JPH1177055A

JPH1177055A - 風呂水殺菌装置

Info

Publication number: JPH1177055A
Application number: JP10191182A
Authority: JP
Inventors: Yasuhito Takahashi; 康仁高橋
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1997-07-08
Filing date: 1998-07-07
Publication date: 1999-03-23

Abstract

(57)【要約】【課題】風呂水を殺菌浄化するために、次亜塩素酸ナ
トリウムを用いると高濃度の次亜塩素酸ナトリウムが必
要であり、また紫外線ランプによる殺菌は浴槽壁やフィ
ルタ等に繁殖した菌には効果がない、という課題があっ
た。【解決手段】風呂水を循環させる経路１５中に電解で
生成した次亜塩素酸イオン５を供給する手段７を具備
し、殺菌を終えた後、風呂水内の次亜塩素酸イオンを除
去する手段として、Ａｌからなる電極４０を具備し、次
亜塩素酸イオンによる殺菌終了後、直ちにＡｌ電極４０
に電流を流して、次亜塩素酸イオンを除去する。また、
浴槽の表面１４にフェライト系セラミック４１などを混
ぜて抗菌性を持たせ、雑菌や原生生物の発生を抑制する
手段を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、風呂水を殺菌浄化
する風呂水殺菌装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、風呂水を殺菌浄化する技術の開発
により、２４時間風呂と呼ばれる装置が一般家庭にも普
及しつつある。

【０００３】２４時間風呂では、イ．風呂水を所定の温度に保つ。ロ．風呂水が所定量より少なくなったら補充する。ハ．風呂水の中のゴミを除去する。ニ．細菌の繁殖を抑制するための殺菌を行う。などの機能により、風呂水の交換、浴槽の掃除、沸かし
直しの必要を無くし（もしくは頻度を少なくし）、２４
時間いつでも清潔なお風呂を楽しむことを可能としてい
る。

【０００４】特に、風呂水を常時もしくは周期的に殺菌
浄化することは、衛生面から考えて重要な技術の１つで
ある。

【０００５】殺菌手段としては、次亜塩素酸イオン（Ｃ
lＯ^-）による方法が知られている。具体的には、特開平
８−２８１２８０号公報に示されているように、塩素を
含む水道水中で電解を行うことにより発生する次亜塩素
酸による殺菌や、特開平１−３１５３８７号公報に示さ
れるような次亜塩素酸ナトリウムタンクから次亜塩素酸
ナトリウムを風呂水内に添加して殺菌する方法がある。

【０００６】また、特開平８−２７６１８５号公報に
は、無隔膜電解により発生する塩素による浴水循環装置
の技術が開示されているが、浴水に混入させたＣlＯ^-イ
オンの濃度や、塩素を発生させるために必要な食塩水の
濃度や電極の間隔など、十分な技術の開示がなされてい
ない。

【０００７】また別の手段として、特開平４−２９８２
９９号公報に示されるような紫外線ランプによる殺菌方
法が取られていた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】次亜塩素酸イオンによ
る殺菌は、比較的低濃度で、充分な殺菌が可能であり、
速攻性があるので風呂水等の殺菌には有効な手段の１つ
であるが、上記した従来の技術には次のような問題があ
る。

【０００９】まず第一に、水道水に含まれる塩素を利用
して電解により次亜塩素酸イオンを発生させる場合、装
置が簡単になるという利点はあるが、殺菌の効果が不安
定となる欠点がある。つまり、水道水に含まれる塩素濃
度は浄水場からの距離や季節によって大きく変化してお
り、特に夏で浄水場の近くではかなり濃度が高く、逆
に、冬で浄水場から遠く離れている場所では、水道水と
しての殺菌は充分行われていても、電解により次亜塩素
酸イオンを生成するには塩素濃度が低く、次亜塩素酸イ
オンの発生効率が極端に低下し、所定の時間内では充分
な殺菌が行われない可能性がある。また、井戸水を使用
していた場合は、塩素が無いので殺菌が行われない。

【００１０】さらに、次亜塩素酸ナトリウムをタンクか
ら添加する場合には、水道水、井戸水等の区別なく殺菌
が可能であるが、電解で生成した次亜塩素酸イオンに比
べて、５０〜１００倍の濃度でないと殺菌効果が充分で
はなく、高濃度の次亜塩素酸ナトリウム（次亜塩素酸イ
オン）が必要である。

【００１１】さらに、紫外線ランプによる殺菌は、次亜
塩素酸イオンで殺菌する場合に比べて取り扱いが簡単で
あるが、紫外線ランプ近傍にきた風呂水のみ殺菌効果を
有するので、例えば、浴槽壁やフィルタ等に繁殖した菌
には効果がなく、菌の繁殖源を断ち切ることは難しい。

