JPS5812052B2 - 固気接触装置の充填物掻出装置 - Google Patents
固気接触装置の充填物掻出装置Info
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- JPS5812052B2 JPS5812052B2 JP51013298A JP1329876A JPS5812052B2 JP S5812052 B2 JPS5812052 B2 JP S5812052B2 JP 51013298 A JP51013298 A JP 51013298A JP 1329876 A JP1329876 A JP 1329876A JP S5812052 B2 JPS5812052 B2 JP S5812052B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/003—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor in a downward flow
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/08—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
- B01J8/12—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles moved by gravity in a downward flow
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は固気接触装置における被接触粉粒体の充填層か
ら、被接触粉粒体を掻出するための装置に関し、特に乾
式排煙脱硝装置などにおける固気接触装置の触媒充填層
よりの触媒粒子の掻出装置に関する。
ら、被接触粉粒体を掻出するための装置に関し、特に乾
式排煙脱硝装置などにおける固気接触装置の触媒充填層
よりの触媒粒子の掻出装置に関する。
触媒充填層にダストなどを含む気体を通して反応を行な
う固気接触反応装置ではダスト付着を防止するために触
媒粒子などの粉粒体を抜き出すための掻出し装置を備え
ている。
う固気接触反応装置ではダスト付着を防止するために触
媒粒子などの粉粒体を抜き出すための掻出し装置を備え
ている。
例えば、ボイラ燃焼排ガスなどのガスを対象とする乾式
排煙脱硝装置を例に採り、その触媒充填層付近の概略図
である第１図を用いてこの掻出し装置について説明する
。
排煙脱硝装置を例に採り、その触媒充填層付近の概略図
である第１図を用いてこの掻出し装置について説明する
。
反応器ケーシング１に所定間隔で対向した金網または多
孔板などの通気板３に保持された触媒２を充填し、全体
的に板形状の触媒充填層を設け、この触媒充填層に直交
してライン４から燃焼排ガスを送り、ライン５から清浄
排ガスを取り出す。
孔板などの通気板３に保持された触媒２を充填し、全体
的に板形状の触媒充填層を設け、この触媒充填層に直交
してライン４から燃焼排ガスを送り、ライン５から清浄
排ガスを取り出す。
この触媒充填層の上端には触媒供給部６、下端には排出
部７が設けられており、排出部７から落下する触媒は台
座８で受けるようになっており、台座８の上にはこれに
平行して回転羽根９が設置されており、この羽根９を回
転することにより触媒の表面を掻出している。
部７が設けられており、排出部７から落下する触媒は台
座８で受けるようになっており、台座８の上にはこれに
平行して回転羽根９が設置されており、この羽根９を回
転することにより触媒の表面を掻出している。
しかしながらこの方法では、排出部７と台座８とが交叉
するコーナ一部に触媒が残ってダストと共に堆積して排
出部７をつまらせたり回転羽根の働きを妨げ、また排出
部７と回転羽根９の位置関係が一定なので触媒の排出量
調整や触媒に傷をつけないための方策が十分とれないと
いう欠点があった。
するコーナ一部に触媒が残ってダストと共に堆積して排
出部７をつまらせたり回転羽根の働きを妨げ、また排出
部７と回転羽根９の位置関係が一定なので触媒の排出量
調整や触媒に傷をつけないための方策が十分とれないと
いう欠点があった。
本発明者等は掻き出し装置における上記の欠点を取り除
くために種々研究を行なった結果、触媒がスムーズに流
動するように触媒排出部と台座の交叉するコーナ一部を
触媒などの粉粒体の安息角をもつスロープ形状とすれば
よいことを見出し本発明に到達したものである。
