JPS5528874B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS5528874B2 JPS5528874B2 JP8562176A JP8562176A JPS5528874B2 JP S5528874 B2 JPS5528874 B2 JP S5528874B2 JP 8562176 A JP8562176 A JP 8562176A JP 8562176 A JP8562176 A JP 8562176A JP S5528874 B2 JPS5528874 B2 JP S5528874B2
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- JP
- Japan
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- Expired
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Heat Treatment Of Nonferrous Metals Or Alloys (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8562176A JPS5311603A (en) | 1976-07-20 | 1976-07-20 | Method of producing aluminium alloy surface roughened plate for offset printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8562176A JPS5311603A (en) | 1976-07-20 | 1976-07-20 | Method of producing aluminium alloy surface roughened plate for offset printing plate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5311603A JPS5311603A (en) | 1978-02-02 |
| JPS5528874B2 true JPS5528874B2 (fr) | 1980-07-30 |
Family
ID=13863907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8562176A Granted JPS5311603A (en) | 1976-07-20 | 1976-07-20 | Method of producing aluminium alloy surface roughened plate for offset printing plate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5311603A (fr) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0787598A2 (fr) | 1996-02-02 | 1997-08-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Procédé pour la production d'un support pour plaque lithographique |
| EP1625944A1 (fr) | 2004-08-13 | 2006-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Procédé pour la production d'un support pour plaque lithographique |
| EP1712368A1 (fr) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Procédé de fabrication d'un substrat pour plaque lithographique |
| WO2010038812A1 (fr) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | Procédé de traitement électrolytique et dispositif de traitement électrolytique |
| WO2010150810A1 (fr) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | Substrat réfléchissant la lumière et son procédé de fabrication |
| WO2011078010A1 (fr) | 2009-12-25 | 2011-06-30 | 富士フイルム株式会社 | Substrat isolé, procédé de production d'un substrat isolé, procédé de formation d'une ligne de câblage, substrat de câblage et élément électroluminescent |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5842745A (ja) * | 1981-09-03 | 1983-03-12 | Furukawa Alum Co Ltd | 印刷用アルミニウム合金板とその製造方法 |
| JPS5842493A (ja) * | 1981-09-07 | 1983-03-11 | Furukawa Alum Co Ltd | オフセツト印刷用アルミニウム合金板の製造方法 |
| JPS62146694A (ja) * | 1985-12-23 | 1987-06-30 | Nippon Light Metal Co Ltd | 平版印刷用アルミニウム合金支持体の製造法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4828123A (fr) * | 1972-04-14 | 1973-04-13 | ||
| JPS5436891B2 (fr) * | 1974-04-10 | 1979-11-12 | ||
| JPS517081A (en) * | 1974-07-08 | 1976-01-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Haikibutsuno shorihohooyobisono sochi |
-
1976
- 1976-07-20 JP JP8562176A patent/JPS5311603A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0787598A2 (fr) | 1996-02-02 | 1997-08-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Procédé pour la production d'un support pour plaque lithographique |
| EP1625944A1 (fr) | 2004-08-13 | 2006-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Procédé pour la production d'un support pour plaque lithographique |
| EP1712368A1 (fr) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Procédé de fabrication d'un substrat pour plaque lithographique |
| WO2010038812A1 (fr) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | Procédé de traitement électrolytique et dispositif de traitement électrolytique |
| WO2010150810A1 (fr) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | Substrat réfléchissant la lumière et son procédé de fabrication |
| WO2011078010A1 (fr) | 2009-12-25 | 2011-06-30 | 富士フイルム株式会社 | Substrat isolé, procédé de production d'un substrat isolé, procédé de formation d'une ligne de câblage, substrat de câblage et élément électroluminescent |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5311603A (en) | 1978-02-02 |