JPH117832A - Cryogenic insulation and epoxy adhesive - Google Patents

Cryogenic insulation and epoxy adhesive

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JPH117832A
JPH117832A JP4031398A JP4031398A JPH117832A JP H117832 A JPH117832 A JP H117832A JP 4031398 A JP4031398 A JP 4031398A JP 4031398 A JP4031398 A JP 4031398A JP H117832 A JPH117832 A JP H117832A
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cryogenic
glass cloth
molecular weight
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Toru Ueki
徹 植木
Kenichi Nojima
賢一 野島
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Arisawa Mfg Co Ltd
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Arisawa Mfg Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 極低温下でも絶縁性及び接着性に秀れた極低
温用絶縁材及びエポキシ系接着剤を提供するものであ
る。 【解決手段】 ガラスクロスとポリイミド樹脂フィルム
とを数平均分子量10000以上の高分子を5%(重
量)以上混入したエポキシ樹脂組成物を介して付設して
成るものである。
(57) [Problem] To provide an insulating material for cryogenic use and an epoxy adhesive excellent in insulating properties and adhesiveness even at cryogenic temperatures. SOLUTION: A glass cloth and a polyimide resin film are provided via an epoxy resin composition containing 5% (by weight) or more of a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、極低温下でも絶縁
性及び接着性に秀れた極低温用絶縁材及びエポキシ系接
着剤に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cryogenic insulating material and an epoxy adhesive having excellent insulating properties and adhesiveness even at cryogenic temperatures.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】超電導
コイルの使用時など、極低温において超電導状態を確保
し維持するためには、絶縁材の絶縁破壊電圧などの絶縁
能力も重要であるが、絶縁材と導電体との接着状態が特
に重要となる。
2. Description of the Related Art In order to secure and maintain a superconducting state at an extremely low temperature, such as when a superconducting coil is used, insulation capacity such as a dielectric breakdown voltage of an insulating material is important. The state of adhesion between the insulating material and the conductor is particularly important.

【0003】絶縁材の材料としては、よくガラス繊維と
エポキシ樹脂とからなるガラス繊維強化複合材が使用さ
れるが、このガラス繊維強化複合材を極低温にまで冷却
すると、樹脂部にクラックが発生してガラス繊維強化複
合材が剥離したりする現象が生じてしまう。そして、ガ
ラス繊維強化複合材が剥離すると超電導材が容易に可動
でき、超電導材が振動して発熱し、この振動に伴う温度
上昇によって超電導状態が壊れてしまう現象(いわゆる
クエンチ現象。)が起きてしまうという問題がある。
As a material of the insulating material, a glass fiber reinforced composite material composed of glass fiber and epoxy resin is often used. When the glass fiber reinforced composite material is cooled to an extremely low temperature, cracks occur in the resin portion. As a result, a phenomenon in which the glass fiber reinforced composite material peels off occurs. When the glass fiber reinforced composite material peels off, the superconducting material can be easily moved, the superconducting material vibrates and generates heat, and the temperature rise caused by the vibration causes a phenomenon (so-called quench phenomenon) in which the superconducting state is broken. Problem.

【0004】一方、高性能の絶縁材として、ガラス繊維
強化複合材などの一般的な絶縁材と比較して約10倍以
上の絶縁破壊電圧を示す、信頼性の高いポリイミド樹脂
フィルムが使用されている。しかし、このポリイミド樹
脂フィルムは接着性が悪いという欠点を有している。
On the other hand, as a high-performance insulating material, a highly reliable polyimide resin film showing a dielectric breakdown voltage of about 10 times or more as compared with a general insulating material such as a glass fiber reinforced composite material has been used. I have. However, this polyimide resin film has a disadvantage that the adhesiveness is poor.

【0005】従って、ポリイミド樹脂フィルムと例えば
導電材とを接合する場合、或いはポリイミド樹脂フィル
ムをガラスクロスを介して接合する場合においては、エ
ポキシ樹脂などの比較的接着力の高い樹脂を接着剤とし
て使用することで接着性の悪さを補っている。
Therefore, when a polyimide resin film is joined to, for example, a conductive material, or when a polyimide resin film is joined via a glass cloth, a resin having a relatively high adhesive strength such as an epoxy resin is used as an adhesive. This makes up for the poor adhesion.

【0006】しかし、上記構成によっても、極低温域に
おいては各構成材料間での各々の熱収縮率の違いから歪
みが生じ、接着力が不十分となる(尚、常温域において
は良好に接着される。)。
However, even with the above-described structure, distortion occurs due to the difference in the thermal shrinkage rate between the constituent materials in the cryogenic temperature range, and the adhesive strength becomes insufficient (in the normal temperature range, the adhesion is satisfactory). Is done.)

【0007】本発明は、上記問題点を解決するもので、
極低温条件においてもポリイミド樹脂フィルムの高い絶
縁性を有効に発揮させることができる極低温用絶縁材及
びエポキシ系接着剤を提供するものである。
The present invention solves the above problems,
An object of the present invention is to provide a cryogenic insulating material and an epoxy-based adhesive capable of effectively exhibiting high insulation properties of a polyimide resin film even at cryogenic conditions.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】無機基材とポリイミド樹
脂フィルムとを数平均分子量10000以上の高分子を
5%(重量)以上混入したエポキシ樹脂組成物を介して
付設して成ることを特徴とする極低温用絶縁材に係るも
のである。
The present invention is characterized in that an inorganic base material and a polyimide resin film are provided via an epoxy resin composition containing 5% (by weight) or more of a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more. Cryogenic insulation material.

【0009】また、無機基材に数平均分子量10000
以上の高分子を5%(重量)以上混入したエポキシ樹脂
組成物を含浸させて成る無機基材プリプレグに、ポリイ
ミド樹脂フィルムを貼り合わせて成ることを特徴とする
極低温用絶縁材に係るものである。
Further, the number average molecular weight of 10,000 is added to the inorganic base material.
A cryogenic insulation material comprising a polyimide resin film bonded to an inorganic base material prepreg impregnated with an epoxy resin composition containing at least 5% (by weight) of the above polymer. is there.

【0010】また、ガラス基材とポリイミド樹脂フィル
ムとを数平均分子量10000以上の高分子を5%(重
量)以上混入したエポキシ樹脂組成物を介して付設して
成ることを特徴とする極低温用絶縁材に係るものであ
る。
[0010] Further, a glass base material and a polyimide resin film are provided via an epoxy resin composition in which a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more is mixed in an amount of 5% (by weight) or more. It relates to an insulating material.

【0011】また、ガラス基材に数平均分子量1000
0以上の高分子を5%(重量)以上混入したエポキシ樹
脂組成物を含浸させて成るガラス基材プリプレグに、ポ
リイミド樹脂フィルムを貼り合わせて成ることを特徴と
する極低温用絶縁材に係るものである。
In addition, the number average molecular weight of 1000
A cryogenic insulating material characterized in that a polyimide resin film is bonded to a glass base prepreg impregnated with an epoxy resin composition containing 5% (by weight) or more of 0 or more polymers. It is.

【0012】また、ガラスクロスとポリイミド樹脂フィ
ルムとを数平均分子量10000以上の高分子を5%
(重量)以上混入したエポキシ樹脂組成物を介して付設
して成ることを特徴とする極低温用絶縁材に係るもので
ある。
Further, a glass cloth and a polyimide resin film are made of a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more by 5%.
The present invention relates to a cryogenic insulating material characterized by being provided with an epoxy resin composition mixed therein (by weight) or more.

