JPH1180209A - Silyl-group-containing cyclic sulfide compound, production thereof and rubber composition containing same - Google Patents
Silyl-group-containing cyclic sulfide compound, production thereof and rubber composition containing sameInfo
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- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 title claims abstract description 17
- 239000005060 rubber Substances 0.000 title claims abstract description 17
- -1 cyclic sulfide compound Chemical class 0.000 title claims description 20
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 title claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims abstract description 24
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 abstract description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000000446 fuel Substances 0.000 abstract description 3
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical group CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 31
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 22
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 11
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 10
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 7
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- BVNZLSHMOBSFKP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxysilane Chemical compound CC(C)(C)O[SiH3] BVNZLSHMOBSFKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQYNOZYISQGMOB-UHFFFAOYSA-N CC(C)CO[SiH3] Chemical compound CC(C)CO[SiH3] BQYNOZYISQGMOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVLBGFRTARNACQ-UHFFFAOYSA-N [3-[3,3-bis(triethoxysilyl)propyltetrasulfanyl]-1-triethoxysilylpropyl]-triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C([Si](OCC)(OCC)OCC)CCSSSSCCC([Si](OCC)(OCC)OCC)[Si](OCC)(OCC)OCC IVLBGFRTARNACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- XWQLYVIMMBLXPY-UHFFFAOYSA-N butan-2-yloxysilane Chemical compound CCC(C)O[SiH3] XWQLYVIMMBLXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZZHNUBIHHLQNHX-UHFFFAOYSA-N butoxysilane Chemical compound CCCCO[SiH3] ZZHNUBIHHLQNHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- HCOKJWUULRTBRS-UHFFFAOYSA-N propan-2-yloxysilane Chemical compound CC(C)O[SiH3] HCOKJWUULRTBRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMYXZXUHYAGGKG-UHFFFAOYSA-N propoxysilane Chemical compound CCCO[SiH3] ZMYXZXUHYAGGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M sodium hydrosulfide Chemical compound [Na+].[SH-] HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PKQYSCBUFZOAPE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibenzyl-3-methylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC=1C(C)=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 PKQYSCBUFZOAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-N sodium polysulfide Chemical compound [Na+].S HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、シリル基と硫黄と
を含有する新規な化合物に関するもので、該化合物は、
優れた加硫効果を有するためゴムの添加剤として有用な
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel compound containing a silyl group and sulfur.
Since it has an excellent vulcanizing effect, it is useful as a rubber additive.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、下記式(3)で表されるシリル基
含有スルフィド化合物は公知である(特公昭51−28
623号)。 [R1 n R2 3-nSi(Alk)]2 Sy …(3) 式中、R1 は、C1 〜C8 のアルコキシキル基、C5 〜
C7 のシクロアルキル基またはC1 〜C8 のアルキルメ
ルカプト基を表し、R2 は、C1 〜C4 のアルキル基ま
たはフェニル基を表し、Alkは、C2 〜C18の2価の炭
化水素基を表し、n は、1、2または3であり、y は、
3〜6の整数である。2. Description of the Related Art Hitherto, silyl group-containing sulfide compounds represented by the following formula (3) are known (JP-B-51-28).
623). [R 1 n R 2 3- n Si (Alk)] 2 S y ... (3) wherein, R 1 is Arukokishikiru group of C 1 ~C 8, C 5 ~
A C 7 cycloalkyl group or a C 1 -C 8 alkyl mercapto group, R 2 represents a C 1 -C 4 alkyl group or a phenyl group, and Alk represents a C 2 -C 18 divalent carbon Represents a hydrogen group, n is 1, 2 or 3, and y is
It is an integer of 3 to 6.
【0003】また、下記式(4)で表されるシリル基含
有スルフィド化合物も公知である(特公昭55−892
90号)。 [R4-(m+n) R1 n Si(CH2 CH2 )m ]2 Smx …(4) 式中、Rは、ハロゲン原子、C1 〜C3 のアルコキシ
基、2−メトキシ−エトキシ基、2−エトキシ−エトキ
シ基またはヒドロキシ基を表し、R1 は、C1 〜C3 の
アルキル基、フェニル基またはC5 〜C7 のシクロアル
キル基を表し、n は、0、1または2であり、m は、1
または2であり、m+n は、1、2または3であり、x
は、2〜8の整数である。Further, a silyl group-containing sulfide compound represented by the following formula (4) is also known (JP-B-55-892).
No. 90). [R 4- (m + n) R 1 n Si (CH 2 CH 2) m] 2 S mx ... (4) wherein, R represents a halogen atom, an alkoxy group of C 1 -C 3, 2-methoxy - Represents an ethoxy group, a 2-ethoxy-ethoxy group or a hydroxy group, R 1 represents a C 1 -C 3 alkyl group, a phenyl group or a C 5 -C 7 cycloalkyl group, and n represents 0, 1 or 2 and m is 1
Or 2 and m + n is 1, 2 or 3, and x
Is an integer of 2 to 8.
