JPS5812262B2 - メチルフエノ−ル誘導体の製造法 - Google Patents
メチルフエノ−ル誘導体の製造法Info
- Publication number
- JPS5812262B2 JPS5812262B2 JP54032192A JP3219279A JPS5812262B2 JP S5812262 B2 JPS5812262 B2 JP S5812262B2 JP 54032192 A JP54032192 A JP 54032192A JP 3219279 A JP3219279 A JP 3219279A JP S5812262 B2 JPS5812262 B2 JP S5812262B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- methylphenol
- acid
- derivative
- hydroxymethylphenol
- formylphenol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、ホルミルフェノール誘導体またはヒドロキ
シメチルフェノール誘導体からメチルフェノール誘導体
を製造する方法に関する。
シメチルフェノール誘導体からメチルフェノール誘導体
を製造する方法に関する。
メチルフェノール誘導体は、可塑剤、有機薬品の合成原
料として有用な化合物である。
料として有用な化合物である。
従来、パラジウム触媒の存在下で、ベンズアルデヒドを
水素還元してトルエンを合成する方法について数多くの
研究があった〔例えば、Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔｉｏｎ ７
，２６３（１９５３））。
水素還元してトルエンを合成する方法について数多くの
研究があった〔例えば、Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔｉｏｎ ７
，２６３（１９５３））。
しかしながら、この方法と同様の反応条件下でヒドロキ
シベンズアルデヒド誘導体、およびヒドロキシベンジル
アルコール誘導体を水素還元しようとしても、還元反応
が全《進まないか、あるいは、還元反応が進んだとして
も反応速度が極めて低かった。
シベンズアルデヒド誘導体、およびヒドロキシベンジル
アルコール誘導体を水素還元しようとしても、還元反応
が全《進まないか、あるいは、還元反応が進んだとして
も反応速度が極めて低かった。
特に、〇一位にヒドロキシル基を有するベンズアルデヒ
ド誘導体は全《反応が進行しないことが知られている。
ド誘導体は全《反応が進行しないことが知られている。
また、バラジウムー硫酸バリウムの存在下、酢酸中で、
４−ヒドロキシ−３−メトキシベンズアルデヒドを水素
還元することにより．２−メトキシ−４−メチルフェノ
ールを合成する方法が知られているが（ Ｂｅｒ．５８
、１６２（１９２５）〕、収率はたかだか７５％程度で
あり必ずしも満足すべきものではなかった。
４−ヒドロキシ−３−メトキシベンズアルデヒドを水素
還元することにより．２−メトキシ−４−メチルフェノ
ールを合成する方法が知られているが（ Ｂｅｒ．５８
、１６２（１９２５）〕、収率はたかだか７５％程度で
あり必ずしも満足すべきものではなかった。
そこで、この発明者らは、ホルミル基またはヒドロキシ
メチル基を有するフェノール誘導体を温和な条件で水素
還元することにより高収率でメチルフェノール誘導体を
製造する方法について種々検討した結果、この発明に到
達した。
メチル基を有するフェノール誘導体を温和な条件で水素
還元することにより高収率でメチルフェノール誘導体を
製造する方法について種々検討した結果、この発明に到
達した。
すなわち、この発明は、一般式（１）
（ただし、式中Ｒはアルキル基およびアルコキシ基を示
し、ｎは１および２を示し、ｍは０、１および２を示す
） で表わされるホルミルフェノール誘導体、または一般式
（２） （ただし、式中Ｒ， ｍおよびｎは前記と同じ意味を有
する。
し、ｎは１および２を示し、ｍは０、１および２を示す
） で表わされるホルミルフェノール誘導体、または一般式
（２） （ただし、式中Ｒ， ｍおよびｎは前記と同じ意味を有
