JPH1186280A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH1186280A JPH1186280A JP25074597A JP25074597A JPH1186280A JP H1186280 A JPH1186280 A JP H1186280A JP 25074597 A JP25074597 A JP 25074597A JP 25074597 A JP25074597 A JP 25074597A JP H1186280 A JPH1186280 A JP H1186280A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】デ−タゾ−ンに入り込むトランジションゾ−ン
を無くし、ＣＳＳゾ−ンにのみテクスチャリングを施す
と共に、デ−タゾ−ンとＣＳＳゾ−ンとの境界において
突起に起因する磁気記録ヘッドと磁気記録媒体との衝突
による損傷事故を無くした信頼性の高い磁気記録媒体を
提供する。 【解決手段】磁気記録媒体は、メッキ材料により被覆さ
れたＡｌ基板上に形成される下地膜と、前記下地膜上に
形成される磁性膜と、前記磁性膜上に形成される保護膜
と、前記保護膜上に塗布される潤滑剤とからなる磁気記
録媒体に於いて、前記下地膜に凹部形状の窪みを設けた
ことを特徴とする。また、前記下地膜に凹部形状の窪み
を設けるテクスチャリング工法としてフォトソリグラフ
法を適用し、磁気記録媒体のＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ
ＳｔａｒｔＳｔｏｐ）ゾ−ンのみに前記下地膜に凹部形
状の窪みを設け、前記メッキ材料としてＮｉ−Ｐメッ
キ、前記下地膜としてＣｒ膜としたことを特徴とする。
を無くし、ＣＳＳゾ−ンにのみテクスチャリングを施す
と共に、デ−タゾ−ンとＣＳＳゾ−ンとの境界において
突起に起因する磁気記録ヘッドと磁気記録媒体との衝突
による損傷事故を無くした信頼性の高い磁気記録媒体を
提供する。 【解決手段】磁気記録媒体は、メッキ材料により被覆さ
れたＡｌ基板上に形成される下地膜と、前記下地膜上に
形成される磁性膜と、前記磁性膜上に形成される保護膜
と、前記保護膜上に塗布される潤滑剤とからなる磁気記
録媒体に於いて、前記下地膜に凹部形状の窪みを設けた
ことを特徴とする。また、前記下地膜に凹部形状の窪み
を設けるテクスチャリング工法としてフォトソリグラフ
法を適用し、磁気記録媒体のＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ
ＳｔａｒｔＳｔｏｐ）ゾ−ンのみに前記下地膜に凹部形
状の窪みを設け、前記メッキ材料としてＮｉ−Ｐメッ
キ、前記下地膜としてＣｒ膜としたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録装置であ
る磁気ディスク装置に搭載される磁気記録媒体に関し、
特にＣＳＳ方式の固定磁気ディスク装置に搭載される磁
気記録媒体に関する。
る磁気ディスク装置に搭載される磁気記録媒体に関し、
特にＣＳＳ方式の固定磁気ディスク装置に搭載される磁
気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置は、近年飛躍的に高密
度化が進展しているが、高密度化に伴って磁気記録媒体
と磁気記録ヘッドとのスペ−シング（磁気ヘッドの浮上
量）は小さくなる傾向にあり、このため、磁気記録媒体
はその表面の面粗度の平滑化が要求されてきている。し
かし、磁気記録媒体の表面の平滑化は、磁気記録媒体と
磁気記録ヘッドとの間で吸着現象が発生するという弊害
が生じるが、この吸着現象を回避するため、磁気記録媒
体表面には適当な粗さをテクスチャリング工法により施
しているのが一般的である。従来のテクスチャリング工
