JPS58120427A - 放電加工装置 - Google Patents
放電加工装置Info
- Publication number
- JPS58120427A JPS58120427A JP123182A JP123182A JPS58120427A JP S58120427 A JPS58120427 A JP S58120427A JP 123182 A JP123182 A JP 123182A JP 123182 A JP123182 A JP 123182A JP S58120427 A JPS58120427 A JP S58120427A
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- processing
- machining
- rocking
- radius
- workpiece
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- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 title abstract description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 59
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims description 7
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
- B23H7/26—Apparatus for moving or positioning electrode relatively to workpiece; Mounting of electrode
- B23H7/28—Moving electrode in a plane normal to the feed direction, e.g. orbiting
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は加工電極と被加工体に相対的接近送りを与えて
加工する放電加工装置に関する。
加工する放電加工装置に関する。
例えば、電極の送り方向と垂直な平面内で被加工体との
間に相対的な揺動運動をさせて電極形状と相似な形状穴
の加工を放電加工により行なうことが知られている。こ
の相対的揺動運動を行なわせる場合、例えば所定半径の
公転運動をさせる場合、公転半径が大きいと加工速度が
公転運動半径に追従できないからアーク、短絡が発生し
て安定加工できない。したがって公転半径を1μ量程度
の微小値で徐々に増加させて目的の所定半径まで拡大さ
せるとか、加工間隙の信号、例えば電圧を検出してサー
ボ制御しながら徐々に加工拡大していくよう制御する方
式がとられる。そして所定半径まで拡大したところで公
転運動半径の増加を停止して仕上げる。しかしこの揺動
加工中、電極と被加工体との加工間隙には一定加工条件
のパルスが加えられ、荒加工条件で加工すれば加工速度
は早いが加工面粗さ、加工制度が悪く、仕上加工条件で
は加工速度が遅い欠点がある。、 本発明はこのような点に鑑みて提案されるもので、電極
、被加工体間に与える相対的な運動をNC制御により駆
動し、相対的運動距離が設定した最終設定距離になった
とき荒加工条件で始まった加工パルスを所定の加工条件
になるよう少なくとも2段階に加工用電極の切換えを行
なうようにしたものである。
間に相対的な揺動運動をさせて電極形状と相似な形状穴
の加工を放電加工により行なうことが知られている。こ
の相対的揺動運動を行なわせる場合、例えば所定半径の
公転運動をさせる場合、公転半径が大きいと加工速度が
公転運動半径に追従できないからアーク、短絡が発生し
て安定加工できない。したがって公転半径を1μ量程度
の微小値で徐々に増加させて目的の所定半径まで拡大さ
せるとか、加工間隙の信号、例えば電圧を検出してサー
ボ制御しながら徐々に加工拡大していくよう制御する方
式がとられる。そして所定半径まで拡大したところで公
転運動半径の増加を停止して仕上げる。しかしこの揺動
加工中、電極と被加工体との加工間隙には一定加工条件
のパルスが加えられ、荒加工条件で加工すれば加工速度
は早いが加工面粗さ、加工制度が悪く、仕上加工条件で
は加工速度が遅い欠点がある。、 本発明はこのような点に鑑みて提案されるもので、電極
、被加工体間に与える相対的な運動をNC制御により駆
動し、相対的運動距離が設定した最終設定距離になった
とき荒加工条件で始まった加工パルスを所定の加工条件
になるよう少なくとも2段階に加工用電極の切換えを行
なうようにしたものである。
以十図面の一実施例によって本発明を説明する。
1は加工形状をした電極、2は被加工体で、予じめ穴が
形成され、そこに図示するよう電極1を挿入し、所定半
径の相対的公転運動を行なわせている。3は被加工体2
を固定する加工テーブル、4゜5uX軸及びY軸駆動装
曽テ、NC11JIIl装w6によって制御する。7は
出力パルスをNC制御装置に供給するパルス発生回路、
8は相対的公転運動の最終半径を設定するプリセット装
置、9は加工間隙の電圧信号を判別して判別信号を供給
する判別回路、10は加工パルスを発生するオン、オフ
スイッチ素子、11が直流電源、12は高周波のパルス
発生回路、13は低周波のパルス発生回路で、この両出
力パルスをアンドゲート14で結合したパルスをスイッ