【0004】式(3)で表される化合物の代表的なもの
として、下記式(5)で示される化合物が現在工業化さ
れているものの、式(4)で表される化合物のうち工業
化されているものは皆無である。 [(CH3 CH2 O)3 SiCH2 CH2 CH2 ]2 S4 …(5) 該化合物は、分子内にシリル基と硫黄を含有するため、
シリカを含有するゴムの添加剤として用いる場合、シリ
ル基はシリカと反応し、硫黄はゴムの2重結合と反応す
るので、優れた加硫剤となる。[0004] As a typical example of the compound represented by the formula (3), although the compound represented by the following formula (5) is currently industrialized, the compound represented by the formula (4) is industrialized. There is nothing. [(CH 3 CH 2 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 ] 2 S 4 (5) Since the compound contains a silyl group and sulfur in the molecule,
When used as an additive for silica-containing rubbers, silyl groups react with silica and sulfur reacts with the double bonds of the rubber, making it an excellent vulcanizing agent.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】式(3)および(4)
で表される化合物においては、化合物中の硫黄の含有率
が大きい程、加硫の効果が大きくなるものと予想される
が、分子構造上の制約から硫黄の含有率が24%を超え
る化合物を合成することは困難であった。また、これら
化合物の製造工程は長く、製造コストが高くなり、経済
的な方法でない。例えば、前述の化合物(5)は次の反
応で工業的に製造されている。 Na2 S4 +(CH3 CH2 O)3 SiCH2 CH2 C
H2 Cl→[(CH3 CH2 O)3 SiCH2 CH2 C
H2 ]2 S4 +2NaClThe equations (3) and (4)
In the compound represented by the formula, the effect of vulcanization is expected to increase as the content of sulfur in the compound increases, but a compound having a sulfur content of more than 24% It was difficult to synthesize. In addition, the production process of these compounds is long, the production cost is high, and it is not an economical method. For example, the aforementioned compound (5) is manufactured industrially by the following reaction. Na 2 S 4 + (CH 3 CH 2 O) 3 SiCH 2 CH 2 C
H 2 Cl → [(CH 3 CH 2 O) 3 SiCH 2 CH 2 C
H 2 ] 2 S 4 + 2NaCl
【0006】しかしながら、この反応では、NaClが
副生するため、ろ過等の分離工程とNaClに付着した
物を除去するための工程が必要になる。該副生物をろ過
除去するためには、ろ過助材が必要となりコストアップ
になるだけでなく、ろ過助材と副生NaClとは共に産
業廃棄物となるため、環境に対して優しい製造方法とは
言えないという問題があった。また、一方の原料である
Na2 S4 は、通常次のような長い工程により製造され
るためコストアップにつながっていた。 NaOH+H2 S → NaHS+H2 O NaHS+NaOH → Na2 S+H2 O Na2 S+3S → Na2 S4 本発明は、上記の種々の問題を解決し、硫黄の含有率が
高く加硫効果が大きい新規な化合物を提供することを目
的とする。However, in this reaction, since NaCl is by-produced, a separation step such as filtration and a step for removing substances attached to NaCl are required. In order to remove the by-products by filtration, a filter aid is required, which not only increases the cost, but also the filter aid and the by-product NaCl become industrial wastes. There was a problem that I could not say. In addition, Na 2 S 4, which is one of the raw materials, is usually produced by the following long process, which has led to an increase in cost. NaOH + H 2 S → NaHS + H 2 O NaHS + NaOH → Na 2 S + H 2 O Na 2 S + 3S → Na 2 S 4 The present invention solves the above various problems and provides a novel compound having a high sulfur content and a large vulcanizing effect. The purpose is to provide.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、鋭意検討を行った結果、シリル基と硫黄を含有する
新規な化合物を得て、本発明を完成するに至った。本発
明で得られた新規な化合物は下記式(1)で示されるシ
リル基含有環状スルフィド化合物である。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to achieve the above object, a novel compound containing a silyl group and sulfur has been obtained, and the present invention has been completed. The novel compound obtained by the present invention is a silyl group-containing cyclic sulfide compound represented by the following formula (1).
【0008】[0008]
【化4】 Embedded image
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、式(1)で示される代表的
な化合物を例示する。 例1:[(CH3 CH2 O)3 Si(CHCH2 )]S
3 これは、式(1)におけるRをC2 のアルコキシ、n =
0とし、m =1とし、m+n =1とし、k =1とし、x =
0とし、y =3としたものであって、具体的な構造は式
(6)のとおりである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, typical compounds represented by the formula (1) will be exemplified. Example 1: [(CH 3 CH 2 O) 3 Si (CHCH 2 )] S
3 This means that R in the formula (1) is C 2 alkoxy, n =
0, m = 1, m + n = 1, k = 1, x =
0 and y = 3, and the specific structure is as shown in Formula (6).
【0010】[0010]
【化5】 Embedded image
【0011】該化合物のGC−MSおよびNMR分析の
結果は次のとおり。 マススペクトル:理論値286.3。実際値286。1 H−NMR(重クロロホルム)δ:1.3、3.2、
3.4、3.9The results of GC-MS and NMR analysis of the compound are as follows. Mass spectrum: theoretical 286.3. Actual value 286. 1 H-NMR (deuterated chloroform) δ: 1.3, 3.2,
3.4, 3.9
【0012】例2:[(CH3 CH2 O)3 SiCHC
H2 ]2 S2 これは、式(1)におけるRをC2 のアルコキシとし、
n =0とし、m =1とし、m+n =1とし、k =2とし、
x =0とし、y =2としたもので、具体的な構造は式
(7)のとおりである。Example 2: [(CH 3 CH 2 O) 3 SiCHC
H 2 ] 2 S 2 , wherein R in formula (1) is C 2 alkoxy;
n = 0, m = 1, m + n = 1, k = 2,
x = 0 and y = 2, and the specific structure is as shown in Expression (7).
