JPS58158392A - ドライエツチング用コ−ルドトラツプ装置 - Google Patents

ドライエツチング用コ−ルドトラツプ装置

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Publication number
JPS58158392A
JPS58158392A JP4124882A JP4124882A JPS58158392A JP S58158392 A JPS58158392 A JP S58158392A JP 4124882 A JP4124882 A JP 4124882A JP 4124882 A JP4124882 A JP 4124882A JP S58158392 A JPS58158392 A JP S58158392A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
trap body
trap
wall
substances
heated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4124882A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Matsumoto
博之 松本
Ginjiro Kanbara
神原 銀次郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP4124882A priority Critical patent/JPS58158392A/ja
Publication of JPS58158392A publication Critical patent/JPS58158392A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D8/00Cold traps; Cold baffles

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Compressor (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ドライエツチング中に生成する反応生成物を
捕獲するだめのコールドトラップ装置のクリ一二シグを
効果的に行わせしめるための構造を有した装置を提供す
るものである。
A/及びA1合金をドライエツチングするには、一般に
C014等の塩素系ガスが使用される。これら塩素系ガ
スは、腐食性が強く、またこれらのガスを使用してエツ
チングした時に生ずるム1cls等の塩化物、フォトレ
ジストポリマー等のエツチング残渣もまた腐食性を有す
るだめ、エツチング室を低圧化するだめの真空装置にま
ともに吸引されると真空オイルの変質、真空配管の腐食
が発生し、充分な真空度を得ることができなくなる。そ
こで、真空系を保護するため、真空系の中に液体窒素等
を充満して低温にした容器の外壁面に、これら塩素系ガ
ス及びエツチング残渣を一時捕獲することが行われ、一
般に、コールドトラップ装置を呼ばれる。
第1図は、ドライエツチング装置に使用されるコールド
トラップ装置の一例を示したものである。
第1図をもとに、コールドトラップ装置の動作を説明す
る。図で1は液体窒素を充填し、その外壁に前記気体を
強制的に吸着せしめるだめのコールドトラップ本体であ
り、2はポンプ排気系の一部をなし、コールドトラップ
本体を包み込む外囲部である。トラップ本体1は取り外
し洗滌できるよう、7ランジ3にて外囲部2に接続され
る、同様に、外囲部2には、メカニカルブースターポン
プ4.ロータリーポンプ6、窒素ガス配管6゜排気ダク
ト配管7がフランジ8を通して接続され、各フランジ8
は、パツキンにて気密を保つ構造を有している。まだロ
ータリーポンプ6の排気口には、配管9を接続し、排気
ダクトへ連結し、真空排気された有害ガスが、エツチン
グ作業場内に飛散するめを防止する。メカニカルブース
タポンプ4の吸気口はパルプ10を介してエツチング室
11に接続しである。ドライエツチング中は、パルプ1
0.12及び13が開放され、前記有害物質はメカニカ
ルブースタポンプ4及びロータリーポンプ5によって吸
引され、外囲部2内部を通るのであるが、そのほとんど
は途中に設置された。液体窒素を充填したトラップ本体
1の外壁部14に吸着され、ロータリーポンプ5には吸
引されないよう配慮されている。
エツチングが長時間に亘ってなされた場合、コールドト
ラップ1の外壁面14には、多量の有害物質が吸着され
る結果、その捕獲能力が低下するので、時折、吸着物質
を排除するクリーニング作業が必要である。窒素ガス配
管6及び排気ダクト配管7は、この吸着物質を排除する
場合に要する配管系である。この場合、エツチング中に
使用される排気系のパルプ10.12及び13は閉じ、
パルプ15及び16を開放し、トラップ本体1に約10
0℃の加熱された窒素ガスを吹きつける。
この際、吸着物質から放出きれるガスは排気ダクト配管
7を通って、室外のガス処理室へ導かれる。
一方、揮発分が除かれた反応生成残渣は、そのほとんど
がトラップから落下し、外囲部2底部に堆積する。この
ようにしてトラップ部のクリーニングが完了する。
表ころで、第1図に示す従来構造のコールドトラップ装
置では、加熱窒素ガス吹出口17は、エツチング用ガス
にC301a等の比較的比重の大きいガスを使用するこ
ともあって、できるだけコールドトラップ本体1の上部
に吹出するように設計されているのであるが、かかる構
造のトラップ装置には、盗のような欠点を有することが
判明した。
すなわち、トラップ本体1に捕獲された物質を吹出窒素
で加熱すると、まずトラップ本体1の上端部の温度が上
昇し、順次下部に伝搬する。この際、トラップ本体1に
は液体窒素が充填されておシ、トラップ本体1下部の外
壁14の温度は徐々にしか上昇しない。その結果、トラ
ップ外壁14に付着した物質は、”しずく”となってそ
の外壁を伝って外囲部3の底部に滴下し、粘着性の堆積
物となる。この堆積物を除去することは有毒性ガスの放
散等も含み、非常にやっかいである。
本発明は、以上述べたトラップクリーニング時に現化す
る欠点を効果的に排除出来る装置を提供することを目的
とする。
すなわち、本発明はトラップ本体に捕獲された反応生成
物ないしは、未反応有害ガスを加熱除去するに際して、
液状残渣がトラップ外囲部の底部に堆積することのない
トラップ装置構造を提供するものである。以下図によっ
て、本発明の詳細な説明する。
第2図は、本発明を説明するための一実施例を示したも
ので、第1図と同一番号は同一部分を示す。同図で、加
熱窒素ガスを吹入させるだめの窒素ガス吹出口18がト
ラップ本体1の底部近傍に設置することに特徴を有する
。かかる構造にて、前述と同様なりリーニング作業を行
なう場合、加熱窒素吹出によって、まずトラップ本体1
の外壁14の底部が加熱され吸着物質が剥離すると同時
に底部近傍外壁も熱伝導によって、徐々に加熱される結
果、前述の如き 6しず〈状にて、トラップ本体1の外
壁14を伝って底部へ下降するのであるが、底部は10
0℃程度に加熱されるため、直ちに液状物質は気化し、
乾燥した固形物のみが残留するのであるが、加熱窒素が
2−3kg々程度の圧力で吹出されるため、容易にトラ
ップ外壁部14から剥離する。このようにして熱伝搬が
トラップ本体1底部から上端部に達する間、トラップに
捕獲された物質は、乾燥状態でクリーニングできる、 なお、第2図において、吹出口18は外囲部2の内壁面
に設けられているが、配管を更に延在せしめて、トラッ
プ本体底部の極く近傍、もしくは直下に設けてもよく、
また、吹出口は複数個設けられても何ら差しつかえない
以上説明した如く、本発明のコールドトラップ装置によ
り、極めて効果的なトラップ洗浄を行なうことができ、
洗浄能率の改善と共に、トラップ底面に堆積した粘着性
付着物から発生するガス等に起因するロータリーポンプ
オイルの劣化が著しく減少することから、エツチング特
性の改善も同時に計ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のコールドトラップ装置の構造図、第2図
は本発明に係るコールドトラップ装置の構造図である。 1・・・・・・トラップ本体、2・・・・・・外囲部、
4・・・・・・メカニカルブースタポンプ、5・・・・
・・ロータリーポンプ、6・・・・・・窒素ガス配管、
7,9・・・・・・排気ダクト配管、10,12,13
,15,16・・・・・・バルブ、14・・・・・・ト
ラップ本体外壁、18・・・・・・ガス吹出口。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 L?