法には、研磨テ−プを用いるメカニカルテクスチャリン
グとレ−ザを使用するレ−ザテクスチャリングとがあ
り、各工法による磁気記録媒体（図７（ａ）および図８
（ａ）、図８（ｂ））の表面断面形状を各々図７（ｂ）
および図８（ｃ）に示す。また、磁気記録媒体全面に粗
さを施す全面テクスチャリングと、磁気ディスク装置の
電源停止時に磁気記録ヘッドが退避する位置となる磁気
記録媒体のＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓｔａｒｔ Ｓｔｏ
ｐ）ゾ−ン９のみに粗さを施すゾ−ンテクスチャリング
とがあるが、ゾ−ンテクスチャリングをメカニカルテク
スチャリングとレ−ザテクスチャリングの各工法で磁気
記録媒体に施した場合の表面断面形状を図９（ａ）、図
９（ｂ）に各々示す。
度化が進展しているが、高密度化に伴って磁気記録媒体
と磁気記録ヘッドとのスペ−シング（磁気ヘッドの浮上
量）は小さくなる傾向にあり、このため、磁気記録媒体
はその表面の面粗度の平滑化が要求されてきている。し
かし、磁気記録媒体の表面の平滑化は、磁気記録媒体と
磁気記録ヘッドとの間で吸着現象が発生するという弊害
が生じるが、この吸着現象を回避するため、磁気記録媒
体表面には適当な粗さをテクスチャリング工法により施
しているのが一般的である。従来のテクスチャリング工
法には、研磨テ−プを用いるメカニカルテクスチャリン
グとレ−ザを使用するレ−ザテクスチャリングとがあ
り、各工法による磁気記録媒体（図７（ａ）および図８
（ａ）、図８（ｂ））の表面断面形状を各々図７（ｂ）
および図８（ｃ）に示す。また、磁気記録媒体全面に粗
さを施す全面テクスチャリングと、磁気ディスク装置の
電源停止時に磁気記録ヘッドが退避する位置となる磁気
記録媒体のＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓｔａｒｔ Ｓｔｏ
ｐ）ゾ−ン９のみに粗さを施すゾ−ンテクスチャリング
とがあるが、ゾ−ンテクスチャリングをメカニカルテク
スチャリングとレ−ザテクスチャリングの各工法で磁気
記録媒体に施した場合の表面断面形状を図９（ａ）、図
９（ｂ）に各々示す。
【０００３】磁気ディスク装置の高密度化に対応して磁
気記録媒体の平滑化が要求されるため、磁気記録媒体の
デ−タゾ−ン１０は平滑にしＣＳＳゾ−ン９は吸着現象
を発生しない程度の面粗度とすることが望ましく、最近
では前記ゾ−ンテクスチャリングに関する様々な研究が
行われている。
気記録媒体の平滑化が要求されるため、磁気記録媒体の
デ−タゾ−ン１０は平滑にしＣＳＳゾ−ン９は吸着現象
を発生しない程度の面粗度とすることが望ましく、最近
では前記ゾ−ンテクスチャリングに関する様々な研究が
行われている。
【０００４】図９において、デ−タゾ−ン１０と比べて
ＣＳＳゾ−ン９はその領域が非常に狭いため、メカニカ
ルテクスチャリングでは、ＣＳＳゾ−ン９のみにテクス
チャリングを施すことは難しく、トランジションゾ−ン
（粗さが変化していく領域）１１がデ−タゾ−ンにまで
入り込んでしまい、磁気ディスク装置のリ−ド／ライト
時の誤動作を生じるという欠点がある故、ゾ−ンテクス
チャリングにはレ−ザを用いたレ−ザテクスチャリング
が適用されるのが一般的である。
ＣＳＳゾ−ン９はその領域が非常に狭いため、メカニカ
ルテクスチャリングでは、ＣＳＳゾ−ン９のみにテクス
チャリングを施すことは難しく、トランジションゾ−ン
（粗さが変化していく領域）１１がデ−タゾ−ンにまで
入り込んでしまい、磁気ディスク装置のリ−ド／ライト
時の誤動作を生じるという欠点がある故、ゾ−ンテクス
チャリングにはレ−ザを用いたレ−ザテクスチャリング
が適用されるのが一般的である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述のレ−ザテクスチ