【0013】[0013]
【化6】 Embedded image
【0014】該化合物のGC−MSおよびNMR分析の
結果は次のとおり。 マススペクトル:理論値412.6。実際値414。1 H−NMR(重クロロホルム)δ:1.0、1.3、
1.7、2.7、3.1、3.9The results of GC-MS and NMR analysis of the compound are as follows. Mass spectrum: theoretical 412.6. Actual value 414. 1 H-NMR (deuterated chloroform) δ: 1.0, 1.3,
1.7, 2.7, 3.1, 3.9
【0015】例3:[(CH3 CH2 O)3 SiCH2
CHCH2 ]S3 これは、式(1)におけるRをC2 のアルコキシとし、
n =0とし、m =1とし、m+n =1とし、k =1とし、
x =1とし、y =3としたもので、具体的な構造は式
(8)のとおりである。Example 3: [(CH 3 CH 2 O) 3 SiCH 2
CHCH 2 ] S 3 wherein R in formula (1) is C 2 alkoxy;
n = 0, m = 1, m + n = 1, k = 1,
It is assumed that x = 1 and y = 3, and the specific structure is as shown in Expression (8).
【0016】[0016]
【化7】 Embedded image
【0017】該化合物のGC−MSおよびNMR分析の
結果は次のとおり。 マススペクトル:理論値300.3。実際値300。1 H−NMR(重クロロホルム)δ:1.0、1.3、
3.2、3.4、3.9The results of GC-MS and NMR analysis of the compound are as follows. Mass spectrum: theoretical 300.3. Actual value 300. 1 H-NMR (deuterated chloroform) δ: 1.0, 1.3,
3.2, 3.4, 3.9
【0018】例4:[Cl3 Si(CHCH2 )]S3 これは、式(1)におけるRを塩素原子、n =0とし、
m =1とし、m+n =1とし、k =1とし、x =0とし、
y =3としたものであって、具体的な構造は式(9)の
とおりである。Example 4: [Cl 3 Si (CHCH 2 )] S 3 where R in formula (1) is a chlorine atom, n = 0,
m = 1, m + n = 1, k = 1, x = 0,
y = 3, and the specific structure is as shown in Expression (9).
【0019】[0019]
【化8】 Embedded image
【0020】例5:[(OH)3 Si(CHCH2 )]
S3 これは、式(1)におけるRをヒドロキシ基、n =0と
し、m =1とし、m+n=1とし、k =1とし、x =0と
し、y =3としたものであって、具体的な構造は式(1
0)のとおりである。Example 5: [(OH) 3 Si (CHCH 2 )]
S 3 In this formula, R in the formula (1) is a hydroxy group, n = 0, m = 1, m + n = 1, k = 1, x = 0, and y = 3. The specific structure is given by the formula (1)
0).
【0021】[0021]
【化9】 Embedded image
【0022】例6:[(CH3 )2 (C2 H5 O)Si
(CHCH2 )]S3 これは、式(1)におけるRをC2 のアルコキシ基、R
1 をメチル基、n =2とし、m =1とし、m+n =3と
し、k =1とし、x =0とし、y =3としたものであっ
て、具体的な構造は式(11)のとおりである。Example 6: [(CH 3 ) 2 (C 2 H 5 O) Si
(CHCH 2 )] S 3 , wherein R in formula (1) is a C 2 alkoxy group,
1 is a methyl group, n = 2, m = 1, m + n = 3, k = 1, x = 0, y = 3, and the specific structure is represented by the formula (11) ).
【0023】[0023]
【化10】 Embedded image
【0024】例7:[(C2 H5 O)2 Si{(C
H2 )CHCH2 }2 ]S2 これは、式(1)におけるRをC2 のアルコキシとし、
n =0とし、m =2とし、m+n =2とし、k =1とし、
x =1とし、y =2としたもので、具体的な構造は式
(12)のとおりである。Example 7: [(C 2 H 5 O) 2 Si {(C
H 2 ) CHCH 2 } 2 ] S 2 , wherein R in formula (1) is C 2 alkoxy;
n = 0, m = 2, m + n = 2, k = 1,
It is assumed that x = 1 and y = 2, and the specific structure is as shown in Expression (12).
