JPH1190813A

JPH1190813A - 磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置

Info

Publication number: JPH1190813A
Application number: JP9256768A
Authority: JP
Inventors: Kunihiko Yoshino; 邦彦吉野; Toshio Nagashima; 利男長島; Riichi Oshiro; 利一尾城
Original assignee: SAGAMI OPT KK; Nikon Corp
Current assignee: SAGAMI OPT KK; Nikon Corp
Priority date: 1997-09-22
Filing date: 1997-09-22
Publication date: 1999-04-06

Abstract

(57)【要約】【課題】ラッピング工程での磁気記録媒体用ガラス基
板の厚みを短時間で薄く仕上げることができるととも
に、砥粒の損失が少ない磁気記録媒体用ガラス基板の加
工装置を得る。【解決手段】上下定盤３，４の砥石保持面３ａ，４ａ
に所定間隔を有して複数のダイヤモンドペレット１が固
着されている。上下のダイヤモンドペレット１において
磁気記録媒体用ガラス基板と当接するラップ面１ａの面
積は、上下定盤３，４の砥石保持面３ａ，４ａの面積に
対してほぼ均等に５０％以下となるように構成されてい
る。そして、磁気記録媒体用ガラス基板の上面および下
面に上下のダイヤモンドペレット１を摺り合わせれば、
磁気記録媒体用ガラス基板の上面および下面を同時にラ
ップ加工することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用ガラ
ス基板の加工装置に関し、さらにはこのガラス基板のラ
ッピング工程に係る磁気記録媒体用ガラス基板の加工装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】いわゆる磁気ディスクの基板として用い
られる磁気記録媒体用ガラス基板は、近年、情報記録容
量の高密度化の要求にともない、その表面の平滑性を向
上させることが要求されている。この磁気記録媒体用ガ
ラス基板の製造は、素材を所定の板厚に加工するととも
に、所定の平面度を得るためにラッピング工程において
ラップ加工が施される。このラッピングは、工具面を鋳
鉄とした市販の両面同時加工機（両面研磨機）を利用し
て、SiCやAl₂O₃などの研磨剤を用いて湿式研削を行うの
が一般的である。なお、ラッピング工程においては、加
工時間を短縮するために製品の最終板厚にできる限り近
い板厚の素材を準備する。

【０００３】ラッピング工程の終了後は、高精度な平面
を得るためにポリシング工程においてポリシング（研
磨）加工を行う。ポリシング工程は、ガラス基板をピッ
トやスクラッチのない鏡面に仕上げる工程であり、前記
のラッピング工程において用いられる両面同時加工機と
同様に構成された両面同時加工機を使用する。なお、研
磨工具としてはポリウレタン製研磨パッドが固定された
工具を使用している。

【０００４】ポリシング工程では、ポリウレタン製研磨
パッドが固定された研磨工具をガラス基板の両面に密着
させるとともに、パッドと基板研磨面との間に研磨液を
供給して回転、摺動させることによって、ガラス基板の
両面を同時に研磨する。

【０００５】このようにして製作された磁気記録媒体用
ガラス基板を基にして作製された磁気ディスクを用いた
磁気ディスク装置は、パソコンの代表的な外部記録装置
として、大容量化・小型化・低価格化が著しい。このよ
うな磁気ディスク装置の進歩は、情報の記録・再生を行
う磁気ディスク、磁気ヘッドの高性能化、記録再生チャ
ンネルの高速化、サーボ回路の高速化・高精度化など、
装置を構成する個別部品・個別技術の高性能化によるも
のでもあるが、中でも記録・再生に直接関わる基幹部品
である磁気ディスク、磁気ヘッドの特性向上によるとこ
ろが大きい。

【０００６】磁気ディスクの高密度化、特に線記録密度
の向上には、磁性膜の改良と共に磁気ヘッドの低浮上量
化の効果が大きい。最新の磁気ディスク装置では、３５
〜５０ｎｍ程度の浮上量が実現されようとしている。こ
のような低浮上を実現するには、磁気ディスク表面は平
坦かつ平滑であることが要求されるため、磁気記録媒体
用基板の表面の加工仕上げには、高度な技術が要求され
る。

