JPS631642B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS631642B2 JPS631642B2 JP53148424A JP14842478A JPS631642B2 JP S631642 B2 JPS631642 B2 JP S631642B2 JP 53148424 A JP53148424 A JP 53148424A JP 14842478 A JP14842478 A JP 14842478A JP S631642 B2 JPS631642 B2 JP S631642B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- oxide film
- permalloy
- microns
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、表面に耐摩耗性のすぐれた酸化皮
膜を形成したクローム系パーマロイ薄板を積層し
てなる磁気ヘツドコアに関する。
膜を形成したクローム系パーマロイ薄板を積層し
てなる磁気ヘツドコアに関する。
磁気ヘツドコア用材料に要求される特性は、磁
気テープの摺動に対する耐摩耗性がよく、磁気ヘ
ツドの電磁変換特性に関係した飽和磁束密度と透
磁率が高く、かつ保磁力が低いこと、さらにコア
片への加工が容易であることなどである。
気テープの摺動に対する耐摩耗性がよく、磁気ヘ
ツドの電磁変換特性に関係した飽和磁束密度と透
磁率が高く、かつ保磁力が低いこと、さらにコア
片への加工が容易であることなどである。
これらの要求を満たす磁気ヘツド用材料として
は、一般にパーマロイ、ソフトフエライト、セン
ダスト等が用いられている。しかし、ソフトフエ
ライトは飽和磁束密度が低く欠け等の問題もあ
り、又センダストは加工性が悪く量産性が低いと
いう欠点があり、飽和磁束密度・透磁率が高く、
かつ加工性が良い等のことからパーマロイが多く
用いられている。
は、一般にパーマロイ、ソフトフエライト、セン
ダスト等が用いられている。しかし、ソフトフエ
ライトは飽和磁束密度が低く欠け等の問題もあ
り、又センダストは加工性が悪く量産性が低いと
いう欠点があり、飽和磁束密度・透磁率が高く、
かつ加工性が良い等のことからパーマロイが多く
用いられている。
しかし、パーマロイはソフトフエライト・セン
ダストと比較して耐摩耗性が低いという欠点があ
り、耐摩耗性の向上が強く望まれていた。そし
て、前記パーマロイの耐摩耗性を向上させる方法
として、Si、Ti、Alなどの元素を添加して硬度
を高める手段が講じられているが、期待するほど
には耐摩耗性が向上しないばかりか、パーマロイ
の特徴である高飽和磁束密度は前記元素の添加に
より著しく低下する欠点があつた。
ダストと比較して耐摩耗性が低いという欠点があ
り、耐摩耗性の向上が強く望まれていた。そし
て、前記パーマロイの耐摩耗性を向上させる方法
として、Si、Ti、Alなどの元素を添加して硬度
を高める手段が講じられているが、期待するほど
には耐摩耗性が向上しないばかりか、パーマロイ
の特徴である高飽和磁束密度は前記元素の添加に
より著しく低下する欠点があつた。
又、パーマロイとして、体積抵抗率の増加、渦
電流損失の減少、透磁率の向上及び熱処理の容易
化等の為、Cr、Mo、Cu等を添加することが知ら
れている。
電流損失の減少、透磁率の向上及び熱処理の容易
化等の為、Cr、Mo、Cu等を添加することが知ら
れている。
本発明者は、パーマロイの持つている長所を生
かし、かつ耐摩耗性のすぐれた磁気ヘツドコアの
提供を目的とし、種々実験を繰返した結果、クロ
ーム系パーマロイの表面に熱処理によりクローム
系の酸化皮膜を形成させることで、飽和磁束密度
を低下させることなく、透磁率を向上させ、しか
も密着強度の強い酸化皮膜を有するコア片を工業
的に量産性高く提供可能であることを知見した。
かし、かつ耐摩耗性のすぐれた磁気ヘツドコアの
提供を目的とし、種々実験を繰返した結果、クロ
ーム系パーマロイの表面に熱処理によりクローム
系の酸化皮膜を形成させることで、飽和磁束密度
を低下させることなく、透磁率を向上させ、しか
も密着強度の強い酸化皮膜を有するコア片を工業
的に量産性高く提供可能であることを知見した。
すなわち、この発明は、磁気ヘツド用材料とし
て、クローム系パーマロイを用いることにより達
成されるもので、熱処理により表面に厚さ0.5μｍ
以上のCr2O3又はMO・Cr2O3からなる酸化皮膜