【0025】[0025]
【化11】 Embedded image
【0026】上記各請求項に係る発明の各式において、
Rは、ハロゲン原子、C1 〜C4 のアルコキシ基、2−
エトキシ−エトキシ基またはヒドロキシ基が挙げられる
が、ハロゲン原子の場合は、使用の際加水分解によって
腐食性のハロゲン化水素を発生し、一方ヒドロキシ基の
場合は化合物自体の安定性が悪いとの理由からアルコキ
シシランが好ましい。アルコキシシランは、炭素数1〜
4のアルコキシ基を有するものであり、具体的にはメト
キシシラン、エトキシシラン、n−プロポキシシラン、
イソプロポキシシラン、n−ブトキシシラン、sec−
ブトキシシラン、イソブトキシシランおよびtert−
ブトキシシランが挙げられるが、メトキシシランは使用
の際引火性が高くまた有害なメタノールを発生し易く、
C3 以上のアルコキシシランは架橋速度が遅い等の理由
から、好ましくはエトキシシランである。In each formula of the invention according to the above claims,
R is a halogen atom, an alkoxy group of C 1 -C 4, 2-
An ethoxy-ethoxy group or a hydroxy group is mentioned. In the case of a halogen atom, a corrosive hydrogen halide is generated by hydrolysis during use, whereas on the other hand, in the case of a hydroxy group, the stability of the compound itself is poor. Is preferred. The alkoxysilane has 1 to 1 carbon atoms.
4 having an alkoxy group, specifically, methoxysilane, ethoxysilane, n-propoxysilane,
Isopropoxysilane, n-butoxysilane, sec-
Butoxysilane, isobutoxysilane and tert-
Butoxy silane is mentioned, methoxy silane is highly flammable when used and easily generates harmful methanol,
C 3 or more alkoxysilanes reasons slow etc. crosslinking rate, preferably silane.
【0027】R1 は、C1 〜C4 のアルキル基またはC
5 〜C7 のシクロアルキル基であるが、C2 以上のアル
キル基およびシクロアルキル基は、架橋速度が遅くかつ
化合物自体が高価になるとの理由から、C1 のアルキル
基、即ちメチル基が好ましい。nは、0、1または2の
数が挙げられるが、n=1または2、即ちアルキル基が
存在すると架橋速度が遅く、また化合物自体が高価にな
るとの理由から、n=0が好ましい。mは、1または2
の数が挙げられるが、m=2では化合物中のSiの含有
率が低くなり、架橋速度が遅くなるとの理由からm=1
が好ましい。kは、1、2または3の数が挙げられる
が、k=2または3では化合物中のSの含有率が低くな
り、架橋速度が遅くなるとの理由からk=1が好まし
い。xは、0、1または2の数が挙げられるが、x=1
または2では化合物中のSiおよびSの含有率が低くな
り、架橋速度が遅くなるとの理由からx=0が好まし
い。y は、1〜9の整数が挙げられるが、y=1では架
橋速度が遅く、一方6以上では該化合物自体の製造時の
収率が低くなるので、好ましくは2〜5であり、特に好
ましくは3〜4である。R 1 is a C 1 -C 4 alkyl group or
While 5 is a cycloalkyl group -C 7, C 2 or more alkyl groups and cycloalkyl groups, for reasons of the crosslinking speed is slow and the compound itself becomes expensive, alkyl C 1, ie a methyl group . n is a number of 0, 1 or 2. However, n = 1 or 2, that is, n = 0 is preferable because the crosslinking rate is slow when the alkyl group is present and the compound itself becomes expensive. m is 1 or 2
However, when m = 2, the content of Si in the compound becomes low and the crosslinking speed becomes slow.
Is preferred. k is a number of 1, 2 or 3, but when k = 2 or 3, k = 1 is preferred because the content of S in the compound is low and the crosslinking rate is low. x is a number of 0, 1 or 2, and x = 1
In the case of or 2, x = 0 is preferable because the content of Si and S in the compound becomes low and the crosslinking rate becomes low. y is an integer of 1 to 9, and when y = 1, the crosslinking rate is slow, while when y is 6 or more, the yield of the compound itself during production is low. Is 3-4.
【0028】本発明の前記式(1)で表される新規なシ
リル基含有環状スルフィド化合物の製造方法としては、
対応する二重結合を有するシラン化合物と硫黄または多
硫化物とを反応させる方法が製造工程が短く工業的に有
利である。原料として使用する前記二重結合を有するシ
ラン化合物としては、下記式(2)で表されるものであ
る。 R4-(m+n) R1 n Si{(CH2)x CH=CH2 }m …(2) 式中、Rは、ハロゲン原子、C1 〜C4 のアルコキシ
基、2−エトキシ−エトキシ基またはヒドロキシ基が挙
げられるが、アルコキシシランが好ましい。アルコキシ
シランは、炭素数1〜4のアルコキシ基を有するであ
り、具体的にはメトキシシラン、エトキシシラン、n−
プロポキシシラン、イソプロポキシシラン、n−ブトキ
シシラン、sec−ブトキシシラン、イソブトキシシラ
ンおよびtert−ブトキシシランが挙げられるが、特
に好ましくはエトキシシランである。The method for producing the novel silyl group-containing cyclic sulfide compound represented by the above formula (1) of the present invention includes:
A method of reacting a silane compound having a corresponding double bond with sulfur or polysulfide has a short production step and is industrially advantageous. The silane compound having a double bond used as a raw material is represented by the following formula (2). R 4- (m + n) R 1 n Si {(CH 2) x CH = CH 2} m ... (2) wherein, R represents a halogen atom, an alkoxy group of C 1 -C 4, 2-ethoxy - An ethoxy group or a hydroxy group is mentioned, and an alkoxysilane is preferable. The alkoxysilane has an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Specifically, methoxysilane, ethoxysilane, n-
Examples include propoxysilane, isopropoxysilane, n-butoxysilane, sec-butoxysilane, isobutoxysilane and tert-butoxysilane, with ethoxysilane being particularly preferred.