チ素子10に加えてオン、オフill IIIする。1
5はNCIIJIII置6から出力装る公転半径の変化
に対応した信号を検出して前記パルス発生回路13の出
力パルス巾、体止巾、またはその両方の切換制御回路で
iる。
形成され、そこに図示するよう電極1を挿入し、所定半
径の相対的公転運動を行なわせている。3は被加工体2
を固定する加工テーブル、4゜5uX軸及びY軸駆動装
曽テ、NC11JIIl装w6によって制御する。7は
出力パルスをNC制御装置に供給するパルス発生回路、
8は相対的公転運動の最終半径を設定するプリセット装
置、9は加工間隙の電圧信号を判別して判別信号を供給
する判別回路、10は加工パルスを発生するオン、オフ
スイッチ素子、11が直流電源、12は高周波のパルス
発生回路、13は低周波のパルス発生回路で、この両出
力パルスをアンドゲート14で結合したパルスをスイッ
チ素子10に加えてオン、オフill IIIする。1
5はNCIIJIII置6から出力装る公転半径の変化
に対応した信号を検出して前記パルス発生回路13の出
力パルス巾、体止巾、またはその両方の切換制御回路で
iる。
以−トにより電極1、被加工体2の間隙に加えられる加
工パルスは発生回路12の発生する高周波パルス列とパ
ルス発生回路13の発生する低周波パルスとがアンドゲ
ート14でアンド結合するから、低周波パルスのパルス
中に相当する時間高周波パルス列が続き、低周波パルス
の休止中に相当する時間高周波パルス列が中断する制御
パルスがスイッチ10に加わり直流電源11をオン、オ
フして制御パルスに相当する繰返数の加工パルスを加工
間隙に加えて放電加工が行なわれる。電極1と被加工体
2IIlにはNCIIJIIIにより相対的公転運動が
行なわれる。公転運動は第2図に示すように電極1の点
pが回転中心0.半径「をもって回転するように公転運
動を与えp点が被加工体2に接近動作を繰返すことによ
り電極全周が対応する被加工体2の各部に接近動作し放
電加工が行なわれることによって電極1形状に相似する
拡大形状の加工穴が被加工体2に形成される。なお、公
転半径rは相対的接近動作の最終設定値になるまで徐々
に拡大する。最終設定値は装置8によりプリセットしN
G装置6内のメモリーに保存されていて。
工パルスは発生回路12の発生する高周波パルス列とパ
ルス発生回路13の発生する低周波パルスとがアンドゲ
ート14でアンド結合するから、低周波パルスのパルス
中に相当する時間高周波パルス列が続き、低周波パルス
の休止中に相当する時間高周波パルス列が中断する制御
パルスがスイッチ10に加わり直流電源11をオン、オ
フして制御パルスに相当する繰返数の加工パルスを加工
間隙に加えて放電加工が行なわれる。電極1と被加工体
2IIlにはNCIIJIIIにより相対的公転運動が
行なわれる。公転運動は第2図に示すように電極1の点
pが回転中心0.半径「をもって回転するように公転運
動を与えp点が被加工体2に接近動作を繰返すことによ
り電極全周が対応する被加工体2の各部に接近動作し放
電加工が行なわれることによって電極1形状に相似する
拡大形状の加工穴が被加工体2に形成される。なお、公
転半径rは相対的接近動作の最終設定値になるまで徐々
に拡大する。最終設定値は装置8によりプリセットしN
G装置6内のメモリーに保存されていて。
回路9から加工間隙の判別信号によって連続的或いはス
テップ状に最終設定値まで拡大することになる。公転運
動は相対的接近運動の軌道の複数の基本パターンをNC
制御装置6のメモリに記載してあり、それを図示しない
スイッチで選択し選択パターンを指定入力することによ
って指定パターンの接近運動を行なわせることができ、
第2図の公転運動を指定することにより相対的公転運動
が行なえるr> Gノである。指定された公転運動のパ
ターンとプリセット装置8によって設定された最終公転
半径「とがNG制御装置6内のcup等により論理、演
粋の処理が行なわれ、軌跡データがメモリされ、放電加
工のスタートにより発振回路7が作動しパルスをNC制
御装置6のプログラムカウンタ等に入力し、分配信号を
X、Y軸制御回路に出力して駆動装置4,5を制御しテ
ーブル3を電極1の対向方向に垂直X−Y平面に移動制
御し相対的公転運動を与えることになる。公転運動にょ
る被加二[体2の加工進行によって電極1と被加工体2
間の間隙が広がりこれに共なって電圧等の検出信号が増
大し判別回路9から判別出力が入力してこの信号に伴な
って公転半径が徐々に拡大し、設定値まで拡大するとス
トップする。公転半径がストップした状態で公転運動は
続けられ最終仕上間隙に至ると判別回路9の出力で公転
運動も停止し加工完了する。この公転運動による加工中
、公・、転半径の変更に伴なう信号がNCIIJIII
I@16がら順次用される。
テップ状に最終設定値まで拡大することになる。公転運
動は相対的接近運動の軌道の複数の基本パターンをNC
制御装置6のメモリに記載してあり、それを図示しない
スイッチで選択し選択パターンを指定入力することによ
って指定パターンの接近運動を行なわせることができ、
第2図の公転運動を指定することにより相対的公転運動
が行なえるr> Gノである。指定された公転運動のパ
ターンとプリセット装置8によって設定された最終公転
半径「とがNG制御装置6内のcup等により論理、演
粋の処理が行なわれ、軌跡データがメモリされ、放電加
工のスタートにより発振回路7が作動しパルスをNC制
御装置6のプログラムカウンタ等に入力し、分配信号を
