JPH1184286A - レーザー光源装置 - Google Patents
レーザー光源装置Info
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- JPH1184286A JPH1184286A JP25281197A JP25281197A JPH1184286A JP H1184286 A JPH1184286 A JP H1184286A JP 25281197 A JP25281197 A JP 25281197A JP 25281197 A JP25281197 A JP 25281197A JP H1184286 A JPH1184286 A JP H1184286A
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- light source
- optical box
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザー光の副走査方向におけるピッチの調
整を容易に行う。 【解決手段】 半導体レーザー光源２２は基台４１に対
して圧入又は接着されている。コリメータレンズ２３を
含む鏡筒４２は基台４１に取り付けられ、所定の焦点位
置に調整固定されている。光学箱４３には雌ねじ孔４４
が形成されており、鏡筒４２の周囲に形成した雄ねじ４
５が雌ねじ孔４４に螺合されることにより、レーザーユ
ニット２１は光学箱４３に固定されている。これによっ
て、レーザーユニット２１をＸ−Ｘ’方向へ回転させ、
半導体レーザー光源２２の２つの発光点の間隔を調整す
ることができる。
整を容易に行う。 【解決手段】 半導体レーザー光源２２は基台４１に対
して圧入又は接着されている。コリメータレンズ２３を
含む鏡筒４２は基台４１に取り付けられ、所定の焦点位
置に調整固定されている。光学箱４３には雌ねじ孔４４
が形成されており、鏡筒４２の周囲に形成した雄ねじ４
５が雌ねじ孔４４に螺合されることにより、レーザーユ
ニット２１は光学箱４３に固定されている。これによっ
て、レーザーユニット２１をＸ−Ｘ’方向へ回転させ、
半導体レーザー光源２２の２つの発光点の間隔を調整す
ることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザープリンタ
やデジタル複写機などでマルチビームを用いて光書き込
みを行うためのレーザー光源装置に関するものである。
やデジタル複写機などでマルチビームを用いて光書き込
みを行うためのレーザー光源装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、従来のレーザープリンタにおい
ては、図６に示すように主要部に感光体１と光学ユニッ
ト２が設けられ、光学ユニット２内の２つのレーザーユ
ニット３、４からそれぞれレーザー光を出射し、一方の
レーザー光をプリズム５により他方のレーザー光と平行
方向に偏向して、双方のレーザー光を１個のポリゴンミ
ラー６の反射面に照射して反射させ、レンズ７を透過し
て感光体１の面上に同時走査して書き込みを行ってい
る。これらのレーザーユニット３、４はそれぞれ半導体
レーザー光源８、９とコリメータレンズ１０、１１を有
し、それぞれにおいてレーザー光の焦点及び照射位置の
調整を行っている。
ては、図６に示すように主要部に感光体１と光学ユニッ
ト２が設けられ、光学ユニット２内の２つのレーザーユ
ニット３、４からそれぞれレーザー光を出射し、一方の
レーザー光をプリズム５により他方のレーザー光と平行
方向に偏向して、双方のレーザー光を１個のポリゴンミ
ラー６の反射面に照射して反射させ、レンズ７を透過し
て感光体１の面上に同時走査して書き込みを行ってい
る。これらのレーザーユニット３、４はそれぞれ半導体
レーザー光源８、９とコリメータレンズ１０、１１を有
し、それぞれにおいてレーザー光の焦点及び照射位置の
調整を行っている。
【０００３】また、レーザーユニット３、４をずらして
レーザー光のピッチを感光体１の面上の副走査方向への
所定のピッチとなるように調整している。そのずれ量は
記録密度によって異なるが、例えば解像度が６００ＤＰ
Ｉ（ドット／インチ）では、レーザー光の副走査方向の
ピッチを４２μｍ程度に調整する必要がある。
レーザー光のピッチを感光体１の面上の副走査方向への
所定のピッチとなるように調整している。そのずれ量は
記録密度によって異なるが、例えば解像度が６００ＤＰ
Ｉ（ドット／インチ）では、レーザー光の副走査方向の