する。
）で表わされるヒドロキシメチルフェノール誘導体を、
（１）パラジウムおよび（ｉ：）テトラフルオロホウ酸
、テトラフエノルホウ素酸、過塩素酸およびヘキサフル
オロリン酸からなる群から選ば些る化合物の存在下、炭
素数１〜３の低級脂肪族アルコニル中で、水素還元する
ことを特徴とする。
（１）パラジウムおよび（ｉ：）テトラフルオロホウ酸
、テトラフエノルホウ素酸、過塩素酸およびヘキサフル
オロリン酸からなる群から選ば些る化合物の存在下、炭
素数１〜３の低級脂肪族アルコニル中で、水素還元する
ことを特徴とする。
一般式（３）
（ただし、式中Ｒ．ｍおよびｎは前記と同じ意味を有す
る。
る。
）で表わされるメチルフェノール誘導体の製造法に関す
るものである。
るものである。
この発明の方法に使用する１つの原料であるホルミルフ
ェノール誘導体は、前記一般式（１）で表わされる。
ェノール誘導体は、前記一般式（１）で表わされる。
その具体例として、２−ホルミルフェノール、２−ホル
ミル−６−メトキシフェノール、６−エトキシ−２−ホ
ルミルフェノール、２−ホルミル−４−メチルフェノー
ル、４−エチル−２−ホルミルフェノール、３−ホルミ
ルフェノール、３−ホルミル−４−メチルフェノール．
４−エチル−３−ホルミルフェノール、３−ホルミル−
５−メチルフェノール、５−エチル−３−ホルミルフェ
ノール、３−ホルミル−６−メトキシフェノール、６−
エトキシ−３−ホルミルフェノール、４−ホルミルフェ
ノール、３−ホルミルー５・６−ジメトキシフェノール
、５・６〜ジエトキシー３−ホルミルフェノール、４−
ホルミル−２−メチルフェノール、２−エチル−４−ホ
ルミルフェノール、４−ホルミル−２−メトキシフェノ
ール、２−エトキシ−４−ホルミルフェノール、２・４
一ジホルミルー６−メトキシフェノールおよび６一エト
キシ−２・４−ジホルミルフェノールなどが挙げられる
。
ミル−６−メトキシフェノール、６−エトキシ−２−ホ
ルミルフェノール、２−ホルミル−４−メチルフェノー
ル、４−エチル−２−ホルミルフェノール、３−ホルミ
ルフェノール、３−ホルミル−４−メチルフェノール．
４−エチル−３−ホルミルフェノール、３−ホルミル−
５−メチルフェノール、５−エチル−３−ホルミルフェ
ノール、３−ホルミル−６−メトキシフェノール、６−
エトキシ−３−ホルミルフェノール、４−ホルミルフェ
ノール、３−ホルミルー５・６−ジメトキシフェノール
、５・６〜ジエトキシー３−ホルミルフェノール、４−
ホルミル−２−メチルフェノール、２−エチル−４−ホ
ルミルフェノール、４−ホルミル−２−メトキシフェノ
ール、２−エトキシ−４−ホルミルフェノール、２・４
一ジホルミルー６−メトキシフェノールおよび６一エト
キシ−２・４−ジホルミルフェノールなどが挙げられる
。
また、この発明の方法に使用するもう１つの原料である
ヒドロキシメチルフェノール誘導体は、前記一般式（２
）で表わされる。
ヒドロキシメチルフェノール誘導体は、前記一般式（２
）で表わされる。
その具体例として、２−ヒドロキシメチルフェノール、
２−ヒドロキシメチル−６−メトキシフェノール、６−
エトキシ−２−ヒドロキシメチルフェノール、２−ヒド
ロキシメチル−４−メチルフェノール、４−エチル−２
−ヒドロキシメチルフェノール、３−ヒドロキシメチル
フェノール、３−ヒドロキシメチル−４−メチルフェノ
ール、４−エチル−３−ヒドロキシメチルフェノール、
３−ヒドロキシメチル−５−メチルフェノール、５−エ
チル−３−ヒドロキシメチルフェノール、３−ヒドロキ
シメチル−６−メトキジフェノール、６−エトキシ−３
一ヒドロキシメチルフェノール、４−ヒドロキシメチル
フェノール、３−ヒドロキシ−５・６−ジメトキシフェ
ノール、５・６−ジエトキシ−３−ヒドロキシメチルフ
ェノール、４−ヒドロキシメチル−２−メチルフェノー
ル、２−エチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、４
−ヒドロキシメチル−２−メトキシフェノール、２−エ
トキシー４一ヒドロキシメチルフェノール．２・４−ジ
ヒドロキシメチル−６−メトキシフェノールおよび６一
エトキシー２・４−ジヒドロキシメチルフェノールなど
が挙げられる。
