JPS5815036Y2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPS5815036Y2 JPS5815036Y2 JP1979117589U JP11758979U JPS5815036Y2 JP S5815036 Y2 JPS5815036 Y2 JP S5815036Y2 JP 1979117589 U JP1979117589 U JP 1979117589U JP 11758979 U JP11758979 U JP 11758979U JP S5815036 Y2 JPS5815036 Y2 JP S5815036Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning tank
- cleaning
- cleaned
- pump
- sodium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、複雑な形状、構造をもった機器類を洗浄する
装置に関する。
装置に関する。
液体ナトリウムのような液体金属を取扱う機器において
9機器の解体・点検に際しては器内の付着ナトリウムを
洗浄する必要が生じる。
9機器の解体・点検に際しては器内の付着ナトリウムを
洗浄する必要が生じる。
代表的な洗浄技術としては、第一次洗浄としてアルコー
ルまたは水蒸気と不活性ガスの混合気で粗洗浄し。
ルまたは水蒸気と不活性ガスの混合気で粗洗浄し。
第二次洗浄として純水を浸った洗浄槽内に対象機器を浸
漬してすすぐ方法が一般に採られている。
漬してすすぐ方法が一般に採られている。
液体ナトリウムを熱媒体として使用する熱交換器を前記
従来技術を用いて洗浄する場合を図について説明する。
従来技術を用いて洗浄する場合を図について説明する。
第1図において洗浄槽01は上部に開口およびフランジ
02を有するものである。
02を有するものである。
被洗浄物である熱交換器の内部構造物03は上部にフラ
ンジ04を有し、稼動中ばケーシングにフランジ04を
以って取付けられているものであるが、洗浄のために取
外され、洗浄槽01のフランジ02に固定される。
ンジ04を有し、稼動中ばケーシングにフランジ04を
以って取付けられているものであるが、洗浄のために取
外され、洗浄槽01のフランジ02に固定される。
洗浄槽01の外周には、電気ヒータ05を取付けて加熱
可能としである。
可能としである。
すすぎ液すなわち純水は、給水系配管06より洗浄槽0
1の内部に供給される。
1の内部に供給される。
次に給水弁07を閉、大口弁08を開の状態にてポンプ
09を起動し、純水を洗浄格01→循環本配管010→
ポンプ09→洗浄槽01のループに循環させる。
09を起動し、純水を洗浄格01→循環本配管010→
ポンプ09→洗浄槽01のループに循環させる。
一定運転期間の後、ドレン弁011を開げドレン系配管
012から水を抜く。
012から水を抜く。
以上の操作を数回繰返してすすぎ作業が終了する。
しかるに内部構造物の形状が複雑であると、各種のギャ
ップやクレビス状の隙間が多くpここに残存したナトリ
ウムを洗い流すことが困難となる。
ップやクレビス状の隙間が多くpここに残存したナトリ
ウムを洗い流すことが困難となる。
その対策として有用なのは、水の流速を上げてやること
である。
である。
これは隙間部に残存したナトリウム附近に常に清浄な純
水が供給されるため、ナトリウムと水との反応が進み、
また、その生成物である苛性ソーダの濃度拡散も良好に
なるからである。
水が供給されるため、ナトリウムと水との反応が進み、
また、その生成物である苛性ソーダの濃度拡散も良好に
なるからである。
更に、ナトリウム、水反応生成物である水素ガス気泡が
隙間部に留まり易いが、水の流速を上げると、気泡に対
する外乱が与えられたことになって気泡が隙間部を離脱
し易くなる。
隙間部に留まり易いが、水の流速を上げると、気泡に対
する外乱が与えられたことになって気泡が隙間部を離脱
し易くなる。
このためナトリウムと水の反応が促進される。
このように水の流速を上げることが有効であるため、第
1図のような循環方式が採られているのである。
1図のような循環方式が採られているのである。
しかるに大型機器の洗浄のためには洗浄槽の胴径が非常
に大きいものとなるのでこの槽内で下からの上昇水流に
充分な流速を与えようとすれば、大容量のポンプと大口
径の循環系配管を要することになる。
に大きいものとなるのでこの槽内で下からの上昇水流に
充分な流速を与えようとすれば、大容量のポンプと大口