を形成したクローム系パーマロイのコア片の複数
枚をエポキシ樹脂等の接着剤を使つて接着積層し
てなる磁気ヘツドコアであり、耐摩耗性にすぐれ
たことを特徴とする。なお、上記ＭはMg、Co、
Fe、Ni、Mnを表わす。
て、クローム系パーマロイを用いることにより達
成されるもので、熱処理により表面に厚さ0.5μｍ
以上のCr2O3又はMO・Cr2O3からなる酸化皮膜
を形成したクローム系パーマロイのコア片の複数
枚をエポキシ樹脂等の接着剤を使つて接着積層し
てなる磁気ヘツドコアであり、耐摩耗性にすぐれ
たことを特徴とする。なお、上記ＭはMg、Co、
Fe、Ni、Mnを表わす。
この発明において、クローム系パーマロイ表面
にCr酸化皮膜を形成するには、コア片を磁気焼
なましした後、さらに露点０〜＋40℃の湿潤ガス
中、700℃以上で熱処理を行い、表面に0.5ミクロ
ン以上の厚さのCr酸化皮膜を形成する。なお、
この際Cr酸化皮膜は、Cr酸化物のほかに、Mg、
Co、Fe、Ni、Mnの１種又は２種以上の酸化物
が混在したものでもよい。
にCr酸化皮膜を形成するには、コア片を磁気焼
なましした後、さらに露点０〜＋40℃の湿潤ガス
中、700℃以上で熱処理を行い、表面に0.5ミクロ
ン以上の厚さのCr酸化皮膜を形成する。なお、
この際Cr酸化皮膜は、Cr酸化物のほかに、Mg、
Co、Fe、Ni、Mnの１種又は２種以上の酸化物
が混在したものでもよい。
そして、Cr酸化皮膜を0.5ミクロン厚さ以上と
したのは、それ未満ではすぐれた耐摩耗性が得ら
れないからである。すなわち、Cr酸化皮膜はモ
ース硬度8.5で非常に硬いため、磁気テープの摺
動による摩耗を阻止してコア全体を守る働きをし
耐摩耗性を向上させるのである。又Cr酸化皮膜
は良絶縁体であるから積層されたコアは層間絶縁
が完全で渦電流損失を低減できる。
したのは、それ未満ではすぐれた耐摩耗性が得ら
れないからである。すなわち、Cr酸化皮膜はモ
ース硬度8.5で非常に硬いため、磁気テープの摺
動による摩耗を阻止してコア全体を守る働きをし
耐摩耗性を向上させるのである。又Cr酸化皮膜
は良絶縁体であるから積層されたコアは層間絶縁
が完全で渦電流損失を低減できる。
実施例 １
重量比で６％Cr、42％Ni、残部実質的にFeよ
りなるCr系パーマロイを、溶解→鋳造→熱間加
工→冷間加工の通常の工程で0.1mmの厚さに圧延
後、打抜き（またはフオトエツチング）によつて
コア片に加工し、露点が−70℃の乾燥水素中で
1100℃、３時間の磁気焼なましを行い、続いて露
点が＋30℃の湿潤水素中で800℃、１時間の熱処
理を行つて、表面にCr酸化皮膜を形成せしめた。
そして、上記コア片の６枚をエポキシ樹脂を使つ
て接着積層し磁気ヘツドコアを作つた。第１図は
上記により得たコア片断面をＸ線マイクロアナラ
イザーで観察した結果を示すもので、同図ａは
Crと酸素の濃度分布を示し、同図ｂは組成像に
よる表面酸化物を示す。すなわち、組成像で斜線
の部分が酸化物に対応しており、その部分でCr
と酸素の濃度が高くなつているので、コア片表面
にCr酸化物が形成されていることがわかる。こ
のCr酸化皮膜の厚さは1.2ミクロンであつた。
りなるCr系パーマロイを、溶解→鋳造→熱間加
工→冷間加工の通常の工程で0.1mmの厚さに圧延
後、打抜き（またはフオトエツチング）によつて
コア片に加工し、露点が−70℃の乾燥水素中で
1100℃、３時間の磁気焼なましを行い、続いて露
点が＋30℃の湿潤水素中で800℃、１時間の熱処
理を行つて、表面にCr酸化皮膜を形成せしめた。
そして、上記コア片の６枚をエポキシ樹脂を使つ
て接着積層し磁気ヘツドコアを作つた。第１図は
上記により得たコア片断面をＸ線マイクロアナラ
イザーで観察した結果を示すもので、同図ａは
Crと酸素の濃度分布を示し、同図ｂは組成像に
よる表面酸化物を示す。すなわち、組成像で斜線
の部分が酸化物に対応しており、その部分でCr
と酸素の濃度が高くなつているので、コア片表面
にCr酸化物が形成されていることがわかる。こ
のCr酸化皮膜の厚さは1.2ミクロンであつた。
実施例 ２
実施例１と同様のコア片を露点が−70℃の乾燥
水素中で1100℃、３時間の磁気焼なましを行つた
後、露点が＋30℃の湿潤水素中で1000℃、１時間
の熱処理を行つて、表面にCr酸化皮膜を形成せ
しめた。そして、上記コア片の６枚をエポキシ樹
脂を使つて接着積層し磁気ヘツドコアを作つた。
そして上記により得たコア片断面をＸ線マイクロ
アナライザーで観察した結果を第２図に示す。同
図ａは第１図と同様Crと酸素の濃度分布を示し、