ャリングは、狭い領域のテクスチャリングを正確に設定
可能であり、且つ、遷移領域も発生しないためＣＳＳゾ
−ン９のみにテクスチャリングを施すゾ−ンテクスチャ
リングには適しているが、一方、次のような欠点があ
る。
ャリングは、狭い領域のテクスチャリングを正確に設定
可能であり、且つ、遷移領域も発生しないためＣＳＳゾ
−ン９のみにテクスチャリングを施すゾ−ンテクスチャ
リングには適しているが、一方、次のような欠点があ
る。
【０００６】レ−ザテクスチャリングによるゾ−ンテク
スチャリングでは、メカニカルテクスチャリングで生じ
るトランジションゾ−ン１１のような突起高さに変化を
付けることが難しく、図９（ｂ）のようにクレ−タ状突
起１２となっているため、磁気記録ヘッドがデ−タゾ−
ン１０からＣＳＳゾ−ン９に移動するときに、その境界
で磁気記録ヘッドはクレ−タ状突起１２と衝突し、磁気
記録媒体と磁気記録ヘッドの損傷事故が発生するという
問題がある。
スチャリングでは、メカニカルテクスチャリングで生じ
るトランジションゾ−ン１１のような突起高さに変化を
付けることが難しく、図９（ｂ）のようにクレ−タ状突
起１２となっているため、磁気記録ヘッドがデ−タゾ−
ン１０からＣＳＳゾ−ン９に移動するときに、その境界
で磁気記録ヘッドはクレ−タ状突起１２と衝突し、磁気
記録媒体と磁気記録ヘッドの損傷事故が発生するという
問題がある。
【０００７】本発明の目的は、デ−タゾ−ンに入り込む
トランジションゾ−ンをなくし、ＣＳＳゾ−ンのみにテ
クスチャリングを施すと共にデ−タゾ−ンとＣＳＳゾ−
ンとの境界において突起に起因する磁気記録ヘッドと磁
気記録媒体との衝突による損傷事故を皆無とする信頼性
の高い磁気記録媒体を提供することにある。
トランジションゾ−ンをなくし、ＣＳＳゾ−ンのみにテ
クスチャリングを施すと共にデ−タゾ−ンとＣＳＳゾ−
ンとの境界において突起に起因する磁気記録ヘッドと磁
気記録媒体との衝突による損傷事故を皆無とする信頼性
の高い磁気記録媒体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体
は、メッキ材料により被覆された基板上に形成される下
地膜と、前記下地膜上に形成される磁性膜と、前記磁性
膜上に形成される保護膜と、前記保護膜上に塗布される
潤滑剤とからなる磁気記録媒体に於いて、前記下地膜に
凹部形状の窪みを設けたことを特徴とする。
は、メッキ材料により被覆された基板上に形成される下
地膜と、前記下地膜上に形成される磁性膜と、前記磁性
膜上に形成される保護膜と、前記保護膜上に塗布される
潤滑剤とからなる磁気記録媒体に於いて、前記下地膜に
凹部形状の窪みを設けたことを特徴とする。
【０００９】また、前記下地膜に凹部形状の窪みを設け
るテクスチャリング工法としてフォトソリグラフ法を適
用し、磁気記録媒体のＣＳＳゾ−ンのみに前記下地膜に
凹部形状の窪みを設け、前記メッキ材料としてＮｉ−Ｐ
（ニッケル−リン）メッキ、前記下地膜としてＣｒ（ク
ロム）膜としたことを特徴とする。
るテクスチャリング工法としてフォトソリグラフ法を適
用し、磁気記録媒体のＣＳＳゾ−ンのみに前記下地膜に
凹部形状の窪みを設け、前記メッキ材料としてＮｉ−Ｐ
（ニッケル−リン）メッキ、前記下地膜としてＣｒ（ク
ロム）膜としたことを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について、図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
【００１１】図１および図２は本発明の磁気記録媒体１
の実施の形態を示す図である。図１は磁気記録媒体の構
成を示す概略断面図であり、図２（ａ）、図２（ｂ）は
各々テクスチャリングによる磁気記録媒体の形状を示す
概略平面図、概略断面図である。
の実施の形態を示す図である。図１は磁気記録媒体の構