【0013】また、ガラスクロスに数平均分子量100
00以上の高分子を5%(重量)以上混入したエポキシ
樹脂組成物を含浸させて成るガラスクロスプリプレグ
に、ポリイミド樹脂フィルムを貼り合わせて成ることを
特徴とする極低温用絶縁材に係るものである。
The glass cloth has a number average molecular weight of 100
A cryogenic insulating material characterized in that a glass cloth prepreg impregnated with an epoxy resin composition containing at least 5% (by weight) of a polymer of at least 00 is impregnated with a polyimide resin film. is there.

【0014】また、ガラスクロスと伸度80〜160%
のポリイミド樹脂フィルムとを数平均分子量10000
以上の高分子を5%(重量)以上混入したエポキシ樹脂
組成物を介して付設して成ることを特徴とする極低温用
絶縁材に係るものである。
Further, the glass cloth and elongation 80-160%
With a polyimide resin film of number average molecular weight 10,000
A cryogenic insulating material characterized by being provided with an epoxy resin composition containing 5% (by weight) or more of the above polymer mixed therein.

【0015】また、ガラスクロスに数平均分子量100
00以上の高分子を5%(重量)以上混入したエポキシ
樹脂組成物を含浸させて成るガラスクロスプリプレグ
に、伸度80〜160%のポリイミド樹脂フィルムを貼
り合わせて成ることを特徴とする極低温用絶縁材に係る
ものである。
The glass cloth has a number average molecular weight of 100.
Characterized by laminating a glass cloth prepreg impregnated with an epoxy resin composition containing 5% (by weight) or more of a polymer of at least 00 and a polyimide resin film having an elongation of 80 to 160%. The present invention relates to an insulating material for use.

【0016】また、ガラスクロスと下記の構造を有する
ポリイミド樹脂フィルムとを数平均分子量10000以
上の高分子を5%(重量)以上混入したエポキシ樹脂組
成物を介して付設したことを特徴とする極低温用絶縁材
に係るものである。
Further, a glass cloth and a polyimide resin film having the following structure are provided via an epoxy resin composition in which a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more is mixed in an amount of 5% (by weight) or more. The present invention relates to a low-temperature insulating material.

【化1】 また、ガラスクロスに数平均分子量10000以上の高
分子を5%(重量)以上混入したエポキシ樹脂組成物を
含浸させて成るガラスクロスプリプレグに、下記の構造
を有するポリイミド樹脂フィルムを貼り合わせて成るこ
とを特徴とする極低温用絶縁材に係るものである。
Embedded image Further, a glass cloth prepreg obtained by impregnating a glass cloth with an epoxy resin composition in which a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more is mixed at 5% (weight) or more is bonded to a polyimide resin film having the following structure. A cryogenic insulating material characterized by the following.

【化1】 また、請求項1〜10いずれか1項に記載の極低温用絶
縁材において、数平均分子量10000以上の高分子と
してポリビニルホルマール樹脂を使用したことを特徴と
する極低温用絶縁材に係るものである。
Embedded image The cryogenic insulating material according to any one of claims 1 to 10, wherein a polyvinyl formal resin is used as a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more. is there.

【0017】また、請求項1〜10いずれか1項に記載
の極低温用絶縁材において、数平均分子量10000以
上の高分子としてフェノキシ樹脂を使用したことを特徴
とする極低温用絶縁材に係るものである。
The cryogenic insulating material according to any one of claims 1 to 10, wherein a phenoxy resin is used as a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more. Things.

【0018】また、請求項1〜10いずれか1項に記載
の極低温用絶縁材において、数平均分子量10000以
上の高分子としてカルボキシル化NBRゴムを使用した
ことを特徴とする極低温用絶縁材に係るものである。
The cryogenic insulating material according to any one of claims 1 to 10, wherein a carboxylated NBR rubber is used as a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more. It is related to.

【0019】また、請求項1〜13いずれか1項に記載
の極低温用絶縁材において、エポキシ樹脂組成物を絶縁
材に対して30〜60%(重量)となるように混合せし
めて成ることを特徴とする極低温用絶縁材に係るもので
ある。
The cryogenic insulating material according to any one of claims 1 to 13, wherein the epoxy resin composition is mixed so as to be 30 to 60% (weight) with respect to the insulating material. A cryogenic insulating material characterized by the following.

【0020】また、エポキシ系樹脂に数平均分子量10
000以上の高分子を5%(重量)以上混入して成り、
極低温条件において強固な接着力を有することを特徴と
するエポキシ系接着剤に係るものである。
The epoxy resin has a number average molecular weight of 10
5% (weight) or more of a polymer of 000 or more,
The present invention relates to an epoxy-based adhesive characterized by having a strong adhesive force under cryogenic conditions.

【0021】また、エポキシ系樹脂にポリビニルホルマ
ール樹脂若しくはフェノキシ樹脂若しくはカルボキシル
化NBRゴムを5%(重量)以上混入して成り、極低温
条件において強固な接着力を有することを特徴とするエ
ポキシ系接着剤に係るものである。
[0021] Further, an epoxy-based adhesive characterized by having a polyvinyl formal resin, a phenoxy resin, or a carboxylated NBR rubber mixed into an epoxy-based resin in an amount of 5% (by weight) or more, and having a strong adhesive force under cryogenic conditions. Pertaining to agents.

【0022】[0022]

【発明の作用及び効果】本発明は、繰り返した実験によ
り得た効果を請求項としてまとめたものである。
The present invention summarizes the effects obtained by repeated experiments as claims.

【0023】ガラスクロスとポリイミド樹脂フィルムと
を数平均分子量10000以上の高分子を5%以上添加
したエポキシ樹脂組成物を介して付設した極低温用絶縁
材は、例えば、超電導コイルの絶縁材として使用される
場合など、極低温条件下においても秀れた接着力及び絶
縁力を発揮し、極低温用絶縁材の剥離やクラックが発生
しない。
A cryogenic insulation material in which a glass cloth and a polyimide resin film are attached via an epoxy resin composition containing 5% or more of a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more is used, for example, as an insulation material for a superconducting coil. In such a case, excellent adhesive strength and insulating strength are exhibited even under cryogenic conditions, and peeling or cracking of the cryogenic insulating material does not occur.

【0024】本発明は、上述のように構成したから、極
低温条件においても接着力が十分あり、ポリイミド樹脂
フィルムの高い絶縁性を有効に発揮させることができる
実用性に秀れた極低温用絶縁材及びエポキシ系接着剤と
なる。
Since the present invention is constructed as described above, it has a sufficient adhesive force even at cryogenic conditions, and is excellent in practical use for cryogenic materials capable of effectively exhibiting high insulation properties of a polyimide resin film. It becomes an insulating material and an epoxy adhesive.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】図面は本発明の具体的な実施の一
例を図示したものである。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The drawings illustrate one embodiment of the present invention.

【0026】図1,2は、超電導材1を巻回してなる超
電導コイル2と該超電導コイル2を冷却する冷却部3の
内壁5とに極低温用絶縁材4a・4bを配設したもので
ある。
FIGS. 1 and 2 show a superconducting coil 2 formed by winding a superconducting material 1 and an inner wall 5 of a cooling section 3 for cooling the superconducting coil 2, in which cryogenic insulating materials 4a and 4b are disposed. is there.