ピッチを４２μｍ程度に調整する必要がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のレーザーユニット３、４の双方を移動させ、所定の走
査ピッチに合わせる作業は非常に困難である。
のレーザーユニット３、４の双方を移動させ、所定の走
査ピッチに合わせる作業は非常に困難である。
【０００５】更に、最近では２つの発光点を持つレーザ
ー光源が開発されており、このような半導体レーザー光
源を使用する場合には、２つの発光点から出射されるレ
ーザー光の走査ピッチの調整は更に困難となる。
ー光源が開発されており、このような半導体レーザー光
源を使用する場合には、２つの発光点から出射されるレ
ーザー光の走査ピッチの調整は更に困難となる。
【０００６】本発明の目的は、上述の問題点を解消し、
レーザー光の副走査方向におけるピッチの調整を容易に
実施できるレーザー光源装置を提供することにある。
レーザー光の副走査方向におけるピッチの調整を容易に
実施できるレーザー光源装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係るレーザー光源装置は、光束を偏向して所
定面上に集光する光学系を内蔵する光学箱と、複数の発
光点を有する半導体レーザー光源を固定した基台とから
成り、複数本のコリメートされたレーザー光を出射する
レーザー光源装置において、前記基台の外周部にねじを
刻設して、該ねじを用いて前記基台を前記光学箱に固定
することを特徴とする。
の本発明に係るレーザー光源装置は、光束を偏向して所
定面上に集光する光学系を内蔵する光学箱と、複数の発
光点を有する半導体レーザー光源を固定した基台とから
成り、複数本のコリメートされたレーザー光を出射する
レーザー光源装置において、前記基台の外周部にねじを
刻設して、該ねじを用いて前記基台を前記光学箱に固定
することを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明を図１〜図５に図示の実施
例に基づいて詳細に説明する。図１は走査光学系の構成
図であり、レーザーユニット２１には、半導体レーザー
光源２２、コリメータレンズ２３、開口絞り２４が順次
に配列されており、そのレーザー光の出射方向には、シ
リンドリカルレンズ２５、モータ２６により駆動される
ポリゴンミラー２７が設けられている。ポリゴンミラー
２７の偏向方向には、ｆθレンズ２８、トーリックレン
ズ２９、感光体３０が配置されている。また、感光体３
０の有効画像領域外に固定ミラー３１が配置され、その
反射方向には集光レンズ３２、タイミング検知用センサ
３３が設けられている。
例に基づいて詳細に説明する。図１は走査光学系の構成
図であり、レーザーユニット２１には、半導体レーザー
光源２２、コリメータレンズ２３、開口絞り２４が順次
に配列されており、そのレーザー光の出射方向には、シ
リンドリカルレンズ２５、モータ２６により駆動される
ポリゴンミラー２７が設けられている。ポリゴンミラー
２７の偏向方向には、ｆθレンズ２８、トーリックレン
ズ２９、感光体３０が配置されている。また、感光体３
０の有効画像領域外に固定ミラー３１が配置され、その
反射方向には集光レンズ３２、タイミング検知用センサ
３３が設けられている。
【０００９】半導体レーザー光源２２から出射されたレ
ーザー光は、コリメータレンズ２３を透過することによ
り平行光とされ、開口絞り２４によって絞られて所定の
ビーム形状とされる。このレーザー光は更にシリンドリ
カルレンズ２５を透過して、その１方向だけが収束され
てポリゴンミラー２７上に線状に照射される。そして、
ポリゴンミラー２７はモータ２６によって高速に回転し
ており、ポリゴンミラー２７の偏向面に照射されたレー
ザー光は高速で偏向走査される。
ーザー光は、コリメータレンズ２３を透過することによ
り平行光とされ、開口絞り２４によって絞られて所定の
ビーム形状とされる。このレーザー光は更にシリンドリ
カルレンズ２５を透過して、その１方向だけが収束され
てポリゴンミラー２７上に線状に照射される。そして、
ポリゴンミラー２７はモータ２６によって高速に回転し
ており、ポリゴンミラー２７の偏向面に照射されたレー
ザー光は高速で偏向走査される。
【００１０】更に、レーザー光はｆθレンズ２８、トー
リックレンズ２９により、感光体３０の面上へ微小なス
ポットとして結像される。また、ｆθレンズ２８、トー
リックレンズ２９を透過することにより、ポリゴンミラ
ー２７により等角速度で偏向走査されたレーザー光は、
感光体３０の面上でそのスポット光が等速度で走査され
る。
リックレンズ２９により、感光体３０の面上へ微小なス
ポットとして結像される。また、ｆθレンズ２８、トー