同図ｂは組成像による表面酸化物を示す。この実
施例２においても、コア片表面にCr酸化皮膜が
形成された。そのCr酸化皮膜の厚さは3.3ミクロ
ンであつた。
水素中で1100℃、３時間の磁気焼なましを行つた
後、露点が＋30℃の湿潤水素中で1000℃、１時間
の熱処理を行つて、表面にCr酸化皮膜を形成せ
しめた。そして、上記コア片の６枚をエポキシ樹
脂を使つて接着積層し磁気ヘツドコアを作つた。
そして上記により得たコア片断面をＸ線マイクロ
アナライザーで観察した結果を第２図に示す。同
図ａは第１図と同様Crと酸素の濃度分布を示し、
同図ｂは組成像による表面酸化物を示す。この実
施例２においても、コア片表面にCr酸化皮膜が
形成された。そのCr酸化皮膜の厚さは3.3ミクロ
ンであつた。
実施例 ３
重量比で２％Cr、82％Ni、残部実質的にFeよ
りなるCr系パーマロイを、実施例１と同様な工
程により、表面にCr酸化皮膜を形成してなるコ
ア片を得た。該コア片の６枚をエポキシ樹脂を使
つて接着積層し、磁気ヘツドコアを作製した。上
記Cr酸化皮膜の厚さは0.9ミクロンであつた。
りなるCr系パーマロイを、実施例１と同様な工
程により、表面にCr酸化皮膜を形成してなるコ
ア片を得た。該コア片の６枚をエポキシ樹脂を使
つて接着積層し、磁気ヘツドコアを作製した。上
記Cr酸化皮膜の厚さは0.9ミクロンであつた。
第３図は前記実施例１および２のコア片をそれ
ぞれ６枚積層して作つたコアを用いて、磁気テー
プの摺動による摩耗量の時間推移を測定した結果
を示す。その際の磁気テープにはγヘマタイトテ
ープを使用し、テープ速度は4.75cm／secであつ
た。また比較のため、市販の高硬度パーマロイお
よびセンダストで作成したコアを同一試験条件で
測定した結果も併せて示した。第３図の結果より
明らかなごとく、磁気テープ走行時間1000時間で
の摩耗量は、市販の高硬度パーマロイコアが40ミ
クロン、同じくセンダストコアが22ミクロンであ
るのに対し、Cr酸化皮膜厚さ1.2ミクロンのコア
（実施例１）では17ミクロン、Cr酸化皮膜厚さ3.3
ミクロンのコア（実施例２）では10ミクロンであ
り、この発明によるコアの摩耗量は、高硬度パー
マロイコアの約1/4〜2/5、センダストコアの約1/
２〜2/3と非常に少ない好結果が得られた。
ぞれ６枚積層して作つたコアを用いて、磁気テー
プの摺動による摩耗量の時間推移を測定した結果
を示す。その際の磁気テープにはγヘマタイトテ
ープを使用し、テープ速度は4.75cm／secであつ
た。また比較のため、市販の高硬度パーマロイお
よびセンダストで作成したコアを同一試験条件で
測定した結果も併せて示した。第３図の結果より
明らかなごとく、磁気テープ走行時間1000時間で
の摩耗量は、市販の高硬度パーマロイコアが40ミ
クロン、同じくセンダストコアが22ミクロンであ
るのに対し、Cr酸化皮膜厚さ1.2ミクロンのコア
（実施例１）では17ミクロン、Cr酸化皮膜厚さ3.3
ミクロンのコア（実施例２）では10ミクロンであ
り、この発明によるコアの摩耗量は、高硬度パー
マロイコアの約1/4〜2/5、センダストコアの約1/
２〜2/3と非常に少ない好結果が得られた。
以上説明したごとく、この発明によれば、耐摩
耗性の非常にすぐれた磁気ヘツドコアを提供し得
る上、熱処理工程のみでCr酸化皮膜を形成し得
るので、工業的に安価な磁気ヘツドコアを量産す
ることができる。
耗性の非常にすぐれた磁気ヘツドコアを提供し得
る上、熱処理工程のみでCr酸化皮膜を形成し得
るので、工業的に安価な磁気ヘツドコアを量産す
ることができる。
第１図ａはこの発明の実施例１におけるＸ線マ
イクロアナライザーのプロフアイル線で観測した
Crおよび酸素の濃度分布を示す図表、同図ｂは
同じくＸ線マイクロアナライザーの組成像で観察
した表面酸化物を示す説明図、第２図ａは同上実
施例２におけるＸ線マイクロアナライザーのプロ
フアイル線で観測したCrおよび酸素の濃度分布
を示す図表、同図ｂは同じくＸ線マイクロアナラ
イザーの組成像で観察した表面酸化物を示す説明
図、第３図は同上実施例１、２による本発明コア
の磁気テープ走行時間と摩耗量との関係を従来品
と比較して示す図表である。
イクロアナライザーのプロフアイル線で観測した
Crおよび酸素の濃度分布を示す図表、同図ｂは
同じくＸ線マイクロアナライザーの組成像で観察
した表面酸化物を示す説明図、第２図ａは同上実
施例２におけるＸ線マイクロアナライザーのプロ
フアイル線で観測したCrおよび酸素の濃度分布