【0027】また、冷却部3には、該冷却部3を冷却す
る液体ヘリウムなどの冷媒を通過せしめる冷却管6を設
けている。
The cooling section 3 is provided with a cooling pipe 6 through which a coolant such as liquid helium for cooling the cooling section 3 passes.

【0028】極低温用絶縁材4a・4bの配設方法につ
いて詳述する。
The method of disposing the cryogenic insulating materials 4a and 4b will be described in detail.

【0029】超電導材1に配設する極低温用絶縁材4a
として、まず、PBHを添加したエポキシ樹脂(即ち、
エポキシ樹脂組成物。)をガラスクロスに含浸させてガ
ラスクロスプリプレグを形成し、このガラスクロスプリ
プレグにポリイミド樹脂フィルムを貼り合わせ、プリプ
レグ状の極低温用絶縁材を形成する。
Cryogenic low temperature insulating material 4a provided on superconducting material 1
First, an epoxy resin to which PBH is added (that is,
Epoxy resin composition. ) Is impregnated into a glass cloth to form a glass cloth prepreg, and a polyimide resin film is bonded to the glass cloth prepreg to form a prepreg-shaped insulating material for cryogenic use.

【0030】続いて、プリプレグ状の極低温用絶縁材を
超電導材1にらせん状に巻回し、超電導材1にプリプレ
グ状の絶縁層を形成する。
Subsequently, a prepreg-like insulating material for cryogenic temperature is spirally wound around the superconducting material 1 to form a prepreg-like insulating layer on the superconducting material 1.

【0031】一方、冷却部3の内壁5に配設する極低温
用絶縁材4bとして、まず、PBHを添加したエポキシ
樹脂(即ち、エポキシ樹脂組成物。)をガラスクロスに
含浸させてガラスクロスプリプレグを形成し、このガラ
スクロスプリプレグにポリイミド樹脂フィルムを貼り合
わせ、更にポリイミド樹脂フィルム上にガラスクロスプ
リプレグを貼り合わせてプリプレグ状の極低温用絶縁材
を形成する。
On the other hand, as the cryogenic insulating material 4b disposed on the inner wall 5 of the cooling section 3, first, an epoxy resin to which PBH is added (that is, an epoxy resin composition) is impregnated into a glass cloth to prepare a glass cloth prepreg. Is formed, a polyimide resin film is bonded to the glass cloth prepreg, and a glass cloth prepreg is further bonded to the polyimide resin film to form a prepreg-shaped insulating material for cryogenic temperature.

【0032】続いて、プリプレグ状の極低温用絶縁材を
冷却部3の内壁5に壁紙のように配設し、冷却部3の内
壁5にプリプレグ状の絶縁層を形成する。
Subsequently, a prepreg-shaped insulating material for cryogenic temperature is disposed on the inner wall 5 of the cooling unit 3 like wallpaper, and a prepreg-shaped insulating layer is formed on the inner wall 5 of the cooling unit 3.

【0033】このように配設したプリプレグ状の絶縁層
を加熱硬化して、超電導材1と冷却部3との間隙に極低
温用絶縁材4a・4bを一体状に配設する。
The prepreg-shaped insulating layer provided in this manner is cured by heating, and the cryogenic insulating materials 4a and 4b are integrally provided in the gap between the superconducting material 1 and the cooling unit 3.

【0034】本実施例は上述のように構成したから、超
電導材1と冷却部3との間隙に配設された極低温用絶縁
材4a・4bに剥離やクラックが生じず、超電導コイル
にクエンチ現象が発生しない実用性に秀れた極低温用絶
縁材となる。
Since the present embodiment is constructed as described above, the cryogenic insulating materials 4a and 4b disposed in the gap between the superconducting material 1 and the cooling unit 3 do not peel or crack, and the quench is applied to the superconducting coil. It is a very low temperature insulation material with excellent practicability that does not cause phenomena.

【0035】[0035]

【実施例】以下、本発明の作用効果を裏づける実験例を
説明する。
EXAMPLES Hereinafter, experimental examples supporting the effects of the present invention will be described.

【0036】ポリイミド樹脂フィルムは、常温における
引張伸度80〜160%のポリイミド樹脂フィルムとし
て、宇部興産(株)製のUPILEX R(下記化1参
照。常温における平均引張伸度130%。以下、UPI
LEX Rという。)を使用し、比較用として常温にお
ける平均引張伸度30%の宇部興産(株)製のUPIL
EX S(下記化2参照。以下、UPILEX Sとい
う。)及び常温における平均引張伸度70%のデュポン
(株)製のKAPTON H(下記化3参照。以下、K
APTON Hという。)を使用する。
The polyimide resin film is a polyimide resin film having a tensile elongation of 80 to 160% at room temperature, UPILEX R (manufactured by Ube Industries, Ltd .; see Chemical Formula 1 below. The average tensile elongation at room temperature is 130%; hereinafter, UPI)
LEX R. ), And UPIL manufactured by Ube Industries, Ltd. having an average tensile elongation at room temperature of 30% for comparison.
EXS (see below, hereinafter referred to as UPILEX S) and KAPTON H manufactured by DuPont with an average tensile elongation at room temperature of 70% (see below, hereinafter referred to as K3)
It is called APTON H. ).

【化1】 Embedded image

【化2】 Embedded image

【化3】 また、数平均分子量10000以上の高分子は、ポリビ
ニルホルマール樹脂としてチッソ(株)製のビニレック
E(下記化4参照。ポリビニルホルマール樹脂で数平均
分子量約100万。以下、PBHという。)、フェノキ
シ樹脂として東都化成(株)製のYP−50(下記化5
参照。数平均分子量58600。以下、フェノキシ樹脂
という。)、及びカルボキシル化NBRゴムとして日本
ゼオン(株)製のニッポール1072(下記化6参照。
カルボキシル変成アクリロニトリル/ブタジエン共重合
体で数平均分子量約30万。以下、NBRゴムとい
う。)を使用する。
Embedded image In addition, polymers having a number average molecular weight of 10,000 or more are vinylene E (manufactured by Chisso Corporation, see below) as a polyvinyl formal resin (number average molecular weight is about 1,000,000 in polyvinyl formal resin; hereinafter, referred to as PBH), and a phenoxy resin. YP-50 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.
reference. Number average molecular weight 58600. Hereinafter, it is referred to as a phenoxy resin. ) And Nippol 1072 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. (see Chemical Formula 6 below) as a carboxylated NBR rubber.
A carboxyl-modified acrylonitrile / butadiene copolymer having a number average molecular weight of about 300,000. Hereinafter, it is called NBR rubber. ).

【化4】 Embedded image

【化5】 尚、nは繰り返しを示し、一般的にn=100以上、平
均200程度。
Embedded image Here, n indicates repetition, and generally n = 100 or more, and about 200 on average.

【化6】 上記の化学式において、記号n,X,Y,Z,x,y,
zは、各々自然数を表している。nを除く記載した記号
は、各四角の括弧でくくられた構造式の混在比率を示し
ている。
Embedded image In the above chemical formula, the symbols n, X, Y, Z, x, y,
z represents a natural number. Symbols described except n indicate the mixing ratio of structural formulas enclosed in square brackets.

【0037】化学式4の記号X,Y,Zの混在比率は、
一般に次の通りである。
The mixing ratio of the symbols X, Y, and Z in Chemical Formula 4 is as follows:
In general:

【0038】X=78%以上 Y=4.5〜8.5% Z=9〜13% 化学式6の記号x,y,zの混在比率は、一般に次の通
りである。
X = 78% or more Y = 4.5-8.5% Z = 9-13% The mixing ratio of the symbols x, y and z in Chemical Formula 6 is generally as follows.