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ドライエツチング用ガス、および、ドライエツチング反
    応生成物を捕獲するだめのトラップ本体と、同トラップ
    本体を包囲する外囲部を具備し、かつ、前記トラップ本
    体の底部近傍に前記トラップ本体に捕獲された物質を排
    除するガスの吹出口を有する構造のドライエツチング用
    コールドトラップ装置。
JP4124882A 1982-03-15 1982-03-15 ドライエツチング用コ−ルドトラツプ装置 Pending JPS58158392A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4124882A JPS58158392A (ja) 1982-03-15 1982-03-15 ドライエツチング用コ−ルドトラツプ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4124882A JPS58158392A (ja) 1982-03-15 1982-03-15 ドライエツチング用コ−ルドトラツプ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58158392A true JPS58158392A (ja) 1983-09-20

Family

ID=12603131

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4124882A Pending JPS58158392A (ja) 1982-03-15 1982-03-15 ドライエツチング用コ−ルドトラツプ装置

Country Status (1)

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JP (1) JPS58158392A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0741909A4 (en) * 1994-01-27 1998-01-07 Insync Systems Inc METHODS TO IMPROVE SEMICONDUCTOR PRODUCTION
US5871813A (en) * 1997-03-05 1999-02-16 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for controlling process chamber pressure
CN103727004A (zh) * 2014-01-17 2014-04-16 吉首大学 润滑油自动干燥真空泵

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0741909A4 (en) * 1994-01-27 1998-01-07 Insync Systems Inc METHODS TO IMPROVE SEMICONDUCTOR PRODUCTION
US5871813A (en) * 1997-03-05 1999-02-16 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for controlling process chamber pressure
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