【００１２】そこで、本発明においては、低濃度でも殺
菌効果の高い、電気分解で生成した次亜塩素酸イオンに
よって殺菌を行う風呂水殺菌装置であって、かつ、水中
の塩素濃度に関係なく安定した濃度の次亜塩素酸イオン
を電気分解によって生成することができ、高い殺菌能力
を持つ次亜塩素酸イオンを短時間で生成可能な風呂水殺
菌装置を提供することを目的とする。また、浴槽壁やフ
ィルタ等に繁殖した菌にも効果がある風呂水殺菌装置を
提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の本発明
は、浴槽内の風呂水の循環経路と、前記循環経路中に設
けられた前記風呂水を吸引する吸引手段と、前記循環系
路中に設けられた風呂水を殺菌する殺菌手段と、前記電
解槽に薬剤を供給する薬剤供給手段と、前記電解槽に水
を供給する水供給手段と、前記風呂水の水量検知手段
と、前記循環系路中に、前記殺菌成分を除去する場合に
動作するように構成された前記殺菌成分の除去手段とを
備え、前記殺菌手段は、電解槽内で薬剤水溶液を電気分
解することで生成される殺菌成分を供給するように構成
され、前記電解槽は、前記浴槽内の前記風呂水水面より
上方に位置し、かつ対向する耐食性電極を備え、前記電
解槽で電気分解により殺菌成分を生成しているときは前
記電解槽は前記風呂水とは電気的に略絶縁されるように
構成され、前記電解槽で生成された殺菌成分を供給する
ときは、前記浴槽内に前記風呂水が満たされた状態で前
記風呂水を前記電解槽に通水することで前記浴槽内に供
給するように構成された風呂水殺菌装置を構成したこと
を特徴とする。

【００１４】また、請求項２記載の本発明は、前記薬剤
が塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウムなど
の水溶性の金属塩化物であり、前記殺菌成分が次亜塩素
酸イオンを主成分とする請求項１記載の風呂水殺菌装置
を構成したことを特徴とする。

【００１５】また、請求項３記載の本発明は、前記電解
槽に薬剤を供給する供給手段が塩化ナトリウムの飽和溶
液を用いることで構成される請求項２記載の風呂水殺菌
装置を構成したことを特徴とする。

【００１６】また、請求項４記載の本発明は、電解槽内
のアルカリ金属塩化物、アルカリ土類金属塩化物の濃度
が、０．００１７１ｍｏｌ／Ｌ以上飽和溶液の濃度以下
となるよう構成された請求項３記載の風呂水殺菌装置を
構成したことを特徴とする。

【００１７】また、請求項５記載の本発明は、前記耐食
性電極が、陽極側電極は少なくとも表面が白金であり、
陰極側電極は少なくとも表面が白金もしくは炭素である
請求項２、３、または４記載の風呂水殺菌装置を構成し
たことを特徴とする。

【００１８】また、請求項６記載の本発明は、前記耐食
性電極の電極間の距離を２ｍｍ以上とした請求項２ない
し５いずれかに記載の風呂水殺菌装置を構成したことを
特徴とする。

【００１９】また、請求項７記載の本発明は、前記耐食
性電極間の電流密度が２００Ａ／ｍ ²以上である請求項
２ないし６いずれかに記載の風呂水殺菌装置を構成した
ことを特徴とする。

【００２０】また、請求項８記載の本発明は、電解槽中
の導電率が所定の値以下である場合に警告を発する手段
を備えた請求項２ないし７いずれかに記載の風呂水殺菌
装置を構成したことを特徴とする。

【００２１】また、請求項９記載の本発明は、次亜塩素
酸イオンの生成開始と連動して動作を開始する電解槽換
気手段を備えた請求項２ないし８いずれかに記載の風呂
水殺菌装置を構成したことを特徴とする。

【００２２】また、請求項１０記載の本発明は、電解槽
内の次亜塩素酸イオンが所定の値に達した後で、風呂水
の循環経路に前記電解槽で生成した次亜塩素酸イオンを
供給するよう構成され、浴槽内の風呂水の次亜塩素酸イ
オン濃度が４．８５×１０^-6ｍｏｌ／Ｌ以上となるよう
に構成された請求項２ないし９いずれかに記載の風呂水
殺菌装置を構成したことを特徴とする。

【００２３】また、請求項１１記載の本発明は、前記次
亜塩素酸イオンの除去手段が、アルミニウムである請求
項２ないし１０いずれかに記載の風呂水殺菌装置を構成
したことを特徴とする。

【００２４】また、請求項１２記載の本発明は、前記ア
ルミニウムが陽極電極となり、さらに陰極を備え、電気
分解で前記次亜塩素酸イオンの除去手段が構成される１
１記載の風呂水殺菌装置を構成したことを特徴とする。

【００２５】また、請求項１３記載の本発明は、前記殺
菌成分の除去手段が、シュウ酸カルシウム、亜硫酸カル
シウムなど還元性を持つ水に難溶性の物質を主成分とす
る薬剤である請求項２ないし１２いずれかに記載の風呂
水殺菌装置を構成したことを特徴とする。