【0039】x=1〜40%以上 y=52〜98% z=1〜8%である。X = 1 to 40% or more y = 52 to 98% z = 1 to 8%

【0040】また、接着力の測定条件はJIS K 6
850に準ずる。尚、被着体はSUS304とし、この
被着体と介する絶縁材料との剪断破壊力を接着力とす
る。但し、温度条件は液体窒素温度(約77K以下)で
ある。また、耐電圧の測定条件はJIS K 6911
に準ずる。
The measuring conditions of the adhesive strength are JIS K6
850. The adherend is SUS304, and the shear breaking force between the adherend and the interposed insulating material is defined as the adhesive force. However, the temperature condition is liquid nitrogen temperature (about 77K or less). The withstand voltage measurement conditions are JIS K 6911.
According to.

【0041】<実験例1>エポキシ樹脂組成物の樹脂含
有率と接着力との関係を調べるため、高分子を添加した
エポキシ樹脂(即ち、エポキシ樹脂組成物。)を、樹脂
含有率を変えてガラスクロスに含浸させガラスクロスプ
リプレグを形成し、このガラスクロスプリプレグの接着
力及び耐電圧を測定した。尚、ガラスクロスプリプレグ
の厚さは50μmで、使用した高分子はPBHである。
<Experimental Example 1> In order to examine the relationship between the resin content of the epoxy resin composition and the adhesive strength, an epoxy resin containing a polymer (ie, an epoxy resin composition) was prepared by changing the resin content. The glass cloth was impregnated to form a glass cloth prepreg, and the adhesive strength and the withstand voltage of the glass cloth prepreg were measured. The thickness of the glass cloth prepreg was 50 μm, and the polymer used was PBH.

【表1】 このように、樹脂含有率20〜60%(重量)のガラス
クロスプリプレグにおいて接着力30MPa以上とな
り、良好な接着力が発揮された。尚、耐電圧について
は、ポリイミド樹脂フィルムを入れた構成に比して低い
値となる。
[Table 1] Thus, in the glass cloth prepreg having a resin content of 20 to 60% (by weight), the adhesive strength was 30 MPa or more, and good adhesive strength was exhibited. Note that the withstand voltage has a lower value than that of the configuration including the polyimide resin film.

【0042】<実験例2>エポキシ樹脂組成物における
高分子の添加割合と接着力との関係を調べるため、高分
子を添加したエポキシ樹脂(即ち、エポキシ樹脂組成
物。)を、高分子添加率を変えてガラスクロスに含浸さ
せガラスクロスプリプレグを形成し、このガラスクロス
プリプレグの接着力及び耐電圧を測定した。尚、ガラス
クロスプリプレグの厚さは50μmで、使用した高分子
はPBHである。
<Experimental Example 2> In order to examine the relationship between the ratio of the polymer added to the epoxy resin composition and the adhesive strength, an epoxy resin containing a polymer (ie, an epoxy resin composition) was added to the epoxy resin composition. The glass cloth was impregnated with a glass cloth prepreg to form a glass cloth prepreg, and the adhesive strength and withstand voltage of the glass cloth prepreg were measured. The thickness of the glass cloth prepreg was 50 μm, and the polymer used was PBH.

【表2】 このように、高分子添加率が5〜35%(重量)のエポ
キシ樹脂組成物において接着力30MPa以上となり、
良好な接着力が発揮された。尚、高分子添加率が40%
(重量)となると、高分子をガラスクロスに含浸させる
ことができずガラスクロスプリプレグを形成することが
できない。
[Table 2] Thus, in the epoxy resin composition having a polymer addition rate of 5 to 35% (weight), the adhesive strength becomes 30 MPa or more,
Good adhesion was exhibited. In addition, polymer addition rate is 40%
(Weight), the polymer cannot be impregnated into the glass cloth, and the glass cloth prepreg cannot be formed.

【0043】<実験例3>ガラスクロスとポリイミド樹
脂フィルムとをフィルムーガラスクロス貼り合わせ構造
とした絶縁材の樹脂含有率と接着力との関係を調べるた
め、高分子を添加したエポキシ樹脂(即ち、エポキシ樹
脂組成物。)を、樹脂含有率を変えてガラスクロスに含
浸させてガラスクロスプリプレグを形成し、このガラス
クロスプリプレグにUPILEX Rを貼り合わせて絶
縁材を形成し、この絶縁材の接着力及び耐電圧を測定し
た。尚、ガラスクロスの厚さは30μm,ポリイミド樹
脂フィルムの厚さは25μmで、使用した高分子はPB
Hである。
<Experimental Example 3> In order to examine the relationship between the resin content and the adhesive strength of an insulating material having a film-glass cloth bonded structure of a glass cloth and a polyimide resin film, epoxy resin to which a polymer was added (that is, epoxy resin) , Epoxy resin composition) is impregnated into a glass cloth by changing the resin content to form a glass cloth prepreg, and UPILEX R is bonded to the glass cloth prepreg to form an insulating material, and the insulating material is bonded. Force and withstand voltage were measured. The thickness of the glass cloth was 30 μm, the thickness of the polyimide resin film was 25 μm, and the polymer used was PB.
H.

【表3】 このように、樹脂含有率20〜60%(重量)のガラス
クロスプリプレグにおいて接着力30MPa以上とな
り、良好な接着力が発揮された。また、耐電圧において
も実験例1と比較して約4倍の値となり良好な耐電圧と
なった。
[Table 3] Thus, in the glass cloth prepreg having a resin content of 20 to 60% (by weight), the adhesive strength was 30 MPa or more, and good adhesive strength was exhibited. Also, the withstand voltage was about four times the value of Experimental Example 1, and a good withstand voltage was obtained.

【0044】<実験例4>ガラスクロスとポリイミド樹
脂フィルムとをフィルムーガラスクロス貼り合わせ構造
とした絶縁材の高分子添加率と接着力との関係を調べる
ため、高分子を添加したエポキシ樹脂(即ち、エポキシ
樹脂組成物。)を、高分子添加率を変えてガラスクロス
に含浸させてガラスクロスプリプレグを形成し、このガ
ラスクロスプリプレグにUPILEX Rを貼り合わせ
て絶縁材を形成し、この絶縁材の接着力及び耐電圧を測
定した。尚、ガラスクロスの厚さは30μm,ポリイミ
ド樹脂フィルムの厚さは25μmで、使用した高分子は
PBHである。
<Experimental Example 4> In order to examine the relationship between the polymer addition rate and the adhesive strength of an insulating material having a glass cloth and a polyimide resin film bonded to a film-glass cloth, an epoxy resin containing a polymer ( That is, an epoxy resin composition is impregnated into a glass cloth at a different polymer addition rate to form a glass cloth prepreg, and UPILEX R is bonded to the glass cloth prepreg to form an insulating material. Was measured for adhesive strength and withstand voltage. The thickness of the glass cloth was 30 μm, the thickness of the polyimide resin film was 25 μm, and the polymer used was PBH.

