JPH1199652A - インクジェットのプリントヘッド及びその形成方法 - Google Patents
インクジェットのプリントヘッド及びその形成方法Info
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Abstract
ックのインクジェットのノズルを製造する方法におい
て、従来技術でダイ内にインク補充スロットを形成する
と、ノズルの行の長さにわたって両方の行の間にダイの
一部に沿って薄い層のブリッジができる。このような薄
い層のブリッジでは、強度が失われ、損傷を受け易くま
た破損し易い。従って、補充スロットを形成する他の方
法が必要とされている。 【課題を解決するための手段】本発明では、ダイ内に複
数の行のノズル用の補充チャネルを、それらの行に近接
するシリコンのダイを薄くし、その後ダイの薄くした部
分でそれぞれのノズルにのみ対応する部分をエッチング
しトレンチを形成することにより、形成する。
Description
トのプリントヘッド用のモノリシックのインクジェット
のノズルを製造する方法に関し、より詳細には、複数の
行のインクジェットのノズルに供給する補充チャネルの
製造に関する。
インクジェットのペンの一部である。インクジェットの
ペンは通常、インクを収容する槽、ケーシング、および
インクジェットのプリントヘッド、を含む。プリントヘ
ッドは、インクを噴出する複数のノズルを含む。ノズル
は、ノズル・チャンバ内で少量のインクを急激に加熱す
ることによって動作する。加熱することによってインク
が気化し、オリフィスを通って紙のシート等の印字媒体
上に噴出される。あるパターンに配列された複数のノズ
ルからインクを適切な順序に配列して噴出することによ
って、プリントヘッドが紙に関して移動するにつれて文
字その他の画像が紙上に印字される。
クを槽からそれぞれのノズル・チャンバ内に導く1つま
たはそれ以上の補充チャネルを含む。従来、ノズル・チ
ャンバは、基板に塗布されたバリアー層によって規定さ
れている。補充チャネルは、基板内に形成されている。
供給チャネルおよびノズル・チャンバはバリアー層内に
形成されている。それぞれの供給チャネルは、インクを
補充チャネルから対応するノズル・チャンバへと導く役
割をする。噴射抵抗器がノズル・チャンバの底部に位置
している。起動すると、抵抗器はノズル・チャンバ内の
インクを加熱する役割をし、それによって気泡が形成さ
れインクが噴出される。薄膜抵抗器のプリントヘッドに
ついては、抵抗器は、様々なパッシベーション、絶縁、
抵抗、および導電層をシリコンのダイ(die)上に塗布す
ることによって作り上げられる。ダイおよび薄膜層が、
基板を形成する。
いる。オリフィス板には、ノズル・チャンバおよび噴射
抵抗器と整列して、ノズル開口部が形成されている。オ
リフィス開口部の幾何学的形状は、インク滴噴出の大き
さ、軌跡、および速度に影響を与える。オリフィス板
は、ニッケルで形成されリソグラフィーの電気鋳造工程
によって製造されることが多い。こういったオリフィス
板の欠点は、使用中に層間剥離を起こしやすい、という
ことである。層間剥離は、板と基板の間に小さな空隙が
形成されることから始まる。この空隙ができる原因は、
多くは(i)熱膨張率の差、および(ii)化学的に活
性的なインクである。また、噴射抵抗器とオリフィス板
の開口部を整列することも困難である。
(sandblasting)によって形成されている。砂吹き法の
欠点は、一度に1つずつチャネルを穴を開けて作成する
のに時間もコストもかかる、ということである。また、
このような方法では、装置内に、潜在的なコンタミナン
ト源となる砂やくずが残る結果となることも、欠点であ
る。
方法で形成することが、同時係属出願である1996年
2月7日出願の「ソリッドステートのインク・ジェット
のプリントヘッドおよび製造方法」についての米国特許
出願番号第08/597,746号に説明されている。
工程には、半導体装置の製造に用いられるものと同様の
フォトイメージ(photo imaging)技術を含む。本発明の
1実施例では、モノリシックのプリントヘッドのシリコ
ンのダイに補充チャネルを形成する方法が述べられてい
る。これは、現在の幾何学的形状の要求事項に従ってペ
ンを製造するのに特に重要である。現在のインクジェッ
トのペンは、特定のノズル間隔と行の整列(すなわち幾
何学的形状)を有している。このようなペン用のプリン