２−ヒドロキシメチル−６−メトキシフェノール、６−
エトキシ−２−ヒドロキシメチルフェノール、２−ヒド
ロキシメチル−４−メチルフェノール、４−エチル−２
−ヒドロキシメチルフェノール、３−ヒドロキシメチル
フェノール、３−ヒドロキシメチル−４−メチルフェノ
ール、４−エチル−３−ヒドロキシメチルフェノール、
３−ヒドロキシメチル−５−メチルフェノール、５−エ
チル−３−ヒドロキシメチルフェノール、３−ヒドロキ
シメチル−６−メトキジフェノール、６−エトキシ−３
一ヒドロキシメチルフェノール、４−ヒドロキシメチル
フェノール、３−ヒドロキシ−５・６−ジメトキシフェ
ノール、５・６−ジエトキシ−３−ヒドロキシメチルフ
ェノール、４−ヒドロキシメチル−２−メチルフェノー
ル、２−エチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、４
−ヒドロキシメチル−２−メトキシフェノール、２−エ
トキシー４一ヒドロキシメチルフェノール．２・４−ジ
ヒドロキシメチル−６−メトキシフェノールおよび６一
エトキシー２・４−ジヒドロキシメチルフェノールなど
が挙げられる。
この発明の方法には、ｎ）パラジウムおよび（ｉ１）テ
トラフルオロホウ酸、テトラフエニルホウ素酸、過塩素
酸およびヘキサフルオロリン酸からなる群から選ばれる
化合物が触媒として使用される。
トラフルオロホウ酸、テトラフエニルホウ素酸、過塩素
酸およびヘキサフルオロリン酸からなる群から選ばれる
化合物が触媒として使用される。
触媒成分（１）のパラジウムは、パラジウム金属を公知
の担体に担持させたものであり、パラジウム金属の含有
量は通常、０． １〜１０重量％で今る。
の担体に担持させたものであり、パラジウム金属の含有
量は通常、０． １〜１０重量％で今る。
また担体として炭素、硫酸バリウム、二酸化ケイ素等の
公知．のものが用いられる。
公知．のものが用いられる。
パラジウム金、属の使用量は、通常、原料に対して０．
０２〜０．２５重量％が適当である。
０２〜０．２５重量％が適当である。
触媒成分（１１）の化合物のうち、テトラフルオロホウ
酸、過塩素酸およびヘキサフルオロリン酸は水溶液とし
て用いてもよく、また、テトラフエニルホウ素酸は、テ
トラフエニルホウ素酸のアルカリ金属塩と塩化水素とを
アルコール溶媒中あるいは水中で反応させて得たものを
そのまま溶液め形態として用いてもよく、さらに、ヘキ
サフルオロリン酸は、脱水アルコールとへキサフルオロ
リン酸ニトロシルとを反応させて得たものをそのままア
ルコール溶液の形態としてもよい。
酸、過塩素酸およびヘキサフルオロリン酸は水溶液とし
て用いてもよく、また、テトラフエニルホウ素酸は、テ
トラフエニルホウ素酸のアルカリ金属塩と塩化水素とを
アルコール溶媒中あるいは水中で反応させて得たものを
そのまま溶液め形態として用いてもよく、さらに、ヘキ
サフルオロリン酸は、脱水アルコールとへキサフルオロ
リン酸ニトロシルとを反応させて得たものをそのままア
ルコール溶液の形態としてもよい。
触媒成分（１ｉ）の化合物の使用量は、パラジウム１２
原子に対して０．５〜１０モルが好ましい。
原子に対して０．５〜１０モルが好ましい。
この発明の方法は、溶媒として庚素数１〜３の低級脂肪
族アルコールを用いて行なわれる。
族アルコールを用いて行なわれる。
炭素数１〜３の低級脂肪族アルデールとしては、例えば
、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアル
コール、エチレンクリコール、フロビレングリコールな
どの水と混和するものが挙げられる。
、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアル
コール、エチレンクリコール、フロビレングリコールな
どの水と混和するものが挙げられる。
炭素数１〜３の低級脂肪族アルコールの使用量は、原料
の濃度として、５〜３０重量％が好ましく、５〜１０重
量％が特に好ましい。
の濃度として、５〜３０重量％が好ましく、５〜１０重
量％が特に好ましい。
水素として、純水素ガス、窒素などの不活性ガスで希釈
した水素含有ガスなどを用いることができる。
した水素含有ガスなどを用いることができる。
水素分圧には特に限定はなく、１０気圧以下、例えば常
