JPS58104149A - 高透磁率合金 - Google Patents

高透磁率合金

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JPS58104149A
JPS58104149A JP56200045A JP20004581A JPS58104149A JP S58104149 A JPS58104149 A JP S58104149A JP 56200045 A JP56200045 A JP 56200045A JP 20004581 A JP20004581 A JP 20004581A JP S58104149 A JPS58104149 A JP S58104149A
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JP
Japan
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magnetic
magnetic permeability
alloy
corrosion resistance
high magnetic
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JP56200045A
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English (en)
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JPS625974B2 (ja
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Mitsuo Okazaki
岡崎 充男
Koichi Tamaki
玉城 幸一
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Tokin Corp
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Tohoku Metal Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高透磁率が要求される磁気シールド部材に適用
して良好な磁気特性を有し、さらに磁気特性を失うこと
なく耐食性、熱間加工性を改善した磁気シールド用高透
磁率合金に関するものである。
Ni−Fe系高透磁率合金を用いた磁気シールド部材は
9例えばテープレコーダー等の磁気記録装置における磁
気ヘッドのシールドケースとして広く用いられている。
なかでもMo、Cu等を゛含む高Niパーマロイ(JI
S−PC材)および低Niパーマロイ(JIS−PB材
)が多く用いられている。
前者は高透磁率・高耐食性を有するが、高価なNiを7
6重量%(以下単に%と記す。)以上と多量に含み、さ
らに高価なMOをも含有しているため。
磁性合金の中では価格が高いという欠点がある。
また後者はNi量が45%程度であるため安価でかつ1
0エルステツドにおける磁束密度B、0が14000ガ
ウスと高い反面、耐食性が極端に劣ると共に初透磁率μ
iが5000で前者に比べ低いという欠点がある。例え
ば安価な45%Ni −Fe パーマロイを磁気シール
ド用ヘッドケースとして用いるためには、耐食性が劣る
ために防錆処理としてメッキ処理を施す必要があり、か
えって高価となる。
故に従来のJIS−PC材では、磁気特性に優れ。
高耐食性を有し、かつ安価な磁性合金材料を得ることは
困難であった。しかしながら、工業的には安価で磁気特
性・耐食性・熱間加工性を兼ね備えた優れた磁性合金が
強く要望されている。
本発明は上記の要望に対してなされたもので。
JIS−PC材の諸特性を十分維持しながら高価なNi
量を数%〜20%程度低減し、さらに高価なMoを全く
含まない磁気シールド部材に好適な新規の高透磁率合金
を提供するものである。
ところで、 Ni−Fe合金にOuを添加したNi −
Fe−Cu合金についての研究は古くから行なわれてお
り、優れた磁気特性(μ1=14000)を有すること
はよく知られている(例えばBoxorth著” Fe
rromagnetism” D、No5trand 
Company、 1951)。
しかしながら上記合金系において、 Cu量が10%以
上では熱間加工性を著しく劣化させるという欠点がある
ため実用化が困難であった。
本発明者らは上記欠点を改善し、さらにNi−Fe−C
u三元系合金よりも優れた透磁率を有し。
寸だ熱間加工性・耐食性に優れた高透磁率合金の研究を
重ねてきた。その結果、Ni57〜74%。
0u12〜62%、残部Feからなる合金で、しかもそ
のFeの一部をSiおよびMgで置きかえることにより
、三元系合金よりも透磁率は数段向上し。
初透磁率μi = 170000 、最大透磁率μm=
 220000が得られ、熱間加工性についても著しく
改善され、さらに耐食性についてはJIS−PC材より
も優れることを見い出した。
本発明は以上の結果に基づきなされたもので。
本発明磁性合金は、 Ni 57〜74%、  Cu1
2〜32%、Si0.3〜6.0%、  Mg0.00
1〜0.02%および残部Feからなることを特徴とす
る。
ここでNiは57〜74%の範囲で高透磁率を有するが
、 Niが57%未満では透磁率が低下し。
耐食性も著しく劣り、また74%を越えるとCu量12
%以上の添加により透磁率の低下が著しい。
さらにNiが74%を越えるものは、省資源低価格化を
考慮すれば工業的に不利となる。
Cuは12〜32%の範囲内では高透磁率を有するζ がOuが12%未郷ではNi量が74%を越えないと高
透磁率が得ら五ず、 Cuが32%を越えると初透磁率
μiが低下し熱間加工性も劣化する。
Siは9本合金の耐食性を改善すると共に磁歪および磁
気異方性を小さくするために添加するものである。Si
を添加することにより磁性焼鈍の際に合金表面層に薄い
8iの酸化被膜が形成され、これが一種の不働態被膜と
して働き耐食性を向上させる。Siの酸化被膜を形成さ
せるためにはSiを0.3%以上添加する必要があり。
0.3%未満では、酸化被膜が形成されず耐食性を劣化
させる。またSiを3.0%を越えて添加しても、酸化
被膜が形成され耐食性を向上させるが。
同時に磁束密度B、I Oが著しく低下すると共に磁歪
および磁気異方性が大きくなる。以上のことからSiの
添加量は0.6〜3.0%の範囲が耐食性を高めさらに
磁歪および磁気異方性を小さくするために好適であ′る
Mgは本合金の熱間加工性を改善するために添加するも
のであり、 0.001%未満では効果は現われず、 
0.02%を越えると初透磁率が低下し実用に供し得な