径の循環系配管を要することになる。
これは、高価な設備投資となること、および設備スペー
スを広くとることになるので非常な欠点となる。
スを広くとることになるので非常な欠点となる。
本考案は、前記した事情に鑑みなされたもので洗浄槽内
のすすぎ液若しくは洗浄液に旋回運動を与えて構造が複
雑でかつ大形の機器を効率よく洗浄する装置を提供する
ことを目的とする。
のすすぎ液若しくは洗浄液に旋回運動を与えて構造が複
雑でかつ大形の機器を効率よく洗浄する装置を提供する
ことを目的とする。
以下図示の実施例に基づいて本考案を説明する。
第2図において洗浄槽1の上部開口に設けられた外向き
フランジ2には、被洗浄物3の7ランジ4が固定され、
被洗浄物3は洗浄槽1内に懸架支持される。
フランジ2には、被洗浄物3の7ランジ4が固定され、
被洗浄物3は洗浄槽1内に懸架支持される。
洗浄によって有害な物質が発生したり、大気の洗浄槽1
内への浸入が望ましくない場合であって被洗浄物3のフ
ランジ4で洗浄槽1の開口が閉じられないときは2図示
しない蓋を更に付加する。
内への浸入が望ましくない場合であって被洗浄物3のフ
ランジ4で洗浄槽1の開口が閉じられないときは2図示
しない蓋を更に付加する。
洗浄槽1の外周には、加熱器5が添設され、側壁下部に
は入口ノズル7.上部には出口ノズル8が夫々設げられ
ている。
は入口ノズル7.上部には出口ノズル8が夫々設げられ
ている。
入口ノズル7には、入口弁10.ポンプ12及び開閉弁
14を具備した供給管16が連絡し、出口ノズル8には
ポンプ12と開閉弁14の間の供給管16に連通した循
環管18が連絡している。
14を具備した供給管16が連絡し、出口ノズル8には
ポンプ12と開閉弁14の間の供給管16に連通した循
環管18が連絡している。
洗浄槽1の底には、排出弁21を具備した排出管22が
連絡している。
連絡している。
洗浄槽1の内部には、入口ノズル7と出口ノズル8に夫
々臨んで旋回ベーン30,40が設けられている。
々臨んで旋回ベーン30,40が設けられている。
第3図及び第4図は、旋回ベーン30の詳細を示したも
のである。
のである。
第3図及び第4図において、入口ノズル7を上下から挾
んで環状円板31.32が洗浄槽1の内壁に固着されて
いる。
んで環状円板31.32が洗浄槽1の内壁に固着されて
いる。
円板31.32によって形成された環状空間には、反時
計方向(図面において)に所定のリード角で延びた複数
の案内羽根34が配設され、入口ノズル1の開口に対峙
するバッフル36が上下端縁を円板31.32に密着さ
せて設けられ)その側端は隣接した案内羽根34に接合
している。
計方向(図面において)に所定のリード角で延びた複数
の案内羽根34が配設され、入口ノズル1の開口に対峙
するバッフル36が上下端縁を円板31.32に密着さ
せて設けられ)その側端は隣接した案内羽根34に接合
している。
旋回ベーン40は、案内羽根34の進み方向が逆な以外
旋回ベーン30と同様の構造である。
旋回ベーン30と同様の構造である。
前記した構成を有する本実施例において2図示のように
被洗浄物3が洗浄槽1内にセットされた後、入口弁10
.開閉弁14を開いて供給管16より洗浄液(被洗浄物
4がナトリウムで汚染されていて一次洗浄が終了したも
のであれば純水)を洗浄槽1内に導入する。
被洗浄物3が洗浄槽1内にセットされた後、入口弁10
.開閉弁14を開いて供給管16より洗浄液(被洗浄物
4がナトリウムで汚染されていて一次洗浄が終了したも
のであれば純水)を洗浄槽1内に導入する。
しかる後開閉弁14を閉じ、入口弁10を開げたままポ
ンプ12を駆動し。
ンプ12を駆動し。
洗浄槽1内の純水を旋回ベーン40.出口ノズル8、循
環管18.ポンプ12.入口弁10.入ロノスル7.旋
回ベーン30の順で循環させる。
環管18.ポンプ12.入口弁10.入ロノスル7.旋
回ベーン30の順で循環させる。
入口ノズル7を通って洗浄槽1内に入った純水は、バッ
フル36に当りバッフル36及び円板3L32に案内さ
れて、案内羽根34に達し。
フル36に当りバッフル36及び円板3L32に案内さ
れて、案内羽根34に達し。
更に案内羽根34によって旋回させられ、螺旋流となっ
て洗浄槽1内を上昇し、この際被洗物3に衝突して流れ
が乱されたりする。
て洗浄槽1内を上昇し、この際被洗物3に衝突して流れ
が乱されたりする。
純水のら旋流はそのまま旋回ベーン40に吸い込まれ、
出口ノズル8から流出する。
出口ノズル8から流出する。
前記した構成及び作用を有する本実施例によれば、洗浄
槽1内に導入され、循環される純水は。
槽1内に導入され、循環される純水は。