成を示す概略断面図であり、図２（ａ）、図２（ｂ）は
各々テクスチャリングによる磁気記録媒体の形状を示す
概略平面図、概略断面図である。
【００１２】図１に示すように、磁気記録媒体１は、Ｎ
ｉ−Ｐメッキ膜４で被覆されたＡｌ（アルミニウム）基
板３には下地膜５としてＣｒ膜が形成され、Ｃｒ膜の上
に磁性膜６、保護膜７、潤滑膜８が形成される構成とな
っている。
ｉ−Ｐメッキ膜４で被覆されたＡｌ（アルミニウム）基
板３には下地膜５としてＣｒ膜が形成され、Ｃｒ膜の上
に磁性膜６、保護膜７、潤滑膜８が形成される構成とな
っている。
【００１３】図２を参照すると、Ｃｒ膜からなる下地膜
５をスパッタリングするときにフォトソリグラフ法によ
りゾ−ンテクスチャリングを施すことにより、磁気記録
媒体１は、デ−タゾ−ン１０は平滑でありＣＳＳゾ−ン
９領域のみに凹部形状の窪み２が設けられている。
５をスパッタリングするときにフォトソリグラフ法によ
りゾ−ンテクスチャリングを施すことにより、磁気記録
媒体１は、デ−タゾ−ン１０は平滑でありＣＳＳゾ−ン
９領域のみに凹部形状の窪み２が設けられている。
【００１４】従って、磁気記録ヘッド（図示せず）の退
避位置であるＣＳＳゾ−ン９においては、上記凹部形状
の窪み２により磁気記録ヘッドと磁気記録媒体１との吸
着現象の発生がなくなると共に、ＣＳＳゾ−ン９にはデ
−タゾ−ン１０よりも高い突起部が無いため、磁気記録
ヘッドがデ−タゾ−ン１０とＣＳＳゾ−ン９との間をシ
−ク動作する際に突起部との衝突という現象は皆無とな
り、安定なシ−ク動作を行うことができ、磁気記録媒体
１と磁気記録ヘッドとの損傷事故が発生することがなく
なる。また、図２に示す如く、トランジションゾ−ン１
１は無いため、磁気ディスク装置のリ−ド／ライト動作
上の誤動作を生じることの無い信頼性の高い磁気記録媒
体１が実現できる。
避位置であるＣＳＳゾ−ン９においては、上記凹部形状
の窪み２により磁気記録ヘッドと磁気記録媒体１との吸
着現象の発生がなくなると共に、ＣＳＳゾ−ン９にはデ
−タゾ−ン１０よりも高い突起部が無いため、磁気記録
ヘッドがデ−タゾ−ン１０とＣＳＳゾ−ン９との間をシ
−ク動作する際に突起部との衝突という現象は皆無とな
り、安定なシ−ク動作を行うことができ、磁気記録媒体
１と磁気記録ヘッドとの損傷事故が発生することがなく
なる。また、図２に示す如く、トランジションゾ−ン１
１は無いため、磁気ディスク装置のリ−ド／ライト動作
上の誤動作を生じることの無い信頼性の高い磁気記録媒
体１が実現できる。
【００１５】次に本発明の磁気記録媒体１に関し、図３
に示す突起高さｈ、突起の幅ｗ、突起の間隔ｐをパラメ
−タとしたときの磁気記録媒体と磁気記録ヘッドとの吸
着、摩擦、摩耗深さの具体的実験結果を各々図４、図
５、図６に示す。図３中のｒは接触面積比を示し、ｒ＝
ｗ2 ／ｐ2 で定義付けている。なお本実験では５０％サ
イズのテ−パ−フラットタイプの磁気記録ヘッドを用い
ている。
に示す突起高さｈ、突起の幅ｗ、突起の間隔ｐをパラメ
−タとしたときの磁気記録媒体と磁気記録ヘッドとの吸
着、摩擦、摩耗深さの具体的実験結果を各々図４、図
５、図６に示す。図３中のｒは接触面積比を示し、ｒ＝
ｗ2 ／ｐ2 で定義付けている。なお本実験では５０％サ
イズのテ−パ−フラットタイプの磁気記録ヘッドを用い
ている。
【００１６】図４は突起の高さｈを変えたときの接触面
積比ｒと吸着との関係を示すが、突起の高さｈが小さ過
ぎると吸着気味となる結果を示し、図５は接触面積比ｒ
と摩擦との関係を示しており、接触面積比ｒの増加に伴
い摩擦も増加する結果を示し、図６ではＣＳＳを繰り返
し行った後の接触面積比ｒと摩耗深さとの関係を示す
が、接触面積比ｒが大きい程、摩耗深さは小さく突起の
高さは減少し難い結果を示している。
積比ｒと吸着との関係を示すが、突起の高さｈが小さ過
ぎると吸着気味となる結果を示し、図５は接触面積比ｒ