タのモデルには、このような幾何学的形状をベースにし
てインクジェットのノズルの噴射パターンのタイミング
をとるようにプログラムされた印字制御装置が含まれて
いる。文字や模様を媒体シート上に適切に配置し形成す
るためには、適切にタイミングをとることが必要であ
る。このようなインクジェット・プリンタの交換用ペン
は、このような幾何学的形状と適合して、交換用ペンに
ついて制御装置が実施するタイミングが、文字や模様を
媒体シート上に適切に配置し形成するように機能するよ
うにしなければならない。
ドは、1色につき2行のノズルを含み、それぞれのイン
ク補充スロットは、1色についてのこの2行の中央に沿
っている。本発明が取り組む問題は、この2行が規定さ
れた近さにあることを要求する幾何学的形状が与えられ
た状態で、この2行の間にどのようにインク補充スロッ
トを形成するか、というものである。従来の厚さのダイ
内にスロットを形成する従来の方法を用いると、ノズル
の行の長さにわたって両方の行の間にダイの一部に沿っ
て薄い層のブリッジができる結果となる。実験から、こ
のような薄い層のブリッジでは、強度が失われ、損傷を
受け易くまた破損し易い、ということがわかっている。
従って、補充スロットを形成する他の方法が必要とされ
ている。
ンチを形成するときには、その壁が角度をなして形成さ
れる(例えば、事実上逆ピラミッドの幾何学的形状がト
レンチの形状を規定する)、ということもわかってい
る。。用語(100)は、シリコンのダイの結晶格子の
(100)の平面を指している。標準の6インチのウエ
ハーまたは250ミクロンよりも厚いウエハー上の従来
のノズルの行間隔(例えば、約700ミクロン)につい
ては、これらの角度をなす壁が重なり合って、絶縁され
たトレンチの形成を妨げてしまう。おそらく、トレンチ
が<110>のウエハーに形成されれば、両壁および幾
何学的形状を垂直にできるであろう。しかし、<110
>のウエハー上に形成された電界効果トランジスタ(F
ET)は、<100>のウエハー上に形成されたFET
よりも低速で望ましくない。従って、<100>のウエ
ハーを用いることが好ましく、(100)の平面内にイ
ンク補充スロットを形成する他の方法が必要とされてい
る。
行のノズル用の補充チャネルが、それらの行に近接する
シリコンのダイを薄くしてその後ダイの薄くした部分内
にそれぞれのトレンチをエッチングによって形成するこ
とによって、ダイ内に形成される。
が位置することになる表面と反対側の表面に、マスクが
塗布される。その後ダイのマスクされていない領域を薄
くし、ダイの、ノズルが位置することになる側と反対側
に、第1の深さの第1のトレンチを残す。第1のトレン
チは、(100)の平面内にエッチングによって形成さ
れる実施例については、角度をなした側壁を有する。
マスクが、第1のトレンチの両壁に沿って塗布される。
フォトレジストも塗布される。そして、フォトレジスト
内に、それぞれがノズルの各行と整列した窓が形成され
る。次にマスクを窓内でエッチングし、第1のトレンチ
の壁の2つのそれぞれの部分が現れる。その後両窓を通
して2つのトレンチがエッチングによって形成され、第
1のトレンチ内にそれぞれ第2および第3のトレンチを
形成する。第2のトレンチおよび第3のトレンチは、好
適な実施例において(100)の平面内に形成され、従
って逆ピラミッドの幾何学的形状を有する。第2および
第3のトレンチのそれぞれの床(または天井)に形成さ
れたそれぞれの開口部によって、それぞれのトレンチが
それぞれのノズル・チャンバの位置につながれる。これ
らの開口部は、それぞれのノズルについての供給チャネ
ルである。ノズルの一方の行からのそれぞれのノズル
は、対応する開口部/供給チャネルによって、第2のト
レンチまたは第3のトレンチのうちの1つとつながれて
いる。ノズルの他方の行からのそれぞれのノズルは、対
応する開口部/供給チャネルによって、第2のトレンチ
または第3のトレンチのうちの他方とつながれている。
合であっても、モノリシックのインクジェット構成につ
いて現在のインクジェットのプリントヘッドのノズルの
幾何学的形状が達成される、ということである。その利
点の1つは、モノリシックの構成を用いたインクジェッ
トのペンが、そのような現在の幾何学的形状をベースに
してノズルの噴射のタイミングをとるようにプログラム
されたプリンタ用の交換用ペンの役割をすることができ