リックレンズ２９を透過することにより、ポリゴンミラ
ー２７により等角速度で偏向走査されたレーザー光は、
感光体３０の面上でそのスポット光が等速度で走査され
る。
【００１１】このスポット光は感光体３０において矢印
の方向に繰り返して走査されるが、ポリゴンミラー２７
の反射面の分割誤差があると、繰り返して情報を書き込
むタイミングがずれるので、それを防止するため、各反
射面で偏向走査される先頭のレーザー光をその有効画像
領域外の部分を利用して検知している。即ち、レーザー
光は有効画像領域外に設けられた固定ミラー３１で反射
され、集光レンズ３２を介して、タイミング検知用セン
サ３３に導かれて検知され、走査ビームのタイミングの
調整を図っている。
の方向に繰り返して走査されるが、ポリゴンミラー２７
の反射面の分割誤差があると、繰り返して情報を書き込
むタイミングがずれるので、それを防止するため、各反
射面で偏向走査される先頭のレーザー光をその有効画像
領域外の部分を利用して検知している。即ち、レーザー
光は有効画像領域外に設けられた固定ミラー３１で反射
され、集光レンズ３２を介して、タイミング検知用セン
サ３３に導かれて検知され、走査ビームのタイミングの
調整を図っている。
【００１２】そこで、従来技術で述べたように、レーザ
ー光の副走査方向のピッチを半導体レーザー光源２２、
コリメータレンズ２３及び開口絞り２４を含めたレーザ
ーユニット２１により調整する必要がある。
ー光の副走査方向のピッチを半導体レーザー光源２２、
コリメータレンズ２３及び開口絞り２４を含めたレーザ
ーユニット２１により調整する必要がある。
【００１３】図２は第１の実施例を示し、半導体レーザ
ー光源２２は基台４１に対して圧入又は接着されてい
る。コリメータレンズ２３を含む鏡筒４２は基台４１に
取り付けられ、所定の焦点位置に調整固定されている。
各種の光学部品が内蔵されている光学箱４３には雌ねじ
孔４４が形成されており、鏡筒４２の周囲に形成された
雄ねじ４５がこの雌ねじ孔４４に螺合されることによ
り、レーザーユニット２１は光学箱４３に固定される。
そして、雄ねじ４５を雌ねじ孔４４に対して回転させる
ことによって、レーザーユニット２１をＸ−Ｘ’方向に
調整することができる。
ー光源２２は基台４１に対して圧入又は接着されてい
る。コリメータレンズ２３を含む鏡筒４２は基台４１に
取り付けられ、所定の焦点位置に調整固定されている。
各種の光学部品が内蔵されている光学箱４３には雌ねじ
孔４４が形成されており、鏡筒４２の周囲に形成された
雄ねじ４５がこの雌ねじ孔４４に螺合されることによ
り、レーザーユニット２１は光学箱４３に固定される。
そして、雄ねじ４５を雌ねじ孔４４に対して回転させる
ことによって、レーザーユニット２１をＸ−Ｘ’方向に
調整することができる。
【００１４】この回転により、副走査方向のスポット光
の間隔を所定間隔、例えば６００ＤＰＩでは４２μｍ程
度に合わせ込む作業を、次のような簡便な方法で行うこ
とができる。
の間隔を所定間隔、例えば６００ＤＰＩでは４２μｍ程
度に合わせ込む作業を、次のような簡便な方法で行うこ
とができる。
【００１５】(イ) レーザーユニット２１から出射される
光束が平行光束である場合には、スポット光の間隔が所
定の大きさになるように、Ｘ−Ｘ’方向にレーザーユニ
ット２１を回転させて、調整後に基台４１の雄ねじ４５
の周囲に接着剤を滴下し、レーザーユニット２１を光学
箱４３に固定する。この場合は、レーザーユニット２１
のＺ方向位置はどこでもよい。このとき、用いる接着剤
は瞬間接着剤、嫌気性接着剤、ＵＶ接着剤等が考えられ
る。
光束が平行光束である場合には、スポット光の間隔が所
定の大きさになるように、Ｘ−Ｘ’方向にレーザーユニ
ット２１を回転させて、調整後に基台４１の雄ねじ４５
の周囲に接着剤を滴下し、レーザーユニット２１を光学
箱４３に固定する。この場合は、レーザーユニット２１
のＺ方向位置はどこでもよい。このとき、用いる接着剤
は瞬間接着剤、嫌気性接着剤、ＵＶ接着剤等が考えられ
る。
【００１６】(ロ) レーザーユニット２１から出射される
光束が収束光束である場合には、レーザーユニット２１
自体のＺ方向の所定位置まで、Ｘ−Ｘ’方向にレーザー
ユニット２１を回転させてＺ方向の位置調整を行う。ほ
ぼ、Ｚ方向が所定位置になったところで、レーザーユニ
ット２１をＸ−Ｘ’方向に回転させてスポット間隔調整
を行う。調整後に、光学箱４３に対してレーザーユニッ
ト２１を接着固定するのは、(イ) と同様である。
光束が収束光束である場合には、レーザーユニット２１
自体のＺ方向の所定位置まで、Ｘ−Ｘ’方向にレーザー
ユニット２１を回転させてＺ方向の位置調整を行う。ほ