【０００７】例えば、従来のラッピング工程では、湿式
ラッピングにより素材を所定の板厚に加工するととも
に、所定の平面度を得るわけであるが、２.５インチの
ガラスディスク基板の加工においては、１ｍｍの厚さの
素材をラッピング工程において板厚０.６８５ｍｍに加
工し、その後ポリシング工程によって板厚を０.６３５
ｍｍに加工して製品の最終的な板厚とする。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ラッピ
ング工程で製品の板厚にできる限り近い板厚の素材に加
工できていないので、後工程のポリシング工程での加工
が長時間なものになっている。具体的には、ラッピング
工程に要する時間は５０分であり、ポリシング工程に要
する時間は７０分であった。また、従来のラッピング工
程後の磁気記録媒体用ガラス基板の表面粗さは、Ｒmax
（基準長さに対応する抜き取り部分の最大高さ）が２.
０μｍの表面粗さであるため、後工程のポリシング工程
の加工に長時間を要していた。

【０００９】さらに、磁気記録媒体用ガラス基板の加工
において上記のような湿式ラッピングによるラップ面
は、遊離砥粒の転動の結果生じる微少な破壊面がみら
れ、クラックを含む加工変質層が存在するという問題も
あった。また、遊離砥粒によるラッピングにダイヤモン
ド砥粒を使用する場合は、有効砥粒数は供給砥粒数に対
して極端に少なく砥粒の損失が大きいという問題も有っ
た。

【００１０】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、ポリシング工程の加工時間が長大となって
しまうことを防止するためにラッピング工程での磁気記
録媒体用ガラス基板の厚みを短時間で薄く仕上げること
ができるとともに、砥粒の損失が少ない磁気記録媒体用
ガラス基板の加工装置を提供することを目的としてい
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに。本発明に係る磁気記録媒体用ガラス基板の加工装
置は、上側砥石保持定盤と、複数の上側砥石と、上側砥
石保持定盤と、複数の下側砥石とを有して構成されてい
る。上側砥石保持定盤には上側砥石保持面が形成されて
おり、複数の上側砥石はこの上側砥石保持面に所定間隔
を有して固着されている。また、下側砥石保持定盤にも
下側砥石保持面が形成されており、複数の下側砥石はこ
の下側砥石保持面に所定間隔を有して固着されている。
そして、磁気記録媒体用ガラス基板の上面および下面に
上側砥石および下側砥石を摺り合わせれば、磁気記録媒
体用ガラス基板の上面および下面を同時にラップ加工
（ラッピング）することができる。

【００１２】このように構成された磁気記録媒体用ガラ
ス基板の加工装置によれば、固定砥粒である砥石による
ラッピング（いわゆるスムージング）を合理的に行うこ
とができるため、微少切削作用が行われ、次工程のポリ
シングの加工時間の短縮を図ることができる。また、固
定砥粒である砥石によるラッピングを行うことにより、
個々の砥粒のほとんどが作用砥粒として働くため、砥粒
の利用効率が著しく増大し、しかも優れた表面粗さを得
ることが可能となる。

【００１３】さらに、複数の上側砥石および下側砥石は
所定間隔を有して固着されているため、磁気記録媒体用
ガラス基板の上面および下面に対する上側砥石および下
側砥石の摺り合わせ速度（定盤の回転速度）を高速化す
ることができる。

【００１４】なお、本発明に係る磁気記録媒体用ガラス
基板の加工装置においては、上側砥石および下側砥石の
砥粒としてダイヤモンドを用いるとともに、上側砥石お
よび下側砥石において磁気記録媒体用ガラス基板と当接
するラップ面の面積を、上側砥石保持面および下側砥石
保持面の面積に対してほぼ均等に５０％以下とすること
が好ましい。このような構成とすることにより、各砥石
の摺り合わせ速度をより高速化することができるととも
に、加工圧力の増加が可能になる等、加工条件を向上さ
せて加工速度を上げることができる。

【００１５】さらに、本発明に係る磁気記録媒体用ガラ
ス基板の加工装置においては、上側砥石および下側砥石
のうちの少なくとも一部を複数に分割することが好まし
い。このような構成とすることにより、上側砥石および
下側砥石において磁気記録媒体用ガラス基板のラップ効
率が良いエッジ部分が多くなるため、ラッピング時間の
短縮を図ることができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気記録媒体
用ガラス基板の加工装置の好ましい実施形態について説
明する。この磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置は、
砥粒を固定したペレット（上側砥石および下側砥石）を
貼り付けた定盤を具備する両面加工機（両面研磨機）で
あり、磁気記録媒体用ガラス基板に対して固定砥粒であ
る砥石によるラッピングを実現させている。

