 JP JP9160838A patent/JPH117656A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100373467C (en) * | 2003-07-01 | 2008-03-05 | Tdk株式会社 | Optical recording medium, optical recording/reproducing device, optical recording device and optical reproducing device, data recording/reproducing method for optical recording medium, and data recording method and data reproducing method |
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