ぼ、Ｚ方向が所定位置になったところで、レーザーユニ
ット２１をＸ−Ｘ’方向に回転させてスポット間隔調整
を行う。調整後に、光学箱４３に対してレーザーユニッ
ト２１を接着固定するのは、(イ) と同様である。
【００１７】この２つの調整精度としては、Ｚ方向にお
いては±０．５ｍｍ程度でよい。しかし、副走査方向の
スポット間隔は例えば６００ＤＰＩでは４２μｍ±２μ
ｍ程度と非常に厳しい精度が要求される。このため、或
る程度Ｚ方向位置を調整しておけば、スポット間隔を再
調整する際には、Ｚ方向の位置調整からし直す必要はな
い。以下に記述する全ての実施例においても同様の調整
を行えるので、(イ) の場合のみを記述する。
いては±０．５ｍｍ程度でよい。しかし、副走査方向の
スポット間隔は例えば６００ＤＰＩでは４２μｍ±２μ
ｍ程度と非常に厳しい精度が要求される。このため、或
る程度Ｚ方向位置を調整しておけば、スポット間隔を再
調整する際には、Ｚ方向の位置調整からし直す必要はな
い。以下に記述する全ての実施例においても同様の調整
を行えるので、(イ) の場合のみを記述する。
【００１８】図３は第２の実施例の構成図を示してお
り、光学箱４３には雌ねじ孔４４が形成され、雄ねじ４
５には予めナット４６が螺合されている。雄ねじ４５は
雌ねじ孔４４に螺合され、基台４１をＸ−Ｘ’方向に回
転させることで、副走査方向の所定のピッチ間隔になる
ように調整される。所定のピッチ間隔に調整された後
に、ナット４６のみをＸ−Ｘ’方向に回転させることに
より基台４１は光学箱４３に堅固に固定される。
り、光学箱４３には雌ねじ孔４４が形成され、雄ねじ４
５には予めナット４６が螺合されている。雄ねじ４５は
雌ねじ孔４４に螺合され、基台４１をＸ−Ｘ’方向に回
転させることで、副走査方向の所定のピッチ間隔になる
ように調整される。所定のピッチ間隔に調整された後
に、ナット４６のみをＸ−Ｘ’方向に回転させることに
より基台４１は光学箱４３に堅固に固定される。
【００１９】図４は第３の実施例を示し、光学箱４３に
はねじを有しない孔４７が設けられており、雄ねじ４５
を孔４７に挿通した状態で、雄ねじ４５に対し光学箱４
３の両側から２個のナット４６ａ、４６ｂが螺合されて
いる。これにより、基台４１のＺ方向の位置決めがなさ
れ、Ｚ方向以外の上下、左右の位置決めは、ナット４６
ａ、４６ｂに設けられた段部４８ａ、４８ｂが孔４７に
嵌合することによりなされる。
はねじを有しない孔４７が設けられており、雄ねじ４５
を孔４７に挿通した状態で、雄ねじ４５に対し光学箱４
３の両側から２個のナット４６ａ、４６ｂが螺合されて
いる。これにより、基台４１のＺ方向の位置決めがなさ
れ、Ｚ方向以外の上下、左右の位置決めは、ナット４６
ａ、４６ｂに設けられた段部４８ａ、４８ｂが孔４７に
嵌合することによりなされる。
【００２０】図５は第４の実施例を示しており、基台４
１と光学箱４３との間に、例えばウェーブワッシャ等か
ら成る弾性体４９が配置されている。雄ねじ４５を光学
箱４３の雌ねじ孔４４に螺合することにより弾性体４９
を撓ませ、基台４１を光学箱４３に堅固に固定すること
ができる。
１と光学箱４３との間に、例えばウェーブワッシャ等か
ら成る弾性体４９が配置されている。雄ねじ４５を光学
箱４３の雌ねじ孔４４に螺合することにより弾性体４９
を撓ませ、基台４１を光学箱４３に堅固に固定すること
ができる。
【００２１】なお、この実施例において、半導体レーザ
ー光源２２はフレキシブル基板５０を介して図示しない
メインボードに接続されている。ただし、調整に際して
はコンタクトピンを用いてレーザー光を点灯させる。基
台４１が多少回転してフレキシブル基板５０が捩れて
も、調整終了後にメインボードにフレキシブル基板５０
を問題なく接続することができる。
ー光源２２はフレキシブル基板５０を介して図示しない
メインボードに接続されている。ただし、調整に際して
はコンタクトピンを用いてレーザー光を点灯させる。基
台４１が多少回転してフレキシブル基板５０が捩れて
も、調整終了後にメインボードにフレキシブル基板５０
を問題なく接続することができる。
【００２２】また、ねじの種類は通常のねじでも特殊ね
じ、例えば２条ねじ、緩み止め雌ねじを使用しても支障
はない。
じ、例えば２条ねじ、緩み止め雌ねじを使用しても支障
はない。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るレーザ
ー光源装置は、レーザーユニットを光学箱に螺合し、更
に接着するという簡便な方法でマルチビームにおける副
走査スポット間隔の調整を実施できる。
ー光源装置は、レーザーユニットを光学箱に螺合し、更