と摩擦との関係を示しており、接触面積比ｒの増加に伴
い摩擦も増加する結果を示し、図６ではＣＳＳを繰り返
し行った後の接触面積比ｒと摩耗深さとの関係を示す
が、接触面積比ｒが大きい程、摩耗深さは小さく突起の
高さは減少し難い結果を示している。
【００１７】以上の実験結果から、本願発明による磁気
記録媒体１のテクスチャリングの具体的な突起の高さｈ
は少なくとも１０ｎｍ以上とし接触面積比は２％以上と
することが望ましいという結果を得ている。
記録媒体１のテクスチャリングの具体的な突起の高さｈ
は少なくとも１０ｎｍ以上とし接触面積比は２％以上と
することが望ましいという結果を得ている。
【００１８】
【発明の効果】以上述べたように、本願発明は、フォト
ソリグラフ法によりゾ−ンテクスチャリングを施し、Ｃ
ＳＳゾ−ン領域のみに凹部形状の窪みを設けることによ
り、磁気記録ヘッドの退避位置であるＣＳＳゾ−ンにお
いては、上記凹部形状の窪みにより磁気記録ヘッドと磁
気記録媒体との吸着現象の発生がなくなると共に、ＣＳ
Ｓゾ−ンにはデ−タゾ−ンよりも高い突起部が無いた
め、磁気記録ヘッドがデ−タゾ−ンとＣＳＳゾ−ンとの
間をシ−ク動作する際に突起部との衝突という現象は皆
無となり、安定なシ−ク動作を行うことができ、磁気記
録媒体と磁気記録ヘッドとの損傷事故が発生することが
なくなり、且つ、トランジションゾ−ンが無いため、磁
気ディスク装置のリ−ド／ライト動作上の誤動作を生じ
ることの無い信頼性の高い磁気記録媒体を提供できると
いう効果がある。
ソリグラフ法によりゾ−ンテクスチャリングを施し、Ｃ
ＳＳゾ−ン領域のみに凹部形状の窪みを設けることによ
り、磁気記録ヘッドの退避位置であるＣＳＳゾ−ンにお
いては、上記凹部形状の窪みにより磁気記録ヘッドと磁
気記録媒体との吸着現象の発生がなくなると共に、ＣＳ
Ｓゾ−ンにはデ−タゾ−ンよりも高い突起部が無いた
め、磁気記録ヘッドがデ−タゾ−ンとＣＳＳゾ−ンとの
間をシ−ク動作する際に突起部との衝突という現象は皆
無となり、安定なシ−ク動作を行うことができ、磁気記
録媒体と磁気記録ヘッドとの損傷事故が発生することが
なくなり、且つ、トランジションゾ−ンが無いため、磁
気ディスク装置のリ−ド／ライト動作上の誤動作を生じ
ることの無い信頼性の高い磁気記録媒体を提供できると
いう効果がある。
【図１】本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示す構成
概略断面図である。
概略断面図である。
【図２】図２（ａ）は本実施の形態の磁気記録媒体の表
面形状を示す概略平面図、図２（ｂ）は概略断面図であ
る。
面形状を示す概略平面図、図２（ｂ）は概略断面図であ
る。
【図３】本実施の形態の磁気記録媒体の実験を行った具
体的な突起の高さ、突起の幅、突起の間隔の各々のパラ
メ−タを示す図である。
体的な突起の高さ、突起の幅、突起の間隔の各々のパラ
メ−タを示す図である。
【図４】本実施の形態の磁気記録媒体の突起高さを変え
たときの接触面積比と吸着との関係を示す実験結果の図
である。
たときの接触面積比と吸着との関係を示す実験結果の図
である。
【図５】本実施の形態の磁気記録媒体の接触面積比と摩
擦との関係を示す実験結果の図である。
擦との関係を示す実験結果の図である。
【図６】本実施の形態の磁気記録媒体のＣＳＳを繰り返
し行った後の接触面積比と摩耗深さとの関係を示す実験
結果の図である。
し行った後の接触面積比と摩耗深さとの関係を示す実験
結果の図である。
【図７】図７（ａ）は従来のメカニカルテクスチャリン
グによる磁気記録媒体の概略平面図を示し、図７（ｂ）
は図７（ａ）の一部拡大断面形状を示す概略図である。
グによる磁気記録媒体の概略平面図を示し、図７（ｂ）
は図７（ａ）の一部拡大断面形状を示す概略図である。
【図８】図８（ａ）は従来のレ−ザテクスチャリングに