圧下でも反応は十分に進行する。
圧下でも反応は十分に進行する。
反応温度は室温から８０℃までの範囲が適当である。
この発明の方法において、ホルミルフェノール誘導体を
原料にすると、この誘導体はホルミル基の還元により先
ずヒドロキシメチルフェノール誘導体に変換し、さらに
水素還元を続けると、このヒドロキシメチルフェノール
誘導体はヒドロキシメチル基の還元によりメチルフェノ
ール誘導体に変換する。
原料にすると、この誘導体はホルミル基の還元により先
ずヒドロキシメチルフェノール誘導体に変換し、さらに
水素還元を続けると、このヒドロキシメチルフェノール
誘導体はヒドロキシメチル基の還元によりメチルフェノ
ール誘導体に変換する。
従って、メチルフェノール誘導体を高収率で得るために
、水素の吸収がなくなるまで水素還元反応を完全に行な
う必要がある。
、水素の吸収がなくなるまで水素還元反応を完全に行な
う必要がある。
目的生成物であるメチルフェノール誘導体の単離は公知
の分離精製操作による。
の分離精製操作による。
例えば、水素還元反応後に得られた反応混合物をろ過す
ることにより固形分をろ別し、ろ液を蒸留することによ
りメチルフェノール誘導体を留出、単離することができ
る。
ることにより固形分をろ別し、ろ液を蒸留することによ
りメチルフェノール誘導体を留出、単離することができ
る。
この発明の方法により得られるメチルフェノール誘導体
は、前記一般式（３）で表わされる。
は、前記一般式（３）で表わされる。
その具体例として、２−メチルフェノール、２−メチル
−６一メトキシフェノール、６−エトキシ−２−メチル
フェノール、２・４−ジメチルフェノール、３−メチル
フェノール、３・４−ジメチルフェノール、４−エチル
−３−メチルフェノール、３・５−ジメチルフェノール
、５−エチル−３−メチルフェノール、３−メチル−６
−メトキシイエノール、６−エトキシ−３−メチルフェ
ノール、３−メチル−５・６−ジメトキシフェノール、
５・６−ジエトキシ−３−メチルフェノール、２〜エチ
ル−４−メチルフェノール、４−メチル−２一メトキシ
フェノール、２−エトキシ−４−メチルフェノール、２
・４−ジメチル−６−メトキシフェノールおよび６−エ
トキシ−２・４−ジメチルフェノールなどが挙げられる
。
−６一メトキシフェノール、６−エトキシ−２−メチル
フェノール、２・４−ジメチルフェノール、３−メチル
フェノール、３・４−ジメチルフェノール、４−エチル
−３−メチルフェノール、３・５−ジメチルフェノール
、５−エチル−３−メチルフェノール、３−メチル−６
−メトキシイエノール、６−エトキシ−３−メチルフェ
ノール、３−メチル−５・６−ジメトキシフェノール、
５・６−ジエトキシ−３−メチルフェノール、２〜エチ
ル−４−メチルフェノール、４−メチル−２一メトキシ
フェノール、２−エトキシ−４−メチルフェノール、２
・４−ジメチル−６−メトキシフェノールおよび６−エ
トキシ−２・４−ジメチルフェノールなどが挙げられる
。
この発明の方法によると、温和な反応条件で高収率で高
純度のメチルフェノール誘導体を製造することができる
。
純度のメチルフェノール誘導体を製造することができる
。
次に、この発明の実施例および比較例を示す。
実施例 １〜８
ガラス製オートクレープ中に、原料としてホルミルフェ
ノール誘導体またはヒドロキシメチルフエノール誘導体
、パラジウム、過塩素酸水溶液およびアルコール溶媒を
入れ、水素圧下で加熱攪拌しながら水素還元反応を行な
った。
ノール誘導体またはヒドロキシメチルフエノール誘導体
、パラジウム、過塩素酸水溶液およびアルコール溶媒を
入れ、水素圧下で加熱攪拌しながら水素還元反応を行な
った。
得られた反応生成物を減圧蒸留することにより、目的生
成物としてメチルフェノール誘導体を留出単離した。
成物としてメチルフェノール誘導体を留出単離した。
なお、比較例のために、過塩素酸を用いないことのほか
は、実施例１と同様に実施した。
は、実施例１と同様に実施した。
これらの結果を次表に示す。
実施例 ９
過塩素酸の代わりに４２％テトラフルオロホウ酸水溶液
０．１０７７１７！を用いて２．５時間反応を行なった
ほかは、実施例１と同様に実施した。
０．１０７７１７！を用いて２．５時間反応を行なった