【００２６】また、請求項１４記載の本発明は、前記殺
菌成分が含まれる前記風呂水を浴槽から溢れさせるよう
に構成し、前記水量検知手段で風呂水が溢れていること
を検知する請求項１ないし１３いずれかに記載の風呂水
殺菌装置を構成したことを特徴とする。

【００２７】また、請求項１５記載の本発明は、殺菌中
であることを通知する手段を浴室内に備えたことを特徴
とする請求項１ないし１４いずれかに記載の風呂水殺菌
装置を構成したことを特徴とする。

【００２８】また、請求項１６記載の本発明は、浴室内
に設けられた浴室換気手段を備え、前記浴室換気手段は
前記次亜塩素酸イオンの生成開始時または前記風呂水に
前記殺菌成分を供給開始時と連動して動作を開始し、前
記風呂水に前記殺菌成分を供給開始時から所定時間動作
するように構成された請求項２ないし１５いずれかに記
載の風呂水殺菌装置を構成したことを特徴とする。

【００２９】また、請求項１７記載の本発明は、トルマ
リン、フェライト系セラミックス、リン酸カルシウムを
主成分とするセラミックのうちの少なくとも一つを含む
樹脂で、前記浴槽の少なくとも表面を構成したことを特
徴とする風呂水殺菌装置を構成したことを特徴とする。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態における
風呂水殺菌装置について、図面を参照しながら説明す
る。

【００３１】先ず、殺菌されている水道水を沸かして風
呂水とする場合、平均して大人２、子供２人が入浴した
後、風呂水内の雑菌濃度を測定すると、ほとんど菌は存
在しない。ところが、１０時間後、測定すると約１０⁴
個／ｃｃ存在し、１５時間後には、人体にも影響が出始
める約１０⁶〜１０⁷個／ｃｃに達する。

【００３２】入浴直後には風呂水内に検出されない菌
は、浴槽壁やフィルタ等の湯垢などに存在して、ある程
度繁殖すると風呂水内に浮遊して、そこで更に繁殖する
のではないかと思われる。ここで、電気分解による次亜
塩素酸イオンで入浴後数時間以内に殺菌を行えば、比較
的低濃度でかつ短時間で殺菌が可能である。すなわち、
次亜塩素酸イオンの濃度が０．２５ｐｐｍ（０．２５×
１０^-6／５１．５×１０００＝４．８５×１０^-6ｍｏｌ
／Ｌ）程度で、充分な殺菌効果を有する。以下に、具体
的な実施の形態について詳細に説明する。

【００３３】（実施の形態１）図１は本発明の一実施の
形態である風呂水殺菌装置を組み込んだ２４時間風呂の
構成概略図である。浴槽１内に風呂水１３を満たし入浴
する。図１には示していないが、２４時間いつでも入浴
が可能な風呂には風呂水１３の温度を入浴可能な温度に
保つヒータが循環経路の途中に設置されている。入り口
１６から入った風呂水１３はフィルタ２介してポンプ３
を通り、バルブ４およびバルブ７が閉じられていると、
出口１７から再び浴槽１内に戻される。この間に風呂水
１３内に含まれる湯垢、髪の毛等をフィルタ２で取り除
かれるが、フィルタ２に付着した湯垢、髪の毛や浴壁１
４や循環経路壁に付着した僅かな菌は取り除くことがで
きない。

【００３４】家族が入浴を済ませた後、バルブ４および
バルブ７を開き、電解槽５内を風呂水１３で満たした
後、バルブ４およびバルブ７を閉じる。本実施の形態で
は、この容量は約１Ｌである。バルブ８およびバルブ９
を開いて、新水１１（水道水など）の供給圧力により飽
和食塩水１０を電解槽５に、電解槽５中の食塩水濃度が
１０００ｐｐｍ程度となるように所定時間供給する。飽
和食塩水の濃度は温度変化が小さいので、このような構
成でも電解槽５内の食塩水濃度を制御することができ
る。所定時間新水１１を供給することで飽和食塩水を供
給した後、バルブ８、９は閉じられる。また、この電解
槽５内の食塩の濃度は、電解時間との関係上、１００ｐ
ｐｍ以上（１００×１０^-6／５８．５×１０００＝１．
７１×１０^-3ｍｏｌ／Ｌ）が好ましい。この程度の濃度
であれば、通電電流を増加させるか、通電時間を多少短
くすることで十分な濃度の次亜塩素酸イオンを発生させ
ることができる。

【００３５】また、新水の供給時間を決めておく代り
に、濃度センサーを用いて電解槽内の食塩水の濃度を測
定しておき、所定の濃度に達したら新水の供給を停止す
るようにしてもよい。