【００１７】ペレットが貼り付けられる定盤は、上定盤
（上側砥石保持定盤）と下定盤（下側砥石保持定盤）と
からなり上下に対向して配設されている。上下定盤にお
いてそれぞれ対向している面（上側砥石保持面および下
側砥石保持面）には、それぞれ複数のペレットが所定間
隔を有して固着されている。なお、この所定間隔は、必
ずしも一定の寸法である必要はなく、一定の範囲内の寸
法であればよい。従って、複数のペレットはきちんと整
列させる必要はなく、不規則な配列であってもよい。

【００１８】なお、各ペレットの形状（ラップ面の形
状）は、円形や四角形等、ペレットにおける砥粒の材質
や粒度の種類、ラッピングの対象物である磁気記録媒体
用ガラス基板の材質の種類等に応じて適宜変更される。
また、ペレットの大きさも、定盤の回転速度や磁気記録
媒体用ガラス基板の材質の大きさ等に応じて適宜変更さ
れる。さらに、各ペレットを所定の形状、大きさで作製
した後に複数に分割しても良い。

【００１９】なお、本実施形態に係る磁気記録媒体用ガ
ラス基板の加工装置においては、砥粒を固定したペレッ
トの代表的なものとして、いわゆるダイヤモンドペレッ
トを用いる。ダイヤモンドペレットは、金属粉末とダイ
ヤモンド砥粒を用いて作製されている。

【００２０】このように作製された複数のダイヤモンド
ペレットは、ダイヤモンドペレットの表面（ラップ面）
同士が対向するように上下定盤に固着される。そして、
上下定盤でキャリアに保持された磁気記録媒体用ガラス
基板を挟持するようにして、各ダイヤモンドペレットの
ラップ面を磁気記録媒体用ガラス基板のラッピング対象
面である上面および下面に所定の押圧力（加工圧力）を
加えて当接させる。その後、上下定盤およびキャリアの
少なくとも一方を回転させることにより、ダイヤモンド
ペレットと磁気記録媒体用ガラス基板とを相対回転さ
せ、磁気記録媒体用ガラス基板の上面および下面のラッ
ピングを同時に行う。

【００２１】このようにして磁気記録媒体用ガラス基板
のダイヤモンドペレットを用いたスムージングを行った
場合、遊離砥粒がほとんど生じないため遊離砥粒の転動
の結果生じる微少な破壊面も発生せず、クラックを含む
加工変質層も発生することがない。また、砥粒の損失が
少ないため、長時間連続してラッピングを行うことがで
きる。

【００２２】さらに、上記のようなダイヤモンドペレッ
トを用いてスムージングを行うと細かい表面粗さを得る
ことができる。つまり、ダイヤモンド砥粒は硬度が大き
い（硬い）ため、粒度を小さくしても大きな研削能力を
有する。このため、加工時間が短くても研削量が大き
く、かつ、表面粗さを細かくすることができる。細かい
表面粗さが得られれば、磁気記録媒体用ガラス基板をラ
ッピング工程で製品の板厚にできる限り近い板厚の素材
に加工でき、後工程であるポリシング工程での加工量を
減少させることができ、結果として磁気記録媒体用ガラ
ス基板の製作時間の短縮に繋がる。

【００２３】このように構成された磁気記録媒体用ガラ
ス基板の加工装置を用いて行うスムージングの加工能率
は加工条件によって変化するが、加工時間はSiCを研磨
材に用いた湿式ラッピングに比べ、おおよそ１／２から
１／５に短縮することができる。

【００２４】なお、上記の実施形態においては、上側砥
石および下側砥石としてダイヤモンドペレットを用いた
場合について説明したが、本発明はこのような構成に限
られるものではなく、磁気記録媒体用ガラス基板の材質
よりも硬い材質であれば砥粒としてダイヤモンド以外の
材質を用いてもよい。従って、ダイヤモンド以外の材質
を砥粒として用いた場合には、上側砥石保持面および下
側砥石保持面の面積に対するラップ面の面積の割合は適
宜変更される。また、上側砥石および下側砥石は必ずし
も複数に分割する必要はなく、分割する場合でも、全て
の砥石を分割した構成とする必要はない。