よる磁気記録媒体の概略平面図を示し、図８（ｂ）は図
８（ａ）の一部拡大平面図、図８（ｃ）は図８（ｂ）の
正面図の概略図である。
よる磁気記録媒体の概略平面図を示し、図８（ｂ）は図
８（ａ）の一部拡大平面図、図８（ｃ）は図８（ｂ）の
正面図の概略図である。
【図９】図９（ａ）、図９（ｂ）は従来のゾ−ンテクス
チャリングにおけるメカニカルテクスチャリングとレ−
ザテクスチャリングの各工法による各々の磁気記録媒体
の表面断面形状の概略図である。
チャリングにおけるメカニカルテクスチャリングとレ−
ザテクスチャリングの各工法による各々の磁気記録媒体
の表面断面形状の概略図である。
１ 磁気記録媒体 ２ 窪み ３ Ａｌ基板 ４ Ｎｉ−Ｐメッキ膜 ５ 下地膜 ６ 磁性膜 ７ 保護膜 ８ 潤滑膜 ９ ＣＳＳゾ−ン １０ デ−タゾ−ン １１ トランジションゾ−ン １２ クレ−タ状突起 ｈ 突起の高さ ｗ 突起の幅 ｐ 突起の間隔 ｒ 接触面積比
Claims (4)
- 【請求項１】 メッキ材料により被覆された基板上に形
成される下地膜と、前記下地膜上に形成される磁性膜
と、前記磁性膜上に形成される保護膜と、前記保護膜上
に塗布される潤滑剤とからなる磁気記録媒体に於いて、
前記下地膜に凹部形状の窪みを設けたことを特徴とする
磁気記録媒体。 - 【請求項２】 前記下地膜に凹部形状の窪みを設けるテ
クスチャリング工法としてフォトソリグラフ法によるこ
とを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 磁気記録媒体のＣＳＳゾ−ンのみに前記
下地膜に凹部形状の窪みを設けたことを特徴とする請求
項１に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項４】 前記メッキ材料としてＮｉ−Ｐメッキ、
前記下地膜としてＣｒ膜としたことを特徴とする請求項
１に記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25074597A JPH1186280A (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25074597A JPH1186280A (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1186280A true JPH1186280A (ja) | 1999-03-30 |
Family
ID=17212415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25074597A Pending JPH1186280A (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1186280A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CZ306549B6 (cs) * | 2005-01-27 | 2017-03-08 | Samick Precision Ind. Co., Ltd. | Způsob výroby lineárního pouzdra |
-
1997
- 1997-09-16 JP JP25074597A patent/JPH1186280A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CZ306549B6 (cs) * | 2005-01-27 | 2017-03-08 | Samick Precision Ind. Co., Ltd. | Způsob výroby lineárního pouzdra |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990928 |