る、ということである。他の長所は、このモノリシック
の構成によって、ペンの耐用寿命が長くなり、以前の故
障やエラーの源を回避することができる、ということで
ある。本発明のこれらのおよびその他の態様および長所
は、添付の図面と共に以下の詳細な説明を参照すること
によって、よりよく理解されるであろう。
ェットのペン10を示す。ペン10は、プリントヘッド
12、ケース14、および内部槽15を含む。図2に示
すように、プリントヘッド12は、複数の行のノズル1
6を含む。図示の実施例において、2つの行18、20
が互い違いに配置されて1組の行22を形成し、他の2
つの行18、20が互い違いに配置されて別の1組の行
24を形成している。槽15は、ノズル16と物理的に
連絡しており、インクが槽15からノズル16に流入す
ることができるようになっている。印字制御装置(図示
せず)が、ノズル16の噴射を制御して、印字媒体(図
示せず)上にインクを噴出する。
18、20からの1つずつのノズル16を含む、プリン
トヘッド12の一部を示す。プリントヘッド12は、シ
リコンのダイ25、薄膜構造27、およびオリフィス層
30を含む。シリコンのダイ25は固く、事実上プリン
トヘッド12の他の部分のシャシの役割をする。ダイ2
5内には、インク補充チャネル29が形成されている。
薄膜構造27は、ダイ25上に形成されており、様々な
パッシベーション、絶縁、および導電層を含む。薄膜構
造27内には、それぞれのノズル16について噴射抵抗
器26および導電トレース28(図4を参照)が形成さ
れている。オリフィス層30は、薄膜構造27上のダイ
25と反対側に形成されている。オリフィス層30は、
インクがその上に印字される媒体シートに動作中対向す
る外面34を有する。オリフィス層30内には、ノズル
・チャンバ36およびノズル開口部38が形成されてい
る。
6、ノズル・チャンバ36、ノズル開口部38、および
1つまたはそれ以上の供給チャネル40を含む。噴射抵
抗器26の中心点が、それを中心にノズル16の部品が
整列する法線軸43を規定している。すなわち、噴射抵
抗器26がノズル・チャンバ36内の中心に置かれノズ
ル開口部38と整列することが好ましい。1実施例にお
けるノズル・チャンバ36は、円錐台の形状である。薄
膜構造27およびダイ25内には、1つまたはそれ以上
の供給チャネル40または通路が形成されており、ノズ
ル・チャンバ36を補充チャネル29につないでいる。
供給チャネル40は、ノズル・チャンバの下側の周辺4
2によって丸く囲まれており、所与の供給チャネル40
を通って流れるインクが対応するノズル・チャンバ36
専用になるようにしている。
射抵抗器26付近に配分されており、導電トレース28
が直線で囲まれた抵抗器の対向する縁との電気接点を供
給することができるようになっている。所与の1行の隣
接するノズル・チャンバ38および行の間は、オリフィ
ス層30の頑丈な隔壁によって間隔が置かれている。オ
リフィス層30を通って1つのチャンバ36から他のチ
ャンバ36へと直接インクが流れることはない。
は、所与の1組の行22/24の両方の行18、20に
供給する。1実施例において、1組の行22に供給する
インク補充チャネル29および他方の組の行24に供給
する他の補充チャネル29がある。所与のインク補充チ
ャネル29は、ダイ25の下面46から薄膜構造27に
向かって断面の広がりに沿って内側に向かって先細にな
る、広い開口部44を含む。チャネル29内には、2つ
のスロットが形成されている。第1のスロット48は、
行18、20のうちの一方の行18と整列し、第2のス
ロット50は、行18、20の内の他方の行20と整列
している。それぞれのスロット48、50は、薄膜構造
27に向かって断面の広がりに沿って内に向かって先細
になっている。
厚さが約675ミクロンであるシリコンのダイである。
他の実施例においては、シリコンの代わりにガラスまた
は安定したポリマーが用いられる。薄膜構造27は、二
酸化ケイ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、タンタル、多結
晶シリコンガラス(poly silicon glass)、その他適当な
材料によって形成された、1つまたはそれ以上のパッシ
ベーションまたは絶縁層によって形成されている。薄膜
構造はまた、噴射抵抗器を規定し導電トレースを規定す