【表4】 このように、高分子添加率が10〜35%(重量)のエ
ポキシ樹脂組成物において接着力30MPa以上とな
り、良好な接着力が発揮された。また、耐電圧において
も実施例1と比較して約4倍の値となり良好な耐電圧と
なった。尚、高分子添加率が40%(重量)となると、
実験例2と同様にプリプレグを形成することができな
い。
[Table 4] As described above, in the epoxy resin composition having the polymer addition rate of 10 to 35% (weight), the adhesive strength was 30 MPa or more, and good adhesive strength was exhibited. In addition, the withstand voltage was about four times as large as that of Example 1, and a good withstand voltage was obtained. Incidentally, when the polymer addition rate becomes 40% (weight),
A prepreg cannot be formed as in Experimental Example 2.

【0045】<実験例5>実験例4において使用する高
分子による接着力及び耐電圧の変化を調べるため、高分
子としてPBHの変わりにフェノキシ樹脂及びNBRゴ
ムを添加した絶縁材の接着力及び耐電圧を測定した。
尚、使用した高分子以外の条件は実験例4と同様であ
る。
<Experimental Example 5> In order to examine the change in the adhesive strength and the withstand voltage by the polymer used in Experimental Example 4, the adhesive force and the resistance of the insulating material to which phenoxy resin and NBR rubber were added instead of PBH as the polymer were used. The voltage was measured.
The conditions other than the polymer used were the same as in Experimental Example 4.

【表5】 このように、フェノキシ樹脂を添加した絶縁材はPBH
と同様の接着力及び耐電圧を示したが、NBRゴムを添
加した絶縁材の接着力は高分子添加率30%(重量)に
おいて30MPa以下となり不十分であった。従って、
NBRゴムではPBHやフェノキシ樹脂程の接着力は得
られないことが判明した。
[Table 5] Thus, the insulating material to which the phenoxy resin is added is PBH
Although the same adhesive strength and withstand voltage were obtained as in the above, the adhesive strength of the insulating material to which NBR rubber was added was insufficient at 30 MPa or less at a polymer addition rate of 30% (weight). Therefore,
It has been found that NBR rubber cannot provide the same adhesive strength as PBH or phenoxy resin.

【0046】これは、極低温下においては接着剤の伸縮
性が著しく低下し、接着体と接着剤との収縮差などの応
力を緩和することができず、接着剤或いは接着界面にク
ラック,剥離等が生じる原因となること、及び、PBH
やフェノキシ樹脂の分子構造はNBRゴムの分子構造と
比較して伸縮し易い構造であることから、極低温下にお
いてPBHやフェノキシ樹脂はNBRゴムよりも伸縮性
が高く、エポキシ樹脂の伸縮性の低下をより一層補い易
いのではないかとの推測される。
This is because, at extremely low temperatures, the elasticity of the adhesive is remarkably reduced, and stress such as a difference in contraction between the adhesive and the adhesive cannot be alleviated. And PBH
The molecular structure of phenolic resin and phenoxy resin is easier to expand and contract than the molecular structure of NBR rubber, so that PBH and phenoxy resin have higher elasticity than NBR rubber at extremely low temperatures, and lower the elasticity of epoxy resin. Is presumed to be more easily supplemented.

【0047】<実験例6>ポリイミド樹脂フィルム及び
ガラスクロスの厚さによる絶縁材の接着力及び耐電圧の
変化を調べるため、樹脂含有率及び高分子添加率を一定
に設定し、ポリイミド樹脂フィルムの厚さ及びガラスク
ロスプリプレグの厚さを変えたフィルムーガラスクロス
貼り合わせ構造の絶縁材の接着力及び耐電圧を測定し
た。尚、使用した高分子はPBHで高分子添加率は30
%(重量)であり、また、エポキシ樹脂の樹脂含有率は
40%(重量)である。
<Experimental Example 6> In order to examine changes in the adhesive strength and the withstand voltage of the insulating material depending on the thickness of the polyimide resin film and the glass cloth, the resin content and the polymer addition rate were set to be constant, and The adhesive strength and withstand voltage of the insulating material of the film-glass cloth bonding structure in which the thickness and the thickness of the glass cloth prepreg were changed were measured. The polymer used was PBH and the polymer addition rate was 30.
% (Weight), and the resin content of the epoxy resin is 40% (weight).

【表6】 このように、ポリイミド樹脂フィルム及びガラスクロス
の厚さが変化しても、絶縁材の接着力に殆ど影響が無い
ことが確認された。
[Table 6] Thus, it was confirmed that even if the thicknesses of the polyimide resin film and the glass cloth were changed, the adhesive strength of the insulating material was hardly affected.

【0048】尚、ガラスクロスの厚さが厚くなると耐電
圧が低下するのは、ガラスクロス積層板がポリイミド樹
脂フィルムより耐電圧が低いため、同一厚とすると絶縁
材全体としての耐電圧が低下してしまうためである。従
って、薄いガラスクロスにポリイミド樹脂フィルムを貼
着すると、薄くとも耐電圧が高い絶縁材となる。
When the thickness of the glass cloth increases, the withstand voltage decreases because the withstand voltage of the glass cloth laminate is lower than that of the polyimide resin film. This is because Therefore, when a polyimide resin film is adhered to a thin glass cloth, it becomes an insulating material having a high withstand voltage even if it is thin.

【0049】<実験例7>ポリイミド樹脂の伸度による
絶縁材の接着力及び耐電圧の変化を調べるため、ポリイ
ミド樹脂フィルムとしてUPILEX S及びKAPT
ON Hを使用したフィルムーガラスクロス貼り合わせ
構造の絶縁材の接着力及び耐電圧を測定した。尚、ガラ
スクロスの厚さは30μmである。
<Experimental Example 7> In order to examine the changes in the adhesive strength and the withstand voltage of the insulating material due to the elongation of the polyimide resin, UPILEX S and KAPT were used as polyimide resin films.
The adhesive strength and withstand voltage of the insulating material having the film-glass cloth bonded structure using ONH were measured. In addition, the thickness of the glass cloth is 30 μm.

【表7】 このように、伸度の低いポリイミド樹脂フィルムを使用
した絶縁材は伸度の高いポリイミド樹脂フィルムを使用
した絶縁材と比較して接着力が低下した。尚、伸度のよ
り低いUPIREX Sにおいては、どのような樹脂含
有率や高分子添加率に設定しても接着力が30MPa以
下となり不十分であった。
[Table 7] As described above, the insulating material using the polyimide resin film with low elongation had lower adhesive strength than the insulating material using the polyimide resin film with high elongation. In addition, in UPIREX S having a lower elongation, the adhesive force was not more than 30 MPa, irrespective of the setting of the resin content and the polymer addition rate.

【0050】これは、実験例5と同様に、UPILEX
RがUPILEX SやKAPTON Hよりも伸度
が高く、極低温条件下でエポキシ樹脂はその伸縮性が低
下してもUPILEX R自体で応力の一部を緩和する
ことができるためではないかと推測される。
This is similar to Experimental Example 5 except that UPILEX
It is speculated that R may have a higher elongation than UPILEX S or KAPTON H, and that even if the epoxy resin has reduced elasticity under cryogenic conditions, UPILEX R itself can partially reduce the stress. You.