X、Y軸制御回路に出力して駆動装置4,5を制御しテ
ーブル3を電極1の対向方向に垂直X−Y平面に移動制
御し相対的公転運動を与えることになる。公転運動にょ
る被加二[体2の加工進行によって電極1と被加工体2
間の間隙が広がりこれに共なって電圧等の検出信号が増
大し判別回路9から判別出力が入力してこの信号に伴な
って公転半径が徐々に拡大し、設定値まで拡大するとス
トップする。公転半径がストップした状態で公転運動は
続けられ最終仕上間隙に至ると判別回路9の出力で公転
運動も停止し加工完了する。この公転運動による加工中
、公・、転半径の変更に伴なう信号がNCIIJIII
I@16がら順次用される。
しかし図においては装w8でプリセットした公転半径に
なったときだけ信号出力し制御回路15に加える。制御
回路15はのときパルス発生回路13の切換えを行ない
パルス巾、体止巾の切換制御をする。加工の開始時には
パルス発生回路13はパルス中を大きくし、または休止
中を小さく設定し、パルス発生回路12の発生するパル
ス列の継続時間を長く、または中断時間を短かくした荒
加工条件に設定してあり、この荒加工条件での放電加工
が続けられるが、最終的に公転半径が設定値に達したと
きはパルス列の継続時間を短かく、または中断時間を長
くしたプリセットした仕上加]条付に切換えを行ないこ
の仕上加工条件で加工を行なって終了させる。したがっ
て始めには荒加]−条着で高速度の加工をし最終的には
仕上加工条件で表面粗さを良好に精度良く仕上げて加工
完了させることができ、加工能率を極めて向上させるこ
とができる。勿論加工条件は2段階の切換えに限らず、
3段階以上の加工条件をパルス発生回路13、III御
回路15にプリセットしておき、NC61l ’m装置
16から順次比される信号によって制御回路15が作動
してパルス発生回路13の加工条件の切換をするように
することができる。又加工条件の変更はパルス発生回路
12の出力するパルスの切換え変更とか、電源11の電
圧とかスイッチ素子10の並列数或いは回路抵抗の変更
制御によって放電パルスのは波高値を制御し波高値の大
きい荒加工条件から波高値の小さい仕上げ加工条件への
切換えを行なうようにすることができる。
なったときだけ信号出力し制御回路15に加える。制御
回路15はのときパルス発生回路13の切換えを行ない
パルス巾、体止巾の切換制御をする。加工の開始時には
パルス発生回路13はパルス中を大きくし、または休止
中を小さく設定し、パルス発生回路12の発生するパル
ス列の継続時間を長く、または中断時間を短かくした荒
加工条件に設定してあり、この荒加工条件での放電加工
が続けられるが、最終的に公転半径が設定値に達したと
きはパルス列の継続時間を短かく、または中断時間を長
くしたプリセットした仕上加]条付に切換えを行ないこ
の仕上加工条件で加工を行なって終了させる。したがっ
て始めには荒加]−条着で高速度の加工をし最終的には
仕上加工条件で表面粗さを良好に精度良く仕上げて加工
完了させることができ、加工能率を極めて向上させるこ
とができる。勿論加工条件は2段階の切換えに限らず、
3段階以上の加工条件をパルス発生回路13、III御
回路15にプリセットしておき、NC61l ’m装置
16から順次比される信号によって制御回路15が作動
してパルス発生回路13の加工条件の切換をするように
することができる。又加工条件の変更はパルス発生回路
12の出力するパルスの切換え変更とか、電源11の電
圧とかスイッチ素子10の並列数或いは回路抵抗の変更
制御によって放電パルスのは波高値を制御し波高値の大
きい荒加工条件から波高値の小さい仕上げ加工条件への
切換えを行なうようにすることができる。
なお以上は一実施例によって説明したが、パルス発生回
路7を加工間隙の状態、即ち電圧信号等によって発振状
態を制御すれば、公転運動が加工間隙の状態により制御
され、間隙が狭まったときは速度が低下し、広がったと
きは速度が速(なり、或いはこの逆にも制御できるが、
公転運動を加工間隙の状態によってサーボにより行なわ
せることができ、安定した加工ができる。また公転運動
半径のステップ拡大を加工条件に対して予じめ実験した
ステップ量及び回転数をもってマニアル設定ステップに
したがって広げながら加工するようにしてもよい。
路7を加工間隙の状態、即ち電圧信号等によって発振状
態を制御すれば、公転運動が加工間隙の状態により制御
され、間隙が狭まったときは速度が低下し、広がったと
きは速度が速(なり、或いはこの逆にも制御できるが、
公転運動を加工間隙の状態によってサーボにより行なわ
せることができ、安定した加工ができる。また公転運動
半径のステップ拡大を加工条件に対して予じめ実験した
ステップ量及び回転数をもってマニアル設定ステップに
したがって広げながら加工するようにしてもよい。
NG制御装置による揺動パターンは公転運動に限らず、
X軸、Y軸方向に寄せる場合、X−Y平面を任意の放射
形状に移動させる場合、X−Y平面を少な(とも4象限
に分け、各象限別に各パターンを組合せて移動させる場
合等が考えられる。加工間隙に加工パルスを加える電源
は他の公知のパルス又電源を利用することができる。
X軸、Y軸方向に寄せる場合、X−Y平面を任意の放射
形状に移動させる場合、X−Y平面を少な(とも4象限
に分け、各象限別に各パターンを組合せて移動させる場
合等が考えられる。加工間隙に加工パルスを加える電源
は他の公知のパルス又電源を利用することができる。