る導電層を含む。導電層は、タンタル、タンタル・アル
ミニウム、その他の金属または金属合金によって形成さ
れている。典型的な1実施例において、薄膜構造の厚さ
は約3ミクロンである。オリフィス層の厚さは約10か
ら30ミクロンである。ノズル開口部38の直径は約1
0−30ミクロンである。典型的な1実施例において、
噴射抵抗器26は、各辺の長さが約10−30ミクロン
である、ほぼ正方形である。噴射抵抗器26を支持する
ノズル・チャンバ36の底面42の直径は、抵抗器26
の長さの約2倍である。1実施例において、54°エッ
チングによって、開口部44、第1のスロット48、お
よび第2のスロット50の壁の角度が規定される。典型
的な寸法および角度を述べたが、このような寸法および
角度は、他の実施例については変化してもよい。
図1−図4のモノリシックのプリントヘッドの実施例の
製造を順を追って示したものである。図5Aは、シリコ
ンのダイ25を示す。図5Bにおいて、1つまたはそれ
以上のパッシベーション、絶縁、および導電層でできた
薄膜構造27が塗布されている。図5Cにおいて、抵抗
器26および導電トレース28(図示せず)が塗布され
ている。図5Dにおいて、供給チャネル40がエッチン
グによって形成されている(例えば、等方性工程)。ま
たは、供給チャネル40は、レーザで穴を開けて形成さ
れたり、他の適当な製造方法によって形成される。
台のマンドレル(mandrel)52が、所望の噴射チャンバ
の形状で、それぞれの抵抗器26の上に形成される。図
5Fにおいて、薄膜構造27に、マンドレル52と同じ
高さになる厚さまで、オリフィス層30が塗布される。
1実施例において、オリフィス層は電気メッキの工程に
よって塗布され、基板が電気メッキのタンクに浸され
る。薄膜構造上のマンドレル52のまわりに、物質(例
えばニッケル)が形成される。図5Gにおいて、マンド
レルの物質が、オリフィス層からエッチングされまたは
溶かされて、ノズル・チャンバ36が残る。
の行18、20についてインク補充チャネル29を製造
する各段階を示す。硬いマスクおよびフォトレジスト層
をダイ25に塗布し、硬いマスク内に窓を形成した後
に、図6Aに示すように、薄膜構造27と反対側の表面
において、ダイ25内に、第1のトレンチ44がエッチ
ングによって形成される。次に図6Bに示すように、少
なくとも第1のトレンチ44の壁に沿って、硬いマスク
54およびフォトレジスト層56がダイに塗布される。
次に、フォトレジスト層56のそれぞれの部分が露出さ
れて、第1の窓58および第2の窓60が規定される。
そして硬いマスクが窓58、60内でエッチングされ
る。これらの窓を形成した状態で、フォトレジストが除
去される。図6Cは、窓58、60を形成した状態のプ
リントヘッド12を示す。第1のトレンチ44の残りの
部分は、まだ硬いマスク54に覆われている。様々な実
施例において、硬いマスクは、金属、窒化物、酸化物、
炭化物、その他の硬いマスクによって形成されている。
または、硬いマスクは、フォトイメージ可能なエポキシ
樹脂によって形成されている。フォトイメージ可能なエ
ポキシ樹脂の実施例については、別個のフォトレジスト
層は不要である。エポキシ内の窓は、フォトイメージに
よって規定することができるからである。窓58、60
は、フォトイメージ技術によってエポキシ樹脂内に形成
される。しかしながら、エポキシ樹脂はエッチングを行
う化学反応によって侵されないため、次のエッチングの
間、窓のまわりの所定の場所に残っている。
チ48および第3のトレンチ50がエッチングによって
形成される。第2のトレンチ48は、第1の窓58を通
して、ダイ25を完全に貫いて、または規定された深さ
までエッチングして形成される。規定された深さでは、
ノズル・チャンバ36の下にある薄膜構造27に隣接し
てシリコンのダイ25の薄いブリッジが残る。さらに、
このような第2のトレンチ48によって、前に形成した
供給チャネル40が露出する(図5Dを参照)。第3の
トレンチ50もまた、第2の窓60を通して、ダイ25
を完全に貫いて、または規定された深さまでエッチング
して形成される。このような第3のトレンチ50によっ
て、前に形成した供給チャネル40が露出する(図5D
を参照)。その後硬いマスク54の残りが除去され、図
2−図4に示す製造されたプリントヘッドが残る。
は、ダイ25の<100>の方向においてエッチングさ