【００３６】電解槽５内には、Ｔｉに白金を薄くコーテ
ィングした面積２５ｃｍ²の電極６が対向して２ｍｍ程
度離して取り付けてある。電極は表面が耐食性に優れた
金属で被覆されていれば良く、例えば白金や金などの貴
金属類で被覆したものが適している。これらの金属は希
少で価格は高いので、通常、Ｎｉ、ＣｒやＴｉなどの基
板金属に貴金属類を薄くコーティングしたものを用い
る。この構成で数ボルトの直流電圧を電極６に加え、
０．５Ａ以上の電流を１０分程度流せば、電解槽５中に
は２００ｐｐｍ以上の次亜塩素酸イオンが生成される。
電極の面積２５ｃｍ ²で０．５Ａ以上の電流が流れる
と、電流密度は０．５Ａ／２５×１０^-4ｍ²＝２００Ａ
／ｍ²以上である。この値より低いと次亜塩素酸イオン
の発生効率が極端に悪くなる。また、電極の間隔が２ｍ
ｍより狭いと発生する気泡が付着してしまい、やはり次
亜塩素酸イオンの発生効率が極端に悪くなる。電極の間
隔はあまり離れると電極間に与える電圧が高くなるの
で、絶縁性の観点から好ましくない。おおむね２〜３０
ｍｍが良好である。

【００３７】次亜塩素酸イオンの濃度が２００ｐｐｍ以
上の濃度になったとき、電極６に電圧を印加するのを止
めて、バルブ４と７を開く。電解槽５中に生成された次
亜塩素酸ナトリウムが循環経路内に供給されて、出口１
７から浴槽１内に供給される。この濃度は、電解槽５中
の食塩の濃度、電流量、電極の面積、電極の間隔、電解
槽の容量、食塩水の温度などが絡み合うので実施の形態
が異なると値は異なるが、本実施の形態の場合、１０分
間という時間によりほぼ決まる。他にも、電流値の検出
でも次亜塩素酸イオンの濃度検出は可能である。逆にい
えば、電解槽５中の食塩の濃度、電流量、電極の面積、
電極の間隔、電解槽の容量、食塩水の温度などが判って
いれば、時間や電流値の検出などで次亜塩素酸イオンの
濃度検出は可能である。こうすれば次亜塩素酸イオンの
センサは不要である。

【００３８】通常、浴槽１内の風呂水１３は２００リッ
トル程度であるので、風呂水１３内の次亜塩素酸ナトリ
ウムの濃度は１ｐｐｍ（１×１０^-6／５１．５×１００
０＝１．９４×１０−５ｍｏｌ／Ｌ）程度、食塩濃度は
５ｐｐｍ以下となる。濃度が１ｐｐｍ程度の電解生成さ
れた次亜塩素酸イオン（以下、電解ＣlＯ^-という）を循
環することにより、浴槽１の壁、フィルタ２、ポンプ３
内、循環経路等の風呂水１３が接する場所に繁殖した菌
は全て殺菌することが可能となった。

【００３９】入浴後、数時間以内だと、発生した菌の数
は少ないので、１ｐｐｍ程度の濃度の電解ＣlＯ^-でも大
腸菌、レジオネラ菌その他雑菌等の殺菌には有効である
ことが判った。

【００４０】さらに、この濃度の１／４の０．２５ｐｐ
ｍ（０．２５×１０^-6／５１．５×１０００＝４．８５
×１０^-6ｍｏｌ／Ｌ）とした場合には、菌はあまり死な
ないが、増えて繁殖はせず、問題となる菌数にはならな
かった。したがって、この濃度に電解ＣlＯ^-の濃度を設
定すれば、省エネルギー性の高い２４時間風呂（風呂水
殺菌装置）を構成することが可能である。

【００４１】（実施の形態２）上記方法では、殺菌した
後も数十分間、風呂水１３内に電解ＣlＯ^-が残留してい
る。次亜塩素酸イオンは４０℃程度で分解すると言われ
ているが、臭いに敏感な人やアレルギー性皮膚炎を有す
る人にとっては、入浴の際に不快な思いをする場合があ
る。実施の形態２では、電解ＣlＯ^-で殺菌した後、残留
する電解ＣlＯ^-を取り除く風呂水殺菌浄化装置について
説明する。

【００４２】図２は本発明の異なる実施の形態である風
呂水殺菌装置を組み込んだ２４時間風呂の構成概略図で
ある。（実施の形態１）と異なる点は、風呂水１３中の
電解ＣlＯ^-を取り除くために循環経路中にバルブ２１と
分岐して脱塩素剤（亜硫酸カルシウム）２３とバルブ２
２とを取り付けていることである。本図でも風呂水１３
を加熱するヒータは省略されている。

【００４３】風呂水１３中の殺菌方法は、（実施の形態
１）と同様であるので省略する。殺菌が終了した後、バ
ルブ２１を閉じて、バルブ２２を開き、風呂水１３を脱
塩素剤（亜硫酸カルシウム）２３内に通す。風呂水１３
内に存在する次亜塩素酸イオンは、脱塩素剤（亜硫酸カ
ルシウム）２３と反応して、ＣａＳＯ₄となり、風呂水
１３内から除去される。すなわち、ＣlＯ^-＋ＣａＳＯ₃
→ＣａＳＯ₄＋Ｃl^-なる反応で除去される。亜硫酸カル
シウムの他にも、シュウ酸カルシウムなど、還元性を持
つ水に難溶性の物質を主成分とするものであれば何でも
良い。