【0051】<実験例8>2枚のガラスクロスプリプレ
グとポリイミド樹脂フィルムとをガラスクロスーフィル
ムーガラスクロス貼り合わせ構造とした絶縁材の樹脂含
有率と接着力との関係を調べるため、高分子を添加した
エポキシ樹脂(即ち、エポキシ樹脂組成物。)を、樹脂
含有率を変えてガラスクロスに含浸させてガラスクロス
プリプレグを形成し、このガラスクロスプリプレグにポ
リイミド樹脂フィルムを貼り合わせ、更にポリイミド樹
脂フィルム上にガラスクロスプリプレグを貼り合わせた
絶縁材の接着力及び耐電圧を測定した。尚、ガラスクロ
スの厚さは50μm×2=100μm,ポリイミド樹脂
フィルムの厚さは25μmで、使用した高分子はPBH
である。
<Experimental Example 8> In order to investigate the relationship between the resin content and the adhesive strength of an insulating material having two glass cloth prepregs and a polyimide resin film in a glass cloth-to-glass cloth bonding structure, a polymer was used. A glass cloth prepreg is formed by impregnating a glass cloth with an epoxy resin (i.e., an epoxy resin composition) added with a different resin content, and a polyimide resin film is bonded to the glass cloth prepreg. The adhesive strength and the withstand voltage of the insulating material obtained by bonding the glass cloth prepreg on the film were measured. The thickness of the glass cloth was 50 μm × 2 = 100 μm, the thickness of the polyimide resin film was 25 μm, and the polymer used was PBH.
It is.

【表8】 このように、樹脂含有率30〜60%(重量)の絶縁材
において接着力30MPa以上となり、良好な接着力が
発揮された。また、耐電圧においても実験例1と比較し
て約3倍の値となり良好な耐電圧となった。
[Table 8] As described above, in the insulating material having a resin content of 30 to 60% (weight), the adhesive strength was 30 MPa or more, and good adhesive strength was exhibited. In addition, the withstand voltage was about three times as large as that of Experimental Example 1, and a good withstand voltage was obtained.

【0052】<実験例9>2枚のガラスクロスプリプレ
グとポリイミド樹脂フィルムとをガラスクロスーフィル
ムーガラスクロス貼り合わせ構造とした絶縁材の高分子
添加率と接着力との関係を調べるため、高分子を添加し
たエポキシ樹脂(即ち、エポキシ樹脂組成物。)を、高
分子添加率を変えてガラスクロスに含浸させてガラスク
ロスプリプレグを形成し、このガラスクロスプリプレグ
にポリイミド樹脂フィルムを貼り合わせ、更にポリイミ
ド樹脂フィルム上にガラスクロスプリプレグを貼り合わ
せた絶縁材の接着力及び耐電圧を測定した。尚、ガラス
クロスプリプレグの厚さは50μm×2=100μm,
ポリイミド樹脂フィルムの厚さは25μmで、使用した
高分子はPBHである。
<Experimental Example 9> In order to investigate the relationship between the polymer addition rate and the adhesive strength of an insulating material having a structure in which two glass cloth prepregs and a polyimide resin film were bonded together in a glass cloth-film-glass cloth bonding method, A glass cloth prepreg is formed by impregnating a glass cloth with an epoxy resin to which a molecule is added (that is, an epoxy resin composition) while changing a polymer addition rate, and a polyimide resin film is bonded to the glass cloth prepreg. The adhesive strength and the withstand voltage of the insulating material obtained by bonding the glass cloth prepreg on the polyimide resin film were measured. The thickness of the glass cloth prepreg was 50 μm × 2 = 100 μm,
The thickness of the polyimide resin film is 25 μm, and the polymer used is PBH.

【表9】 このように、高分子添加率が10〜30%(重量)のエ
ポキシ樹脂組成物を使用した絶縁材において接着力30
MPa以上となり、良好な接着力が発揮された。また、
耐電圧においても実験例1と比較して約3倍の値となり
良好な耐電圧となった。尚、高分子添加率が40%(重
量)となると、実験例2,4と同様にプリプレグを形成
することができない。
[Table 9] As described above, in the insulating material using the epoxy resin composition having the polymer addition rate of 10 to 30% (by weight), the adhesive strength is 30.
MPa or more, and good adhesion was exhibited. Also,
The withstand voltage was about three times the value of Experimental Example 1, and a good withstand voltage was obtained. When the polymer addition rate becomes 40% (weight), a prepreg cannot be formed as in Experimental Examples 2 and 4.

【0053】<実験例10>実験例9において使用する
高分子による接着力及び耐電圧の変化を調べるため、高
分子としてPBHの変わりにフェノキシ樹脂及びNBR
ゴムを添加した絶縁材の接着力及び耐電圧を測定した。
尚、使用した高分子以外の条件は実験例9と同様であ
る。
<Experimental Example 10> In order to examine the change in the adhesive force and the withstand voltage by the polymer used in Experimental Example 9, phenoxy resin and NBR were used instead of PBH as the polymer
The adhesive strength and withstand voltage of the insulating material to which rubber was added were measured.
The conditions other than the polymer used were the same as in Experimental Example 9.

【表10】 このように、フェノキシ樹脂を添加した絶縁材はPBH
と同様の接着力及び耐電圧を示したが、NBRゴムを添
加した絶縁材の接着力はPBH及びフェノキシ樹脂と比
較して実用性において問題ないが若干低下した。
[Table 10] Thus, the insulating material to which the phenoxy resin is added is PBH
Although the same adhesive strength and withstand voltage were obtained as in the case of PBH and the phenoxy resin, the adhesive strength of the insulating material to which NBR rubber was added was slightly reduced, although there was no problem in practicality.

【0054】これは、実験例5と同様に、極低温下にお
いては接着剤の伸縮性が著しく低下し、接着体と接着剤
との収縮差によるズレなどの応力を緩和することができ
ず、接着剤或いは接着界面にクラック,剥離等が生じる
原因となること、及び、PBHやフェノキシ樹脂の分子
構造はNBRゴムの分子構造と比較して伸縮し易い構造
であることから、極低温下においてPBHやフェノキシ
樹脂はNBRゴムよりも伸縮性が高く、エポキシ樹脂の
伸縮性の低下をより一層補い易いのではないかとの推測
される。
This is because, similarly to Experimental Example 5, the elasticity of the adhesive significantly decreases at extremely low temperatures, and stress such as displacement due to a difference in contraction between the adhesive and the adhesive cannot be alleviated. Cracking and peeling may occur at the adhesive or the bonding interface, and the molecular structure of PBH or phenoxy resin is more easily expanded and contracted than the molecular structure of NBR rubber. It is speculated that the phenoxy resin and the phenoxy resin have higher elasticity than the NBR rubber, and may more easily compensate for the decrease in the elasticity of the epoxy resin.

【0055】<実験例11>2枚のガラスクロスプリプ
レグとポリイミド樹脂フィルムとをガラスクロスーフィ
ルムーガラスクロス貼り合わせ構造とした絶縁材のポリ
イミド樹脂フィルム及びガラスクロスの厚さによる絶縁
材の接着力及び耐電圧の変化を調べるため、樹脂含有率
及び高分子添加率を一定に設定し、ポリイミド樹脂フィ
ルム及びガラスクロスの厚さを変えた絶縁材の接着力及
び耐電圧を測定した。尚、ガラスクロスの厚さは2枚分
の厚さであり、また、使用した高分子はPBHで高分子
添加率は30%(重量)であり、また、エポキシ樹脂の
樹脂含有率は40%(重量)である。
<Experimental Example 11> Adhesive strength of insulating material based on thickness of glass cloth and insulating polyimide resin film in which two glass cloth prepregs and a polyimide resin film were bonded together in a glass cloth-to-glass cloth bonding structure In order to examine the change in withstand voltage and the withstand voltage, the resin content and the polymer addition rate were set to be constant, and the adhesive strength and withstand voltage of the insulating material with the thickness of the polyimide resin film and glass cloth changed were measured. In addition, the thickness of the glass cloth is the thickness of two sheets, the polymer used is PBH, the polymer addition rate is 30% (weight), and the resin content of the epoxy resin is 40%. (Weight).