に接着するという簡便な方法でマルチビームにおける副
走査スポット間隔の調整を実施できる。
【００２４】また、ホルダと光学箱との間にナットを介
在させれば、ナットにより副走査スポット間隔を調整す
ることができる。
在させれば、ナットにより副走査スポット間隔を調整す
ることができる。
【００２５】更に、光学箱にねじ孔を設けなくとも、２
つのナットを用いれば、レーザーユニットを光学箱に固
定すると共に、副走査スポット間隔を調整できる。
つのナットを用いれば、レーザーユニットを光学箱に固
定すると共に、副走査スポット間隔を調整できる。
【図１】光学系の基本構成の斜視図である。
【図２】第１の実施例の構成図である。
【図３】第２の実施例の構成図である。
【図４】第３の実施例の構成図である。
【図５】第４の実施例の構成図である。
【図６】従来例のレーザー走査装置の構成図である。
２１ レーザーユニット ２２ 半導体レーザー光源 ４１ 基台 ４２ 鏡筒 ４３ 光学箱 ４４ 雌ねじ孔 ４５ 雄ねじ ４６ ナット ４７ 孔 ４８ 凸部 ４９ 弾性体 ５０ フレキシブル基板
Claims (4)
- 【請求項１】 光束を偏向して所定面上に集光する光学
系を内蔵する光学箱と、複数の発光点を有する半導体レ
ーザー光源を固定した基台とから成り、複数本のコリメ
ートされたレーザー光を出射するレーザー光源装置にお
いて、前記基台の外周部にねじを刻設して、該ねじを用
いて前記基台を前記光学箱に固定することを特徴とする
レーザー光源装置。 - 【請求項２】 前記ねじを前記光学箱に設けたねじ孔に
螺合することにより、前記基台を前記光学箱に固定した
請求項１に記載のレーザー光源装置。 - 【請求項３】 前記ねじにナットを螺合することにより
前記基台を前記光学箱に固定した請求項１に記載のレー
ザー光源装置。 - 【請求項４】 前記基台と前記光学箱の間に弾性部材を
挟み込んだ請求項１に記載のレーザー光源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25281197A JPH1184286A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | レーザー光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25281197A JPH1184286A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | レーザー光源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1184286A true JPH1184286A (ja) | 1999-03-26 |
Family
ID=17242549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25281197A Pending JPH1184286A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | レーザー光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1184286A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012155100A (ja) * | 2011-01-25 | 2012-08-16 | Ricoh Co Ltd | 発光素子の調整固定構造及び光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2013145391A (ja) * | 2013-03-11 | 2013-07-25 | Canon Inc | 光学走査装置 |
-
1997
- 1997-09-02 JP JP25281197A patent/JPH1184286A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012155100A (ja) * | 2011-01-25 | 2012-08-16 | Ricoh Co Ltd | 発光素子の調整固定構造及び光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2013145391A (ja) * | 2013-03-11 | 2013-07-25 | Canon Inc | 光学走査装置 |
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