【００２５】

【実施例】以下、図１から図３を参照して本発明に係る
磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置の実施例について
説明する。この磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置
は、鋳鉄製の上定盤（上側砥石保持定盤）３と下定盤
（下側砥石保持定盤）４とを有して構成されたいわゆる
両面同時加工機（両面研磨機）を用いて構成され、これ
らの上下定盤３，４には複数のダイヤモンドペレット
（上側砥石および下側砥石）１がエポキシ系接着剤で貼
り付けられている。

【００２６】そして、磁気記録媒体用ガラス基板（以
下、「ガラス基板」と称する）２をこのダイヤモンドペ
レット１を貼り付けた上下定盤３，４に密着させるとと
もに、上下定盤３，４とガラス基板２の研磨面との間に
ラッピングの為の液として水を供給し、上下定盤３，４
を回転、摺動することによってガラス基板２の両面を同
時にラッピングする。

【００２７】ダイヤモンドペレット１は、Cu、Snおよび
少量のFeの金属粉体と粒度＃１５００（５〜１２μｍ）
のダイヤモンド砥粒を用いて、ホットプレス法により作
製されている。なお、金属粉体の混合割合を変えること
により、機械的性質の異なるダイヤモンドペレット１を
作製することができる。本加工装置においては、ダイヤ
モンドおよび金属粉体の粒度が＃１５００のメタルボン
ドペレットを用いてガラス基板２のラッピングを行うと
Ｒmaxが０.５μｍの表面粗さを得ることができる。

【００２８】また、同じく粒度＃１５００のダイヤモン
ド砥粒を用いたレジンボンドペレット（結合剤としてレ
ジンを用いた砥石）を用いてラッピングを行うとＲmax
が０.１μｍの表面粗さを得ることが出来る。これは、
結合剤であるレジンの有する弾性によってダイヤモンド
砥粒の接触圧が調節されるためである。なお、後述する
各加工を含め、ガラス基板２の表面粗さは接触型のディ
スク専用の表面粗さ・微細形状測定装置（Tencor社製テ
ンコールＰ−１２）を用いて測定した。

【００２９】このように形成されたダイヤモンドペレッ
ト１を有した加工装置においては、いわゆるワークであ
るガラス基板２をキャリア５により保持させる。このキ
ャリア５の外周には太陽歯車６とインターナル歯車７と
に噛合可能な歯車が形成されており、キャリア５を太陽
歯車６とインターナル歯車７とに噛合させ、ガラス基板
２を上定盤３と下定盤４とで挟持するとともに押圧した
状態でキャリア５を回転させることにより、ダイヤモン
ドペレット１とガラス基板２とを相対回転させてラッピ
ングを行う。

【００３０】キャリア５の回転方向については、太陽歯
車６の回転数と、インターナル歯車７の回転数を変化さ
せることで、時計回りか、反時計回りかを選択できる。
この加工装置においては、キャリア５が太陽歯車６のま
わりを自転・公転しながら回ると共に、上下定盤３，４
もそれぞれ反対方向に回転するわけであるが、加工装置
の上方から見た場合、上定盤３は時計方向に回転し、太
陽歯車６、インターナル歯車７、および下定盤４はいず
れも反時計方向に回転する。

【００３１】以下、各歯車６，７の回転数がどんな関係
にあるとき最も高能率・高精度にラップできるかを示
す。ここで、上定盤３の回転数をＡ、キャリア５の公転
数をＢ、下定盤４の回転数をＣとすると、Ｃが最大とし
て各回転数が、Ｃ−Ｂ＝Ａ＋Ｂになるような歯車関係
（歯数）を構成したときが最良条件となる。

【００３２】すなわち、上下定盤３，４がそれぞれ反対
方向に回転し、上下定盤３，４の回転数、キャリア５の
公転数が、上記の様な式で示される関係となっている
と、加工物であるガラス基板２に対する機械的抵抗が小
さくなる。また、キャリア５が自転するとともに公転
し、上下定盤３，４が互いに反対方向に回転するため、
ガラス基板２に対する運動は非常に複雑な曲線を描く。
すなわち研磨材であるダイヤモンドペレット１のガラス
基板２に作用（当接する）する機会を一層多くし、ラッ
プ効率を増大させる。従って加工面は均一にラップされ
るため高精度な加工が可能となる。