電極は断面が総型形状をしたもの、先端が総型形状のも
、或いは単純形の棒状、線状、パイプ状のものを用いる
ことができ、抜型、庭付、ワイヤーカット等の加工態様
の加工が任意にでき、いずれも^能率に高精度に加工す
ることができる。
、或いは単純形の棒状、線状、パイプ状のものを用いる
ことができ、抜型、庭付、ワイヤーカット等の加工態様
の加工が任意にでき、いずれも^能率に高精度に加工す
ることができる。
第1図は本発明装置の一実施例回路構成図、第2図は相
対的接近動作を説明する断面図である。 1、電極 2.被加工体 4,5駆動装置6、NC1,
III!l装置 8.接近距離設定装置 10゜11.
12.13.14.加工用電源 15.加工条件切換装
置 特 許 出 願 人 株式会社井上ジャパックス研究所 手続補正書(方式) 1. :I)f’lのノ(示 昭和57年 特許願第1,231 号2、発
明の名称 放電加工装置 3 補正をする者 昭和57年4 月27日
対的接近動作を説明する断面図である。 1、電極 2.被加工体 4,5駆動装置6、NC1,
III!l装置 8.接近距離設定装置 10゜11.
12.13.14.加工用電源 15.加工条件切換装
置 特 許 出 願 人 株式会社井上ジャパックス研究所 手続補正書(方式) 1. :I)f’lのノ(示 昭和57年 特許願第1,231 号2、発
明の名称 放電加工装置 3 補正をする者 昭和57年4 月27日
Claims (1)
- 電極と被加工体間に加工パルスを供給する加工用電源と
、前記電極と被加工体に相対的接近動作を与えるNC制
御装置と、該NC制御装置に最終接近距離を設定する装
置と、該装置により設定した最終接近距離になったとき
荒加工条件で始まった加工パルスを所定の仕上加工条件
になるよう少なくとも2段階に切換える前記加工用電源
の切換装置とから成ることを特徴とする放電加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP123182A JPS58120427A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 放電加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP123182A JPS58120427A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 放電加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58120427A true JPS58120427A (ja) | 1983-07-18 |
| JPH034335B2 JPH034335B2 (ja) | 1991-01-22 |
Family
ID=11495694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP123182A Granted JPS58120427A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 放電加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58120427A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60255324A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-17 | Mitsubishi Electric Corp | 放電加工方法 |
| JPH03251315A (ja) * | 1990-03-01 | 1991-11-08 | Shizuoka Seiki Co Ltd | 電解仕上げ加工における電極位置制御方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54157396A (en) * | 1978-06-01 | 1979-12-12 | Cegedur | Spark erosion working method |
-
1982
- 1982-01-06 JP JP123182A patent/JPS58120427A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54157396A (en) * | 1978-06-01 | 1979-12-12 | Cegedur | Spark erosion working method |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60255324A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-17 | Mitsubishi Electric Corp | 放電加工方法 |
| JPH03251315A (ja) * | 1990-03-01 | 1991-11-08 | Shizuoka Seiki Co Ltd | 電解仕上げ加工における電極位置制御方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH034335B2 (ja) | 1991-01-22 |
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