JPS5810069U - 抵抗体パタ−ンのずれ検査マスク - Google Patents

抵抗体パタ−ンのずれ検査マスク

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Publication number
JPS5810069U
JPS5810069U JP10431081U JP10431081U JPS5810069U JP S5810069 U JPS5810069 U JP S5810069U JP 10431081 U JP10431081 U JP 10431081U JP 10431081 U JP10431081 U JP 10431081U JP S5810069 U JPS5810069 U JP S5810069U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistor pattern
inspection mask
pattern deviation
deviation inspection
holes
Prior art date
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Pending
Application number
JP10431081U
Other languages
English (en)
Inventor
千葉　賢一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS5810069U publication Critical patent/JPS5810069U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Testing Electric Properties And Detecting Electric Faults (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図ａは抵抗体パターン群の平面図。第１図すは抵抗
体パターン個片のずれ状態の拡大平面図。　−第２図ａ
およびｂは、本考案による抵抗体パターン群のずれ検査
マスクの平面図および部分拡大子。 面図。 １．１１・・・・・・小孔、２・・・・・・絶縁基板、
３・・曲損抗体パターン、４・・・・・・薄板、５・・
・・・・検査基準孔、６・・・・・・判別基準目盛、７
・・・・・・（抵抗体パターンの）ずれ検査マスク。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 中心孔を基準にして絶縁基板上に形成した抵抗体パター
    ンと相対する所望の位置の複数個所に抵抗体パターンの
    幅量上の孔を設け、前記孔の両縁部に相対する目盛を設
    けたことを特徴とする抵抗体パターンのずれ検査マスク
    。
JP10431081U 1981-07-14 1981-07-14 抵抗体パタ−ンのずれ検査マスク Pending JPS5810069U (ja)

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JP10431081U JPS5810069U (ja) 1981-07-14 1981-07-14 抵抗体パタ−ンのずれ検査マスク

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JP10431081U JPS5810069U (ja) 1981-07-14 1981-07-14 抵抗体パタ−ンのずれ検査マスク

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JPS5810069U true JPS5810069U (ja) 1983-01-22

Family

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JP10431081U Pending JPS5810069U (ja) 1981-07-14 1981-07-14 抵抗体パタ−ンのずれ検査マスク

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