【００４４】殺菌した後も、風呂水１３内に次亜塩素酸
イオンが存在すると、比較的低濃度とはいえカルキ臭が
するが、風呂水１３内から全て除去されるので全くカル
キ臭はなく快適な入浴を楽しむことが可能となった。

【００４５】これらの実施の形態では、入浴後、数時間
以内に電解ＣlＯ^-による殺菌が有効であることを説明し
たが、殺菌後長時間経過すると、空気中を浮遊する雑菌
等が、風呂水１３内に入り込み、繁殖する可能性があ
る。風呂水１３内に、菌を繁殖させないためには、定期
的に殺菌する必要がある。本実施形態の場合、一度殺菌
すれば、８時間おきに１日３回程度殺菌するだけで十分
な殺菌効果が得られた。

【００４６】また、電解槽５内の食塩濃度を１０００ｐ
ｐｍ程度とし、０．５Ａ程度の電流を１０分間流して陽
極表面に発生する塩素により電解ＣlＯ^-を生成するので
あるが、電解ＣlＯ^-の生成に寄与しなかった塩素は気体
として外に出る。この場合、短時間であるために、外に
出る塩素量は非常に少なくて済む。

【００４７】また、電極の長寿命化のため、電解槽５内
の電極６に加える方法として、電解の度に電圧の極を変
えるとか、電解の度に電圧の極をランダムに変えると
か、電解中に変えるとかの方法が考えられる。この時
は、電極は両極とも表面を白金で覆っておくことが望ま
しい。

【００４８】電解槽５内の食塩濃度を１００ｐｐｍ程度
とし、電流値を０．５Ａ程度とした場合でも、通電時間
を長くすることで十分な量の電解ＣlＯ^-を発生させるこ
とができるが、通電時間が長いので、食塩濃度は１００
０ｐｐｍ程度が好ましい。この場合、電流値を増加させ
るよりは、通電時間を長くした方が、投入エネルギーに
対する電解ＣlＯ^-の発生効率は高かった。

【００４９】（実施の形態３）図３は本発明の異なる実
施の形態である風呂水殺菌装置の概略構成図である。
（実施の形態２）で説明したが、殺菌を行った後は風呂
水中の電解ＣlＯ^-を取り除くための亜硫酸カルシウムを
循環経路中に分岐して取り付けてある。

【００５０】制御ボックス３３には、破線で接続してあ
るものの他にも電磁弁（図示していない）等の制御を行
うが図示していない。本図で示すように、制御ボックス
３３に浴室内に設置してある殺菌開始用のスイッチ３４
や警報表示３５等、浴室換気扇３１、電解槽換気扇３２
及び電解槽５中の電極６等が接続されている。また、水
位レベルセンサ３６も接続されている。

【００５１】殺菌開始用のスイッチ３４は、手動でも操
作できるし、自動的に殺菌を行うように設定することも
できる。

【００５２】自動的に殺菌を行う場合、入浴する人数や
入浴間隔に応じて殺菌の頻度を設定したり、あらかじめ
設定した時間に、または所定の時間間隔で自動的に殺菌
を行うように設定することができる。

【００５３】スイッチ３４を手動に切り替えれば、自分
の望む時にいつでも殺菌を開始することができ、入浴中
に自動的に殺菌が開始されることがないようにすること
もできる。入浴直後、つまり雑菌が増殖する前に手動で
殺菌を開始するようにすれば、殺菌に要する時間も短時
間で済むし、低濃度の電解ＣlＯ^-で十分な殺菌が可能と
なる。

【００５４】自動で殺菌を行う場合でも手動の場合で
も、殺菌中は殺菌中の警報表示３５が点灯するようにし
ている。

【００５５】また、電解槽５に食塩水が入り、電極６に
通電されると連動して電解槽換気扇３２を動かし、電解
槽５内で発生する水素ガスや塩素ガスを電解槽５内に溜
まらないようにした。

【００５６】例えば電解槽５中の食塩濃度を１０００ｐ
ｐｍにして電極６に電圧を印加して０．５Ａ以上電流を
流した時に発生する水素ガスおよび塩素ガスは、最大で
毎分５〜１０ｃｃ程度である。酸素雰囲気で水素ガス濃
度が４％以上あると爆発する危険性があるので、毎分５
００ｃｃ以上の空気が電解槽５の周辺に供給される電解
槽換気扇３２を設置することで爆発の危険性はなくな
る。

【００５７】また、電解槽５で生成した電解ＣlＯ^-を電
磁弁７を開いて循環経路内に供給するのと連動して、浴
室に設置された浴室換気扇３１を動かし、浴室内に塩素
臭の滞留を防ぐ。特に、浴槽１内の風呂水１３だけでな
く浴槽１周辺まで殺菌しようとして、風呂水１３を溢れ
させると塩素臭が若干する場合もあるので浴室換気扇３
１による換気は極めて重要である。浴室換気扇３１は手
動で操作できるようにしてもよいが、殺菌終了後所定の
時間が経過しないと停止できないようにすることで、換
気が不十分にならないようにすることができる。