ほかは、実施例１と同様に実施した。
４−メチル−２一メトキシフェノールが９５％の収率で
得られた。
得られた。
実施例 １０
過塩素酸の代わりにヘキサフルオロリン酸二トロシルと
エチルアルコールとを混合することにより調製したヘキ
サフルオロリン酸０．８６ミリモルを含むエチルアルコ
ール溶液５ｍｌを用いて３時間反応を行なったほかは、
実施例１と同様に実施した。
エチルアルコールとを混合することにより調製したヘキ
サフルオロリン酸０．８６ミリモルを含むエチルアルコ
ール溶液５ｍｌを用いて３時間反応を行なったほかは、
実施例１と同様に実施した。
４−メチル−２一メトキシフェノールを８５％の収率で
得られた。
得られた。
実施例 １１
ガラス製オートクレーフ沖に、エチルアルコール１００
ＷＬｌ，１０％パラジウム炭素０．２５Ｐおよび１規定
の塩酸アルコール溶液２ｍｌを入れ，３０分間攪拌した
。
ＷＬｌ，１０％パラジウム炭素０．２５Ｐおよび１規定
の塩酸アルコール溶液２ｍｌを入れ，３０分間攪拌した
。
ついで、これにテトラフエニルホウ素酸ナトリウム２ミ
リモルを溶解するエチルアルコール溶液２０ｙｎｌ，お
よび４−ホルミルー２−メトキシフェノール１０ｆＩを
添加し、５気圧の水素圧力下５０℃で３時間攪拌しなが
ら水素添加反応を行なった。
リモルを溶解するエチルアルコール溶液２０ｙｎｌ，お
よび４−ホルミルー２−メトキシフェノール１０ｆＩを
添加し、５気圧の水素圧力下５０℃で３時間攪拌しなが
ら水素添加反応を行なった。
得られた反応生成物を減圧蒸留することにより、４−メ
チル−２−メトキシフェノールを９６％の収率で留出単
離した。
チル−２−メトキシフェノールを９６％の収率で留出単
離した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（１） （ただし、式中Ｒはアルキル基およびアルコキシ基を示
し、ｎはｌおよび２を示し、ｍは０， １および２を示
す。 ）で表わされるホルミルフェノール誘導体、または一般
式（２） （ただし、式中Ｒ，ｍおよびｎは前記と同じ意味を有す
る。 ）で表わされるヒドロキシメチルフェノール誘導体を、
（ｉ）パラジウムおよび（ｉｉ）テトラフルオロホウ酸
，テトラフエニルホウ素酸、過塩素酸およびヘキサフル
オロリン酸からなる群から選ばれる化合物の存在下、炭
素数１〜３の低級脂肪族アルコール中で、水素還元する
ことを特徴とする一般式（３）（ただし、式中Ｒ，ｍお
よびｎは前記と同じ意味を有する。 ）で表わされるメチルフェノール誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54032192A JPS5812262B2 (ja) | 1979-03-22 | 1979-03-22 | メチルフエノ−ル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54032192A JPS5812262B2 (ja) | 1979-03-22 | 1979-03-22 | メチルフエノ−ル誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55124728A JPS55124728A (en) | 1980-09-26 |
| JPS5812262B2 true JPS5812262B2 (ja) | 1983-03-07 |
Family
ID=12352032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54032192A Expired JPS5812262B2 (ja) | 1979-03-22 | 1979-03-22 | メチルフエノ−ル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5812262B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014519477A (ja) * | 2011-03-29 | 2014-08-14 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 置換フェニレン芳香族ジエステルの製造 |