くために種々研究を行なった結果、触媒がスムーズに流
動するように触媒排出部と台座の交叉するコーナ一部を
触媒などの粉粒体の安息角をもつスロープ形状とすれば
よいことを見出し本発明に到達したものである。
即ち本発明は被処理ガスの流れ方向に対しはゾ垂直な粉
粒体充填層、その下部に粉粒体排出部、その下方に粉粒
体を受けるための台座、及び上記排出部と台座の中間に
平行に設置した回転羽根を有する固気接触装置において
、排出部と台座の交叉部を粉粒体の安息角のスロープ形
状とし、かつ回転羽根設置部直前にスリ“ット状の開口
部を設けたことを特徴とする固気接触装置の充填物掻出
装置に関するものである。
粒体充填層、その下部に粉粒体排出部、その下方に粉粒
体を受けるための台座、及び上記排出部と台座の中間に
平行に設置した回転羽根を有する固気接触装置において
、排出部と台座の交叉部を粉粒体の安息角のスロープ形
状とし、かつ回転羽根設置部直前にスリ“ット状の開口
部を設けたことを特徴とする固気接触装置の充填物掻出
装置に関するものである。
本発明の装置を第１図と同様の個所を示した第２図及び
第２図の点線で囲った部分の拡大図である第３図を用い
て更に説明を行なう。
第２図の点線で囲った部分の拡大図である第３図を用い
て更に説明を行なう。
反応器ケーシング０１内に所定間隔で対向した金網また
は多孔板などの通気板０３に保持された触媒０２を充填
し、全体的に平板形状の触媒充填層を取付ける。
は多孔板などの通気板０３に保持された触媒０２を充填
し、全体的に平板形状の触媒充填層を取付ける。
この触媒充填層の上部には触媒供給部０６、下部には排
出部０７を設けている。
出部０７を設けている。
ｔｉｌｌ出部０７の下方には台座０８が取付けられてお
り、台座０８の上部には平行に回転羽根０９が設置され
ている。
り、台座０８の上部には平行に回転羽根０９が設置され
ている。
排出部０７は上部補強チャンネル０１７で補強した排出
ガイド板０１０、塞ぎ板０１１および触媒を案内するた
めの案内ガイド板０１２で構成されており、該案内ガイ
ド板０１２は台座０８との間にスリット状の開口０２０
をあけるように設置され、上記回転羽根０９は該開口部
０２０に向けて配設される。
ガイド板０１０、塞ぎ板０１１および触媒を案内するた
めの案内ガイド板０１２で構成されており、該案内ガイ
ド板０１２は台座０８との間にスリット状の開口０２０
をあけるように設置され、上記回転羽根０９は該開口部
０２０に向けて配設される。
また案内ガイド板０１２の先端には上記開口部０２０の
開口面積調整板０１３を設は調整板位置決めボルト０１
４にて取付は固定している。
開口面積調整板０１３を設は調整板位置決めボルト０１
４にて取付は固定している。
排出部０７と台座０８との交叉部にあたる排出ガイド板
０１０および案内ガイド板０１２は安息角のスロープと
なっており、この安息角は粉粒体によって異なるが、３
０°〜６０°（ダストを含む触媒）である。
０１０および案内ガイド板０１２は安息角のスロープと
なっており、この安息角は粉粒体によって異なるが、３
０°〜６０°（ダストを含む触媒）である。
塞ぎ板０１１の中央部に点検用マンホール０１６を取付
けることが好ましい。
けることが好ましい。
台座０８は排出ガイド板０１０に接続しており、塞ぎ板
０１１と台座０８に接続して掻出装置下部シュート０１
５を設け、下部シュート補強チャンネル０１８で補強し
ている。
０１１と台座０８に接続して掻出装置下部シュート０１
５を設け、下部シュート補強チャンネル０１８で補強し
ている。
触媒供給部０６より通気板０３で形成されている層内に
触媒０２を供給、充填する。
触媒０２を供給、充填する。
触媒充填層に直交して被処理気体を０４から導入して充
填層内の触媒０２と接触させ、反応を行なわせた後、ラ
イン０５より反応済みの気体を取り出す。
填層内の触媒０２と接触させ、反応を行なわせた後、ラ
イン０５より反応済みの気体を取り出す。
この気体が通過する際、通気板０３にダストが付着して
圧力損失が大きくなったり、反応の効率が低下するのを
防ぐため触媒を移動させる。
圧力損失が大きくなったり、反応の効率が低下するのを
防ぐため触媒を移動させる。
下部に取付けている回転羽根０９る回転させ触媒０２の
表面を掻き出すと、触媒は矢印のように排出ガイド板０
１０と案内ガイド板０１２に導かれて開口部０２０から
台座０８の上を通り下部シュート０１５より出て行く。
表面を掻き出すと、触媒は矢印のように排出ガイド板０
１０と案内ガイド板０１２に導かれて開口部０２０から