【００３３】この時のラッピング加工の条件は、以下の
通りである。ダイヤモンドペレット１の１個の大きさ
は、直径２０ｍｍ、厚さ３ｍｍの円盤状に形成されてお
り、上下定盤３，４が対向する平面である上側砥石保持
面３ａおよび下側砥石保持面４ａに、それぞれ７２０個
づつエポキシ系接着剤によって所定間隔を有して不規則
に貼り付けられている。なお、上側砥石保持面３ａおよ
び下側砥石保持面４ａは直径が１２００ｍｍに形成され
ている。

【００３４】ここで、ダイヤモンドペレット１において
は、図１に表されているように、平面視において表され
ているダイヤモンドペレット１の表面１ａがガラス基板
２と当接するラップ面となるため、ラップ面１ａの面積
は上側砥石保持面３ａおよび下側砥石保持面４ａの全体
の面積に対してほぼ均等に２０％となる。ただし、各定
盤３，４の中心には太陽歯車６が配設されていることか
ら、中心部近傍にはキャリア５が位置することがないた
め、各定盤３，４におけるガラス基板２の当接可能な範
囲におけるダイヤモンドペレット１の貼り付け面積率は
２０％以上となるが５０％以下に留まっている。

【００３５】このようにしてダイヤモンドペレット１が
貼り付けられた各定盤３，４を有する加工装置において
は、加工圧力が３０〜２００ｇ／ｃｍ²、下定盤回転数
が５〜７０ＲＰＭ、上定盤回転数が５〜７０ＲＰＭ
で、厚さ１ｍｍのガラス基板２の研磨を行うと、４０分
の加工時間で、厚さ０.６５ｍｍのラップ加工品を得る
ことができた。更に、このようにしてラップ加工された
ガラス基板２の目視外観観察では傷は見受けられず、表
面粗さＲmaxは０.２μｍであった。

【００３６】なお、上記の加工圧力、上下定盤の回転数
は、加工中一定となるように設定してもよいが、加工時
間内において連続して変化させたり（初めは回転数を低
くしておき序々に高くしていく等）、単位時間毎に段階
的に変化させたりしてもよい。

【００３７】そして、上記のようにしてラッピングされ
たガラス基板２に対してポリシング加工装置を用いてポ
リシング加工を施す。このポリシング加工装置は前記の
磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置に用いられている
両面研磨機と同様に構成された両面研磨機を用いている
ため、上下定盤３，４等の構成部材については同一の符
号を付してここでの詳細な説明は省略する。

【００３８】図４に示すように、両面研磨機の上定盤３
と下定盤４には、ポリウレタン製の研磨パッド８が貼り
付けられている。そして、この研磨パッド８が貼り付け
られた上下定盤３，４の間にキャリア５により保持した
ガラス基板２を密着させ、このキャリア５を太陽歯車６
とインターナル歯車７に噛合させてガラス基板２を上定
盤３と下定盤４とで挟圧する。その後、研磨パッド８と
ガラス基板２の研磨面との間に研磨液９を供給して回
転、摺動させることによって、ガラス基板２の両面を同
時にポリシングすることができる。

【００３９】このような両面研磨機を用いて、研磨液と
して酸化セリウムの懸濁液を用い、研磨加工圧力が３０
〜１２０ｇ／ｃｍ²、下定盤回転数が５〜４０ＲＰＭ、
上定盤回転数が５〜４０ＲＰＭ、研磨除去量が０.４〜
１μｍ／ｍｉｎの研磨条件で、ガラス基板２の両面のポ
リシング加工を５回行った毎に上定盤３の回転方向と下
定盤４の回転方向を逆転させるようにして２０分間の加
工時間でポリシングを行う。