を示す図表、同図ｂは同じくＸ線マイクロアナラ
イザーの組成像で観察した表面酸化物を示す説明
図、第３図は同上実施例１、２による本発明コア
の磁気テープ走行時間と摩耗量との関係を従来品
と比較して示す図表である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 熱処理により形成されたCr2O3又はMO・
Cr2O3からなる厚さ0.5μｍ以上の酸化皮膜を表面
に有するクローム系パーマロイのコア片を複数枚
積層してなる耐摩耗性のすぐれた磁気ヘツドコ
ア。 ただし、前記ＭはMg、Co、Fe、Ni、Mnを表
わす。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14842478A JPS5573917A (en) | 1978-11-29 | 1978-11-29 | Magnetic head core with excellent resistance to wear |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14842478A JPS5573917A (en) | 1978-11-29 | 1978-11-29 | Magnetic head core with excellent resistance to wear |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5573917A JPS5573917A (en) | 1980-06-04 |
| JPS631642B2 true JPS631642B2 (ja) | 1988-01-13 |
Family
ID=15452477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14842478A Granted JPS5573917A (en) | 1978-11-29 | 1978-11-29 | Magnetic head core with excellent resistance to wear |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5573917A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS578916A (en) * | 1980-06-18 | 1982-01-18 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Magnetic head core with wear resistance |
| JPS62149009A (ja) * | 1985-12-24 | 1987-07-03 | Canon Electronics Inc | 積層コアの製造方法 |
| SG55136A1 (en) | 1992-08-03 | 1999-05-25 | Koninkl Philips Electronics Nv | Magnetic head having a wear-resistant layer and method of manufacturing such a magnetic head |
| DE4323115A1 (de) * | 1992-08-03 | 1994-02-10 | Philips Electronics Nv | Magnetkopf mit einer im wesentlichen Cr¶2¶O¶3¶-haltigen Schicht und Verfahren zum Herstellen eines derartigen Magnetkopfes |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50109613U (ja) * | 1974-02-15 | 1975-09-08 | ||
| JPS533771U (ja) * | 1976-06-25 | 1978-01-13 |
-
1978
- 1978-11-29 JP JP14842478A patent/JPS5573917A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5573917A (en) | 1980-06-04 |
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