れる。その結果、トレンチ44、48、50は、角度を
なした側壁を含む。事実上、逆ピラミッドの幾何学的形
状が、トレンチ48、50の形状を規定する。用語<1
00>は、シリコンのダイの結晶格子の<100>の方
向を指している。
が、以下、本発明の各実施態様の例を示す。
ヘッド(12)を製造する方法であって、以下(a)か
ら(k)までのステップを含むことを特徴とする方法、
(a)ダイ(25)にパッシベーション層(27)を塗
布するステップ、(b)前記パッシベーション層に噴射
抵抗器(26)および配線(26)の配列を塗布するス
テップ、(c)前記各々の噴射抵抗器の上にマンドレル
(52)を塗布するステップ、(d)前記マンドレルの
まわりにオリフィス層(30)を塗布するステップ、
(e)前記マンドレル材を除去して、それぞれのインク
ジェットのノズル・チャンバ(36)およびノズル開口
部(38)を形成するステップ、(f)前記ダイ(2
5)の、前記パッシベーション層と反対側をエッチング
して、第1のトレンチ壁を有する第1のトレンチ(4
4)を第1の深さまで形成するステップ、(g)前記第
1のトレンチの壁に沿って、マスク(54)およびフォ
トレジスト層(56)を塗布するステップ、(h)前記
フォトレジスト層およびマスクを貫いて第1の窓(5
8)および第2の窓(60)を形成し、前記第1のトレ
ンチ壁の第1の部分および前記第1のトレンチ壁の第2
の部分を露出するステップ、(i)前記第1の窓を通し
て第2の深さまでエッチングして第2のトレンチ(4
8)を形成するステップ、(j)前記第2の窓を通して
第2の深さまでエッチングして第3のトレンチ(50)
を形成するステップ、(k)前記マスクの残りの部分を
除去するステップ。
が、前記ダイと前記オリフィス層の間に塗布される薄膜
構造の一部であることを特徴とする実施態様1に記載の
方法。
ッドが、モノリシックのプリントヘッドであることを特
徴とする実施態様1または2に記載の方法。
に記載の方法であって、さらに以下(a)及び(b)の
ステップを含むことを特徴とする方法、(a)複数の第
1の貫通開口部(40)を形成するステップであって、
前記複数の第1の貫通開口部(40)のそれぞれが、前
記第2のトレンチを前記オリフィス層内に形成された第
1の複数のノズル・チャンバのそれぞれのノズル・チャ
ンバを結合し、(b)複数の第2の貫通開口部(40)
を形成するステップであって、前記複数の第2の貫通開
口部(40)のそれぞれが、前記第3のトレンチを前記
オリフィス層内に形成された第2の複数のノズル・チャ
ンバのそれぞれのノズル・チャンバを結合しする。
0)であって、以下(a)及び(b)を含むことを特徴
とするペン(10)、(a)内部槽領域(15)を有す
るペン本体(14)および、(b)モノリシックのプリ
ントヘッド(12)であって、該プリントヘッド(1
2)は、ダイ(25)、該ダイの一方の側に形成された
薄膜構造(27)、および該薄膜構造の前記ダイの反対
側に形成されたオリフィス層(30)を含み、各々のノ
ズル(16)が前記プリントヘッド内に形成され、前記
各々のノズルはノズル・チャンバ(36)および噴射抵
抗器(26)を含み、前記オリフィス層は、それぞれが
対応するノズル・チャンバと整列した開口部(38)を
有し、前記各々のノズルは複数の行(18、20)に形
成され、該複数の行のうちの隣接する行について前記ダ
イ内に補充スロット(29)が形成され、該補充スロッ
トは、最初に前記薄膜構造と反対側において前記ダイを
薄くし、次に前記隣接する行の内の一方について前記薄
くした部分内に一方のトレンチ(48)を、前記隣接す
る行の内の他方について前記薄くした部分内に他方のト
レンチ(50)を形成することによって、前記ダイ内の
前記薄膜構造と反対側に形成され、対応するノズル・チ
ャンバを前記一方のトレンチまたは前記他方のトレンチ
のうちのどちらか1つに結合する各々の供給チャネル
(40)が、前記隣接する行のそれぞれのノズルについ
て形成される。
インクジェット構成について、現在のインクジェットの
プリントヘッドのノズルの幾何学的形状が達成される、
ということである。その利点の1つは、モノリシックの
構成を用いたインクジェットのペンが、そのような現在
の幾何学的形状を印字動作のベースにするプリンタ用の
交換用ペンの役割をすることができる、ということであ
る。他の長所は、このモノリシックの構成によって、ペ
ンの耐用寿命が長くなり、以前の故障やエラーの源を回