【００４０】このポリシング加工によって作製したガラ
ス基板２の表面粗さRaは３０×１０^-10ｍ以下であっ
た。なお、前記のようにダイヤモンドペレット１を用い
た固定砥粒によるラッピング加工をガラス基板２に対し
て行うことにより、ポリシング工程に投入するガラス基
板２の厚さを０.６５ｍｍとし、これをポリシング加工
によって厚さを０.６３５ｍｍとしたので、従来のポリ
シング加工に比べて大幅にポリシング加工時間の短縮を
図ることができる。

【００４１】次に、図５および図６を参照して、ダイヤ
モンドペレットを分割して上下定盤３，４に貼り付けた
場合について説明する。なお、図５にはこの分割したダ
イヤモンドペレット（４分割ダイヤモンドペレット）１
０を貼り付けた上下定盤３，４の平面図を示し、図６に
はこれらの定盤３，４の部分拡大図を示す。４分割ダイ
ヤモンドペレット１０の１個の全体の大きさは、直径２
０ｍｍ、厚さ３ｍｍの円盤状に形成されており、上下定
盤３，４に各々７２０個づつエポキシ系接着剤で貼り付
けられている。

【００４２】この４分割ダイヤモンドペレット１０は、
第１ダイヤモンドペレット１０１、第２ダイヤモンドペ
レット１０２、第３ダイヤモンドペレット１０３およ
び、第４ダイヤモンドペレット１０４からなり、所定の
間隔を有した状態で貼り付けられている。

【００４３】ここで、４分割ダイヤモンドペレット１０
においても、図５および図６に表されているように、平
面視において表されている４分割ダイヤモンドペレット
１０の各表面１０１ａ，１０２ａ，１０３ａ，１０４ａ
がガラス基板２と当接するラップ面となるため、ラップ
面１０１ａ，１０２ａ，１０３ａ，１０４ａの面積は上
側砥石保持面３ａおよび下側砥石保持面４ａの全体の面
積に対してほぼ均等に２０％となる。

【００４４】この４分割ダイヤモンドペレット１０を貼
り付けた上下定盤３，４を用いて、前記と同じ加工装置
を用いてガラス基板２のラッピングを行う。すなわち、
この４分割ダイヤモンドペレット１０が貼り付けられた
上下定盤３，４の間にキャリア５により保持したガラス
基板２を密着させ、このキャリア５を太陽歯車６とイン
ターナル歯車７とに噛合させ、ガラス基板２を上定盤３
と下定盤４とで挟持するとともに押圧する。その後、４
分割ダイヤモンドペレット１０とガラス基板２の研磨面
との間にラッピングの為の液として水を供給し、回転、
摺動させることにより、ガラス基板２の両面を同時にラ
ッピングすることができる。

【００４５】なお、このラッピングの加工圧力および上
下定盤回転数は前記のダイヤモンドペレット１を用いて
ラッピングを行ったときの加工条件と等しいが、厚さ１
ｍｍの素材をこのラッピング工程に投入し、３０分の加
工時間で厚さ０.６５ｍｍのラップ加工品を得ることが
できた。すなわち、４分割ダイヤモンドペレット１０は
４分割されて上下定盤に貼り付けられているため、第１
ダイヤモンドペレット１０ａ〜第４ダイヤモンドペレッ
ト１０ｄの各エッジによりラッピング効果が増大し、更
なるラッピング加工時間の短縮を図ることができた。な
お、このようにしてラップ加工したガラス基板２におい
ても、目視外観観察では傷は見受けられず、表面粗さＲ
maxは０.２μｍであった。

【００４６】このようにしてラップ加工されたガラス基
板２に対しても、前記と同様の条件でポリシングを施す
ことにより、その表面粗さＲaを３０×１０^-10ｍ以下と
する研磨加工を短時間で行うことができる。

【００４７】なお、上記の各実施例においては、磁気記
録媒体用ガラス基板２の上面および下面へのダイヤモン
ドペレット１の摺り合わせを行うために、キャリア５、
太陽歯車６およびインターナル歯車７を有する、既存の
両面研磨機を用いた場合に付いて説明したが、本発明は
このような構成に限られるものではない。例えば、ガラ
ス基板２に対して、単に上定盤３と下定盤４を回転させ
るような構成としてもよい。また、ダイヤモンドペレッ
ト１を分割する場合も４分割である必要はなく、上下定
盤３，４に固着する全てのダイヤモンドペレット１を分
割する必要もない。