【００５８】殺菌の度に風呂水を溢れさせると浪費して
いるようにも見えるが、風呂水１３を捨てて、浴槽１お
よび浴槽１の周辺を洗浄・殺菌を行う場合よりも遥かに
少ない量で有効に殺菌・洗浄を行うことがほとんど手間
をかけずにできる。

【００５９】風呂水１３の水位は電極センサを浴槽１に
数カ所設置してセンシングする。通常、風呂水は人が入
ったときに水位が上昇する分を考慮して、浴槽一杯には
満たさない。本実施の形態では、浴槽の上端部付近また
は外壁に電極センサを設け、風呂水の量を通常より多く
したり、溢れるように制御することで、浴槽壁の水面付
近にたまりがちな汚れを除去し、浴槽の縁や外壁の殺菌
も可能としている。

【００６０】殺菌後は（実施の形態２）で説明したよう
に、亜硫酸カルシウムを通し次亜塩素酸イオンを除去し
て入浴時にはカルキ臭を取り除くようにしている。殺菌
の効果等は実施の形態２で説明した通りである。

【００６１】また、電解槽５が浴槽１よりも高い位置に
設置されているので、浴槽１を風呂水１３で満たしても
バルブ７を開くことで、電解槽５中の電解水を完全に抜
くことができる。このため、電極６が不純物で汚れた
り、腐食したりするのを防止し、電極の寿命を伸ばすこ
とができる。

【００６２】また、電解槽５に食塩水を供給して電解を
開始したとき所定の導電率に達しない場合には、食塩の
不足もしくは電極６の汚れ等により殺菌に必要な電解Ｃ
lＯ^-が得られない場合があるので、警報表示３５で入浴
者に知らせるようにした。

【００６３】本実施の形態では、風呂水の殺菌を行うこ
とを想定しており、沸かし直しは従来のガス風呂釜など
を用いるものである。

【００６４】（実施の形態４）図４は、本発明の異なる
実施の形態である風呂水殺菌装置を組み込んだ２４時間
風呂の構成概略図である。（実施の形態２）では、風呂
水１３中の電解ＣlＯ^-を取り除くために循環経路中にバ
ルブ２１と分岐して脱塩素剤（亜硫酸カルシウム）２３
とバルブ２２を取り付けており、この方法では、効率よ
く電解ＣlＯ^-が取り除かれるが、亜硫酸カルシウムが硫
酸カルシウムと変化することによって反応が進むので、
使用時間とともに亜硫酸カルシウムが消費される。従っ
て、定期的に亜硫酸カルシウム等を補充する必要性が生
ずる。

【００６５】そこで、本実施の形態では、図４に示すよ
うに風呂水の循環経路にＡl電極４０からなる陽極およ
び陰極を設け、電解槽５内で生成した電解ＣlＯ^-で浴槽
内の風呂水中、浴槽壁および風呂水の循環経路に繁殖し
た雑菌等を所定時間殺菌した後、直ちにＡlからなる陽
極と陰極に直流電流を流すことにより、陽極から溶出し
たＡl³⁺イオンと次亜塩素酸イオン（ＣlＯ^-イオン）と
を反応させて、次亜塩素酸イオンを取り除く。主たる反
応式は、２Ａl³⁺＋３ＣlＯ^-＋３Ｈ₂Ｏ→２Ａl(ＯＨ)₃＋
３Ｃl^-である。次亜塩素酸イオン濃度は高々数ｐｐｍな
ので、Ａl電極４０のＡlの量は数百ｇもあれば最低でも
５年は使用可能である。陽極と陰極は所定時間が経過し
たら交互に取り替えることによって、長寿命化を図るこ
とができる。また、極性を変えることでも同様の効果は
得られる。この電極は通電した方が電解ＣlＯ^-を速く取
り除くことができるが、通電せず単にアルミ板としての
機能しか果たさないようにしていても、電解ＣlＯ^-を取
り除くことができる。

【００６６】また、電解ＣlＯ^-を発生させるために、電
解槽５内には（実施の形態１〜３）では風呂水を供給し
ていたが、本実施の形態では新水（水道水など）を供給
する構成としている。風呂水では不純物が多く含まれる
ため、電解ＣlＯ^-の発生濃度がばらつく。電解ＣlＯ^-を
発生させた後、バルブ４、バルブ７を開き、電解ＣlＯ^-
を循環水１５に混入させて浴槽１内に供給する。

【００６７】さらに、浴槽１の表面部にトルマリン４１
を選択的に分布させる。（実施の形態１〜３）に示した
浴槽は、樹脂のみあるいはステンレスのみからなり、浴
槽自体は、ほとんど殺菌作用はない。そこで電解ＣlＯ^-
を用いて風呂水の殺菌を行った。