い。(なお詳細は実施例1で述べる。) なお本発明合金に脱酸剤、脱硫剤としてA1゜C,Ca
、 Mn等を総量で1%以下添加してもよい。
次に実施例について本発明を説明する。
〈実施例−1〉 表1に示す組成のNi、 Cu、 Si、 Mgおよび
Feの全量3 Kyをマグネシアルツボ中で真空高周波
誘導炉により溶解した後、鉄型に鋳込み、 Ouの偏析
の生じない適当な冷却速度で室温まで冷却して鋳塊を得
た。この鋳塊を1300℃で5時間均質化焼鈍を行なっ
た後、厚さ10111のJIS−13号試験片(JIS
Z2201による)を切り出した。
試料番号No 、 71〜N006から切りi出された
上記試片を用いて1200°Cでアルゴン雰囲気中にて
引張試験を行なった。この時のひずみ速度は4.2×1
0−1を用いた。Mg量と初透磁率μiおよび断面収縮
率との関係を第1図に示す。ここで断面収縮率が大きい
程、加工性が良好であることを表わしている。この図よ
り初透磁率μiはMg量が増加するにしたがい低下し、
 Mg量が0.02%を越えるとμi<10000とな
り高透磁率合金として実用に供し難いことがわかる。ま
た断面収縮率はMg量が増加すると共に大きくなり、 
Mg量が0.02%以上では飽和状態を呈している。
次に試料番号No、1およびNo、3から切り出しだ試
片を用いて800〜1300℃の適当な温度で引張試験
を行なった。雰囲気、ひずみ速度は上記と同様とした。
拳この時の試験温度と断面収縮率との関係を第2図に示
す。この図よりMgを添加しだ試片(No、3)はMg
無添加の試片(No、 1 )に比べ断面収縮率が大き
くなっていることがわかる。
以上より断面収縮率に及ぼすMgの影響は著しく大であ
ることがわかる。すなわちMgを0.001〜0.02
%の範囲で添加するととにより熱間加工性は改善される
〈実施例−2〉 実施例−1と同様にして表2に示す組成の鋳塊得1通常
の熱間加工および冷間加工により板厚0.5 m111
の板材を作製した。ここで熱間加工の際。
本発明材においてはカド割れ・耳割れ等が全く発生せず
熱間加工性は良好であったが、比較例の試料番号No、
1においては、耳割れが多数発生し。
熱間加工性は著しく悪かった。そしてこれらの板材より
磁気測定用試料(外径45龍、内径33III+のリン
グ)および耐食性試験用試料(5C1lIX50mm)
を作成し、これらの試料に磁性焼鈍を施した。磁気測定
は、初透磁iμi、最大透磁率μm、保磁力HC礼□・
l および磁束密度B・・1::、、・、!1′&)いて行
ない、その結果を表2に示す。また耐食 試験には塩水
噴霧試験(65℃、5%塩水)を用いた。 この時の結
果を表2に示す。
以下余白 以上の結果より本発明合金はJIS−PB材(試料番号
No、14)に比べ磁気特性および耐食性に優れており
、またJ I 5−PC材(試料番号No、12゜13
)と同等の磁気特性を有し、耐食性の面ではJIS−P
C!材よりも優れており、96時間の塩水噴霧試験によ
っても発錆がない。
以上述べた如く本発明合金は高透磁率合金として従来使
用されているJIS−PC材と同等あるいは同等以上の
特性を有し、しかも熱間加工性に優れ、安価であるので
1例えば磁気記録装置における磁気ヘッドのシールドケ
ースに使用して好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明合金を1200℃で引張試験した時のM
g量と初透磁率μi、および断面収縮率との関係を示し
、第2図は本発明合金と比較材を引張試験したときの試
験温煕と断面収縮率との関係を示す。 第2図 Mバ駅麗度(’C)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、重量%でNi57〜74%、  0u12〜32%
    、  SiO,3〜5.0%、  Mg 0.001〜
    0.02%および残部reからなる高透磁率合金。
JP56200045A 1981-12-14 1981-12-14 高透磁率合金 Granted JPS58104149A (ja)

Priority Applications (1)

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JP56200045A JPS58104149A (ja) 1981-12-14 1981-12-14 高透磁率合金

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JP56200045A JPS58104149A (ja) 1981-12-14 1981-12-14 高透磁率合金

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58104149A true JPS58104149A (ja) 1983-06-21
JPS625974B2 JPS625974B2 (ja) 1987-02-07

Family

ID=16417902

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JP56200045A Granted JPS58104149A (ja) 1981-12-14 1981-12-14 高透磁率合金

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5284119A (en) * 1975-12-31 1977-07-13 Daido Steel Co Ltd Iron nickel system high permeability alloy
JPS5734311A (en) * 1980-08-11 1982-02-24 Toshiba Corp Magnetic shielding parts

Patent Citations (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5284119A (en) * 1975-12-31 1977-07-13 Daido Steel Co Ltd Iron nickel system high permeability alloy
JPS5734311A (en) * 1980-08-11 1982-02-24 Toshiba Corp Magnetic shielding parts

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JPS625974B2 (ja) 1987-02-07

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