【0029】R1 は、C1 〜C4 のアルキル基、C5 〜
C7 のシクロアルキル基が挙げられるが、好ましくは、
C1 のアルキル基である。n は、0、1または2の数が
挙げられるが、好ましくは0である。m は、1または2
の数が挙げられるが、好ましくは1である。k は、1ま
たは2の数が挙げられるが、好ましくは1である。X
は、0、1または2の数が挙げられるが、好ましくは0
である。なお、各々好ましい理由は、式(1)の化合物
において述べたことと同じである。[0029] R 1 is an alkyl group of C 1 ~C 4, C 5 ~
C 7 cycloalkyl groups are preferred, but preferably
It is a C 1 alkyl group. n is a number of 0, 1 or 2, and is preferably 0. m is 1 or 2
And the number is preferably 1. k is a number of 1 or 2, and is preferably 1. X
Is a number of 0, 1 or 2, and preferably 0
It is. In addition, preferable reasons are the same as those described for the compound of the formula (1).
【0030】もう一方の原料である硫黄または多硫化物
としては、単体の硫黄および多硫化ナトリウムが安価で
好ましいが、多硫化物は前述のとおり、式(1)で表さ
れるシリル基含有環状スルフィド化合物の合成反応にお
いて副生物が生成し、またそれ自体高価である等の欠点
があるため、単体の硫黄が特に好ましい。As the other raw material, sulfur or polysulfide, simple sulfur and sodium polysulfide are preferable at a low cost, but the polysulfide is a silyl group-containing cyclic compound represented by the formula (1) as described above. Sulfur alone is particularly preferred because it has drawbacks such as formation of by-products in the synthesis reaction of the sulfide compound and its high cost.
【0031】反応は、硫黄または多硫化物と式(2)で
示されるシラン化合物とを、通常は窒素ガス等を用いる
不活性雰囲気中で、ヒドロキノンのごとき安定剤の存在
下に、攪拌しながら接触させることにより行なわれ、こ
れを反応溶媒中で行うこともできるが、溶媒を用いる場
合は装置が大きくなったり加熱手段が必要で経済的では
ないため、無溶媒の方が好ましい。なお、反応溶媒とし
ては、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジオ
キサン、THF(テトラヒドロフラン)、ジブチルエー
テル等のエーテル類、アセトン等のケトン類等の極性有
機溶媒や、アルキルベンゼン、ジベンジルトルエン、ア
ルキルナフタリン等の無極性有機溶媒が挙げられる。In the reaction, sulfur or polysulfide and the silane compound represented by the formula (2) are stirred in an inert atmosphere usually using nitrogen gas or the like in the presence of a stabilizer such as hydroquinone while stirring. The reaction can be carried out by bringing the solvent into contact, and this can be carried out in a reaction solvent. However, when a solvent is used, the use of a solvent is preferred because the apparatus becomes large and a heating means is required, which is not economical. Examples of the reaction solvent include polar organic solvents such as alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as dioxane, THF (tetrahydrofuran) and dibutyl ether, ketones such as acetone, and alkylbenzene, dibenzyltoluene, and alkylnaphthalene. Non-polar organic solvents.
【0032】反応温度は、0℃から200℃の範囲で行
うことができ、多硫化物を原料とする場合は、0℃から
100℃の範囲が、単体硫黄を原料とする場合は、10
0℃から150℃の範囲が好ましい。The reaction temperature can be in the range of 0 ° C. to 200 ° C., when the polysulfide is used as the starting material, the reaction temperature is in the range of 0 ° C. to 100 ° C.
A range from 0 ° C to 150 ° C is preferred.
【0033】原料である前記式(2)で示される二重結
合を有するシラン化合物と硫黄または多硫化物との反応
比率は、該不飽和化合物が有する2重結合1モルに対し
て硫黄または多硫化物が有するSのモル比で、1〜8の
範囲が好ましい。1未満では反応速度が遅くなり実用的
ではなく、8を超えると硫黄または多硫化物を必要以上
に加熱することになり経済的ではない。より好ましくは
3〜5である。The reaction ratio between the raw material silane compound having a double bond represented by the above formula (2) and sulfur or polysulfide is such that 1 mole of double bond of the unsaturated compound is The molar ratio of S contained in the sulfide is preferably in the range of 1 to 8. If it is less than 1, the reaction rate will be low and it is not practical, and if it is more than 8, sulfur or polysulfide will be heated more than necessary, which is not economical. More preferably, it is 3-5.
【0034】なお、反応後、未反応物を分離し、再び反
応系にリサイクルして使用することができる。After the reaction, unreacted substances can be separated and recycled again to the reaction system.
【0035】[0035]
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説
明する。なお、実施例中「%」とあるは「重量%」であ
る。 実施例1 窒素ガス導入管、冷却管および温度計を備えた500m
lガラス製フラスコを窒素置換した後、粉末硫黄40g
(1.25mol)、ビニルトリエトキシシラン47.