-
1979
- 1979-03-22 JP JP54032192A patent/JPS5812262B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014519477A (ja) * | 2011-03-29 | 2014-08-14 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 置換フェニレン芳香族ジエステルの製造 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55124728A (en) | 1980-09-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3247262A (en) | Process for making polyphenols | |
| JPS5935906B2 (ja) | ２，４，６−トリ（３，５−ジアルキル−４−ヒドロキシベンジル）フエノ−ルの製造方法 | |
| US4482493A (en) | Method for preparing benzoquinones | |
| JPS6130659B2 (ja) | ||
| US6441248B1 (en) | Preparation of biphenols by oxidative coupling of alkylphenols using copper catalyst | |
| JPH02504510A (ja) | フェニルヒドロキノンの合成 | |
| JP3001862B2 (ja) | テトラアルキルジフェノールの新規な製造方法 | |
| US6689921B2 (en) | Preparation of biphenols by oxidative coupling of alkylphenols using a recyclable copper catalyst | |
| US3960898A (en) | Zearalanone-zearalanol product | |
| JPS5822108B2 (ja) | 芳香族ジウレタンの製造方法 | |
| US4778924A (en) | Process for the production of cinnamic acid | |
| JPS628113B2 (ja) | ||
| EP0448899B1 (en) | Preparation of a para-aminodiphenylamine | |
| JP3022008B2 (ja) | トリスフェノール類のｔ−ブトキシカーボネートの混合物からなる組成物 | |
| JP3963613B2 (ja) | ヒドロキシフェニルシクロヘキサノン誘導体の製造方法 | |
| US20050164869A1 (en) | Practical chiral zirconium catalyst | |
| JP3189392B2 (ja) | 水素化ビスフェノール類の製造方法 | |
| EP0027426B1 (en) | A process for preparing 3-(3,5-di-tert. alkyl-4-hydroxyphenyl)-2,2-di substituted prionaldehydes | |
| US3148215A (en) | Bis-(aminopropoxyphenyl) alkanes and process for producing the same | |
| JPH05155815A (ja) | グリセロール誘導体の製造方法 | |
| JP2721554B2 (ja) | ペルヒドロ‐１，４：５，８‐ジメタノナフタレン‐２，３‐ジメタノールの製造方法 | |
| JP3010644B2 (ja) | ３，４―ジヒドロクマリン類の製造法 | |
| US2480105A (en) | Method for the preparation of aminophthalidylalkane salts | |
| JPS6335614B2 (ja) | ||
| JPH072667B2 (ja) | ベンズアルデヒド誘導体の製造方法 |