避することができる、ということである。
が、様々な他に採りうるもの、変形、および均等物を用
いてもよい。従って、前述の説明は本発明の範囲を限定
するものとして考えるべきではなく、本発明の範囲は添
付の特許請求の範囲によって規定される。
トヘッドを有するインクジェットのペンの斜視図であ
る。
イアウト図である。
図である。
の形成を示す図である。
の形成を示す図である。
の形成を示す図である。
の形成を示す図である。
の形成を示す図である。
の形成を示す図である。
の形成を示す図である。
を示す図である。
を示す図である。
を示す図である。
を示す図である。
Claims (5)
- 【請求項1】インクジェットのプリントヘッドを製造す
る方法であって、以下(a)から(k)までのステップ
を含むことを特徴とする方法、(a)ダイにパッシベー
ション層を塗布するステップ、(b)前記パッシベーシ
ョン層に噴射抵抗器および配線の配列を塗布するステッ
プ、(c)前記各々の噴射抵抗器の上にマンドレルを塗
布するステップ、(d)前記マンドレルのまわりにオリ
フィス層を塗布するステップ、(e)前記マンドレル材
を除去して、それぞれのインクジェットのノズル・チャ
ンバおよびノズル開口部を形成するステップ、(f)前
記ダイの、前記パッシベーション層と反対側をエッチン
グして、第1のトレンチ壁を有する第1のトレンチを第
1の深さまで形成するステップ、(g)前記第1のトレ
ンチの壁に沿って、マスクおよびフォトレジスト層を塗
布するステップ、(h)前記フォトレジスト層およびマ
スクを貫いて第1の窓および第2の窓を形成し、前記第
1のトレンチ壁の第1の部分および前記第1のトレンチ
壁の第2の部分を露出するステップ、(i)前記第1の
窓を通して第2の深さまでエッチングして第2のトレン
チを形成するステップ、(j)前記第2の窓を通して第
2の深さまでエッチングして第3のトレンチを形成する
ステップ、(k)前記マスクの残りの部分を除去するス
テップ。 - 【請求項2】前記パッシベーション層が、前記ダイと前
記オリフィス層の間に塗布される薄膜構造の一部である
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】前記製造されたプリントヘッドが、モノリ
シックのプリントヘッドであることを特徴とする請求項
1または2に記載の方法。 - 【請求項4】請求項1、2、または3に記載の方法であ
って、さらに以下(a)及び(b)のステップを含むこ
とを特徴とする方法、(a)複数の第1の貫通開口部を
形成するステップであって、前記複数の第1の貫通開口
部のそれぞれが、前記第2のトレンチを前記オリフィス
層内に形成された第1の複数のノズル・チャンバのそれ
ぞれのノズル・チャンバを結合し、(b)複数の第2の
貫通開口部を形成するステップであって、前記複数の第
2の貫通開口部のそれぞれが、前記第3のトレンチを前
記オリフィス層内に形成された第2の複数のノズル・チ
ャンバのそれぞれのノズル・チャンバを結合しする。 - 【請求項5】インクジェットのペンであって、以下
(a)及び(b)を含むことを特徴とするペン、(a)
内部槽領域を有するペン本体および、(b)モノリシッ
クのプリントヘッドであって、該プリントヘッドは、ダ
イ、該ダイの一方の側に形成された薄膜構造、および該
薄膜構造の前記ダイの反対側に形成されたオリフィス層
を含み、 各々のノズルが前記プリントヘッド内に形成され、前記
各々のノズルはノズル・チャンバおよび噴射抵抗器を含
み、前記オリフィス層は、それぞれが対応するノズル・
チャンバと整列した開口部を有し、 前記各々のノズルは複数の行に形成され、該複数の行の
うちの隣接する行について前記ダイ内に補充スロットが
形成され、該補充スロットは、最初に前記薄膜構造と反
対側において前記ダイを薄くし、次に前記隣接する行の
内の一方について前記薄くした部分内に一方のトレンチ
を、前記隣接する行の内の他方について前記薄くした部
分内に他方のトレンチを形成することによって、前記ダ
イ内の前記薄膜構造と反対側に形成され、 対応するノズル・チャンバを前記一方のトレンチまたは
前記他方のトレンチのうちのどちらか1つに結合する各
々の供給チャネルが、前記隣接する行のそれぞれのノズ
ルについて形成される。
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