6g(0.25mol)およびヒドロキノン2.4gを
仕込み、窒素気流下、150℃で加熱攪拌を7時間継続
した。室温まで、冷却した後、沈降した硫黄を濾別した
ところ、黄色透明の液体が68.6g得られた。ビニル
トリエトキシシランはほとんど反応していた。該生成液
中の硫黄含有率は33.5%であった。The present invention will be described below in more detail with reference to examples. In the examples, “%” means “% by weight”. Example 1 500 m equipped with a nitrogen gas inlet pipe, a cooling pipe and a thermometer
After replacing the glass flask with nitrogen, powder sulfur 40 g
(1.25 mol), vinyltriethoxysilane
6 g (0.25 mol) and 2.4 g of hydroquinone were charged, and heated and stirred at 150 ° C. for 7 hours under a nitrogen stream. After cooling to room temperature, the precipitated sulfur was filtered off to obtain 68.6 g of a yellow transparent liquid. The vinyltriethoxysilane had almost reacted. The sulfur content in the product liquid was 33.5%.
【0036】該生成液をGPC、GC−MSおよびNM
R分析した結果、下記の化合物を含んでいることが分か
った。 [(CH3 CH2 O)3 SiCHCH2 ]S3 …3
6.2% マススペクトル:理論値286.3。実際値286。1 H−NMR(重クロロホルム)δ:1.3、3.2、
3.4、3.9 [(CH3 CH2 O)3 SiCHCH2 ]S4 …
7.7% マススペクトル:理論値318.3。実際値318。1 H−NMR(重クロロホルム)δ:1.3、3.5、
3.7、3.9 [(CH3 CH2 O)3 SiCHCH2 ]2 S …
15.4% マススペクトル:理論値412.6。実際値414。1 H−NMR(重クロロホルム)δ:1.0、1.3、
1.7、2.7、3.1、3.9 [(CH3 CH2 O)3 SiCHCH2 ]2 S3 …
13.4% マススペクトル:理論値476.6。実際値475。1 H−NMR(重クロロホルム)δ:1.2、1.3、
1.7、3.1、3.6、3.9The resulting solution was subjected to GPC, GC-MS and NM
As a result of R analysis, it was found to contain the following compounds. [(CH 3 CH 2 O) 3 SiCHCH 2 ] S 3 ... 3
6.2% Mass spectrum: theory 286.3. Actual value 286. 1 H-NMR (deuterated chloroform) δ: 1.3, 3.2,
3.4, 3.9 [(CH 3 CH 2 O) 3 SiCHCH 2 ] S 4 ...
7.7% Mass spectrum: theoretical 318.3. Actual value 318. 1 H-NMR (deuterated chloroform) δ: 1.3, 3.5,
3.7, 3.9 [(CH 3 CH 2 O) 3 SiCHCH 2 ] 2 S ...
15.4% Mass spectrum: theoretical 412.6. Actual value 414. 1 H-NMR (deuterated chloroform) δ: 1.0, 1.3,
1.7, 2.7, 3.1, 3.9 [(CH 3 CH 2 O) 3 SiCHCH 2 ] 2 S 3 ...
13.4% Mass spectrum: theory 476.6. Actual value 475. 1 H-NMR (deuterated chloroform) δ: 1.2, 1.3,
1.7, 3.1, 3.6, 3.9
【0037】実施例2 窒素ガス導入管、冷却管および温度計を備えた500m
lガラス製フラスコを窒素置換した後、粉末硫黄40g
(1.25mol)、アリルトリエトキシシラン51.
1g(0.25mol)およびヒドロキノン2.4gを
仕込み、窒素気流下、150℃で加熱攪拌を7時間継続
した。室温まで、冷却した後、沈降した硫黄を濾別した
ところ、黄色透明の液体が73.6g得られた。該生成
液中の硫黄含有率は40.4%であった。Example 2 500 m equipped with a nitrogen gas inlet pipe, a cooling pipe and a thermometer
After replacing the glass flask with nitrogen, powder sulfur 40 g
(1.25 mol), allyltriethoxysilane 51.
1 g (0.25 mol) and 2.4 g of hydroquinone were charged, and heated and stirred at 150 ° C. for 7 hours under a nitrogen stream. After cooling to room temperature, the precipitated sulfur was filtered off to obtain 73.6 g of a yellow transparent liquid. The sulfur content in the product liquid was 40.4%.