【００６８】しかし、実際の入浴をした場合、風呂水中
の細菌は見えないのであまり気にならないが、浴壁につ
いたヌメリや汚れは、不快なものとして感じる。

【００６９】使用者が電源を入れ忘れていたり、電解Ｃ
lＯ^-発生装置の動作不良などで、長期間風呂水の殺菌が
行われなかった場合、細菌が繁殖し、浴壁にヌメリや汚
れが付く。

【００７０】ヌメリの主な原因は、細菌や細菌が出す生
成物および死菌であるが、最近、細菌を求めてアメーバ
等の原生生物が棲息することが判った。アカウントアメ
ーバ(Acanth amoeba)属、ハルトマネラ(Hartmannella)
属やバネラ(Vannella)属は、レジオネラ属菌の宿主とな
るというので、社会問題となったが、アカウントアメー
バ自体で病原性がある種もある。殆どが、病原性を有さ
ない原生生物であるが、ネグレリア属は病原性を持つ。
これらの原生生物が繁殖すると、快適な入浴を楽しむは
ずが、不快なものとなってしまう。

【００７１】そこで、浴槽の表面を樹脂だけでなく、ト
ルマリン４１あるいは四酸化三鉄を主成分とするフェラ
イト系セラミックあるいはリン酸カルシウムを主成分と
するセラミックの粉体を混ぜて、抗菌性を持たせること
で、原生生物の発生を抑制することが可能となった。特
にフェライト系セラミックは、タンパク質系の汚れや、
多糖類からなるバイオフィルムなどを分解するので、ヌ
メリは全く発生しなくなった。従って、ヌメリのない快
適な入浴を楽しむことが可能となった。これらのセラミ
ックは半永久的に使用できる。また、ヌメリが発生しな
いので、浴壁が汚れることがなく、浴槽内を掃除する必
要がなくなった。

【００７２】

【発明の効果】本発明の風呂水殺菌装置では、風呂水を
殺菌する前に次亜塩素酸ナトリウムを予め電解槽中で生
成しているので、比較的短時間で、高濃度の次亜塩素酸
ナトリウムを生成でき、また風呂水内に溶かし込む食塩
濃度は低濃度で済む。

【００７３】また、次亜塩素酸ナトリウムを生成中は、
電解槽と循環経路を２個のバルブで分離することで、亜
塩素酸ナトリウムを生成中に入浴しても、感電すること
はない。

【００７４】また、循環経路へ次亜塩素酸ナトリウムを
供給後、電解槽内に食塩を含む電解水が残らないように
することで、電極の長寿命化が可能となる。

【００７５】さらに、電解槽中の導電率をモニタして殺
菌に要する次亜塩素酸ナトリウム発生に必要な食塩の量
が供給されているかを判定し、不足の場合には警告を発
する手段を備えることで、殺菌が不十分になることを防
止することができる。

【００７６】また、浴槽内の風呂水の水位を検知し、浴
槽内を風呂水で満たしたり、溢れさせたりすることで、
浴槽だけでなく浴槽周辺の殺菌も行うことができる。

【００７７】また、次亜塩素酸ナトリウム生成の生成と
ともに発生するガスを換気する手段を備えることで装置
の安全性が向上する。

【００７８】また、亜硫酸カルシウムは、比較的短時間
で消費されるので定期的に補充しなければならないが、
Ａl電極を使用することで、亜硫酸カルシウムの補充が
不要となり、メンテナンスフリーとなった。

【００７９】さらに、抗菌性を有する浴槽としたので、
不快なヌメリがなくなり、快適な入浴を楽しむことが可
能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態である風呂水殺菌装置を
組み込んだ２４時間風呂の構成概略図