【表11】 このように、ポリイミド樹脂フィルム及びガラスクロス
の厚さが変化しても、絶縁材の接着力に殆ど影響が無い
ことが確認された。尚、実験例6と同様にガラスクロス
の厚さが厚くなると耐電圧が低下する。
[Table 11] Thus, it was confirmed that even if the thicknesses of the polyimide resin film and the glass cloth were changed, the adhesive strength of the insulating material was hardly affected. As in the case of Experimental example 6, when the thickness of the glass cloth increases, the withstand voltage decreases.

【0056】<実験例12>2枚のガラスクロスプリプ
レグとポリイミド樹脂フィルムとをガラスクロスーフィ
ルムーガラスクロス貼り合わせ構造とした絶縁材のポリ
イミド樹脂フィルムの伸度による絶縁材の接着力及び耐
電圧の変化を調べるため、ポリイミド樹脂フィルムとし
てUPILEX S及びKAPTON Hを使用した絶
縁材の接着力及び耐電圧を測定した。尚、ガラスクロス
の厚さは50μm×2=100μmである。
<Experimental Example 12> Adhesive strength and withstand voltage of insulating material based on elongation of polyimide resin film of insulating material having two glass cloth prepregs and polyimide resin film bonded together in a glass cloth-film-glass cloth bonding structure In order to investigate the change in the adhesive strength, the adhesive strength and the withstand voltage of the insulating material using UPILEX S and KAPTON H as the polyimide resin film were measured. The thickness of the glass cloth is 50 μm × 2 = 100 μm.

【表12】 このように、伸度の低いUPILEX SやKAPTO
N Hを使用した絶縁材は、伸度の高いUPILEX
Rを使用した絶縁材と比較して接着力が低下した。尚、
伸度のより低いUPILEX Sにおいては、どのよう
な樹脂含有率や高分子添加率に設定しても接着力が30
MPa以下となり不十分であった。
[Table 12] Thus, UPILEX S and KAPTO with low elongation
The insulating material using NH is UPILEX with high elongation
The adhesive strength was lower than that of the insulating material using R. still,
In UPILEX S, which has a lower elongation, the adhesive strength is 30 regardless of the resin content or the polymer addition rate.
MPa or less, which was insufficient.

【0057】<実験例13>導電材との接着性が悪いポ
リイミド樹脂フィルムに高分子を添加したエポキシ樹脂
組成物を含浸させてプリプレグとし接着力及び耐電圧を
測定した。尚、ポリイミド樹脂フィルムとしてUPIL
EX Rを使用し、ポリイミド樹脂フィルムの厚さを5
0μmに設定した。
<Experimental Example 13> A prepreg was prepared by impregnating a polyimide resin film having poor adhesion to a conductive material with an epoxy resin composition containing a polymer, and the adhesive strength and withstand voltage were measured. In addition, UPIL is used as a polyimide resin film.
Use EXR and set the polyimide resin film thickness to 5
It was set to 0 μm.

【表13】 このように、高分子添加率30%(重量)で、且つ樹脂
含有率5〜30%(重量)においてポリイミド樹脂フィ
ルムプリプレグの接着力30MPa以上となり、良好な
接着力が発揮された。尚、耐電圧はガラスクロスの約1
0倍となった。
[Table 13] Thus, when the polymer addition rate was 30% (weight) and the resin content was 5 to 30% (weight), the adhesive strength of the polyimide resin film prepreg was 30 MPa or more, and good adhesive strength was exhibited. The withstand voltage is about 1 for glass cloth.
It became 0 times.

【0058】以上の実験例の結果は、ポリイミド樹脂フ
ィルムとして伸度の高いUPILEX Rを使用し、接
着剤として元々接着力の強いエポキシ樹脂を使用し、更
にエポキシ樹脂に分子量が大きくて伸縮性の高い高分子
を含有せしめると極低温条件においても良好な接着力を
有する極低温用絶縁材となることを示唆している。
The results of the above experimental examples show that UPILEX R having high elongation was used as a polyimide resin film, an epoxy resin having a strong adhesive force was used as an adhesive, and the epoxy resin had a large molecular weight and elasticity. It is suggested that the inclusion of a high polymer results in a cryogenic insulating material having good adhesive strength even at cryogenic conditions.

【0059】以上の実験例の結果をまとめると、 数平均分子量10000以上の高分子を5%(重
量)以上混入したエポキシ樹脂組成物を介してガラスク
ロスとポリイミド樹脂フィルム付設して成る極低温用絶
縁材は、極低温条件においても良好な接着力及び絶縁力
を有する。
The results of the above experimental examples can be summarized as follows. A cryogenic material obtained by attaching a glass cloth and a polyimide resin film via an epoxy resin composition containing 5% (by weight) or more of a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more. The insulating material has good adhesive strength and insulating strength even under extremely low temperature conditions.

【0060】 ポリイミド樹脂フィルムとして常温に
おける引張伸度80〜160%のポリイミド樹脂フィル
ムを使用するとより一層接着力が高まる。
When a polyimide resin film having a tensile elongation at room temperature of 80 to 160% is used as the polyimide resin film, the adhesive strength is further increased.

【0061】 高分子として極低温において伸縮性の
高い高分子(ポリビニルホルマール樹脂やフェノキシ樹
脂)を使用するとより一層接着力が高まる。但し、若干
伸縮性の劣るカルボキシル化NBRゴムを使用しても実
用性において問題はない。
The use of a polymer having high elasticity at extremely low temperatures (polyvinyl formal resin or phenoxy resin) as a polymer further increases the adhesive strength. However, there is no problem in practicality even if a carboxylated NBR rubber having slightly inferior elasticity is used.

【0062】 エポキシ樹脂組成物を絶縁材に対して
30〜60%(重量)となるように混合するとより一層
接着力が高まる。
When the epoxy resin composition is mixed with the insulating material so as to be 30 to 60% (weight), the adhesive strength is further increased.

【0063】 上記のような条件を満たすエポキシ樹
脂組成物は、接着力の低いポリイミド樹脂フィルムにも
高い接着力を付与することができる。
An epoxy resin composition that satisfies the above conditions can impart high adhesive strength to a polyimide resin film having low adhesive strength.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施例の説明斜視図である。FIG. 1 is an explanatory perspective view of this embodiment.