【００４８】

【発明の効果】以上のように、本発明の磁気記録媒体用
ガラス基板の加工装置は、上側砥石保持定盤と下側砥石
保持定盤とに、複数の上側砥石および下側砥石を所定間
隔を有して固着しており、これら上側砥石および下側砥
石によりいわゆるスムージングを行うようにしている。
このため、ラップ加工の加工時間の短縮を実現すること
ができ、さらにはラッピング工程で、製品の板厚に近い
板厚の素材に短時間で加工できるので、研磨加工時間の
短縮も可能になった。

【００４９】また、砥粒を固定した砥石を固着した定盤
を用いた磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置を使用し
てラップされた磁気記録媒体用ガラス基板は、傷が少な
いため、研磨して得られる磁気記録媒体用ガラス基板の
外観精度の向上、スクラッチによる不良品率の低下を実
現できる。また、砥粒を固定した砥石を用いた加工は遊
離砥粒を使わないので、スラリーの管理が不要となり、
装置および磁気記録媒体用ガラス基板の清掃、洗浄処理
も簡便となるため工程自動化に対して有利である。

【００５０】なお、上記の磁気記録媒体用ガラス基板の
加工装置においては、各砥石の砥粒としてダイヤモンド
を用いるとともに、各砥石において磁気記録媒体用ガラ
ス基板と当接するラップ面の面積を、各定盤の砥石保持
面の面積に対してほぼ均等に５０％以下とすることが好
ましい。このような構成とすることにより、各砥石の摺
り合わせ速度をより高速化することができるとともに、
加工圧力を増加させることができるため加工速度を上げ
ることができ、加工時間の短縮を図ることができる。

【００５１】さらに、上記の磁気記録媒体用ガラス基板
の加工装置においては、各砥石のうちの少なくとも一部
を複数に分割することが好ましい。このような構成とす
ることにより、各砥石において磁気記録媒体用ガラス基
板のラップ効率が良いエッジ部分が多くなるため、ラッ
ピング時間の短縮を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気記録媒体用ガラス基板の加
工装置に用いられる上側砥石保持定盤および下側砥石保
持定盤の平面図であり、上側砥石および下側砥石の一部
を省略して表している。

【図２】上記磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置の
側面視における概念図である。

【図３】上記磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置の
平面視における概念図である。

【図４】ポリシング加工装置の側面視における概念図
である。

【図５】本発明に係る異なる構成の磁気記録媒体用ガ
ラス基板の加工装置に用いられる上側砥石保持定盤およ
び下側砥石保持定盤の平面図であり、４分割した上側砥
石および下側砥石の一部を省略して表している。

【図６】上記磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置に
用いられる４分割した上側砥石および下側砥石の拡大図
である。

【符号の説明】

１ダイヤモンドペレット（上側砥石および下側砥石）２磁気記録媒体用ガラス基板３上定盤（上側砥石保持定盤）４下定盤（下側砥石保持定盤）５キャリア６太陽歯車７インターナル歯車８研磨パッド９研磨液１０４分割ダイヤモンドペレット

フロントページの続き (72)発明者尾城利一神奈川県相模原市田名3330番地１株式会社相模オプト内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】上側砥石保持面を有する上側砥石保持定
盤と、前記上側砥石保持面上に所定間隔を有して固着された複
数の上側砥石と、前記上側砥石保持面に対向する下側砥石保持面を有する
下側砥石保持定盤と、前記下側砥石保持面上に所定間隔を有して固着された複
数の下側砥石とを有し、磁気記録媒体用ガラス基板の上面および下面に前記上側
砥石および前記下側砥石を摺り合わせて、前記磁気記録
媒体用ガラス基板の上面および下面を同時にラップ加工
することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の加工
装置。
【請求項２】前記上側砥石および前記下側砥石の砥粒
がダイヤモンドであり、前記上側砥石および前記下側砥石において前記磁気記録
媒体用ガラス基板と当接するラップ面の面積が、前記上
側砥石保持面および前記下側砥石保持面の面積に対して
ほぼ均等に５０％以下となっていることを特徴とする請
求項１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置。
【請求項３】前記上側砥石および前記下側砥石のうち
の少なくとも一部が複数に分割されていることを特徴と
する請求項１もしくは請求項２に記載の磁気記録媒体用
ガラス基板の加工装置。