台座０８の上を通り下部シュート０１５より出て行く。
本発明における排出部０７と台座０８の交叉部である排
出ガイド板０１０は安息角のスロープを有しているため
触媒は交叉部に堆積して残留することなく、スムースに
排出される。
出ガイド板０１０は安息角のスロープを有しているため
触媒は交叉部に堆積して残留することなく、スムースに
排出される。
更に案内ガイド板０１２の先端の開口面積調整板０１３
を位置決めボルト０１４にて調整して、開口部０２０の
開口面積を自由に調整し触媒の排出量を調整することも
でき、また排出ガイド板０１０（及び案内ガイド板０１
２）に沿ってホットエアー等を注入し触媒粒の流動を助
けるようにすることもできる。
を位置決めボルト０１４にて調整して、開口部０２０の
開口面積を自由に調整し触媒の排出量を調整することも
でき、また排出ガイド板０１０（及び案内ガイド板０１
２）に沿ってホットエアー等を注入し触媒粒の流動を助
けるようにすることもできる。
第１図は従来の触媒充填層付近の構成を説明するための
概略図であり、第２図は第１図に対応した本発明装置に
おける触媒充填層付近の構成を説明するための概略図、
第３図は第２図の点線で囲んだ部分の拡大図である。
概略図であり、第２図は第１図に対応した本発明装置に
おける触媒充填層付近の構成を説明するための概略図、
第３図は第２図の点線で囲んだ部分の拡大図である。
Claims (1)
- １ 被処理ガスの流れ方向に対しほぼ垂直な粉粒体充填
層、その下部に粉粒体排出部、その下方に粉粒体を受け
るための台座、及び上記排出部と台座の中間に平行に設
置した回転羽根を有する固気接触装置において、前記排
出部と台座の交叉部を粉粒体の安息角のスロープ形状と
し、かつ前記回転羽根設置部直前にスリット状の開口部
を設けたことを特徴とする固気接触装置の充填物掻出装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51013298A JPS5812052B2 (ja) | 1976-02-12 | 1976-02-12 | 固気接触装置の充填物掻出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51013298A JPS5812052B2 (ja) | 1976-02-12 | 1976-02-12 | 固気接触装置の充填物掻出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5297371A JPS5297371A (en) | 1977-08-16 |
| JPS5812052B2 true JPS5812052B2 (ja) | 1983-03-05 |
Family
ID=11829267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51013298A Expired JPS5812052B2 (ja) | 1976-02-12 | 1976-02-12 | 固気接触装置の充填物掻出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5812052B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6045160U (ja) * | 1983-09-01 | 1985-03-29 | 森田ポンプ株式会社 | 自動車用横行台車 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5322873A (en) * | 1976-08-16 | 1978-03-02 | Hitachi Ltd | Vertical type catalyst-packed apparatus |
-
1976
- 1976-02-12 JP JP51013298A patent/JPS5812052B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6045160U (ja) * | 1983-09-01 | 1985-03-29 | 森田ポンプ株式会社 | 自動車用横行台車 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5297371A (en) | 1977-08-16 |
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