旋回ベーン30,40によって螺旋流となって洗浄槽1
内を上昇し、その流路断面積は自ずと限定され、単に導
入され上昇する従来のものに比し。
内を上昇し、その流路断面積は自ずと限定され、単に導
入され上昇する従来のものに比し。
大きい流速が得られるので、被洗浄物3に勢いよく衝突
し、せまい隙間内に流入し、ナトリウムと効率よく反応
し2反応生成ガスを巧みに排除しえて、ナトリウムに汚
染された被洗浄物3を清浄にすることができる。
し、せまい隙間内に流入し、ナトリウムと効率よく反応
し2反応生成ガスを巧みに排除しえて、ナトリウムに汚
染された被洗浄物3を清浄にすることができる。
なお前記実施例においては、ナトリウムに汚染された被
洗浄物3を純水ですすぐ例について述べたが、他の物質
に汚染されたものをアルコール等の他の洗浄液で洗浄で
きることは、当業者であれば容易に推測しうるであろう
。
洗浄物3を純水ですすぐ例について述べたが、他の物質
に汚染されたものをアルコール等の他の洗浄液で洗浄で
きることは、当業者であれば容易に推測しうるであろう
。
以上実施例について述べたが、本考案によれば。
洗浄槽内に導入循環される洗浄液を旋回ベーンによって
螺旋流とするので、自ずと限定された流路により高い速
度が保持され、被洗浄物と効率よく接触してこれを清浄
にすることができ、ひいてはポンプ容量或いは設置面積
を最小にすることができる。
螺旋流とするので、自ずと限定された流路により高い速
度が保持され、被洗浄物と効率よく接触してこれを清浄
にすることができ、ひいてはポンプ容量或いは設置面積
を最小にすることができる。
第1図は、従来装置の系統図、第2図は本考案の実施例
を示す系統説明図、第3図は第2図のI−i線に沿う断
面図、第4図は第3図の■−■線に沿う断面図である。 1・・・洗浄槽、2・・・フランジ、3・・・被洗浄物
、7・・・入口ノズル、8・・・出口ノズル、10・・
・入口弁。 12・・・ポンプ、16・・・供給管、1B・・・循環
管。 30.40・・・旋回ベーン、3L32・・・円板。 34・・・案内羽根、36・・・バッフル。
を示す系統説明図、第3図は第2図のI−i線に沿う断
面図、第4図は第3図の■−■線に沿う断面図である。 1・・・洗浄槽、2・・・フランジ、3・・・被洗浄物
、7・・・入口ノズル、8・・・出口ノズル、10・・
・入口弁。 12・・・ポンプ、16・・・供給管、1B・・・循環
管。 30.40・・・旋回ベーン、3L32・・・円板。 34・・・案内羽根、36・・・バッフル。
Claims (1)
- 上部開口に被洗浄物を懸架支持する洗浄槽、同洗浄槽の
側壁上部に設けられた出口ノズルと側壁下部に設げられ
た入口ノズルとを連絡した洗浄液循環配管、同配管の途
中に設けられたポンプ及び前記洗浄槽の内部に前記出口
ノズルと入口ノズルに夫々臨んで配設された旋回ベーン
を有してなることを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979117589U JPS5815036Y2 (ja) | 1979-08-27 | 1979-08-27 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979117589U JPS5815036Y2 (ja) | 1979-08-27 | 1979-08-27 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5634592U JPS5634592U (ja) | 1981-04-04 |
| JPS5815036Y2 true JPS5815036Y2 (ja) | 1983-03-25 |
Family
ID=29349809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1979117589U Expired JPS5815036Y2 (ja) | 1979-08-27 | 1979-08-27 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5815036Y2 (ja) |
-
1979
- 1979-08-27 JP JP1979117589U patent/JPS5815036Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5634592U (ja) | 1981-04-04 |
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