【図２】本発明の異なる実施の形態である風呂水殺菌装
置を組み込んだ２４時間風呂の構成概略図

【図３】本発明の異なる実施の形態である風呂水殺菌装
置の構成概略図

【図４】本発明の異なる実施の形態である風呂水殺菌装
置を組み込んだ２４時間風呂の構成概略図

【符号の説明】

１浴槽２フィルタ３ポンプ４，７，８，９，２０，２１，２２バルブ５電解槽６電極１０飽和食塩水１１新水１２食塩１３風呂水１４浴壁１５循環水１６入り口１７出口２３脱塩素剤（亜硫酸カルシウム）３１浴室換気扇３２電解槽換気扇３３制御ボックス３４スイッチ３５警報表示４０Ａｌ電極４１トルマリン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０２Ｆ 1/50 ５２０Ｃ０２Ｆ 1/50 ５３１Ｐ５３１５４０Ｂ５４０５５０Ｈ５５０５５０Ｄ５５０Ｌ５６０Ｆ５６０５６０Ｚ 1/70 Ｚ 1/70 1/76 Ａ 1/76 Ｃ２５Ｂ 1/26 ＣＣ２５Ｂ 1/26 Ｃ０２Ｆ 1/46 １０１Ｚ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】浴槽内の風呂水の循環経路と、前記循環経
路中に設けられた前記風呂水を吸引する吸引手段と、前
記循環系路中に設けられた風呂水を殺菌する殺菌手段
と、前記電解槽に薬剤を供給する薬剤供給手段と、前記
電解槽に水を供給する水供給手段と、前記風呂水の水量
検知手段と、前記循環系路中に、前記殺菌成分を除去す
る場合に動作するように構成された前記殺菌成分の除去
手段とを備え、前記殺菌手段は、電解槽内で薬剤水溶液を電気分解する
ことで生成される殺菌成分を供給するように構成され、前記電解槽は、前記浴槽内の前記風呂水水面より上方に
位置し、かつ対向する耐食性電極を備え、前記電解槽で電気分解により殺菌成分を生成していると
きは前記電解槽は前記風呂水とは電気的に略絶縁される
ように構成され、前記電解槽で生成された殺菌成分を供給するときは、前
記浴槽内に前記風呂水が満たされた状態で前記風呂水を
前記電解槽に通水することで前記浴槽内に供給するよう
に構成された風呂水殺菌装置。
【請求項２】前記薬剤が塩化ナトリウム、塩化カリウ
ム、塩化カルシウムなどの水溶性の金属塩化物であり、
前記殺菌成分が次亜塩素酸イオンを主成分とする請求項
１記載の風呂水殺菌装置。
【請求項３】前記電解槽に薬剤を供給する供給手段が塩
化ナトリウムの飽和溶液を用いることで構成される請求
項２記載の風呂水殺菌装置。
【請求項４】電解槽内のアルカリ金属塩化物、アルカリ
土類金属塩化物の濃度が、１．７１×１０^-3ｍｏｌ／Ｌ
以上飽和溶液の濃度以下となるよう構成された請求項３
記載の風呂水殺菌装置。
【請求項５】前記耐食性電極が、陽極側電極は少なくと
も表面が白金であり、陰極側電極は少なくとも表面が白
金もしくは炭素である請求項２、３または４記載の風呂
水殺菌装置。
【請求項６】前記耐食性電極の電極間の距離を２ｍｍ以
上とした請求項２ないし５いずれかに記載の風呂水殺菌
装置。
【請求項７】前記耐食性電極間の電流密度が２００Ａ／
ｍ²以上である請求項２ないし６いずれかに記載の風呂
水殺菌装置。
【請求項８】電解槽中の導電率が所定の値以下である場
合に警告を発する手段を備えた請求項２ないし７いずれ
かに記載の風呂水殺菌装置。
【請求項９】次亜塩素酸イオンの生成開始と連動して動
作を開始する電解槽換気手段を備えた請求項２ないし８
いずれかに記載の風呂水殺菌装置。
【請求項１０】電解槽内の次亜塩素酸イオンが所定の値
に達した後で、風呂水の循環経路に前記電解槽で生成し
た次亜塩素酸イオンを供給するよう構成され、浴槽内の
風呂水の次亜塩素酸イオン濃度が４．８５×１０^-6ｍｏ
ｌ／Ｌ以上となるように構成された請求項２ないし９い
ずれかに記載の風呂水殺菌装置。
【請求項１１】前記次亜塩素酸イオンの除去手段が、ア
ルミニウムである請求項２ないし１０いずれかに記載の
風呂水殺菌装置。
【請求項１２】前記アルミニウムが陽極電極となり、さ
らに陰極を備え、電気分解で前記次亜塩素酸イオンの除
去手段が構成される１１記載の風呂水殺菌装置。
【請求項１３】前記殺菌成分の除去手段が、シュウ酸カ
ルシウム、亜硫酸カルシウムなど還元性を持つ水に難溶
性の物質を主成分とする薬剤である請求項２ないし１２
いずれかに記載の風呂水殺菌装置。
【請求項１４】前記殺菌成分が含まれる前記風呂水を浴
槽から溢れさせるように構成し、前記水量検知手段で風
呂水が溢れていることを検知する請求項１ないし１３い
ずれかに記載の風呂水殺菌装置。
【請求項１５】殺菌中であることを通知する手段を浴室
内に備えたことを特徴とする請求項１ないし１４いずれ
かに記載の風呂水殺菌装置。
【請求項１６】浴室内に設けられた浴室換気手段を備
え、前記浴室換気手段は前記次亜塩素酸イオンの生成開
始時または前記風呂水に前記殺菌成分を供給開始時と連
動して動作を開始し、前記風呂水に前記殺菌成分を供給
開始時から所定時間動作するように構成された請求項２
ないし１５いずれかに記載の風呂水殺菌装置。
【請求項１７】トルマリン、フェライト系セラミック
ス、リン酸カルシウムを主成分とするセラミックのうち
の少なくとも一つを含む樹脂で、前記浴槽の少なくとも
表面を構成したことを特徴とする風呂水殺菌装置。