【図2】本実施例の説明断面図である。FIG. 2 is an explanatory sectional view of the present embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

なし None

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09J 163/00 C09J 163/00 H01B 3/40 H01B 3/40 E 13/00 561 13/00 561Z 17/60 17/60 C //(C09J 163/00 113:00) ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C09J 163/00 C09J 163/00 H01B 3/40 H01B 3/40 E 13/00 561 13/00 561Z 17/60 17/60 C // (C09J 163/00 113: 00)

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 無機基材とポリイミド樹脂フィルムとを
数平均分子量10000以上の高分子を5%(重量)以
上混入したエポキシ樹脂組成物を介して付設して成るこ
とを特徴とする極低温用絶縁材。
1. A cryogenic material comprising an inorganic base material and a polyimide resin film attached via an epoxy resin composition containing 5% (by weight) or more of a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more. Insulating material.
【請求項2】 無機基材に数平均分子量10000以上
の高分子を5%(重量)以上混入したエポキシ樹脂組成
物を含浸させて成る無機基材プリプレグに、ポリイミド
樹脂フィルムを貼り合わせて成ることを特徴とする極低
温用絶縁材。
2. A polyimide resin film bonded to an inorganic base material prepreg obtained by impregnating an inorganic base material with an epoxy resin composition in which a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more is mixed in an amount of 5% (by weight) or more. A cryogenic insulation material characterized by the following.
【請求項3】 ガラス基材とポリイミド樹脂フィルムと
を数平均分子量10000以上の高分子を5%(重量)
以上混入したエポキシ樹脂組成物を介して付設して成る
ことを特徴とする極低温用絶縁材。
3. A glass base material and a polyimide resin film are mixed with a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more by 5% (weight).
A cryogenic insulating material characterized by being provided with an epoxy resin composition mixed therein.
【請求項4】 ガラス基材に数平均分子量10000以
上の高分子を5%(重量)以上混入したエポキシ樹脂組
成物を含浸させて成るガラス基材プリプレグに、ポリイ
ミド樹脂フィルムを貼り合わせて成ることを特徴とする
極低温用絶縁材。
4. A polyimide resin film bonded to a glass base material prepreg obtained by impregnating a glass base material with an epoxy resin composition containing 5% (weight) or more of a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more. A cryogenic insulation material characterized by the following.
【請求項5】 ガラスクロスとポリイミド樹脂フィルム
とを数平均分子量10000以上の高分子を5%(重
量)以上混入したエポキシ樹脂組成物を介して付設して
成ることを特徴とする極低温用絶縁材。
5. An insulating material for cryogenic use, wherein a glass cloth and a polyimide resin film are provided via an epoxy resin composition containing 5% (by weight) or more of a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more. Wood.
【請求項6】 ガラスクロスに数平均分子量10000
以上の高分子を5%(重量)以上混入したエポキシ樹脂
組成物を含浸させて成るガラスクロスプリプレグに、ポ
リイミド樹脂フィルムを貼り合わせて成ることを特徴と
する極低温用絶縁材。
6. A glass cloth having a number average molecular weight of 10,000.
An insulating material for cryogenic use, wherein a polyimide resin film is bonded to a glass cloth prepreg impregnated with an epoxy resin composition containing 5% (by weight) or more of the above polymer.
【請求項7】 ガラスクロスと常温における引張伸度8
0〜160%のポリイミド樹脂フィルムとを数平均分子
量10000以上の高分子を5%(重量)以上混入した
エポキシ樹脂組成物を介して付設して成ることを特徴と
する極低温用絶縁材。
7. A glass cloth and a tensile elongation at room temperature of 8
An insulating material for cryogenic use, comprising a polyimide resin film of 0 to 160% and an epoxy resin composition containing 5% (by weight) or more of a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more.
【請求項8】 ガラスクロスに数平均分子量10000
以上の高分子を5%(重量)以上混入したエポキシ樹脂
組成物を含浸させて成るガラスクロスプリプレグに、常
温における引張伸度80〜160%のポリイミド樹脂フ
ィルムを貼り合わせて成ることを特徴とする極低温用絶
縁材。
8. A glass cloth having a number average molecular weight of 10,000.
A glass cloth prepreg impregnated with an epoxy resin composition containing at least 5% (by weight) of the above polymer is bonded to a polyimide resin film having a tensile elongation at room temperature of 80 to 160%. Cryogenic insulation.
【請求項9】 ガラスクロスと下記の構造を有するポリ
イミド樹脂フィルムとを数平均分子量10000以上の
高分子を5%(重量)以上混入したエポキシ樹脂組成物
を介して付設したことを特徴とする極低温用絶縁材。 【化1】
9. An electrode wherein a glass cloth and a polyimide resin film having the following structure are provided via an epoxy resin composition in which a polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more is mixed in an amount of 5% (by weight) or more. Low temperature insulation. Embedded image
【請求項10】 ガラスクロスに数平均分子量1000
0以上の高分子を5%(重量)以上混入したエポキシ樹
脂組成物を含浸させて成るガラスクロスプリプレグに、
下記の構造を有するポリイミド樹脂フィルムを貼り合わ
せて成ることを特徴とする極低温用絶縁材。 【化1】
10. A glass cloth having a number average molecular weight of 1,000.
A glass cloth prepreg impregnated with an epoxy resin composition containing 5% (weight) or more of 0 or more polymers,
An insulating material for cryogenic use, which is obtained by laminating a polyimide resin film having the following structure. Embedded image
【請求項11】 請求項1〜10いずれか1項に記載の
極低温用絶縁材において、数平均分子量10000以上
の高分子としてポリビニルホルマール樹脂を使用したこ
とを特徴とする極低温用絶縁材。
11. The cryogenic insulation material according to claim 1, wherein a polyvinyl formal resin is used as the polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more.
【請求項12】 請求項1〜10いずれか1項に記載の
極低温用絶縁材において、数平均分子量10000以上
の高分子としてフェノキシ樹脂を使用したことを特徴と
する極低温用絶縁材。
12. The cryogenic insulating material according to claim 1, wherein a phenoxy resin is used as the polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more.
【請求項13】 請求項1〜10いずれか1項に記載の
極低温用絶縁材において、数平均分子量10000以上
の高分子としてカルボキシル化NBRゴムを使用したこ
とを特徴とする極低温用絶縁材。
13. The cryogenic insulation material according to claim 1, wherein a carboxylated NBR rubber is used as the polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more. .
【請求項14】 請求項1〜13いずれか1項に記載の
極低温用絶縁材において、エポキシ樹脂組成物を絶縁材
に対して30〜60%(重量)となるように混合せしめ
て成ることを特徴とする極低温用絶縁材。
14. The cryogenic insulating material according to claim 1, wherein the epoxy resin composition is mixed so as to be 30 to 60% (weight) with respect to the insulating material. A cryogenic insulation material characterized by the following.
【請求項15】 エポキシ系樹脂に数平均分子量100
00以上の高分子を5%(重量)以上混入して成り、極
低温条件において強固な接着力を有することを特徴とす
るエポキシ系接着剤。
15. An epoxy resin having a number average molecular weight of 100.
An epoxy adhesive comprising at least 5% (by weight) of a polymer having a molecular weight of 00 or more and having a strong adhesive force under extremely low temperature conditions.
【請求項16】 エポキシ系樹脂にポリビニルホルマー
ル樹脂若しくはフェノキシ樹脂若しくはカルボキシル化
NBRゴムを5%(重量)以上混入して成り、極低温条
件において強固な接着力を有することを特徴とするエポ
キシ系接着剤。
16. An epoxy-based adhesive comprising a polyvinyl formal resin, a phenoxy resin, or a carboxylated NBR rubber mixed into an epoxy-based resin in an amount of 5% (by weight) or more, and having a strong adhesive force under cryogenic conditions. Agent.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007238707A (en) * 2006-03-07 2007-09-20 Fujikura Ltd Epoxy adhesive, coverlay, prepreg, metal-clad laminate, printed wiring board
KR20110095609A (en) * 2010-02-19 2011-08-25 에스케이케미칼주식회사 Epoxy Resin Compositions for Film Adhesives
KR101082926B1 (en) 2009-06-26 2011-11-11 황석성 Cryogenic pump comprising cryogenic binder and adsorption panel using same

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