JPS58127985A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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Publication number
JPS58127985A
JPS58127985A JP1107382A JP1107382A JPS58127985A JP S58127985 A JPS58127985 A JP S58127985A JP 1107382 A JP1107382 A JP 1107382A JP 1107382 A JP1107382 A JP 1107382A JP S58127985 A JPS58127985 A JP S58127985A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal display
thin film
pixel electrode
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP1107382A
Other languages
English (en)
Inventor
直 太田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suwa Seikosha KK
Original Assignee
Suwa Seikosha KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Suwa Seikosha KK filed Critical Suwa Seikosha KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は液晶表示装置に関する。更に詳しくは金属−酸
化展一金属構造を持つ非線形素子(以下M工M素子と呼
ぶ)を用いて各画素電極に電荷を蓄積・保持させる仁と
によシ表示會行なう液晶表示装置に関する。
近年、液晶表示装置の実用化が進み腕時岨、電卓を始め
として多くの分野に応用がなされていゐ・しかし、他の
分野、例えば情報端末や個人用小型1子機器等の表示部
への応用t21えた時、表示ユニットの容積が/JNさ
い、低電圧駆動可能、消費電力が少ないなどという利点
にもかかわらず、駆動電圧−コントラスト特性があまシ
良くなく、多桁のマトリクス駆動が出来ないため表示可
能な情報量が少ないという欠点が問題となっていた。
この液晶表示装置の持つ欠点を解消するための一方法と
してM工M素子を用いたマトリクス駆動が考えられた。
この方法は、第1図に一画素分の等価回路管示すように
非線形抵抗RMXMと容JiCMIMが並列につながっ
たMIM素子1及び抵抗RLOと容量QLOが並列につ
ながった液晶を誘電体としたコンデンサ2とが直列に結
合さnており、マトリクス駆動のS択期間にM工M素子
1の低抵抗状1!l!會利用して液晶を誘電体としたコ
ンデンサ2に電荷を蓄積し、非選択期間はMIM累子1
の高抵抗状態を利用して前述の電荷を保持することによ
シ液晶に′嘲弄を印加してNILl!′&の配向状態を
制御して表示を行なうものである。
この方式の場合、M工M素子10非層形性と液at−誘
電体としたコンデンサ2の容量(3ta値及び抵抗B’
r、a値の5者の相関で液晶に印加される集効値が決足
される。これら5者のうち液晶を誘電体としたコンデン
サ2の容量CムOと抵抗Hxraは画素電極の寸法とセ
ルギャップ及び使用する液晶を定めれば必然的にその値
が定まってしまう。そのためMIM素子IKVi液晶部
分に応じた特性が要求され、例えばa4■角の画素電極
を持った7μmギャップのセルに誘1異男性Δ&=27
(811票55 * (L ;8 ) e vth s
= t、 I Vrrn8 e Vsat = 1−5
 Vrzoaの液晶全封入してツイストネマチックセル
とシテ11500デユーティで駆動する場合には、例え
ばTa−Ta20H−AI槽構造M工M素子に要求され
る寸法は約5μm角である。
しかし゛、現状ではフォトリングラフ工程で用いられる
マスクアライナの性能は、直径が高々6インチの範囲内
でしかこの様な高精度のパターニングが出来ず、大型の
液晶表示装量の製造嬬困難であった。
本発明はこのような欠点を避けて大型の液晶表示*i*
Yt得るために、M工M素子管設ける基板の裏側から露
光を行なうと共に、画素電極に結合され7eMIM素子
の一方の金属電極表面を陽極酸化する工程を含んぞ製造
工程によって該M工M素子を作るものである。
以下、実施例に従って不発明1説明する。
実施例 パイレックス基板s上にTa@gII’t−スパッタリ
ングしリード電極4をパターニングする。このリード1
1極4はMIM素子の一方の電極としても使われる6次
にこのTa薄膜の表面をαOI Wt嘔り工y1!*溶
液中で陽極酸化を行なって酸化115t−形成する。更
に、工TO(InlO島+8nO!) 等の透明′11
億で画素電極6會形成する〔第2図(イ)及び第S図(
イ)〕。
次にムU薄膜7t″蒸着しMIM累子の対向電極にあた
る部分t−線除去る〔#I3図←]〕。この上にZnO
薄膜8及びポジ形7オトレジス)I[91形成し基板3
裏面より縛光管行なう(s2図(a)〕。するとリード
1極4とムU薄膜7がマスクの役割全果たし、フォトレ
ジストttm儂するとM工M素子の対向電極にあたる部
分が除去される。次に、このフォトレジスト膜!tマス
クとしてZnO薄膜8をエツチングする[1g2図(ハ
)〕、さらKAIIO會蒸着し、1 wt慢リン酸中で
陽極θ化しM2R面に酸化1111を形成する〔第2図
に)〕。この時、M工M素子の対向電極となるM部分1
01fCはM工M素子を通して電流が流れるが、フォト
レジスト9上のAttoは導通がとれないために選択的
な陽極酸化が行なわれる。次に、At 101 フオト
レジス)MI9、ZnO薄膜8及びAu薄膜8及びAu
薄膜7の順序で各々のエツチング液あるいはハクリ液を
用いて各膜を除去しM工M素子側基板を完成させる[*
2図(ホ)及びaS図(ハ)]。
液晶表示!i噴とするためには上述のM工M素子及び+
1ili嵩1極を設けた基板と、ストライプ状の電極を
設けた対向基板とを組合せてセルを作夛液晶會封入する
。その際、箪畠の表示モードに従って配向処理法や偏光
板の組合せを変える必要がある。
以上の説明て使用した材料にはT a e Al * 
AμtZnOを用いたが実際にはこれらに駆足されず、
例えばTaの代りにAM e T i * Z r e
 Hf * M Ow N b等管使うことも可能てあ
シ、ZnOの代り、にFi透明で他の材質との選択エツ
チングが可能ならば伺を用いても良い。Auについては
光を通さない物質に置き換えることが可能である。また
、R&酸化が可能で、その陽極醗化緋と元の金属との選
択エツチングが可能な金ll4AIの代りに用いること
が出来る。
本発明の構造にすnば、M工M素子の面積は金属薄膜の
厚さと、対向電極が酸化膜と接する長さの積で表わすこ
とが出来るや金Ji1薄−の厚ざはα1〜数μmまで自
由にコントロール出来、この寸法は通常のフォトリング
ラフ工程で得られる寸法°にくらべて約1桁小さい。従
って、本発明の方法で一足の面積のMIMg−7を作る
場合に必費な最小寸法が約1桁大きくて瞬も。即ち1o
−数10μmo頗小寸法水出せれば良く、通常の露光装
置で大面積の基板を作ることが出来る。
【図面の簡単な説明】
91図は一画素分のM工M素子と液晶部分の等価回路で
ある。 第2図は本発明実施例の製造工程を示す断aimである
。 第3囚は不発明実施例の製造工sit示す平面図である
。 以   上 第1図 (ン   笛 、□ 途ρ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 2枚の基板間に液晶を封入し、少なくとも一方の基板上
    に独立した画素電極と、該画素電極に直列に接続された
    金属−酸化農一金属構造を持つ非締形素#を備えた液晶
    表示装置において、該非繕形累7が基板裏面からの露光
    と陽極酸化を含んだ工柵で製造されること1−*惨とす
    る液晶表示装置。
JP1107382A 1982-01-27 1982-01-27 液晶表示装置 Pending JPS58127985A (ja)

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JP1107382A JPS58127985A (ja) 1982-01-27 1982-01-27 液晶表示装置

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