【0038】該生成液をGPC、GC−MSおよびNM
R分析した結果、下記の化合物を含んでいることが分か
った。 [(CH3 CH2 O)3 SiCH2 CHCH2 ]S
3 …13.4% マススペクトル:理論値300.3。実際値300。1 H−NMR(重クロロホルム)δ:1.0、1.3、
3.2、3.4、3.9 [(CH3 CH2 O)3 SiCH2 CHCH2 ]S
4 …35.3% マススペクトル:理論値332.3。実際値332。1 H−NMR(重クロロホルム)δ:1.0、1.3、
3.5、3.5、3.9 [(CH3 CH2 O)3 SiCH2 CHCH2 ]2
S …10.8% マススペクトル:理論値426.6。実際値426。1 H−NMR(重クロロホルム)δ:0.8、1.3、
1.5、2.6、3.2、3.9 [(CH3 CH2 O)3 SiCH2 CHCH2 ]2
S3 …18.4% マススペクトル:理論値490.6。実際値490。1 H−NMR(重クロロホルム)δ:1.0、1.3、
1.5、3.1、3.7、3.9 未反応アリルトリエトキシシラン …19.7%The resulting solution was subjected to GPC, GC-MS and NM
As a result of R analysis, it was found to contain the following compounds. [(CH 3 CH 2 O) 3 SiCH 2 CHCH 2 ] S
3 13.4% Mass spectrum: theoretical value 300.3. Actual value 300. 1 H-NMR (deuterated chloroform) δ: 1.0, 1.3,
3.2, 3.4, 3.9 [(CH 3 CH 2 O) 3 SiCH 2 CHCH 2 ] S
4 ... 35.3% Mass spectrum: theoretical value 332.3. Actual value 332. 1 H-NMR (deuterated chloroform) δ: 1.0, 1.3,
3.5, 3.5, 3.9 [(CH 3 CH 2 O) 3 SiCH 2 CHCH 2 ] 2
S: 10.8% Mass spectrum: theoretical value 426.6. Actual value 426. 1 H-NMR (deuterated chloroform) δ: 0.8, 1.3,
1.5, 2.6, 3.2, 3.9 [(CH 3 CH 2 O) 3 SiCH 2 CHCH 2 ] 2
S 3 18.4% Mass spectrum: theoretical value 490.6. Actual value 490. 1 H-NMR (deuterated chloroform) δ: 1.0, 1.3,
1.5, 3.1, 3.7, 3.9 Unreacted allyltriethoxysilane 19.7%
【0039】実施例3および比較例1 実施例1で得られたシリル基含有スルフィド化合物の混
合物(実施例3)および別のシリル基含有スルフィド化
合物(ビス−トリエトキシシリルプロピルテトラスルフ
ァイド:比較例1)を用いて、タイヤトレッド用ゴム組
成物を作製し、下記の試験方法により加硫後の物性を調
べた。その結果を表1に示した。Example 3 and Comparative Example 1 A mixture of the silyl group-containing sulfide compound obtained in Example 1 (Example 3) and another silyl group-containing sulfide compound (bis-triethoxysilylpropyl tetrasulfide: Comparative Example) Using 1), a rubber composition for a tire tread was prepared, and the physical properties after vulcanization were examined by the following test methods. The results are shown in Table 1.
【0040】(リュプケ弾性)リュプケ式弾性試験によ
って各ゴム組成物の40℃におけるリュプケ弾性を測定
した。このリュプケ弾性が大きいほど転動抵抗が小さ
く、低発熱性が優れていることになる。 (ウェットスキッド抵抗)トレッドに各ゴム組成物を配
置したタイヤにおいて、湿潤させた舗装近似路面(3M
社製のセーフティーウォーク)を路面として使用し、2
5℃の雰囲気中でポータブルテスター(スタンレー社
製)によりウェットスキッド抵抗値を測定した。このウ
ェットスキッド抵抗値が大きいほどウェットグリップ性
能が優れていることになる。 (ランボーン摩擦指数)ランボーン式摩擦試験機により
各ゴム組成物の摩耗減量を測定し、この測定値の逆数を
求め、比較例を基準値(100)とした指数で示した。
この指数値が大きいほど耐摩耗性能が優れていることに
なる。 (破断強度)各ゴム組成物の破断強度をJIS K63
01に準拠して測定した。 (硬度)各ゴム組成物の0℃におけるJIS硬度をJI
S K6301に準拠して測定した。 (引張応力)各ゴム組成物を50%、100%、200
%伸長したときの引張応力をJISK6301に準拠し
て測定した。(Lupke Elasticity) The Lupke elasticity of each rubber composition at 40 ° C. was measured by a Lupke elasticity test. The greater the Lupke elasticity, the lower the rolling resistance and the better the low heat generation. (Wet skid resistance) In a tire in which each rubber composition is arranged on a tread, a wet pavement approximate road surface (3M
Using the company's safety walk) as the road surface
The wet skid resistance was measured with a portable tester (manufactured by Stanley) in an atmosphere at 5 ° C. The greater the wet skid resistance value, the better the wet grip performance. (Lambourn friction index) The abrasion loss of each rubber composition was measured with a Lambourn friction tester, the reciprocal of the measured value was determined, and the result was indicated by an index using the comparative example as a reference value (100).
The larger the index value, the better the wear resistance performance. (Breaking strength) The breaking strength of each rubber composition was measured according to JIS K63.
01. (Hardness) The JIS hardness of each rubber composition at 0 ° C.
It was measured according to SK6301. (Tensile stress) 50%, 100%, 200% of each rubber composition
% Elongation was measured in accordance with JIS K6301.
【0041】[0041]
【表1】 * :ビス−トリエトキシシリルプロピルテトラスルファイド[Table 1] * : Bis-triethoxysilylpropyl tetrasulfide
【0042】この表から明かなように、実施例3はリュ
プケ弾性が大きいことから転動抵抗が小さく、しかもウ
ェットスキッド抵抗が増加していた。また、耐摩耗性の
向上、硬度の増加、さらに高振幅の歪み(200%)に
対する引張応力が著しく高くなった。この結果、低燃費
性、ウェットグリップ性能および耐摩耗性に優れたタイ
ヤトレッド用ゴム組成物を製造することができた。As is clear from this table, Example 3 had low rolling resistance and increased wet skid resistance due to high Lupke elasticity. In addition, the abrasion resistance was improved, the hardness was increased, and the tensile stress for high-amplitude strain (200%) was significantly increased. As a result, a rubber composition for a tire tread excellent in fuel economy, wet grip performance and abrasion resistance could be produced.
【0043】[0043]
【発明の効果】本発明によれば、硫黄の含有率が30%
以上である、シリル基と硫黄を含有する新規な化合物を
提供することができる。該化合物をゴムの添加剤として
用いると、優れた加硫効果を得ることができ、特に低燃
費性、ウェットグリップ性能および耐摩耗性に優れたタ
イヤトレッド用ゴム組成物を製造することができる。ま
た、本発明の製造方法によると、その製造工程は短く、
経済的に本発明の化合物を製造できる。さらに、一方の
原料として単体硫黄を用いた場合には、NaCl等が副
生しないため、廃棄物が少なく環境に対して負荷が低減
できる。According to the present invention, the sulfur content is 30%.
As described above, a novel compound containing a silyl group and sulfur can be provided. When the compound is used as a rubber additive, an excellent vulcanizing effect can be obtained, and a rubber composition for a tire tread excellent in particularly low fuel consumption, wet grip performance and abrasion resistance can be produced. Further, according to the manufacturing method of the present invention, the manufacturing process is short,
The compound of the present invention can be produced economically. Furthermore, when elemental sulfur is used as one of the raw materials, NaCl and the like are not produced as by-products, so that there is little waste and the load on the environment can be reduced.
【図1】実施例1に係る反応生成物のNMRスペクトル
を示した図である。FIG. 1 is a diagram showing an NMR spectrum of a reaction product according to Example 1.
【図2】実施例2に係る反応生成物のNMRスペクトル
を示した図である。FIG. 2 is a diagram showing an NMR spectrum of a reaction product according to Example 2.
Claims (3)
状スルフィド化合物。 【化1】 1. A silyl group-containing cyclic sulfide compound represented by the following formula (1). Embedded image
るシラン化合物と硫黄または多硫化物とを反応させるこ
とを特徴とする下記式(1)で示されるシリル基含有環
状スルフィド化合物の製造方法。 R4-(m+n) R1 n Si〔(CH2)x CH=CH2 〕m …(2) 式中、Rは、ハロゲン原子、C1 〜C4 のアルコキシ
基、2−エトキシ−エトキシ基またはヒドロキシ基を表
し、 R1 は、C1 〜C4 のアルキル基またはC5 〜C7 のシ
クロアルキル基を表し、 n は、0、1または2であり、 m は、1または2であり、 m+n は、1、2または3であり、 x は、0、1または2であり、 【化2】 2. A silyl group-containing cyclic sulfide compound represented by the following formula (1), wherein a silane compound having a double bond represented by the following formula (2) is reacted with sulfur or polysulfide. Manufacturing method. R 4- (m + n) R 1 n Si [(CH 2) x CH = CH 2 ] m ... (2) wherein, R represents a halogen atom, an alkoxy group of C 1 -C 4, 2-ethoxy - Represents an ethoxy group or a hydroxy group, R 1 represents a C 1 -C 4 alkyl group or a C 5 -C 7 cycloalkyl group, n is 0, 1 or 2, m is 1 or 2 M + n is 1, 2 or 3; x is 0, 1 or 2;
状スルフィド化合物を添加してなるゴム組成物。 【化3】 3. A rubber composition comprising a silyl group-containing cyclic sulfide compound represented by the following formula (1). Embedded image
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24748597A JP3610741B2 (en) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | Silyl group-containing cyclic sulfide compound, process for producing the same, and rubber composition comprising the compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24748597A JP3610741B2 (en) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | Silyl group-containing cyclic sulfide compound, process for producing the same, and rubber composition comprising the compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1180209A true JPH1180209A (en) | 1999-03-26 |
| JP3610741B2 JP3610741B2 (en) | 2005-01-19 |
Family
ID=17164174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24748597A Expired - Fee Related JP3610741B2 (en) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | Silyl group-containing cyclic sulfide compound, process for producing the same, and rubber composition comprising the compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3610741B2 (en) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001226383A (en) * | 1999-12-08 | 2001-08-21 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | Sulfur-containing organosilicon compound and method for producing the same |
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| WO2019203195A1 (en) * | 2018-04-20 | 2019-10-24 | 住友精化株式会社 | Cyclic polysulfide compound |
| JP2020132607A (en) * | 2019-02-25 | 2020-08-31 | Eneos株式会社 | Sulfur-containing silane compounds and compositions thereof |
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| JP2020132607A (en) * | 2019-02-25 | 2020-08-31 | Eneos株式会社 | Sulfur-containing silane compounds and compositions thereof |
| WO2020175493A1 (en) | 2019-02-25 | 2020-09-03 | Jxtgエネルギー株式会社 | Sulfur-containing silane compound and composition thereof |
| CN113490606A (en) * | 2019-02-25 | 2021-10-08 | 引能仕株式会社 | Sulfur-containing silane compounds and compositions thereof |
| US12060475B2 (en) | 2019-02-25 | 2024-08-13 | Eneos Corporation | Sulfur-containing silane compound and composition thereof |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3610741B2 (en) | 2005-01-19 |
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